JPH10241206A - 光記録媒体および光記録媒体の製造方法 - Google Patents

光記録媒体および光記録媒体の製造方法

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JPH10241206A
JPH10241206A JP9045748A JP4574897A JPH10241206A JP H10241206 A JPH10241206 A JP H10241206A JP 9045748 A JP9045748 A JP 9045748A JP 4574897 A JP4574897 A JP 4574897A JP H10241206 A JPH10241206 A JP H10241206A
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JP
Japan
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optical recording
recording medium
molecule
acryloyl groups
weight
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JP9045748A
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Atsushi Takeda
淳 武田
Akio Kakimoto
秋男 柿本
Masaaki Iwamoto
正聰 岩元
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、基板表面に傷のつきにくい保護性
に優れた光記録媒体およびその製造方法を提供せんとす
るものである。 【解決手段】 本発明の光記録媒体は、有機保護層を備
えた光記録媒体であって、該有機保護層が1分子中にア
クリロイルオキシ基を2個以上有する重合性モノマの少
なくとも2種を主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の
硬化層からなることを特徴とするものである。かかる光
記録媒体の製造方法は、重合性モノマおよび溶剤を含む
化学線硬化性樹脂組成物を基板上に塗布し、硬化させる
工程を含む光記録媒体の製造方法であって、前記溶剤が
プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピ
レングリコールモノエチルエーテルから選ばれた少なく
とも1種であることを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板に傷のつきに
くい光ディスク、光カード、光テープなどに使用する光
記録媒体およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】レーザー光を照射して情報の再生あるい
は記録、再生さらには消去が可能である光記録媒体とし
て、ガラスやプラスチックなどの基板上に薄膜層を形成
したものが知られている。
【0003】たとえば、特開昭61−133067号公
報では、有機系保護層を施した光記録媒体として、Al
などの金属層表面に紫外線硬化性樹脂の層を施した再生
専用のもの、あるいは、記録、再生、消去可能な光記録
媒体が提案されている。また、特開平4−254927
号公報では、有機系保護層が特定の化学線硬化性樹脂組
成物の硬化層からなる光記録媒体が提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開昭61−
133067号公報ならびに特開平4−254927号
公報には、有機系保護層と薄膜層との接着界面における
硬度に着目し、硬度を規定した有機系材料組成物処方と
することによるデイスク特性の改善効果については何ら
言及していない。
【0005】本発明は、かかる在来技術の欠点に鑑み創
案されたものであり、基板表面に傷のつきにくい保護性
に優れた光記録媒体およびその製造方法を提供せんとす
るものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、かかる課題を
解決するために、次のような手段を採用する。すなわ
ち、本発明の光記録媒体は、有機保護層を備えた光記録
媒体であって、該有機保護層が1分子中にアクリロイル
オキシ基を2個以上有する重合性モノマの少なくとも2
種を主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化層から
なることを特徴とするものである。かかる光記録媒体の
製造方法は、重合性モノマおよび溶剤を含む化学線硬化
性樹脂組成物を基板上に塗布し、硬化させる工程を含む
光記録媒体の製造方法であって、前記溶剤がプロピレン
グリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコ
ールモノエチルエーテルから選ばれた少なくとも1種で
あることを特徴とするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明は、基板表面に傷のつきに
くい保護性に優れた光記録媒体について、鋭意検討した
ところ、特定な有機保護層を光記録媒体基板に設けるこ
とによって、光による記録、再生、消去機能を損なうこ
となく保護性に優れた光記録媒体を提供することができ
ることを究明した。
【0008】本発明において使用される基板および薄膜
層としては、限定はなく公知のものが使用できる。
【0009】基板としてはポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレートおよびエポキシ樹脂などのプラスチッ
クやガラスなどが使用でき、その厚さは通常10μm〜
5mmの範囲である。基板は通常ディスク状で使用され
るが、テープ状、シート状あるいはカード状で用いるこ
ともできる。
【0010】薄膜層としては再生専用として例えばAl
などの金属層より形成されたものが使用できる。
【0011】記録、再生さらには消去可能な薄膜層とし
ては例えば誘電体膜、記録膜、誘電体膜、反射冷却膜よ
り形成された多層構成層が使用できる。
【0012】ここで、誘電体膜としては、基板や記録膜
が記録により熱によって変形したり記録消去再生特性が
劣化したりするのを防止したり、記録膜の耐湿熱性や耐
酸化性を持たせる役割を果たし、このような誘電体膜と
してはZnS、SiO2、Ta2O5、ITO、Zr
C、TiC、MgF2などの無機膜やそれらの混合膜が
使用でき、特にZnSとSiO2およびZnSとMgF
2の混合膜は耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再
生時の記録膜の劣化を抑制するので好ましい。
【0013】記録膜としては、Ge−Sb−Te系薄
膜、M−Ge−Sb−Te系薄膜(MはPd、Cu、A
g、Ti、Coなどの金属元素)、In−Sb−Te系
薄膜などが挙げられる。特にGe−Sb−Te系薄膜、
Pd−Ge−Sb−Te系薄膜は記録消去再生を繰り返
しても劣化が起こり難く、さらに熱安定性が優れている
ので好ましい。
【0014】反射冷却膜としては金属または金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属の混合物、例え
ばZr、Hr、Ta、Mo、Al、Auなどの金属やこ
れらの合金、これらとZr酸化物、Si酸化物、Si窒
化物、Al酸化物などを混合したものを使用でき、特に
Alやこれらの合金などは膜の形成が容易であり好まし
い。
【0015】誘電体膜の厚さは10〜500nm、記録
膜の厚さは10〜1000nmおよび反射冷却膜は10
0〜200nmであることが記録再生消去特性上から好
ましい。
【0016】誘電体膜、記録膜、反射冷却膜を形成する
方法としては、公知の真空中での薄膜形成方法、例えば
真空蒸着法、イオンプレーティグ法、スパッタリング法
などが挙げられる。特に組成、膜厚のコントロールが容
易なことからスパッタリング法が好ましい。
【0017】本発明に使用される有機系保護層は特定な
2種の重合性モノマを主成分とする化学線硬化性樹脂の
硬化物層からなる。すなわち、1分子中にアクリロイル
オキシ基を2個以上有する重合性モノマの少なくとも2
種を主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化層から
なるものである。かかる重合性モノマとしては、たとえ
ば、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−
ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバ
リン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ト
リス((メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌ
レート、ビスフェノールAあるいはビスフェノールAの
水素化物のジ(メタ)アクリレート、ジイソシアネート
化合物と、2個以上のアルコール性水酸基を有する化合
物を予め反応させて得られる末端イソシアネート基含有
化合物に、アルコール性水酸基含有(メタ)アクリレー
トを反応させて得られる分子内に2個以上の(メタ)ア
クリロイルオキシ基を有するウレタン(メタ)アクリレ
ートなどを使用することができる。かかる化学線硬化性
樹脂組成物として、2官能以上のモノマーを用いると、
保護膜が白化しにくくなるが、これに対して、1官能モ
ノマー(テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジ
ルアクリレート等)を、10重量部以上用いた場合に
は、90℃/80%/1000hrの耐久試験で硬化膜
が白化するという問題を有する。
【0018】かかる2官能以上の重合性モノマの中で
も、1分子中のアクリロイル基の数が6個の重合性モノ
マと、1分子中のアクリロイル基の数が2〜4個の重合
性モノマとの2種の重合性モノマを主成分として構成さ
れた化学線硬化性樹脂組成物の硬化層が、本発明の効果
にすぐれていて好ましい。その場合、該1分子中のアク
リロイル基の数が6個の重合性モノマが、20〜80重
量%の割合で含まれているときにその効果が最も優れて
いる。かかる1分子中のアクリロイル基の数が6個の重
合性モノマとしては、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート・ヘキサメチレンジイソシアネート・ウレタンプ
レポリマが最も好ましく使用される。すなわち、かかる
組成物は、硬度が高く、かつ靭性が高くなる効果を有す
る。しかし、ウレタンプレポリマが20重量部未満では
その効果がないし、80重量部を越えると、架橋密度が
高くなりすぎて、かえって靭性が低化するという傾向を
示すものである。
【0019】また、一方の1分子中のアクリロイル基の
数が2〜4個の重合性モノマとしては、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレートおよびEO変性ビスフェノールAジアクリ
レートから選ばれた少なくとも1種が好ましく使用さ
れ、特にペンタエリスリトールテトラアクリレート9〜
35重量%、ペンタエリスリトールトリアクリレート4
〜16重量%、EO変性ビスフェノールAジアクリレー
ト7〜29重量%の割合で配合された化学線硬化性樹脂
組成物の硬化層が、本発明の効果にすぐれている。
【0020】かかる化学線硬化性樹脂組成物の中でも、
主成分が、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
と脂肪族ジオールジアクリレートで構成されているも
の、さらに具体的には、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート90〜40重量%と、1,6−ヘキサンジ
オールジアクリレートおよびネオペンチルグリコールジ
アクリレートから選ばれた少なくとも1種を10〜60
重量%とで構成されているものが特に好ましい。かかる
組成物は、硬度が高く、かつ接着性が高い効果を奏する
が、しかし、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トが40重量未満だと硬度が低くなるし、90重量部を
越えると接着性が低くなる傾向を示す。
【0021】以上説明した組成物の中では、前記のもの
よりも、後者の組成物の方が、硬度と接着性を両立させ
ることができる点でより好ましい。
【0022】かかる化学線硬化性樹脂組成物の光重合開
始剤として主として分子内結合開裂型であるものを使用
することが、硬度の高い保護層を形成する上から好まし
い。つまり、本発明による有機系保護層は、重合性モノ
マを主成分とする化学線硬化性樹脂の硬化物層からな
り、該化学線硬化性樹脂組成物の光重合開始剤が主とし
て分子内結合開裂型からなるものが好ましい。具体的に
は1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4−
(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキ
シ−2−プロピル)ケトン、ベンジルジメチルケタ−
ル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイノプロピルエーテル、ジエトキシア
セトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェ
ニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン1−オ
ン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−
2−メチルプロパン1−オン、ベンゾイン、ベンゾイン
イソブチルエーテルなどが挙げられる。硬化被膜に残存
する光重合開始剤の薄膜層への影響を考慮すれば常温で
固体である1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−
ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、ベンジルジメチル
ケタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどが好
ましく用いられる。重合性モノマに対する溶解性および
硬化性から1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ンとベンジルジメチルケタールがより好ましく用いられ
る。添加量は重合性モノマ100重量部に対し0.1〜
10重量部が適当である。
【0023】一方、ベンゾフェノン系やチオキサンソン
系などの分子間水素引抜き型光重合開始剤は表面の硬化
性は良好であるが、薄膜層との接着面の硬化性に劣り、
本発明には適さないが、例えば表面硬度を調整する目的
で本発明の光重合開始剤が分子内結合開裂型からなる化
学線硬化性樹脂組成物に薄膜層との接着面の硬度を損な
わない程度用いても良い。
【0024】この場合、例えば分子内結合開裂型光重合
開始剤(A)と分子間水素引抜き型光重合開始剤(B)
の混合割合で分子間水素引抜き型光重合開始剤が好まし
くは、40重量%以下であり、さらに好ましくは20重
量%以下(ただしA+B=100重量%)である。分子
間水素引抜き型光重合開始剤が40重量%を越える場合
は接着面硬度、繰返し性および耐湿熱性が十分でなく好
ましくない。
【0025】本発明において、かかるモノマー、溶剤、
開始剤以外に、増感剤、レベリング剤等を添加してもさ
しつかえない。
【0026】本発明のかかる光記録媒体を製造する方法
において、すなわち、重合性モノマおよび溶剤を含む化
学線硬化性樹脂組成物を基板上に塗布し、硬化させる際
に、使用する該溶剤として、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルおよびプロピレングリコールモノエチル
エーテルから選ばれた少なくとも1種を使用するところ
に特徴を有するものである。かかる溶剤を使用すること
により、重合性モノマのみの場合より粘度が下がり、低
速スピン回転でも塗りやすくする。すなわち、重合性モ
ノマのみの場合では、高速回転で塗液ミストが裏回りし
て記録特性に悪影響があるものしか製造することができ
なかった。また、たとえば通常の溶剤、たとえばトルエ
ンやメチルエチルケトンなどでは、基板が溶解し、塗液
の吐出部近傍に溝等の吐出跡ができてしまうことがある
上に、かかる一般的な有機溶媒は引火性が強く、これら
を加えた塗液は、消防法第4類第1石油類に該当する
し、毒性の強いものが多いという問題があった。
【0027】これに対し、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルまたはプロピレングリコールモノエチルエ
ーテルを用いた場合は、ポリカーボネート基板上に吐出
跡が残らないし、毒性も低いし、引火性も低いという特
徴を有する。かかる溶剤は、塗液中好ましくは10〜8
0重量%、さらに好ましくは20〜60重量%添加、配
合して使用するものである。
【0028】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されない。実施例中の
各特性の評価については次の方法によった。
【0029】[評価方法] 1)耐湿熱性の評価 ポリカーボネート基板上に保護コート組成物を塗布、硬
化させた試料を作成し、90℃、80%RHの雰囲気下
に1000hr置き、外観を目視で観察した。変化ない
ものを○、白化したものを×とした。
【0030】2)吐出部の外観 ポリカーボネート基板上に塗液が吐出される吐出部を目
視で観察した。基板上の吐出部に溝等の吐出跡が残った
場合は×、吐出跡がない場合は○。
【0031】3)表面硬度の評価 ポリカーボネート基板上に保護コート組成物を塗布、硬
化させた試料を作成し、その表面をテーパ摩耗試験機
(摩耗輪;CS−10F、荷重500g)で摩耗し、そ
の傷の程度を光学式濁度計(SEP−H−2、日本精密
光学製)で測定した濁度の値で評価した。
【0032】4)接着性の評価 ポリカーボネート基板の非溝形成面の硬化被膜面をJI
S K5400、6.1 5碁盤目試験に準じて評価し
た。
【0033】判定は硬化被膜に1mm間隔に基材に達す
る被膜切断線を縦横それぞれ11本入れて、1mm四方
のマス目を100個作り、そのうえにセロハンテープ
(ニチバン社製)を貼り付け急激に剥す。この操作で剥
離しなかったマス目の数で表す。
【0034】実施例1 厚さ1.2mm、直径120mmφ、1.2μmピッチ
のスパイラル状の溝付きポリカーボネート基板の非溝形
成面に、下記した化学線硬化性樹脂組成物の硬化後の膜
厚が2μmになるように基板に塗布し、大気雰囲気下で
塗布面より高圧水銀灯で強度500mJ/cm2 の紫外
線を照射して硬化し有機系保護層を形成した。
【0035】[化学線硬化性樹脂組成物]下記の組成物
薬剤を混合溶解して、紫外線硬化性樹脂保護層組成物と
した。
【0036】 ペンタエリスリトールトリアクリレート・ヘキサメチレン ジイソシアネート・ウレタンプレポリマー 25重量% (UA306H、共栄社油脂化学工業社製) ペンタエリスルトールテトラアクリレート 10重量% ペンタエリスリトールトリアクリレート 5重量% EO変性ビスフェノールAジアクリレート 8重量% (BP−4EA、共栄社油脂化学工業社製) 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 2重量% (イルガキュア−184、チバガイギー社製) プロピレングリコールモノメチルエーテル 50重量% (アーコソルブPM、協和醗酵社製) つぎに反対側の溝付き面に、スパッタリング法により記
録膜を作成した。その上に、紫外線硬化性有機樹脂塗液
を硬化後の膜厚が6μmになるように基板に塗布し、大
気雰囲気下で塗布面より高圧水銀灯で強度1000mJ
/cm2 の紫外線を照射して硬化し有機系保護層を積層
し、光記録媒体を作成した。
【0037】実施例2 実施例1で作成した紫外線硬化性樹脂保護層組成物の代
わりに下記組成物を使用した他は実施例1と全く同様に
して光記録媒体を作成した。
【0038】[化学線硬化性樹脂組成物]下記の組成物
薬剤を混合溶解して、紫外線硬化性樹脂保護層組成物と
した。
【0039】 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 47重量% (カヤラッドDPHA、日本化薬社製) 1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 25重量% (カヤラッドHDDA、日本化薬社製) プロピレングリコールモノメチルエーテル 20重量% (アーコソルブPM、協和醗酵社製) 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 4重量% (イルガキュア−184チバガイギー社製) ベンゾフェノン(日本化薬社製) 4重量% 実施例3 実施例2で使用した[化学線硬化性樹脂組成物]中1,
6−ヘキサンジオールジアクリレートの代わりにネオペ
ンチルグリコールジアクリレート(カヤラッドNPGD
A、日本化薬社製)を使用した他は実施例1と全く同様
にして光記録媒体を作成した。
【0040】比較例1 実施例1で使用した[化学線硬化性樹脂組成物]EO変
性ビスフェノールAジアクリレート(BP−4EA,共
栄社油脂化学工業社製)の代わりにテトラヒドロフルフ
リルアクリレートを使用した他は実施例1と全く同様に
して光記録媒体を作成した。
【0041】比較例2 実施例2で使用した[化学線硬化性樹脂組成物]中1,
6−ヘキサンジオールジアクリレートの代わりにテトラ
ヒドロフルフリルアクリレートを使用した他は実施例1
と全く同様にして光記録媒体を作成した。
【0042】比較例3 実施例1で使用した[化学線硬化性樹脂組成物]中プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルの代わりにトルエ
ンを使用した他は実施例1と全く同様にして光記録媒体
を作成した。
【0043】比較例4 実施例2で使用した[化学線硬化性樹脂組成物]中プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルの代わりにトルエ
ンを使用した他は実施例1と全く同様にして光記録媒体
を作成した。
【0044】実施例4 [化学線硬化性樹脂組成物]を下記の組成物に変更した
他は実施例1と全く同様にして光記録媒体を作成した。
【0045】 [化学線硬化性樹脂組成物] ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 68重量% (カヤラッドDPHA、日本化薬社製) 1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 4重量% (カヤラッドHDDA、日本化薬社製) プロピレングリコールモノメチルエーテル 20重量% (アーコソルブPM、協和醗酵社製) 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 4重量% (イルガキュア−184チバガイギー社製) ベンゾフェノン(日本化薬社製) 4重量% 実施例5 [化学線硬化性樹脂組成物]を下記の組成物に変更した
他は実施例1と全く同様にして光記録媒体を作成した。
【0046】 [化学線硬化性樹脂組成物] ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 22重量% (カヤラッドDPHA、日本化薬社製) 1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 50重量% (カヤラッドHDDA、日本化薬社製) プロピレングリコールモノメチルエーテル 20重量% (アーコソルブPM、協和醗酵社製) 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン 4重量% (イルガキュア−184チバガイギー社製) ベンゾフェノン(日本化薬社製) 4重量% 比較例5 実施例4で使用した[化学線硬化性樹脂組成物成]中
1,6−ヘキサンジオールジアクリレートの代わりにテ
トラヒドロフルフリルアクリレートを使用した他は実施
例1と全く同様にして光記録媒体を作成した。
【0047】比較例6 実施例5で使用した[化学線硬化性樹脂組成物]中1,
6−ヘキサンジオールジアクリレートの代わりにテトラ
ヒドロフルフリルアクリレートを使用した他は実施例1
と全く同様にして光記録媒体を作成した。
【0048】実施例6 実施例2で使用した[化学線硬化性樹脂組成物]中ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの代わりにトリ
メチロールプロパントリアクリレート(カヤラッドTM
PTA、日本化薬社製)を使用した他は実施例1と全く
同様にして光記録媒体を作成した。
【0049】実施例7 実施例2で使用した[化学線硬化性樹脂組成物]中1,
6−ヘキサンジオールジアクリレートの代わりにジシク
ロペンタニルジアクリレート(カヤラッドR684、日
本化薬社製)を使用した他は実施例1と全く同様にして
光記録媒体を作成した。
【0050】実施例1〜7および比較例1〜6の結果を
表1〜2に示す。
【0051】
【表1】
【表2】 表1〜2から明らかなように、実施例1〜7のものに比
して、比較例1〜6ものは、耐湿熱性、吐出部の外観、
表面硬度、接着性のいずれ評価においても優れているこ
とがわかる。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば、表面外観、耐湿熱性、
表面硬度および接着性に優れた、特に傷のつきにくい光
記録媒体を提供することができる。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】有機保護層を備えた光記録媒体であって、
    該有機保護層が1分子中にアクリロイルオキシ基を2個
    以上有する重合性モノマの少なくとも2種を主成分とす
    る化学線硬化性樹脂組成物の硬化層からなることを特徴
    とする光記録媒体。
  2. 【請求項2】該主成分が、1分子中のアクリロイル基の
    数が6個の重合性モノマおよび1分子中のアクリロイル
    基の数が2〜4個の重合性モノマの2種で構成されてい
    るものである請求項1記載の光記録媒体。
  3. 【請求項3】該1分子中のアクリロイル基の数が6個の
    重合性モノマが、20〜80重量%の割合で含まれてい
    る請求項2記載の光記録媒体。
  4. 【請求項4】該1分子中のアクリロイル基の数が6個の
    重合性モノマが、ペンタエリスリトールトリアクリレー
    ト・ヘキサメチレンジイソシアネート・ウレタンプレポ
    リマである請求項2〜3のいずれかに記載の光記録媒
    体。
  5. 【請求項5】該1分子中のアクリロイル基の数が2〜4
    個の重合性モノマが、ペンタエリスリトールテトラアク
    リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよ
    びEO変性ビスフェノールAジアクリレートから選ばれ
    た少なくとも1種である請求項2記載の光記録媒体。
  6. 【請求項6】該主成分が、該1分子中のアクリロイル基
    の数が2〜4個の重合性モノマとして、ペンタエリスリ
    トールテトラアクリレート9〜35重量%、ペンタエリ
    スリトールトリアクリレート4〜16重量%、EO変性
    ビスフェノールAジアクリレート7〜29重量%含むも
    のである請求項2記載の光記録媒体。
  7. 【請求項7】該主成分が、ジペンタエリスリトールヘキ
    サアクリレートと脂肪族ジオールジアクリレートを主成
    分とするものである請求項1〜2のいずれかに記載の光
    記録媒体。
  8. 【請求項8】該主成分が、ジペンタエリスリトールヘキ
    サアクリレート90〜40重量%と1,6−ヘキサンジ
    オールジアクリレートおよびネオペンチルグリコールジ
    アクリレートから選ばれた少なくとも1種を10〜60
    重量%とで構成されている請求項7記載の光記録媒体。
  9. 【請求項9】重合性モノマおよび溶剤を含む化学線硬化
    性樹脂組成物を基板上に塗布し、硬化させる工程を含む
    光記録媒体の製造方法であって、前記溶剤がプロピレン
    グリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコ
    ールモノエチルエーテルから選ばれた少なくとも1種で
    あることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
  10. 【請求項10】前記化学線硬化性樹脂組成物が、1分子
    中にアクリロイルオキシ基を2個以上有する重合性モノ
    マの少なくとも2種を主成分とするものである請求項9
    記載の光記録媒体の製造方法。
  11. 【請求項11】前記主成分が、1分子中のアクリロイル
    基の数が6個の重合性モノマおよび1分子中のアクリロ
    イル基の数が2〜4個の重合性モノマの2種で構成され
    ているものである請求項10記載の光記録媒体の製造方
    法。
  12. 【請求項12】前記1分子中のアクリロイル基の数が6
    個の重合性モノマが、ペンタエリスリトールトリアクリ
    レート・ヘキサメチレンジイソシアネート・ウレタンプ
    レポリマであり、前記1分子中のアクリロイル基の数が
    2〜4個の重合性モノマが、ペンタエリスリトールテト
    ラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
    トおよびEO変性ビスフェノールAジアクリレートから
    選ばれた少なくとも1種である請求項11記載の光記録
    媒体の製造方法。
  13. 【請求項13】前記1分子中のアクリロイル基の数が6
    個の重合性モノマが、ジペンタエリスリトールヘキサア
    クリレートであり、前記1分子中のアクリロイル基の数
    が2個の重合性モノマが、1,6−ヘキサジオールジア
    クリレートおよびネオペンチルグリコールジアクリレー
    トから選ばれた少なくとも1種である請求項11記載の
    光記録媒体の製造方法。
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