JP2001344816A - ハードコート層を有する光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザー光入射面の表面に、耐磨耗性、基板
との密着性に優れたハードコート層を有する光ディスク
およびその製造方法の提供。 【解決手段】 光ディスクのレーザー光入射面に、活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官
能性化合物とポリシラザンとを含有する被覆組成物
（Ａ）の透明硬化物層からなるハードコート層を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクのレー
ザー光入射面に、耐磨耗性、透明性などに優れたハード
コート層（透明硬化物層）を有する光ディスクおよびそ
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクのレーザー光入射面に傷があ
ったり、塵埃が付着していると、記録再生を行なう際に
エラーを生じやすい。

【０００３】そのため、このような記録再生時のエラー
を防止するために、レーザー光入射面には紫外線硬化性
樹脂などの硬化性樹脂の硬化物層からなるハードコート
層が形成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、情報の高密度
集積化が進むにしたがい、レーザー光入射面のわずかな
傷によっても記録再生時のエラーが生じやすくなったた
め、上記ハードコート層にはより一層の耐磨耗性が求め
られるようになってきた。

【０００５】本発明は、レーザー光入射面に、耐磨耗性
に優れたハードコート層を有する光ディスクおよびその
製造方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の光ディスクはレーザー光入射面にハードコ
ート層を有し、前記ハードコート層が活性エネルギ線硬
化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化合物と
ポリシラザンとを含有する被覆組成物（Ａ）の透明硬化
物層であることを特徴とする。

【０００７】また、本発明の光ディスクの製造方法は、
光ディスクのレーザー光入射面の表面に、活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化合
物とポリシラザンとを含有する被覆組成物（Ａ）を塗工
し、次いで活性エネルギ線を照射して前記多官能性化合
物の硬化と、前記ポリシラザンの硬化を任意の順でまた
は同時に行なうことにより、前記被覆組成物（Ａ）の透
明硬化物層を形成することを特徴とする。

【０００８】本発明によれば、光ディスクのレーザー光
入力面に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を２個
以上有する多官能性化合物とポリシラザンとを含有する
被覆組成物（Ａ）の透明硬化物層が形成されるため、耐
磨耗性に優れ、かつ基板との密着性に優れたハードコー
ト層を有する光ディスクを提供できる。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下の説明において、活性エネル
ギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化
合物は単に多官能性化合物という。また、アクリロイル
基およびメタクリロイル基を総称して（メタ）アクリロ
イル基といい、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリレートなどの表現も同
様とする。

【００１０】本発明において光ディスクとは、全てのタ
イプの光ディスクを意味し、たとえばＲＯＭディスク、
追記型ディスク、相変化型ディスク、有機フォトクロミ
ック材料を記録層としたディスク、磁気光学効果を利用
した光磁気ディスクなどが挙げられる。

【００１１】本発明の光ディスクは、光ディスクのレー
ザー光入射面に多官能性化合物とポリシラザンとを含有
する被覆組成物（Ａ）の透明硬化物からなるハードコー
ト層を有する。

【００１２】光ディスクとして用いる基板とハードコー
ト層との間には、他の合成樹脂、たとえば、熱可塑性ア
クリル樹脂などの熱可塑性樹脂の層や接着剤層からなる
第３の層が存在していてもよい。

【００１３】被覆組成物（Ａ）に含まれる多官能性化合
物としては、特開平１１−２４０１０３号公報段落番号
００１６〜００２０、００２３〜００４７に記載された
化合物が好ましく挙げられる。

【００１４】好ましい多官能性化合物としては、（メ
タ）アクリロイル基から選ばれる１種以上の重合性官能
基を２個以上（２〜５０個が好ましく、より好ましくは
３〜３０個）有する化合物が挙げられる。その中でも
（メタ）アクリロイルオキシ基を２個以上有する化合
物、すなわち多価アルコールなどの２個以上の水酸基を
有する化合物と（メタ）アクリル酸とのポリエステル
が、好ましい。多官能性化合物としては、重合性官能基
以外に種々の官能基や結合を有する化合物であってもよ
い。特に、ウレタン結合を有する（メタ）アクリロイル
基含有化合物（以下、アクリルウレタンという。）と、
ウレタン結合を有しない（メタ）アクリル酸エステル化
合物が好ましい。

【００１５】上記アクリルウレタンとしては、ペンタエ
リスリトールやその多量体であるポリペンタエリスリト
ールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートの反応生成物であるアクリルウレタ
ン、またはペンタエリスリトールやポリペンタエリスリ
トールの水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートと、ポリ
イソシアネートとの反応生成物であるアクリルウレタン
であって、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個
以上（より好ましくは４〜２０個）有する多官能性化合
物が挙げられる。

【００１６】また、ウレタン結合を有しない（メタ）ア
クリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトー
ル系ポリ（メタ）アクリレート、およびイソシアヌレー
ト系ポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ペ
ンタエリスリトール系ポリ（メタ）アクリレートとは、
ペンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールと
（メタ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を４〜２０個有す
る。）をいう。また、イソシアヌレート系ポリ（メタ）
アクリレートとは、トリス（ヒドロキシアルキル）イソ
シアヌレート、またはトリス（ヒドロキシアルキル）イ
ソシアヌレート１モルに１〜６モルのカプロラクトンや
アルキレンオキシドを付加して得られる付加物と、（メ
タ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性エネ
ルギ線硬化性の重合性官能基を２〜３個有する。）をい
う。

【００１７】本発明においては、上記の好ましい多官能
性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を２個以上有する多官能性化合物（特に多価アルコール
のポリ（メタ）アクリレート）とを併用してもよい。

【００１８】被覆組成物（Ａ）は、上記の多官能性化合
物と共に、活性エネルギ線によって重合しうる重合性官
能基を１個有する単官能性化合物（以下、単に単官能性
化合物という。）を含有してもよい。

【００１９】単官能性化合物としては、（メタ）アクリ
ロイル基を有する化合物が好ましく、特にアクリロイル
基を有する化合物が好ましい。また、その他に水酸基、
エポキシ基などの官能基を有していてもよい。

【００２０】好ましい単官能性化合物は、（メタ）アク
リル酸エステル、すなわち（メタ）アクリレートであ
り、具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報段落
番号００４５に記載されたものが挙げられる。

【００２１】単官能性化合物を使用する場合、被覆組成
物（Ａ）における多官能性化合物および単官能性化合物
（以下、これらを活性エネルギ線硬化性成分という。）
との合計に対する該単官能性化合物の割合は、特に限定
されないが、６０質量％以下が好ましく、特に３０質量
％以下が好ましい。単官能性化合物の割合が多すぎると
被覆組成物（Ａ）の硬化物の硬さが低下し、耐磨耗性が
不充分になる。

【００２２】被覆組成物（Ａ）に含まれるポリシラザン
としては、実質的に有機基を含まないポリシラザン（ペ
ルヒドロポリシラザン）、アルキル基、アルケニル基、
アリール基、シクロアルキル基、または、これらの基の
炭素原子に結合した水素原子の一部または全部を置換基
で置換した基がケイ素原子に結合したポリシラザン、ア
ルコキシ基などの加水分解性基がケイ素原子に結合した
ポリシラザン、窒素原子にアルキル基などの有機基が結
合しているポリシラザンなどが挙げられる。特にペルヒ
ドロポリシラザンは、その焼成温度の低さおよび焼成後
の硬化被膜の緻密さの点で好ましい。ペルヒドロポリシ
ラザンが充分に硬化した硬化物は窒素原子をほとんど含
まないシリカとなる。

【００２３】これらのポリシラザンは、鎖状、環状また
は架橋構造を有する重合体、または分子内にこれらの複
数の構造を有する混合物からなる。ポリシラザンの分子
量は数平均分子量が２００〜５万が好ましい。数平均分
子量が２００未満では、焼成しても均一な硬化物が得ら
れにくい。また、数平均分子量が５万超では、溶剤に溶
解しにくくなり、また被覆組成物（Ａ）が粘稠になるお
それがあるため好ましくない。

【００２４】被覆組成物（Ａ）における多官能性化合物
に対するポリシラザンの配合割合は、耐磨耗性や基板と
の密着性により適宜選択できるが、特に耐磨耗性と密着
性のバランスを考慮した場合には、多官能性化合物１０
０質量部に対してポリシラザン１〜１０００質量部が好
ましく、特に、多官能性化合物１００質量部に対してポ
リシラザン５〜１００質量部が好ましい。多官能性化合
物に対するポリシラザンの割合が上記よりも少ないと耐
磨耗性が不充分になり、上記よりも多いと硬化物層にク
ラックが入りやすく、また基板との密着性も不充分にな
るため好ましくない。

【００２５】被覆組成物（Ａ）には、上記の基本的成分
以外に下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことがで
きる。

【００２６】被覆組成物（Ａ）において、溶剤は通常必
須の成分であり、活性エネルギ線硬化性成分が特に低粘
度の液体でない限り溶剤が使用される。

【００２７】溶剤としては、活性エネルギ線硬化性成分
およびポリシラザンの両方が可溶な溶剤を使用する。な
お、基板の種類によって適切な溶剤を選択して用いるこ
とが好ましく、特にポリシラザンの貯蔵安定性を考慮し
た場合には、分子中に水酸基を含まない溶剤が好まし
く、たとえば炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ケト
ン類、エーテル類、エステル類などが挙げられる。具体
的には、特開平１１−２６８１９６号公報の段落番号０
０７４に記載された溶媒が挙げられる。本発明において
は、キシレン、ジブチルエーテルが特に好ましい。

【００２８】また、溶剤の量は必要とする組成物の粘
度、目的とする硬化物層の厚さ、乾燥温度などの条件な
どにより適宜変更できる。本発明において、溶剤は、被
覆組成物（Ａ）中の活性エネルギ線硬化性成分に対して
質量で１００倍以下、好ましくは０．１〜５０倍用いら
れる。

【００２９】機能性配合剤としては、光重合開始剤、紫
外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重合防止剤、レ
ベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料（有機
着色顔料、無機顔料）、着色染料、赤外線吸収剤、蛍光
増白剤、分散剤、防汚性付与剤、導電性微粒子、帯電防
止剤、防曇剤、硬化性触媒、カップリング剤からなる群
から選ばれる１種以上の機能性配合剤が挙げられる。

【００３０】被覆組成物（Ａ）は、活性エネルギ線硬化
性成分を効率よく硬化させるために、光重合開始剤を含
むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知のもの
を使用でき、特に入手容易な市販のものが好ましい。

【００３１】光重合開始剤としては、アリールケトン系
光重合開始剤（たとえば、アセトフェノン類、ベンゾフ
ェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル
類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジ
メチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−ア
シロキシムエステル類など）、含イオウ系光重合開始剤
（たとえば、スルフィド類、チオキサントン類など）、
アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ジアシルホ
スフィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始
剤が挙げられる。

【００３２】具体的には、特開平１１−２６８１９６号
公報の段落番号００６３〜００６５に記載された化合物
が挙げられる。光重合開始剤は、複数の種類を併用して
もよく、アミン類などの光増感剤と組み合わせて使用し
てもよい。

【００３３】被覆組成物（Ａ）における光重合開始剤の
量は、活性エネルギ線硬化性成分１００質量部に対して
０．０１〜２０質量部が好ましく、特に０．１〜１０質
量部が好ましい。

【００３４】紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線
吸収剤として通常使用されているようなベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、
サリチル酸系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外
線吸収剤などが好ましい。具体的には、特開平１１−２
６８１９６号公報の段落番号００７８に記載された化合
物が挙げられる。本発明においては、被覆組成物（Ａ）
が多官能性化合物を含有することから、２−｛２−ヒド
ロキシ−５−（２−アクリロイルオキシエチル）フェニ
ル｝ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタク
リロイルオキシプロピル−３−（３−ベンゾトリアゾー
ル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピ
オネートなど分子内に光重合性の官能基を有するものが
特に好ましい。

【００３５】光安定剤としては、同様に合成樹脂用光安
定剤として通常使用されているようなヒンダードアミン
系光安定剤が好ましい。具体的には、特開平１１−２６
８１９６号公報の段落番号００８０に記載された化合物
が挙げられる。本発明においては、Ｎ−メチル−４−メ
タクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジンなどの分子内に重合性官能基を有するものが特
に好ましい。

【００３６】酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾールなどのヒンダードフェノール系酸
化防止剤、トリフェニルホスファイトなどのリン系酸化
防止剤などが挙げられる。

【００３７】レベリング剤としては、シリコーン樹脂系
レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング剤などが挙げ
られる。

【００３８】消泡剤としては、ポリジメチルシロキサン
などのシリコーン樹脂系消泡剤などが挙げられる。

【００３９】増粘剤としては、ポリメチルメタクリレー
ト系ポリマー、水添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系
化合物などが挙げられる。

【００４０】有機着色顔料としては、縮合多環系有機顔
料、フタロシアニン系有機顔料などが挙げられる。

【００４１】無機顔料としては、二酸化チタン、酸化コ
バルト、モリブデンレッド、チタンブラックなどが挙げ
られる。

【００４２】着色染料としては、有機溶剤可溶性アゾ系
金属錯塩染料、有機溶剤可溶性フタロシアニン系染料な
どが挙げられる。

【００４３】赤外線吸収剤としては、ポリメチン系、フ
タロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、ジイモニ
ウム系、アントラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナ
フトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリ
アリールメタン系の化合物などが挙げられる。

【００４４】蛍光増白剤としては、クマリン系蛍光増白
剤、２，５−ビス（５’−ｔ−ブチルベンゾオキサゾリ
ル−（２’））チオフェンなどのオキサゾール系蛍光増
白剤などが挙げられる。

【００４５】防汚性付与剤としては、シリコン樹脂系防
汚添加剤、フッ素樹脂系防汚添加剤などが挙げられる。

【００４６】導電性微粒子としては、亜鉛、アルミニウ
ム、ニッケルなどの金属粉、リン化鉄、アンチモンドー
プ型酸化スズなどが挙げられる。

【００４７】帯電防止剤としては、ノニオン系帯電防止
剤、カチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤など
が挙げられる。

【００４８】硬化触媒としては、酸、アルカリまたは塩
類などから選ばれる硬化触媒が挙げられる。

【００４９】カップリング剤としては、シランカップリ
ング剤、チタネートカップリング剤などが挙げられる。

【００５０】被覆組成物（Ａ）の硬化物層の厚さは０．
１〜１００μｍが好ましく、特に１〜５０μｍが好まし
い。この層の厚さが１００μｍ超では活性エネルギ線に
よる硬化が不充分になり、基板との密着性が損なわれや
すくなり、０．１μｍ未満では耐磨耗性が不充分となる
おそれがある。

【００５１】次に、光ディスクとして用いる基板（以
下、基板という。）について説明する。基板としては、
ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アモル
ファスポリオレフィンなどの透明樹脂またはガラスに直
接案内溝を形成した基板、上記樹脂またはガラスにフォ
トポリマー法により案内溝を形成した基板が好ましく挙
げられる。

【００５２】また、基板の案内溝の表面には、下記の誘
電体膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜が形成され
る。

【００５３】誘電体膜の材質としては、たとえば、Ｓｉ
₃Ｎ₄、ＳｉＯ₂、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、
ＡｌＴｉＮ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＳなどが好ましく挙げられ
る。

【００５４】記録膜の材質は、記録方式により異なる
が、たとえば、追記型光ディスクではＴｅ、Ｓｎ、Ｓｅ
などのカルコゲナイト系合金、相変化型光ディスクでは
ＴｅＯｘ、ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂなどのカルコゲナイト系
合金、光磁気ディスクではＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅ
Ｃｏなどの遷移金属と希土類金属との合金（単層または
２層以上の交換結合膜）が好ましく挙げられる。

【００５５】反射膜の材質としては、たとえば、Ａｌ、
Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの金属、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒ
などの合金が挙げられる。

【００５６】図１には、本発明の一実施例である光ディ
スクの断面の模式図が示されている。この光ディスク６
は、基板１の片面に案内溝２を有し、該案内溝２の表面
には積層膜３が形成され、さらにその表面に保護層４が
形成されている。一方、レーザー光入射面には、ハード
コート層５が形成されている。

【００５７】本発明の光ディスクは、たとえば以下のよ
うにして製造できる。基板の案内溝を有する側の面に、
常法により誘電体膜、記録膜、反射膜などからなる積層
膜を形成する。誘電体膜、記録膜または反射膜は、スパ
ッタリング、イオンプレーディングなどの物理蒸着法ま
たはプラズマＣＶＤなどの化学蒸着法により形成でき
る。

【００５８】また、反射膜の表面に積層される保護層
は、スピンコート法、ロールコーター法またはスクリー
ン印刷法などの塗布方法により、硬化性樹脂などを均一
に塗布した後、紫外線や電子線などの活性エネルギ線照
射による硬化および／または熱硬化などにより硬化して
形成できる。

【００５９】一方、基板のレーザー光入射面（案内溝の
形成されていない面）には、下記の方法により被覆組成
物（Ａ）を塗工し、ハードコート層を形成する。

【００６０】なお、積層膜および保護層の形成工程とハ
ードコート層の形成工程の順序は特に制限されず、どち
らを先に行ってもよい。

【００６１】被覆組成物（Ａ）を塗工する方法として
は、スピンコート法やロールコーター法、スクリーン印
刷法などの塗布方法を採用できる。本発明においては、
生産性や表面外観の点からスピンコート法が好ましく採
用される。

【００６２】本発明において、被覆組成物（Ａ）を硬化
する方法としては、以下の１）〜３）の方法が挙げられ
る。なお、被覆組成物（Ａ）が溶剤を含む場合は、塗工
後に乾燥して溶剤を除いてから硬化することが好まし
い。

【００６３】１）被覆組成物（Ａ）を塗工した後、充分
な量の活性エネルギ線を照射して多官能性化合物の硬化
を終了させた後、ポリシラザンの部分硬化物または未硬
化物を加熱、室温に放置またはポリシラザンの硬化触媒
溶液の蒸気に曝して硬化させる。

【００６４】２）被覆組成物（Ａ）を塗工した後に、ポ
リシラザンの未硬化物を加熱、室温に放置またはポリシ
ラザンの硬化触媒溶液の蒸気に曝すことで硬化させ、次
いで充分な量の活性エネルギ線を照射して多官能性化合
物を硬化させる。

【００６５】３）被覆組成物（Ａ）を塗工した後に、充
分な量の活性エネルギ線を照射して、多官能性化合物の
硬化とポリシラザンの硬化をほぼ同時に行う。この方法
では、通常、ポリシラザンの硬化が多官能性化合物の硬
化よりも遅いので、実際は上記１）と同じプロセスで硬
化するものと考えられる。

【００６６】活性エネルギ線としては、特に紫外線が好
ましい。しかし、紫外線に限定されず、電子線やその他
の活性エネルギ線を使用できる。紫外線源としては、キ
セノンランプ、パルスキセノンランプ、低圧水銀灯、高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カー
ボンアーク灯、タングステンランプなどが使用できる。

【００６７】また、ポリシラザンを硬化させてシリカと
するためには、通常、焼成と呼ばれる加熱が必要である
が、本発明においては、基板の耐熱性の点からポリシラ
ザンの焼成温度は１８０℃以下とすることが好ましい。

【００６８】通常、ポリシラザンの焼成温度を低下させ
るためには触媒が使用され、触媒の種類や量により低温
で焼成でき、場合によっては室温で硬化できる。また、
硬化を行う雰囲気としては空気中などの酸素の存在する
雰囲気が好ましい。ポリシラザンの焼成により、その窒
素原子が酸素原子に置換しシリカが生成する。充分な酸
素の存在する雰囲気中で焼成することにより緻密なシリ
カの層が形成される。

【００６９】触媒としては、より低温でポリシラザンを
硬化させる触媒を用いることが好ましい。そのような触
媒としては、たとえば、特開平７−１９６９８６号公報
に提案されている金、銀、パラジウム、白金、ニッケル
などの金属の微粒子や特開平５−９３２７５号公報に提
案されている上記金属のカルボン酸錯体の使用が挙げら
れる。また、触媒を被覆組成物（Ａ）に添加しておくの
ではなく、特開平９−３１３３３号公報に提案されてい
るように、触媒溶液、具体的にはアミン水溶液などに直
接被覆組成物（Ａ）を接触させる、またはその蒸気に一
定時間曝すといった方法も採用できる。

【００７０】また、ポリシラザンは光ラジカル発生剤の
存在下、活性エネルギ線の照射により硬化が促進される
ことが特開平１１−１８１２９０号公報に記載されてお
り、光ラジカル発生剤や活性エネルギ線の照射条件を最
適化することにより、上記触媒を含まない場合でも活性
エネルギ線により硬化できる。

【００７１】上記のようにして得られた光ディスクは、
単板で用いてもよく、２枚以上を貼り合わせて用いても
よい。このようにして、基板の両面に各層を形成した
後、必要に応じてハブを付け、カートリッジへ組み込め
ばよい。

【００７２】

【実施例】以下、本発明を実施例（例１〜６）、比較例
（例７）に基づき説明するが、本発明はこれらに限定さ
れない。なお、各例で得られたサンプルについての各種
物性の測定および評価は以下に示す方法で行い、その結
果を表１に示した。

【００７３】［初期曇価、耐磨耗性］ＪＩＳ−Ｒ３２１
２における耐磨耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ磨
耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせ、５００回
転させたときの曇価（ヘーズ）をヘーズメータにて測定
した。曇価の測定は磨耗サイクル軌道の４カ所で行い、
平均値を算出した。初期曇価は耐磨耗試験前の曇価の値
（％）を、耐磨耗性は（耐磨耗試験後曇価）−（耐磨耗
試験前曇価）の値（％）を示す。

【００７４】［初期黄色度］スガ試験機社製カラーメー
タにより、サンプルの２点の黄色度（ＹＩ）の値を測定
し、平均値を示す。

【００７５】［密着性］サンプルを剃刀の刃で１ｍｍ間
隔で縦横それぞれ１１本の切れ目を付け、１００個の碁
盤目を作り、市販のセロハンテープをよく密着させた
後、９０度手前方向に急激にはがした際の、被膜が剥離
せずに残存した碁盤目の数（ｍ）をｍ／１００で表す。

【００７６】［例１］撹拌機および冷却管を装着した１
００ｍＬの４つ口フラスコに、ジブチルエーテル１２
ｇ、キシレン１３ｇ、２−［４−（２−ヒドロキシ−３
−ドデシルオキシプロピル）オキシ−２−ヒドロキシフ
ェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）
−１，３，５−トリアジン０．２ｇ、２−メチル−１−
｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルホリノプロ
パン−１−オン０．１５ｇ、および１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート０．２
ｇを加え溶解させた。続いてトリス（２−アクリロイル
オキシエチル）イソシアヌレート４．８ｇ、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート３．２ｇとペルヒドロ
ポリシラザンのキシレン溶液（固形分２０質量％、東燃
社製、商品名「Ｖ１１０」）１０ｇを加え窒素雰囲気
下、常温で１時間撹拌して被覆組成物（以下、塗工液１
という。）を得た。

【００７７】３．５インチの光ディスク用ポリカーボネ
ート基板のレーザー光入射面に、スピンコート法により
塗工液１を塗工（ウェット厚さ１３μｍ）して、８０℃
の熱風循環オーブン中で５分間保持した。そして空気雰
囲気中、高圧水銀灯を用いて１５００ｍＪ／ｃｍ²（波
長３００〜３９０ｎｍ領域の紫外線積算エネルギ量、以
下同じ。）の紫外線を照射した後、１００℃の熱風循環
オーブン中で１２０分間保持して、膜厚３μｍの透明硬
化物層（ハードコート層）を形成した。

【００７８】上記ハードコート層を形成した面の反対側
の面（案内溝を有する面）に、ＳｉＮからなる第１誘電
体層、ＴｂＦｅＣｏからなる光磁気記録層、ＳｉＮから
なる第２誘電体層、Ａｌからなる反射膜層を順次スパッ
タ法により成膜した。さらに、この反射膜層の表面に、
保護コート剤（大日本インキ化学工業社製、商品名「ダ
イキュアクリアＳＤ−３０１」）（以下、塗工液２とい
う。）を約１０μｍの膜厚になるように塗布した後、５
００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化させ、光ディ
スクを製造した。

【００７９】［例２］塗工液１を塗工後、最後に１００
℃の熱風循環オーブン中で１２０分間保持する代わり
に、２３℃、相対湿度５５％の環境下で７日間養生した
以外は例１と同様にして光ディスクを製造した。

【００８０】［例３］塗工液１を硬化させる工程におい
て、「紫外線の照射」と「１００℃の熱風循環オーブン
で１２０分間保持する」工程の順序を逆にした以外は例
１と同様にして光ディスクを製造した。

【００８１】［例４］塗工液１を硬化させる工程におい
て、紫外線照射量を３０００ｍＪ／ｃｍ²とし、１００
℃の熱風循環オーブン中で１２０分間保持する工程を省
いた以外は例１と同様にして光ディスクを製造した。

【００８２】［例５］塗工液１に含まれる「Ｖ１１０」
１０ｇの代わりに、末端メチル基変性有機ポリシラザン
のキシレン溶液（固形分２０質量％、東燃社製、商品名
「Ｌ７１０」）１０ｇを用いた以外は例４と同様にして
光ディスクを製造した。

【００８３】［例６］塗工液１に含まれる「Ｖ１１０」
１０ｇの代わりに、低温硬化性ペルヒドロポリシラザン
のキシレン溶液（固形分２０質量％、東燃社製、商品名
「Ｄ１１０」）１０ｇを用いた以外は例４と同様にして
光ディスクを製造した。

【００８４】［例７］３．５インチの光ディスク用ポリ
カーボネート基板のレーザー光入射面に、スピンコート
法により保護コート剤（三菱レーヨン社製、商品名「ダ
イヤビームＵＲ−４５００」）を塗工（厚さ５μｍ）し
て、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１０００
ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚５μｍの透明硬化
物層（ハードコート層）を形成した。

【００８５】さらに、この基板のハードコート層とは反
対側の面（案内溝を有する面）に、ＳｉＮからなる第１
誘電体層、ＴｂＦｅＣｏからなる光磁気記録層、ＳｉＮ
からなる第２誘電体層、Ａｌからなる反射膜層を順次ス
パッタ法により成膜した。さらに、この反射膜層の表面
に、塗工液２を約１０μｍの膜厚になるように塗布した
後、５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化させ、
光ディスクを製造した。

【００８６】

【表１】

【００８７】

【発明の効果】本発明によれば、レーザー光入射面に、
高い耐磨耗性を有し、かつ基板との密着性に優れたハー
ドコート層を有する光ディスクおよびその製造方法を提
供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例である光ディスクの断面を
表す模式図である。

【符号の簡単な説明】

１．基板 ２．案内溝 ３．積層膜 ４．保護層 ５．ハードコート層 ６．光ディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J038 DL171 DL172 FA121 FA122 FA161 FA162 FA281 FA282 NA11 NA17 PA17 PB11 5D029 LA05 LB02 LB07 5D121 AA04 EE22 EE23 GG02

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザー光入射面にハードコート層を有
   する光ディスクにおいて、前記ハードコート層が活性エ
   ネルギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能
   性化合物とポリシラザンとを含有する被覆組成物（Ａ）
   の透明硬化物層であることを特徴とする光ディスク。
2. 【請求項２】 前記透明硬化物層の厚さが０．１〜１０
   ０μｍである、請求項１に記載の光ディスク。
3. 【請求項３】 レーザー光入射面にハードコート層を有
   する光ディスクの製造方法において、 光ディスクのレーザー光入射面の表面に、活性エネルギ
   線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化合
   物とポリシラザンとを含有する被覆組成物（Ａ）を塗工
   し、次いで活性エネルギ線を照射して前記多官能性化合
   物の硬化と、前記ポリシラザンの硬化を任意の順でまた
   は同時に行なうことにより、前記被覆組成物（Ａ）の透
   明硬化物層を形成することを特徴とする光ディスクの製
   造方法。