JP2002157784A

JP2002157784A - ハードコート層を有する青色レーザーディスクおよびその製造方法

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Publication number: JP2002157784A
Application number: JP2000352424A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Kondo; 聡近藤; Toshihiko Higuchi; 俊彦樋口; Hirotsugu Yamamoto; 博嗣山本
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2000-11-20
Filing date: 2000-11-20
Publication date: 2002-05-31

Abstract

(57)【要約】【課題】ディスクのレーザー光入射面に、耐磨耗性お
よび透明性に優れ、かつディスク基盤との密着性に優れ
たハードコート層を有する青色レーザーディスク（登録
商標）およびその製造方法の提供。【解決手段】青色レーザーディスクのレーザー光入射
面に、最外層に接する内層が活性エネルギ線硬化性の重
合性官能基を１個以上有する化合物を含む被覆組成物
（Ａ）の硬化物層であり、最外層がポリシラザンを含む
被覆組成物（Ｂ）の硬化物層である２層以上の透明硬化
物層からなるハードコート層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスクのレーザ
ー光入射面に、耐磨耗性および透明性などに優れたハー
ドコート層（透明硬化物層）を有する青色レーザーディ
スクおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】大量のデータを高密度で記録可能な光記
録媒体において、より高密度にデータを記録するために
は、レーザー光スポットのサイズをより小さくする必要
がある。このサイズを小さくする方法としては、レーザ
ー光波長（λ）を短くする方法、またはレンズの開口数
（ＮＡ）を大きくする方法の２通りの方法が考えられ
る。現在用いられている光記録媒体用の半導体レーザー
光の波長は、主に７８０〜６８０ｎｍであるが、さらに
短波長の６５０ｎｍの橙色レーザー光、および、より短
波長の緑または青色レーザー光を用いる検討がなされて
いる。特に、青色レーザー光を用いる方式としては光源
の波長を４００ｎｍ程度、ＮＡを０．６以上として、よ
り大きな記録密度を得ることが提案されている。

【０００３】しかし、光源の短波長化や対物レンズの高
ＮＡ化に伴ない、光記録媒体のレーザー光入射面が光軸
に対して直角より傾くチルトの許容量が小さくなり、ま
た、光ディスクの厚みムラの許容量も小さくなるため、
上記許容量を少しでも稼ぐためにレーザー光入射面のカ
バー層の厚さを薄くする必要がある。従来の光記録媒体
のカバー層の厚さは、コンパクトディスク（ＣＤ）で
１．２ｍｍ、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）
で０．６ｍｍであり、ディスク基盤自体がカバー層とし
ての役割を果たしていた。しかし、短波長のレーザー光
を用いる光記録媒体では、カバー層の厚さを０．１ｍｍ
程度にする必要があるため、従来のようにディスク基盤
自体をカバー層とすることができず、ディスク基盤の反
射膜、記録膜などの積層膜を形成した面にカバー層が形
成される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】短波長のレーザー光を
用いた場合、光記録媒体のレーザー光入射面にわずかで
も傷や塵埃の付着があると、記録・再生を行なう際にエ
ラーを生じやすくなること、および光記録装置の光ヘッ
ドと光記録媒体のレーザー光入射面との間隔が０．１〜
０．２ｍｍ程度に接近し、場合によっては光ヘッドが光
記録媒体に接触する可能性も出てくることなどから、レ
ーザー光入射面のカバー層の表面にはより一層の耐磨耗
性が求められるようになってきた。

【０００５】本発明の目的は、ディスクのレーザー光入
射面に、耐磨耗性および透明性に優れ、かつディスク基
盤との密着性に優れたハードコート層を有する青色レー
ザーディスクおよびその製造方法を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の一つは、ディスクのレーザー光入射面にハ
ードコート層を有する青色レーザーディスクにおいて、
前記ハードコート層が２層以上の透明硬化物層からな
り、この透明硬化物層のうち最外層に接する内層が活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合
物を含む被覆組成物（Ａ）の硬化物層であり、最外層が
ポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物層である
ことを特徴とする青色レーザーディスクである。

【０００７】また、本発明のもう一つは、ディスクのレ
ーザー光入射面の表面に、活性エネルギ線硬化性の重合
性官能基を１個以上有する化合物を含む被覆組成物
（Ａ）の未硬化物層、部分硬化物層または硬化物層を形
成し、この被覆組成物（Ａ）の層の表面にポリシラザン
を含む被覆組成物（Ｂ）の未硬化物層または部分硬化物
層を形成し、被覆組成物（Ａ）の層が硬化物層である場
合は被覆組成物（Ｂ）の層を硬化させ、被覆組成物
（Ａ）の層が未硬化物層または部分硬化物層である場合
は被覆組成物（Ａ）および被覆組成物（Ｂ）の層を任意
の順でまたは同時に硬化させることを特徴とする青色レ
ーザーディスクの製造方法である。

【０００８】本発明によれば、青色レーザーディスクの
レーザー光入射面の表面に、最外層に接する内層である
活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上有する
化合物を含む被覆組成物（Ａ）の硬化物層と、最外層で
あるポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物層と
の２層以上の透明硬化物層からなるハードコート層が形
成されるため、耐磨耗性および透明性に優れ、かつ基盤
との密着性に優れたハードコート層を有する青色レーザ
ーディスクを提供できる。

【０００９】上記ハードコート層は、シリカの被膜であ
る最外層が相対的に柔らかい光記録媒体に直接積層され
るのではなく、耐磨耗性の高い硬い内層の表面に積層さ
れているため、光記録媒体に対して傷を付けようとして
加えられた外力による最外層の変位が小さくなること
で、通常の無機質被膜が有する表面特性以上の表面特性
が得られると考えられる。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明でいう青色レーザーディス
クとは、ディスク基盤とは別に設けられるカバー層、す
なわち、ディスク基盤において誘電体膜、記録膜、反射
膜など（以下、これらの層を総称して積層膜という。）
を形成した面にカバー層が形成される光記録媒体であっ
て、波長８００〜３８０ｎｍのレーザー光を用いる光記
録媒体を意味する。

【００１１】本発明の青色レーザーディスクは、ディス
クのレーザー光入射面に、最外層に接する内層である活
性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化
合物を含む被覆組成物（Ａ）の硬化物層と、最外層であ
るポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物層との
２層以上の透明硬化物層からなるハードコート層を有す
る。内層は種類の異なる２層以上の透明硬化物からなっ
ていてもよい。なお、上記ハードコート層は、レーザー
光入射面に形成されるカバー層の表面に積層されていて
もよく、上記被覆組成物（Ａ）の硬化物層（内層）がカ
バー層を兼ねていてもよい。内層は、最外層と高い密着
性を有すると共に、カバー層または積層膜とも高い密着
性を有する。

【００１２】まず、被覆組成物（Ａ）について説明す
る。なお、以下の説明において、アクリロイル基および
メタクリロイル基を総称して（メタ）アクリロイル基と
いい、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリ
ル酸、（メタ）アクリレートなどの表現も同様とする。

【００１３】被覆組成物（Ａ）に含まれる活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物（以
下、活性エネルギ線硬化性成分という。）のうち、活性
エネルギ線によって重合しうる重合性官能基を１個有す
る化合物（以下、単に単官能性化合物という。）として
は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好まし
く、特にアクリロイル基を有する化合物が好ましい。ま
た、その他に水酸基、エポキシ基などの官能基を有して
いてもよい。上記単官能性化合物としては、たとえば以
下のものが挙げられる。

【００１４】アルキル（メタ）アクリレート（アルキル
基の炭素数は１〜１３）、アリル（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル
（メタ）アクリレート、ブタンジオール（メタ）アクリ
レート、ブトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリ
レート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）
アクリレート、２−シアノエチル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペ
ンタニル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロモプロ
ピル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）ア
クリレート、２（２−エトキシエトキシ）エチル（メ
タ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリ
レート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジ
ル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロ
イルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、
２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソボ
ルニル（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−メトキシエ
チル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリ
コール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレン
グリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレ
ングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロ
デカトリエン（メタ）アクリレート、モルホリン（メ
タ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリ
コール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプ
ロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフル
オロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル
（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレング
リコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチ
レングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）
アクリレート、スルホン酸ソーダエトキシ（メタ）アク
リレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ト
リフルオロエチル（メタ）アクリレート、ビニルアセテ
ート、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルホルムアミド、モルホリノ（メタ）アク
リレート、２−モルホリノエチル（メタ）アクリレー
ト。

【００１５】また、活性エネルギ線硬化性の重合性官能
基を２個以上有する化合物（以下、単に多官能性化合物
という。）としては、特開平１１−２４０１０３号公報
の段落番号００１６〜００２０、００２３〜００４７に
記載された化合物が好ましく挙げられる。

【００１６】好ましい多官能性化合物としては、（メ
タ）アクリロイル基から選ばれる１種以上の重合性官能
基を２個以上（２〜５０個が好ましく、より好ましくは
３〜３０個）有する化合物が挙げられる。その中でも
（メタ）アクリロイルオキシ基を２個以上有する化合
物、すなわち多価アルコールなどの２個以上の水酸基を
有する化合物と（メタ）アクリル酸とのポリエステルが
好ましい。また、上記重合性官能基以外に種々の官能基
や結合を有する化合物であってもよい。特に、ウレタン
結合を有する（メタ）アクリロイル基含有化合物（以
下、アクリルウレタンという。）と、ウレタン結合を有
しない（メタ）アクリル酸エステル化合物が好ましい。

【００１７】上記アクリルウレタンとしては、ペンタエ
リスリトールやその多量体であるポリペンタエリスリト
ールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートの反応生成物であるアクリルウレタ
ン、またはペンタエリスリトールやポリペンタエリスリ
トールの水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートと、ポリ
イソシアネートとの反応生成物であるアクリルウレタン
であって、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個
以上（より好ましくは４〜２０個）有する多官能性化合
物が挙げられる。

【００１８】また、ウレタン結合を有しない（メタ）ア
クリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトー
ル系ポリ（メタ）アクリレート、およびイソシアヌレー
ト系ポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ペ
ンタエリスリトール系ポリ（メタ）アクリレートとは、
ペンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールと
（メタ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を４〜２０個有す
る。）をいう。また、イソシアヌレート系ポリ（メタ）
アクリレートとは、トリス（ヒドロキシアルキル）イソ
シアヌレート、またはトリス（ヒドロキシアルキル）イ
ソシアヌレートの１モルに１〜６モルのカプロラクトン
やアルキレンオキシドを付加して得られる化合物と、
（メタ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を２〜３個有する。）
をいう。

【００１９】本発明においては、上記の好ましい多官能
性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を２個以上有する多官能性化合物（特に多価アルコール
のポリ（メタ）アクリレート）とを併用してもよい。

【００２０】被覆組成物（Ａ）に含まれる活性エネルギ
線硬化性成分において、上記単官能性化合物または上記
多官能性化合物の割合は特に制限されない。

【００２１】被覆組成物（Ａ）には、上記の基本的成分
以外に下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことがで
きる。

【００２２】溶剤としては、多官能性化合物を硬化性成
分とする被覆組成物に通常使用される溶剤を使用でき、
たとえば炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ケトン
類、エーテル類、エステル類などが挙げられる。なお、
ディスク基盤となる樹脂の種類に応じて適切な溶剤を用
いることが好ましく、耐溶剤性の低い樹脂の場合には、
低級アルコール類、セロソルブ類、エステル類、または
それらの混合物などが好ましい。具体的には、特開平１
１−２６８１９６号公報の段落番号００７４に記載され
た溶剤が挙げられる。本発明においては、エステル類、
セロソルブ類、低級アルコール類が特に好ましい。

【００２３】溶剤の量は、必要とする組成物の粘度、目
的とする硬化物層の厚さ、乾燥条件などにより適宜変更
できる。本発明において、溶剤は、被覆組成物（Ａ）中
の活性エネルギ線硬化性成分に対して質量で１００倍以
下、好ましくは０．１〜５０倍用いられる。

【００２４】また、被覆組成物（Ａ）は、活性エネルギ
線硬化性成分を効率よく硬化させるために、光重合開始
剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知
のものを使用でき、特に入手容易な市販のものが好まし
い。

【００２５】光重合開始剤としては、アリールケトン系
光重合開始剤（たとえば、アセトフェノン類、ベンゾフ
ェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル
類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジ
メチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−ア
シロキシムエステル類など）、含硫黄系光重合開始剤
（たとえば、スルフィド類、チオキサントン類など）、
アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ジアシルホ
スフィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始
剤が挙げられる。具体的には、特開平１１−２６８１９
６号公報の段落番号００６３〜００６５に記載された化
合物が挙げられる。本発明においては、アシルホスフィ
ンオキシド系光重合開始剤が特に好ましい。光重合開始
剤は、複数の種類を併用してもよく、アミン類などの光
増感剤と組み合わせて使用してもよい。

【００２６】被覆組成物（Ａ）における光重合開始剤の
使用量は、活性エネルギ線硬化性成分１００質量部に対
して０．０１〜２０質量部が好ましく、特に０．１〜１
０質量部が好ましい。

【００２７】上記光重合開始剤以外の機能性配合剤とし
ては、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重合防
止剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔
料（有機着色顔料、無機顔料）、帯電防止剤、硬化触媒
からなる群から選ばれる１種以上が挙げられる。

【００２８】紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線
吸収剤として使用されているベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸
系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤な
どが好ましい。具体的には、特開平１１−２６８１９６
号公報の段落番号００７８に記載された化合物が挙げら
れる。本発明においては、２−｛２−ヒドロキシ−５−
（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾト
リアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキ
シプロピル−３−（３−ベンゾトリアゾール−４−ヒド
ロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネートなど
分子内に光重合性の官能基を有するものが特に好まし
い。

【００２９】光安定剤としては、合成樹脂用光安定剤と
して使用されているヒンダードアミン系光安定剤が好ま
しい。具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報の
段落番号００８０に記載された化合物が挙げられる。本
発明においては、Ｎ−メチル−４−メタクリロイルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの分
子内に重合性官能基を有するものが特に好ましい。

【００３０】酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾールなどのヒンダードフェノール系酸
化防止剤、トリフェニルホスファイトなどのリン系酸化
防止剤などが挙げられる。レベリング剤としては、シリ
コーン樹脂系レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング
剤などが挙げられる。

【００３１】消泡剤としては、ポリジメチルシロキサン
などのシリコーン樹脂系消泡剤などが挙げられる。増粘
剤としては、ポリメチルメタクリレート系ポリマー、水
添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系化合物などが挙げ
られる。

【００３２】有機着色顔料としては、縮合多環系有機顔
料、フタロシアニン系有機顔料などが挙げられる。無機
顔料としては、二酸化チタン、酸化コバルト、モリブデ
ンレッド、チタンブラックなどが挙げられる。

【００３３】帯電防止剤としては、ノニオン系帯電防止
剤、カチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤など
が挙げられる。硬化触媒としては、酸、アルカリまたは
塩類などから選ばれる硬化触媒が挙げられる。

【００３４】被覆組成物（Ａ）の硬化物層（内層）の厚
さは１〜１５０μｍが好ましい。ただし、内層がカバー
層を兼ねる場合は、内層の厚さは５０〜１５０μｍが好
ましく、特に９０〜１１０μｍが好ましい。一方、別に
カバー層が存在する場合は、カバー層の厚さが０．１ｍ
ｍ程度あるため、内層の厚さは１〜５０μｍが好まし
く、特に２〜３０μｍが好ましい。

【００３５】次に、被覆組成物（Ｂ）について説明す
る。被覆組成物（Ｂ）に含まれるポリシラザンとして
は、特開平１１−２４０１０３号公報の段落番号００９
７〜０１０４に記載されたポリシラザンが好ましく挙げ
られる。

【００３６】本発明においては、ペルヒドロポリシラザ
ンが好ましく、また、その数平均分子量は２００〜５万
が好ましい。数平均分子量が２００未満では焼成しても
均一な硬化物が得られにくく、５万超では溶剤に溶解し
にくくなり好ましくない。

【００３７】被覆組成物（Ｂ）には、ポリシラザン以外
に上記活性エネルギ線硬化性成分を靱性付与の目的で任
意の範囲で含むことができる。また、被覆組成物（Ｂ）
には、下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことがで
きる。

【００３８】溶剤としては、炭化水素類、ハロゲン化炭
化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類を使用で
きる。具体的には、特開平１１−２４０１０３号公報の
段落番号０１０６に記載された溶剤が好ましく挙げられ
る。本発明においては、キシレンおよびジブチルエーテ
ルが特に好ましい。溶剤は、ポリシラザンの溶解度や溶
剤の蒸発速度を調節するために、複数の種類の溶剤を混
合して用いてもよい。

【００３９】溶剤の使用量は、採用される塗工方法また
はポリシラザンの構造や平均分子量などによって異なる
が、固形分濃度で０．５〜８０質量％となるように調製
することが好ましい。

【００４０】機能性配合剤としては、上記の被覆組成物
（Ａ）で説明した機能性配合剤のほか、スリッピング
剤、指紋除去性賦与剤などが好ましく挙げられる。

【００４１】被覆組成物（Ｂ）の硬化物層（最外層）の
厚さは０．０５〜１０μｍが好ましく、特に０．１〜３
μｍが好ましい。最外層の厚さが１０μｍ超では、耐磨
耗性などの表面特性の向上がそれ以上期待できないう
え、層が脆くなり、ディスクのわずかな変形によっても
最外層にクラックなどが生じやすくなる。また、０．０
５μｍ未満では、この最外層の耐磨耗性が充分発現でき
ないおそれがある。

【００４２】次に、被覆組成物（Ａ）および（Ｂ）の塗
工、硬化方法について説明する。上記の２種類の被覆組
成物（Ａ）および（Ｂ）を、青色レーザーディスクのレ
ーザー光入射面に塗工する方法としては、特に制限され
ず、公知の方法を採用できる。たとえば、ディップ法、
フロートコート法、スプレー法、バーコート法、グラビ
アコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エア
ーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート
法、マイクログラビアコート法などの種々の方法を採用
できる。また、たとえば被覆組成物（Ａ）をグラビアコ
ートした後、被覆組成物（Ｂ）をスピンコートまたはス
プレーコートするといった複数の塗工方法を組み合わせ
ることもできる。本発明においては、生産性や表面外観
の点からスピンコート法が好ましく採用される。

【００４３】被覆組成物（Ａ）を硬化させる活性エネル
ギ線としては、特に限定されず、紫外線、電子線やその
他の活性エネルギ線を使用できる。本発明においては、
紫外線が好ましい。紫外線源としては、キセノンラン
プ、パルスキセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク
灯、タングステンランプなどを使用できる。

【００４４】また、被覆組成物（Ｂ）に含まれるポリシ
ラザンを硬化させてシリカとする方法としては、特開平
１１−２４０１０４号公報の段落番号０１１１〜０１１
５に記載された方法を採用できる。

【００４５】本発明においては、低温（１８０℃以下）
で焼成してポリシラザンを硬化させることが好ましい。
低温でポリシラザンを硬化させるためには、被覆組成物
（Ｂ）に触媒を添加するのが好ましく、より低温で硬化
できる触媒を用いることが好ましい。そのような触媒と
しては、たとえば、特開平７−１９６９８６号公報に記
載されている金、銀、パラジウム、白金、ニッケルなど
の金属の微粒子、特開平９−３１３３３号公報に記載さ
れているアミン類や酸類が挙げられる。

【００４６】上記金属の微粒子の粒径は０．１μｍ未満
が好ましく、さらに硬化物の透明性を確保するためには
０．０５μｍ未満が好ましい。また、粒径が小さいほど
比表面積が増大して触媒能も増大するので、触媒性能向
上の点からもより小さい粒径の触媒を使用することが好
ましい。

【００４７】上記アミン類としては、たとえば、モノア
ルキルアミン、ジアルキルアミン、トリアルキルアミ
ン、モノアリールアミン、ジアリールアミン、環状アミ
ンなどが挙げられる。上記酸類としては、たとえば、酢
酸などの有機酸や塩酸などの無機酸が挙げられる。

【００４８】被覆組成物（Ｂ）にあらかじめ触媒として
上記金属の微粒子を添加する場合、その添加量は、ポリ
シラザン１００質量部に対して０．０１〜１０質量部が
好ましく、特に０．０５〜５質量部が好ましい。触媒の
添加量が０．０１質量部未満では充分な触媒効果が期待
できず、１０質量部超では触媒どうしの凝集が起こりや
すくなり、透明性を損なうおそれがある。

【００４９】また、上記アミン類や酸類は、被覆組成物
（Ｂ）にあらかじめ添加してもよく、被覆組成物（Ｂ）
を塗工した後に、アミン類や酸類の溶液（水溶液を含
む。）、またはそれらの蒸気（水溶液からの蒸気を含
む。）に接触させてもよい。

【００５０】次に、ディスク基盤について説明する。デ
ィスク基盤としては、ポリカーボネート、ポリメチルメ
タクリレート、アモルファスポリオレフィンなどの透明
樹脂またはガラスに直接案内溝を形成した基盤、上記樹
脂またはガラスにフォトポリマー法により案内溝を形成
した基盤などが好ましく挙げられる。

【００５１】また、ディスク基盤の案内溝の表面には、
下記の誘電体膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜が
形成される。これらの膜の材質は特に限定されない。

【００５２】誘電体膜の材質としては、たとえば、Ｓｉ
₃Ｎ₄、ＳｉＯ₂、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、
ＡｌＴｉＮ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＳなどが好ましく挙げられ
る。

【００５３】記録膜の材質は、記録方式により異なる
が、たとえば、追記型光記録媒体ではＴｅ、Ｓｎ、Ｓｅ
などのカルコゲナイト系合金、相変化型光記録媒体では
ＴｅＯｘ、ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂなどのカルコゲナイト系
合金、光磁気ディスクではＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅ
Ｃｏなどの遷移金属と希土類金属との合金（単層または
２層以上の交換結合膜）が好ましく挙げられる。

【００５４】反射膜の材質は、たとえば、Ａｌ、Ａｕ、
Ａｇ、Ｃｕなどの金属、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒなどの
合金が好ましく挙げられる。

【００５５】図１には、本発明の一実施例である青色レ
ーザーディスクの断面の模式図（カバー層が別に設けら
れる場合）が示されている。この青色レーザーディスク
８は、ディスク基盤１の案内溝２を有する面に、誘電体
膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜３が形成され、
該積層膜３の表面にカバー層４が形成されている。そし
て、該カバー層の表面に被覆組成物（Ａ）の硬化物層で
ある内層５と被覆組成物（Ｂ）の硬化物層である最外層
６からなるハードコート層７が形成されている。

【００５６】本発明の青色レーザーディスクは、たとえ
ば以下のようにして製造できる。ディスク基盤の案内溝
を有する面に、常法により誘電体膜、記録膜、反射膜な
どからなる積層膜を形成する。誘電体膜、記録膜および
反射膜は、スパッタリング、イオンプレーティングなど
の物理蒸着法またはプラズマＣＶＤなどの化学蒸着法に
より形成できる。

【００５７】次いで、積層膜の表面に、スピンコート
法、ロールコーター法またはスクリーン印刷法などによ
り、（メタ）アクリル化合物、ビニル化合物、アリル化
合物などを含む活性エネルギ線硬化性樹脂またはエポキ
シ樹脂などの熱硬化性樹脂を均一に塗布した後、紫外線
や電子線などの活性エネルギ線照射による硬化および／
または熱硬化によりカバー層を形成する。カバー層の厚
さは９０〜１１０μｍが好ましい。

【００５８】次いで、カバー層の表面に、前記の方法に
より被覆組成物（Ａ）および（Ｂ）を塗工し、ハードコ
ート層を形成する。なお、被覆組成物（Ａ）の硬化物層
がカバー層を兼ねる場合は、積層膜の表面に被覆組成物
（Ａ）を塗工する。

【００５９】なお、被覆組成物（Ａ）の硬化と、被覆組
成物（Ｂ）の塗工〜硬化のタイミングとしては、以下の
（１）〜（４）のタイミングが挙げられる。

【００６０】（１）被覆組成物（Ａ）を塗工した後、充
分な量の活性エネルギ線を照射して充分に被覆組成物
（Ａ）の硬化を終了させた後、その表面に被覆組成物
（Ｂ）の層を形成する。

【００６１】（２）被覆組成物（Ａ）を塗工して被覆組
成物（Ａ）の未硬化物層を形成した後、その未硬化物層
の表面に被覆組成物（Ｂ）を塗工して被覆組成物（Ｂ）
の未硬化物層を形成し、その後に充分な量の活性エネル
ギ線を照射して被覆組成物（Ａ）の硬化を終了させる。
この場合、被覆組成物（Ｂ）は被覆組成物（Ａ）とほぼ
同時に硬化するか、被覆組成物（Ａ）の硬化後、硬化触
媒溶液の蒸気雰囲気下に曝す、常温に放置する、または
加熱などにより硬化される。

【００６２】（３）被覆組成物（Ａ）を塗工した後、指
触乾燥状態になり、かつ完全硬化に至らないまでの量の
活性エネルギ線（通常、約５００ｍＪ／ｃｍ²までの照
射量）を照射して被覆組成物（Ａ）の部分硬化物層を形
成した後、その部分硬化物層の表面に被覆組成物（Ｂ）
を塗工して被覆組成物（Ｂ）の未硬化物層を形成し、そ
の後、完全硬化させるに充分な量の活性エネルギ線を照
射して被覆組成物（Ａ）の硬化を終了させる。なお、被
覆組成物（Ｂ）の未硬化物の硬化は上記（２）の場合と
同様である。

【００６３】（４）上記（２）または（３）のように被
覆組成物（Ａ）の未硬化物層または部分硬化物層と被覆
組成物（Ｂ）の未硬化物層とを形成した後、被覆組成物
（Ｂ）の未硬化物を先に部分硬化または完全硬化させ
て、その後に被覆組成物（Ａ）の未硬化物または部分硬
化物を完全硬化させる。この場合、ハードコート層の耐
磨耗性が優れるという点から、被覆組成物（Ｂ）を塗工
する時点では被覆組成物（Ａ）は部分硬化物であること
が好ましい。また、被覆組成物（Ａ）を完全硬化させる
時点では被覆組成物（Ｂ）は部分硬化物であることが好
ましい。

【００６４】本発明においては、２つの硬化物層の層間
密着力を上げるために、上記（２）または（３）のタイ
ミングで行なうことが好ましい。また、被覆組成物が溶
剤を含有している場合は、塗工後、乾燥して溶剤を除去
してから硬化させることが好ましい。

【００６５】上記のようにして得られる青色レーザーデ
ィスクは、単板で用いてもよく、２枚以上を貼り合わせ
て用いてもよい。そして、必要に応じてハブを付け、カ
ートリッジへ組み込めばよい。

【００６６】

【実施例】以下、本発明を実施例（例１〜６）、比較例
（例７）に基づき説明するが、本発明はこれらに限定さ
れない。各例においては、ディスク基盤として、光記録
媒体用ポリカーボネート基盤（直径１２ｃｍ、厚さ１．
２ｍｍ）の片面（案内溝を有する面）に、積層膜（Ａｌ
からなる反射膜層、ＳｉＮからなる第１誘電体層、Ｔｂ
ＦｅＣｏからなる光磁気記録層、ＳｉＮからなる第２誘
電体層）をスパッタ法により成膜したものを用いた。

【００６７】また、各例で得られたサンプルについての
各種物性の測定および評価は以下に示す方法で行い、そ
の結果を表１に示した（初期曇価、耐磨耗性、および初
期黄色度の測定用サンプルは、反射膜の形成を省いたデ
ィスク基盤を用いて作製した。）。なお、参考として通
常の建築用ガラスシート（板ガラス）についての結果も
併せて表１に示した。

【００６８】［初期曇価、耐磨耗性］ＪＩＳ−Ｒ３２１
２における耐磨耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ磨
耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせ５００回転
させたときの曇価（ヘーズ）をヘーズメータにて測定し
た。曇価の測定は磨耗サイクル軌道の４カ所で行い、平
均値を算出した。初期曇価は耐磨耗試験前の曇価の値
（％）を、耐磨耗性は（耐磨耗試験後曇価）−（耐磨耗
試験前曇価）の値（％）を示す。

【００６９】［初期黄色度］スガ試験機社製カラーメー
タにより、サンプルの２点の黄色度（ＹＩ）の値を測定
し、その平均値を求めた。

【００７０】［密着性］サンプルを剃刀の刃で１ｍｍ間
隔で縦横それぞれ１１本の切れ目を付け、１００個の碁
盤目を作り、市販のセロハンテープをよく密着させた
後、９０度手前方向に急激にはがした際の、ハードコー
ト層が剥離せずに残存した碁盤目の数（ｍ）をｍ／１０
０で表す。

【００７１】［例１］撹拌機および冷却管を装着した２
００ｍＬの４つ口フラスコに、水酸基を有するジペンタ
エリスリトールポリアクリレートと部分ヌレート化ヘキ
サメチレンジイソシアネートの反応生成物であるウレタ
ンアクリレート（１分子当り平均１５個のアクリロイル
基を含有）１０．０ｇと、カプロラクトン変性トリス
（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート（東亞
合成社製、商品名「アロニクスＭ−３２５」）１０．０
ｇを加え、続いてｎ−ブチルアクリレート１０．０ｇ、
モルホリノアクリレート１０．０ｇ、２，４，６−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド２．０
ｇおよびＰＭＭＡ樹脂１０．０ｇを加え、常温で１時間
撹拌して塗工液１を得た。

【００７２】次に、ディスク基盤の積層膜の表面にスピ
ンコート法により塗工液１を塗工（ウエット厚さ１００
μｍ）して、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて
３００ｍＪ／ｃｍ²（波長３００〜３９０ｎｍ領域の紫
外線積算エネルギ量、以下同じ。）の紫外線を照射し、
膜厚１００μｍの透明部分硬化物層を形成した。

【００７３】次に、この表面にさらに低温硬化性のペル
ヒドロポリシラザンのキシレン溶液（固形分２０質量
％、クラリアントジャパン社製、商品名「Ｌ１１０」、
以下、塗工液２という。）をスピンコーターを用いて塗
工（ウェット厚さ６μｍ）して、８０℃の熱風循環オー
ブン中で１０分間保持して溶剤を除去した後、これを空
気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５００ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線を照射し、膜厚１．２μｍの透明硬化物層を形
成した。こうしてディスク基盤のレーザー光入射面に総
膜厚１０１．２μｍのハードコート層（内層がカバー層
も兼ねる）を形成したサンプルを得た。

【００７４】［例２］例１において、塗工液１を塗工し
た後の工程を次のように変更した以外は、例１と同様に
してサンプルを得た。

【００７５】ディスク基盤の積層膜の表面に塗工液１を
塗工後、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５
００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚１００μｍの
透明硬化物層を形成した。そして、この表面に塗工液２
をスピンコート法により塗工（ウェット厚さ６μｍ）し
て、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持して溶
剤を除去した後、さらに１００℃の熱風循環オーブン中
で１２０分間保持した。こうしてディスク基盤のレーザ
ー光入射面に総膜厚１０１．２μｍのハードコート層
（内層がカバー層も兼ねる）を形成したサンプルを得
た。

【００７６】［例３］例１において、塗工液２の代わり
に、末端の一部がトリメチルシリル基で変性されたポリ
シラザンのキシレン溶液（固形分２０質量％、クラリア
ントジャパン社製、商品名「Ｎ−Ｎ３１０」、以下、塗
工液３という。）を用いた以外は、例１と同様にしてサ
ンプルを得た。

【００７７】［例４］撹拌機および冷却管を装着した２
００ｍＬの４つ口フラスコに、酢酸ブチル５１．８ｇ、
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド１．０ｇ、ＰＭＭＡ樹脂２．０ｇおよびＮ−
メチル−４−メタクリロイルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン０．４４ｇを加えて溶解させ、
続いて水酸基を有するジペンタエリスリトールポリアク
リレートと部分ヌレート化ヘキサメチレンジイソシアネ
ートの反応生成物であるウレタンアクリレート（１分子
当り平均１５個のアクリロイル基を含有）１０．０ｇ
と、カプロラクトン変性トリス（アクリロイロキシエチ
ル）イソシアヌレート（東亞合成社製、商品名「アロニ
クスＭ−３２５」）１０．０ｇを加えて常温で１時間撹
拌して塗工液４を得た。

【００７８】次に、ディスク基盤の積層膜の表面に、保
護コート剤（大日本インキ化学工業社製、商品名「ダイ
キュアクリアＳＤ−３０１」、以下、塗工液５とい
う。）を約１００μｍの膜厚になるように塗布した後、
１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化させてカ
バー層を形成した。

【００７９】そして、カバー層の表面にスピンコート法
により塗工液４を塗工（ウエット厚さ１５μｍ）して、
８０℃の熱風循環オーブン中で５分間保持して溶剤を除
去した後、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１
００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚５μｍの透明
部分硬化物層を形成した。

【００８０】次に、この表面にさらに塗工液２をスピン
コーターを用いて塗工（ウェット厚さ６μｍ）して、８
０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持して溶剤を除
去した後、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１
５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚１．２μｍ
の透明硬化物層を形成した。こうしてディスク基盤のカ
バー層の表面に膜厚６．２μｍのハードコート層を形成
したサンプルを得た。

【００８１】［例５］例４において、塗工液４を塗工し
た後の工程を次のように変更した以外は、例４と同様に
してサンプルを得た。

【００８２】塗工液４を塗工して溶剤を除去した後、こ
れを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５００ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚５μｍの透明硬化物層を
形成した。そして、この表面に塗工液２をスピンコート
法により塗工（ウェット厚さ６μｍ）して、８０℃の熱
風循環オーブン中で１０分間保持して溶剤を除去した
後、１００℃の熱風循環オーブン中で１２０分間保持し
た。こうしてディスク基盤のカバー層の表面に総膜厚
６．２μｍのハードコート層を形成したサンプルを得
た。

【００８３】［例６］例４において、塗工液２の代わり
に塗工液３を用いた以外は、例４と同様にしてサンプル
を得た。

【００８４】［例７］例１において、塗工液２の代わり
に、以下の方法で得られる塗工液６を用いた以外は、例
１と同様にしてサンプルを得た。

【００８５】撹拌機および冷却管を装着した２００ｍＬ
の４つ口フラスコに、酢酸ブチル１２１．３０ｇ、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート５０．０ｇ、２
−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モル
ホリノ−プロパン−１−オン３．００ｇ、シリコーン系
レベリング剤０．６３ｇを加えて常温で１時間撹拌し、
続いて低温硬化性のペルヒドロキシポリシラザンのキシ
レン溶液（固形分２０質量％、クラリアントジャパン社
製、商品名「Ｎ−Ｄ１１０」）を５０．０ｇ加え、さら
に常温で１時間撹拌して塗工液６を得た。

【００８６】［例８］ディスク基盤の積層膜の表面に、
塗工液５を塗布（ウエット厚さ約１００μｍ）した後、
１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化させてカ
バー層を形成した。

【００８７】次いで、スピンコート法により三菱レーヨ
ン社製「ダイヤビームＵＲ−４５００」を塗工（厚さ５
μｍ）して、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１００
０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚５μｍの透明硬
化物層を形成して、サンプルを得た。

【００８８】

【表１】

【００８９】

【発明の効果】本発明によれば、ディスクのレーザー光
入射面に高い耐磨耗性および透明性を有し、かつディス
ク基盤との密着性に優れたハードコート層を有する青色
レーザーディスクおよびその製造方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である青色レーザーディス
クの断面を表す模式図である。

【符号の説明】１．ディスク基盤２．案内溝３．積層膜４．カバー層５．内層６．最外層７．ハードコート層８．青色レーザーディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山本博嗣神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地旭硝子株式会社内Ｆターム(参考） 5D029 LA03 LA05 LB07 LB13 LC08 LC21 5D121 AA04 EE23 EE27 EE28 GG02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ディスクのレーザー光入射面にハードコ
ート層を有する青色レーザーディスクにおいて、前記ハ
ードコート層が２層以上の透明硬化物層からなり、この
透明硬化物層のうち最外層に接する内層が活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物を含む
被覆組成物（Ａ）の硬化物層であり、最外層がポリシラ
ザンを含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物層であることを特
徴とする青色レーザーディスク。
【請求項２】前記被覆組成物（Ａ）の硬化物層の厚さ
が１〜１５０μｍである、請求項１に記載の青色レーザ
ーディスク。
【請求項３】前記被覆組成物（Ｂ）の硬化物層の厚さ
が０．０５〜１０μｍである、請求項１または２に記載
の青色レーザーディスク。
【請求項４】請求項１〜３のいずれか一つに記載され
た青色レーザーディスクの製造方法において、ディスク
のレーザー光入射面の表面に、活性エネルギ線硬化性の
重合性官能基を１個以上有する化合物を含む被覆組成物
（Ａ）の未硬化物層、部分硬化物層または硬化物層を形
成し、この表面にポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）
の未硬化物層または部分硬化物層を形成し、被覆組成物
（Ａ）の層が硬化物層である場合は被覆組成物（Ｂ）の
層を硬化させ、被覆組成物（Ａ）の層が未硬化物層また
は部分硬化物層である場合は被覆組成物（Ａ）および被
覆組成物（Ｂ）の層を任意の順でまたは同時に硬化させ
ることを特徴とする青色レーザーディスクの製造方法。