JPH04149280A - 光ディスク用オーバーコート組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、光ディスク用オーバーコート組成物に関し、
更に詳しくは、皮膚刺激性が低く、低粘度の光ティスフ
用オーバーコート組成物に関する。

（従来の技術） 近年、光硬化性樹脂が、硬化時間の短縮、エネルギーの
節約、大気汚染の低減などの利点から、インキ、塗料、
接着剤などの分野に広く応用されている。

コンパクトディスクの如き光ディスクの記録層を保護す
るために用いるオーバーコート組成物においても、光硬
化性樹脂の応用が進められており、塗布方法としては、
スピンコーティング法が一般的に採用されている。

光ティスフの記録層の保護層の層厚が厚くなると、基板
が反る傾向にあり、その結果、記録情報を装置か誤読し
たり、或いは判読不能になるため、保護層の層厚を薄（
する必要があり、そのため、スピンコーティング法で用
いるオーバーコート組成物は、低粘度であることが要求
されている。しかしながら、光硬化性樹脂組成物に用い
られる、特に、低分子量で低粘度である光重合性二重結
合を有する化合物は、−射的に皮膚刺激性が高いという
問題点を有していた。

皮膚刺激性を低くするために、特開平２−６５６２号に
は、トリメチロールプロパントリアクリレートのエチレ
ンオキサイド３モル付加物の如き、従来の低分子量アク
リレート化合物をエチレンオキサイドで変性した化合物
を使用した光ティスフ用保護コート剤が提案されている
。しかしながら、この光ディスク用保護コート剤は、変
性したアクリレート化合物を含有するため、粘度が高い
という問題点を有していた。

一方、特開平２−１２３１７２号には、１．６−ヘキサ
ンジオールジアクリレートの如きジオールジ（メタ）ア
クリレートを含有する低粘度の紫外線硬化性コーティン
グ組成物が提案されているが、この組成物は、皮膚刺激
性が高いという問題点を有していた。

（発明が解決しようとする課題） 本発明が解決しようとする課題は、皮膚刺激性が低く、
低粘度の光ディスク用オーバーコート組成物を提供する
ことにある。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意検討し
た結果、本発明を完成するに至ったものである。即ち、
本発明は、上記課題を解決するために、 （］）トリフロピレンゲリコールジアクリレート（以下
、Ａ成分という。）、 （２）２−（２−エトキシエト牛シ）エチルアクリレー
ト（以下、Ｂ成分という。） 及び ＜３）光重合開始剤 を含有することを特徴とする光ティスフ用オーバーコー
ト組成物、及び、Ａ成分、Ｂ成分及び光重合開始剤以外
に、Ａ成分及びＢ成分以外のモノマーてあって、　（メ
タ）アクリロイル基を有する重合性化合物（以下、Ｃ成
分という。）を含有することを特徴とする光ディスク用
オーバ〜コート組成物を提供する。

本発明で使用するＡ成分は、低粘度、低皮膚刺激性、適
度な塗膜強度を有する本発明の光ディスク用オーバーコ
ート組成物（以下、本発明の組成物という。）組成物の
中心成分であり、また、本発明で使用するＢ成分は、希
釈能（低粘度）、低皮膚刺激性を有する成分である。

本発明で使用する光重合開始剤としては、一般の紫外線
硬化型樹脂に使用されている各種の光重合開始剤及び光
重合増感剤が使用できる。例えば、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ペン
ツインイソブチルエーテル、２−メチルベンゾイン、ベ
ンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジル、ベンジル
ジメチルケタール、２．２−ジェトキシアセトフェノン
、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４
−ベンゾイル−４′　−メチルジフェニルサルファイド
、３．３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、
１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−
メチルプロパン−１−オン、１−ヒロドキシシクロへキ
シルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４
−（メチルチオフェニル］−２−モルホリノプロパン−
１゜２−クロロチオキサントン、２．４−ジメチルチオ
キサントン、２，４−ジイソブロビルチオキザントン、
インフロビルチオキサントン、２．　４゜６−ドリメチ
ルベンゾイルジフエニルホスフインオキサイド等を挙げ
ることができ、これらの光重合開始剤は、アミン類等の
増感助剤と併用することもてきる。

アミン類等の増感助剤としては、例えば、２−ジメチル
アミンエチルベンゾエート、ジメチルアミノアセトフェ
ノン、ｐ−ジメチルアミ７安息香酸エチル、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息ｔ［イソアミル等を挙げられる。これらの
増感助剤の使用割合は、光重合開始剤の０．１〜１０重
量％の範囲が好ましい。

Ａ成分及びＢ成分の使用割合は、所望の塗膜強度から決
定され、Ｂ成分の割合が増加するに従って、本発明の組
成物の粘度が低下するが、塗膜強度が弱く、皮膚刺激性
がやや増加する傾向にある。

塗膜強度を必要とする場合には、第３成分として、Ｃ成
分を併用すれば良い。この場合、Ａ成分及びＢ成分の使
用割合は、各々２０〜５０重量％及び５〜１５重量％の
範囲が好ましい。Ａ成分の使用割合が２０重量％未満で
ある場合には、皮膚刺激性を下げる効果が小さくなく傾
向にあるので好ましくなく、Ａ成分の使用割合が５０重
量％よりも多い場合、塗膜強度が不足する傾向にあるの
で好ましくない。Ｂ成分の使用割合が５重量％未満であ
る場合、希釈効果が小さく成る傾向にあるので好ましく
なく、Ｂ成分の使用割合が１５重量％よりも多い場合、
塗膜強度が著しく低下する傾向にあるので好ましくない
。

本発明で使用するＣ成分は、分子中に２個以上の（メタ
）アクリロイル基を有することが好ましく、３個以上の
（メタ）アクリロイル基を有することが特に好ましい。

分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化
合物としては、例えば、ヒドロキンピバリン酸ジ（メタ
）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、
エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡン（メタ）ア
クリレート等が挙げられる。

分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化
合物としては、例えば、トリメチロールプロ／ぐントリ
　（メタ）アクリレート、ジペンタエリストール−＼キ
サ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールモノヒ
ドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジ
ペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、アル
キル変性ジベンタエ１ノストールテトラ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリストールトリ　（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート、
トリス［（メタ）アクリロキンエチルコインシアヌレー
ト、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロ牛ジ
エチル］イソシアヌレート等が挙げられる。これらの中
でも、トリメチロールプロパントリ　（メタ）アクリレ
ートが、粘度及び塗膜硬度の面から特に好ましい。

Ｃ成分を使用する場合の使用割合は、３０〜７０重量％
の範囲が好ましい。Ｃ成分の使用割合が３０重量％未満
の場合、塗膜硬度が低くなり、耐擦傷性が低下する傾向
にあるので好ましくなく、Ｃ成分の使用割合が７０重量
％を越える場合、粘度が高くなる傾向にあるので好まし
くない。

本発明の組成物には、上記の他に各種の添加剤を必要に
応じて使用することもできる。

一般に光ディスクは、ＡＩ、Ａｕ等の無機薄膜の上に、
オーバーコート組成物を塗布するため、本発明の組成物
中に、接着付与剤として、エチレンオキサイド変性フハ
ク酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リ
ン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リ
ン酸（メタ）アクリレート、ヒドロキシナフトキシプロ
（メタ）アクリレートの如きカルボキシル基、リン酸基
、水酸基を分子内に有する（メタ）アクリレートを添加
することもできる。

また、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止する為に
、本発明の組成物中に、ハイドロキノンモノメチルエー
テル、ｔ−’チルカテフール、ｐ−ベンゾキノン、２．
５−ｔ−ブチルノ＼イドロキノン、フエノチアンン等の
公知の熱重合防止剤を添加することか好ましい。

更に、塗布性を改善するために、本発明の組成物中に、
界面活性剤を添加することもてきる。

界面活性剤としては、日本エコカ社製のｒＬ−７７Ｊ、
ｒＬ−７２０Ｊ、ｒＬ−７２２ｊ、ｒＬ−５３１０Ｊ、
ｒＬ−７００１Ｊ、ｒ　Ｌ−７００２Ｊ、信越化学工業
社製のｒ　ＫＦ−３５１Ｊ、ｒ　ＫＦ−３５２Ｊ、ｒＫ
Ｆ−３５３Ｊ、ｒＫＦ−３５４Ｊ、　ｒＫＦ−３５５Ｊ
等のシリコール系界面活性剤−犬日本インキ化学工業社
製の「メガファックＦ−１４２ＤＪ、ｒメガファソクＦ
−１４４ＤＪ、　［メガファ・ツクＦ−１５０Ｊ、　「
メガファックＦ−１７１Ｊ、　「メガファックＦ−１７
３Ｊ、「メガファックＦ−１７７Ｊ、「メガファノクＦ
−１８３Ｊ等のフッ素系非イオン界面活性剤を挙げるこ
とができる（実施例） 実施例及び比較例１〜３ 第１表に示した組成から成る光ディスク用オーバーコー
ト組成物を調製した。

なお、表中に示した各組成の略号は、以下の通りである
。

ＴＭＰ３Ａニ トリメチロールフロバントリアクリレート５Ｒ−４５４
： エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリア
クリレート Ｔ　Ｐ　Ｇ　Ｄ　Ａニ トリプロピレングリコールジアクリレートＨＤ　　Ｄ　
Ａ、： １６−ヘキサンシオールシアクリレートＣＢＡ： ２−（２−工トキンエトキノ）エチルアクリレート １８４： １−ヒドロキシンクロへキシルフェニルケトン 得られた各組成物の粘度を、Ｂ型回転粘度計を用いて測
定し、その結果を第１表に示した。

次に、ガラス基板及びＰＣ（ポリカーボネート）基板（
筒中プラスチック社製ｒＥＣ−１００Ｊ　）上に、乾燥
度膜厚が６〜７μｍと成るように各組成物を塗布し、集
光型高圧水銀ランプ（１２０Ｗ／ｃｍ）を有する硬化装
置くベルトスピード：３ｍ／分）により、皮膜を硬化さ
せた。

得られた硬化皮膜に対し、］記に記載の方法に従って、
耐擦傷性、ＰＣ基板接着性及び皮膚刺激性の評価を行な
い、その結果を第１表に示した。

（１）耐擦傷性 ＪＩＳ　　Ｋ５６５１−１９６６に準じて、ガラス基板
上に作成した硬化皮膜に傷が付かない最大の鉛筆硬度を
測定した。

（２）ＰＣ基板接着性 ＰＣ基板上に作成した硬化皮膜に対し、「セロテープ」
にチバン社製セロファン粘着テープ）による、基盤目剥
離試験を行なった。評価結果では、剥離せずに残った基
盤目の数で示した。

（３）皮膚刺激性 原料のｐＨ値と組成物の重量分率より重量平均値とし、
て推算した。

（発明の効果） 本発明の組成物は、皮膚刺激性が低く、低粘度であり、
この組成物を硬化させて得られた硬化皮膜は、実用上、
充分な硬度を有する。

従って、本発明の組成物は、コンノくクトテ′イスクの
如き光ディスクの記録層を保護するため（こ用いるオー
ツー−コート組成物として極めて有用である。

代理人　弁理士　高　橋　　勝　利

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（１）トリプロピレングリコールジアクリレート、 （２）２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレー
   ト及び （３）光重合開始剤 を含有することを特徴とする光ディスク用オーバーコー
   ト組成物。 ２、請求項１の（１）及び（２）に記載のモノマー以外
   のモノマーであって、（メタ）アクリロイル基を有する
   重合性化合物を含有することを特徴とする請求項１記載
   の光ディスク用オーバーコート組成物。