JPH06220131A - 放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物Info
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- JPH06220131A JPH06220131A JP5026047A JP2604793A JPH06220131A JP H06220131 A JPH06220131 A JP H06220131A JP 5026047 A JP5026047 A JP 5026047A JP 2604793 A JP2604793 A JP 2604793A JP H06220131 A JPH06220131 A JP H06220131A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】光ディスク用基板及び金属薄膜層との接着性、
耐湿性に優れ、光ディスクの金属薄膜層の腐食を長期間
に亘って防止することができる光学材料用樹脂組成物を
提供する。 【構成】フルオレン構造を有するジ（メタ）アクリレー
ト化合物（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及び／又は
溶剤（Ｂ）並びに任意成分としての光重合開始剤（Ｃ）
を含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物。
耐湿性に優れ、光ディスクの金属薄膜層の腐食を長期間
に亘って防止することができる光学材料用樹脂組成物を
提供する。 【構成】フルオレン構造を有するジ（メタ）アクリレー
ト化合物（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及び／又は
溶剤（Ｂ）並びに任意成分としての光重合開始剤（Ｃ）
を含有することを特徴とする光学材料用樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光信号を高速・高密度
に記録再生する光ディスク記録媒体用オーバーコート
剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料として有用な紫
外線或は電子線等により硬化し、記録媒体に対する接着
性、耐湿性の良好な放射線硬化性樹脂組成物、光学材料
用樹脂組成物及びその硬化物に関する。
に記録再生する光ディスク記録媒体用オーバーコート
剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料として有用な紫
外線或は電子線等により硬化し、記録媒体に対する接着
性、耐湿性の良好な放射線硬化性樹脂組成物、光学材料
用樹脂組成物及びその硬化物に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク、光磁気記録ディス
ク等をはじめとする光ディスクはポリカーボネート等の
透明基板上に蒸着又はスパッタリングにより形成された
金属薄膜層を有する構造を持っている。この金属薄膜層
は大気中に酸素や水分の影響を受け、その特性が劣化し
やすいため、従来、熱可塑性樹脂やアクリル酸エステル
を主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバーコート剤と
して使用されているが、接着性、耐湿性が不十分であ
り、耐環境試験において金属薄膜層に腐食が見られる。
ク等をはじめとする光ディスクはポリカーボネート等の
透明基板上に蒸着又はスパッタリングにより形成された
金属薄膜層を有する構造を持っている。この金属薄膜層
は大気中に酸素や水分の影響を受け、その特性が劣化し
やすいため、従来、熱可塑性樹脂やアクリル酸エステル
を主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバーコート剤と
して使用されているが、接着性、耐湿性が不十分であ
り、耐環境試験において金属薄膜層に腐食が見られる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】接着性及び耐湿性に優
れ、耐環境試験においても光ディスクの金属薄膜層に腐
食がみられない硬化膜が形成可能な放射線硬化性樹脂組
成物を提供する。
れ、耐環境試験においても光ディスクの金属薄膜層に腐
食がみられない硬化膜が形成可能な放射線硬化性樹脂組
成物を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、鋭意研究した結果、本発明を完成す
るに至った。即ち、本発明は、式（１）
を解決するために、鋭意研究した結果、本発明を完成す
るに至った。即ち、本発明は、式（１）
【０００５】
【化２】
【０００６】（式中、Ｒ1 は水素原子、メチル基又はエ
チル基、Ｒ2 は水素原子又はメチル基、ａ、ｂはそれぞ
れ１以上の数である。）で表される化合物（Ａ）、希釈
剤として反応性単量体及び／又は溶剤（Ｂ）並びに任意
成分としての光重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴
とする放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物
及びその硬化物に関する。
チル基、Ｒ2 は水素原子又はメチル基、ａ、ｂはそれぞ
れ１以上の数である。）で表される化合物（Ａ）、希釈
剤として反応性単量体及び／又は溶剤（Ｂ）並びに任意
成分としての光重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴
とする放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物
及びその硬化物に関する。
【０００７】本発明で使用する式（１）で表される化合
物（Ａ）は、式（２）
物（Ａ）は、式（２）
【０００８】
【化３】
【０００９】（式中、Ｒ1 及びａ、ｂは式（１）と同一
である。）で表される化合物と（メタ）アクリル酸を溶
剤（例えば、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ
−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等）中で脱水反応を行うこと
により得ることができる。反応を促進されるために酸触
媒（例えば、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸等）を使用するのが好ましい。反応中、重合を
防止するために重合禁止剤（例えば、ハイドロキノン、
ｐ−メトキシフェノール、メチルハイドロキノン等）を
使用するのが好ましい。
である。）で表される化合物と（メタ）アクリル酸を溶
剤（例えば、トルエン、ベンゼン、シクロヘキサン、ｎ
−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等）中で脱水反応を行うこと
により得ることができる。反応を促進されるために酸触
媒（例えば、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸等）を使用するのが好ましい。反応中、重合を
防止するために重合禁止剤（例えば、ハイドロキノン、
ｐ−メトキシフェノール、メチルハイドロキノン等）を
使用するのが好ましい。
【００１０】式（２）で表される化合物と（メタ）アク
リル酸の使用割合は、式（２）で表される化合物の水酸
基１当量に対して（メタ）アクリル酸１〜２当量を使用
するのが好ましい。反応温度は７０〜１５０℃が好まし
く、反応時間は３〜２０時間が好ましい。
リル酸の使用割合は、式（２）で表される化合物の水酸
基１当量に対して（メタ）アクリル酸１〜２当量を使用
するのが好ましい。反応温度は７０〜１５０℃が好まし
く、反応時間は３〜２０時間が好ましい。
【００１１】式（２）で表される化合物は、９，９−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンとアルキレン
オキサイド（例えば、エチレンオキサイド、プロピレン
オキサイド、ブチレンオキサイド等）を反応することに
より得ることができる。又、市販品として入手すること
ができる。例えば、新日鉄化学（株）製の「ＢＰＨＥ」
であるビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエ
ーテル等が挙げられる。本発明の組成物中の式（１）で
表される化合物（Ａ）の使用割合は５〜９５重量％の範
囲が好ましく、特に好ましくは１０〜５０重量％であ
る。
ス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンとアルキレン
オキサイド（例えば、エチレンオキサイド、プロピレン
オキサイド、ブチレンオキサイド等）を反応することに
より得ることができる。又、市販品として入手すること
ができる。例えば、新日鉄化学（株）製の「ＢＰＨＥ」
であるビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエ
ーテル等が挙げられる。本発明の組成物中の式（１）で
表される化合物（Ａ）の使用割合は５〜９５重量％の範
囲が好ましく、特に好ましくは１０〜５０重量％であ
る。
【００１２】本発明で使用する希釈剤としての反応性単
量体及び／又は溶剤（Ｂ）の具体例としては、反応性単
量体は、例えば、カルビトール（メタ）アクリレート、
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシク
ロペンテニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクトン、ト
リプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ノナン
ジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。溶
剤は、例えば、メチルエチルケトン、カルビトールアセ
テート、ブチルセロソルブアセテート、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメ
チルエーテル、ソルベントナフサ等を挙げることができ
る。本発明の組成物中の希釈剤としての反応性単量体及
び／又は溶剤（Ｂ）の使用割合は５〜９５重量％の範囲
が好ましく、特に好ましくは５０〜９０重量％である。
量体及び／又は溶剤（Ｂ）の具体例としては、反応性単
量体は、例えば、カルビトール（メタ）アクリレート、
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジシク
ロペンテニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクトン、ト
リプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
シクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ノナン
ジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。溶
剤は、例えば、メチルエチルケトン、カルビトールアセ
テート、ブチルセロソルブアセテート、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメ
チルエーテル、ソルベントナフサ等を挙げることができ
る。本発明の組成物中の希釈剤としての反応性単量体及
び／又は溶剤（Ｂ）の使用割合は５〜９５重量％の範囲
が好ましく、特に好ましくは５０〜９０重量％である。
【００１３】本発明で任意成分として使用する光重合開
始剤（Ｃ）としては、一般の紫外線硬化型樹脂に使用さ
れている各種の光重合開始剤が使用できる。例えば、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、２−メチルベ
ンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジ
ルジメチルケタール、２，２−ジエトキシアセトフェノ
ン、ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル−４′−メチ
ルジフェニルサルファイド、３，３′−ジメチル−４−
メトキシベンゾフェノン、１−（４−ドデシルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオフェニ
ル）〕−２−モルホリノ）プロパン−１、２−クロロチ
オキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，
４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等を
挙げることができる。更にこれらの光重合開始剤には、
アミン類等の光重合促進剤を併用することができる。
始剤（Ｃ）としては、一般の紫外線硬化型樹脂に使用さ
れている各種の光重合開始剤が使用できる。例えば、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、２−メチルベ
ンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジ
ルジメチルケタール、２，２−ジエトキシアセトフェノ
ン、ベンゾイル安息香酸、４−ベンゾイル−４′−メチ
ルジフェニルサルファイド、３，３′−ジメチル−４−
メトキシベンゾフェノン、１−（４−ドデシルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオフェニ
ル）〕−２−モルホリノ）プロパン−１、２−クロロチ
オキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，
４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリ
メチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等を
挙げることができる。更にこれらの光重合開始剤には、
アミン類等の光重合促進剤を併用することができる。
【００１４】光重合開始剤の本発明の組成物中の使用割
合は、０〜１５重量％の範囲が好ましく、特に好ましく
は３〜７重量％である。アミン類等の光重合促進剤とし
ては，例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエー
ト、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソア
ミル等が挙げられる。これらの光重合促進剤の使用割合
は、光重合開始剤、１００重量部に対して、０〜１００
重量部が好ましい。本発明の樹脂組成物は（Ａ）、
（Ｂ）及び（Ｃ）成分を加熱、混合、溶解する方法によ
り得ることができる。本発明の組成物には、上記の成分
で十分所期の目的を達成できるが、さらに性能改良のた
め、本来の特性を変えない範囲で、シランカップリング
剤、重合禁止剤、レベリング剤等の添加物を添加するこ
とができる。
合は、０〜１５重量％の範囲が好ましく、特に好ましく
は３〜７重量％である。アミン類等の光重合促進剤とし
ては，例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエー
ト、ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソア
ミル等が挙げられる。これらの光重合促進剤の使用割合
は、光重合開始剤、１００重量部に対して、０〜１００
重量部が好ましい。本発明の樹脂組成物は（Ａ）、
（Ｂ）及び（Ｃ）成分を加熱、混合、溶解する方法によ
り得ることができる。本発明の組成物には、上記の成分
で十分所期の目的を達成できるが、さらに性能改良のた
め、本来の特性を変えない範囲で、シランカップリング
剤、重合禁止剤、レベリング剤等の添加物を添加するこ
とができる。
【００１５】使用しうるシランカップリング剤として
は、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。
は、例えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン等が挙げられる。
【００１６】使用しうる重合禁止剤としては、例えば、
ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルカテコ
ール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブチル−ハイド
ロキノン、フェノチアジン等が挙げられる。
ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルカテコ
ール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブチル−ハイド
ロキノン、フェノチアジン等が挙げられる。
【００１７】使用しうるレベリング剤としては、例え
ば、モンサント社の「モダフロー」等が挙げられる。
ば、モンサント社の「モダフロー」等が挙げられる。
【００１８】これらの添加剤の使用量は本発明の組成物
の０〜５重量％の範囲が好ましい。本発明でいう放射線
とは、電子線、α線、β線、γ線、Ｘ線、中性子線又は
紫外線の如き、電離性放射線や光等を総称するものであ
る。本発明の放射線硬化性樹脂組成物の硬化物は常法に
従い、上記した放射線を照射することにより硬化して得
ることができる。本発明の樹脂組成物は、光ディスク記
録媒体用オーバーコート剤、ハードコート剤、溝材等の
光学材料として有用であるが、その他金属、プラスチッ
ク、ゴム、紙、木材及びセラミック用コーティング剤、
塗料、インキ、レジスト、レンズ等に使用できる。
の０〜５重量％の範囲が好ましい。本発明でいう放射線
とは、電子線、α線、β線、γ線、Ｘ線、中性子線又は
紫外線の如き、電離性放射線や光等を総称するものであ
る。本発明の放射線硬化性樹脂組成物の硬化物は常法に
従い、上記した放射線を照射することにより硬化して得
ることができる。本発明の樹脂組成物は、光ディスク記
録媒体用オーバーコート剤、ハードコート剤、溝材等の
光学材料として有用であるが、その他金属、プラスチッ
ク、ゴム、紙、木材及びセラミック用コーティング剤、
塗料、インキ、レジスト、レンズ等に使用できる。
【００１９】本発明の光学材料用樹脂組成物を光ディス
ク記録媒体用オーバーコート剤として使用する場合に
は、光ディスクの金属薄膜層上に、スピンコーター等塗
布装置を用いて乾燥塗膜厚が２〜１０μｍとなるように
本発明の樹脂組成物が塗布され、更に、紫外線の如き放
射線を照射することによって、金属膜上にオーバーコー
ト（保護）層が形成される。
ク記録媒体用オーバーコート剤として使用する場合に
は、光ディスクの金属薄膜層上に、スピンコーター等塗
布装置を用いて乾燥塗膜厚が２〜１０μｍとなるように
本発明の樹脂組成物が塗布され、更に、紫外線の如き放
射線を照射することによって、金属膜上にオーバーコー
ト（保護）層が形成される。
【００２０】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
詳細に説明する。なお、以下において、部は特に断りの
ない限りすべて重量基準である。 化合物（Ａ）の合成例 合成例１ 下記式で表される化合物（新日鉄化学（株）製、商品名
「ＢＰＨＥ」）
詳細に説明する。なお、以下において、部は特に断りの
ない限りすべて重量基準である。 化合物（Ａ）の合成例 合成例１ 下記式で表される化合物（新日鉄化学（株）製、商品名
「ＢＰＨＥ」）
【００２１】
【化４】
【００２２】４００部、トルエン５００部、アクリル酸
１５８部、ｐ−トルエンスルホン酸５０部、ハイドロキ
ノン５部を仕込み、加熱し、脱水反応を行い、留出水が
３３部になるまで反応を行う。反応温度は１１０〜１２
５℃であった。次いで反応液を冷却し、トルエン１５０
０部及び２０％苛性ソーダ水溶液２００部を仕込み、中
和し、次いで２０％塩化ナトリウム、水溶液５００部を
用いて、洗浄し、トルエン除去し、透明淡黄色の固体
（反応物Ａ1)を得た。屈折率（２５℃）は、１．６２で
あった。
１５８部、ｐ−トルエンスルホン酸５０部、ハイドロキ
ノン５部を仕込み、加熱し、脱水反応を行い、留出水が
３３部になるまで反応を行う。反応温度は１１０〜１２
５℃であった。次いで反応液を冷却し、トルエン１５０
０部及び２０％苛性ソーダ水溶液２００部を仕込み、中
和し、次いで２０％塩化ナトリウム、水溶液５００部を
用いて、洗浄し、トルエン除去し、透明淡黄色の固体
（反応物Ａ1)を得た。屈折率（２５℃）は、１．６２で
あった。
【００２３】合成例２ 下記式で表される化合物６９８部
【００２４】
【化５】
【００２５】トルエン７００部、アクリル酸１７８部、
ｐ−トルエンスルホン酸７０部、ハイドロキノン１０部
を仕込み加熱し脱水反応を行い、留出水が３６部になる
まで反応を行う。反応温度は１１１〜１２５℃であっ
た。次いで反応液を冷却し、トルエン２０００部及び２
０％苛性ソーダ水溶液２５０部を仕込み、中和し、次い
で２０％塩化ナトリウム水溶液５００部を用いて洗浄
し、トルエンを除去し、淡黄色透明液状物（反応物Ａ2)
を得た。屈折率（２５℃）は、１．５５であった。
ｐ−トルエンスルホン酸７０部、ハイドロキノン１０部
を仕込み加熱し脱水反応を行い、留出水が３６部になる
まで反応を行う。反応温度は１１１〜１２５℃であっ
た。次いで反応液を冷却し、トルエン２０００部及び２
０％苛性ソーダ水溶液２５０部を仕込み、中和し、次い
で２０％塩化ナトリウム水溶液５００部を用いて洗浄
し、トルエンを除去し、淡黄色透明液状物（反応物Ａ2)
を得た。屈折率（２５℃）は、１．５５であった。
【００２６】実施例１ 合成例１で得た反応物Ａ1 ３０部、トリメチロールプロ
パントリアクリレート３０部、１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート２５部、テトラヒドロフルフリルアク
リレート１０部及びイルガキュアー１８４（チバ・ガイ
ギー社製、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン）５部を混合、溶解し、本発明の樹脂組成物を得た。
次に、ポリカーボネート基板にアルミニウムを蒸着した
光ディスクの記録膜の上に、上記で得られた樹脂組成物
をスピンコーターを用いて５μｍになるように塗布し、
メタルハライドランプ（１２０ｗ／cm）により照射し
て、塗膜を硬化させた。得られたオーバーコートされた
光ディスクを７５℃、８５ＲＨ％の恒温恒湿槽中に２０
００時間放置した後、記録膜を観察した結果、腐食等の
異常は認められなかった。
パントリアクリレート３０部、１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート２５部、テトラヒドロフルフリルアク
リレート１０部及びイルガキュアー１８４（チバ・ガイ
ギー社製、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン）５部を混合、溶解し、本発明の樹脂組成物を得た。
次に、ポリカーボネート基板にアルミニウムを蒸着した
光ディスクの記録膜の上に、上記で得られた樹脂組成物
をスピンコーターを用いて５μｍになるように塗布し、
メタルハライドランプ（１２０ｗ／cm）により照射し
て、塗膜を硬化させた。得られたオーバーコートされた
光ディスクを７５℃、８５ＲＨ％の恒温恒湿槽中に２０
００時間放置した後、記録膜を観察した結果、腐食等の
異常は認められなかった。
【００２７】実施例２ 合成例２で得た反応物Ａ2 ４０部、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート２０部、ジシクロペンテニルアクリ
レート３５部及びイルガキュアー１８４ ５部を混合溶
解し、本発明の樹脂組成物を得た。次いで実施例１と同
様にしてオーバーコートされた光ディスクを得た。実施
例１と同様にして、恒温恒湿槽中に２０００時間放置
後、記録膜表面を観察した結果、腐食等の異常は認めら
れなかった。
ールジアクリレート２０部、ジシクロペンテニルアクリ
レート３５部及びイルガキュアー１８４ ５部を混合溶
解し、本発明の樹脂組成物を得た。次いで実施例１と同
様にしてオーバーコートされた光ディスクを得た。実施
例１と同様にして、恒温恒湿槽中に２０００時間放置
後、記録膜表面を観察した結果、腐食等の異常は認めら
れなかった。
【００２８】比較例１ 実施例１において、合成例１で得た化合物３０部に代え
てトリメチロールプロパントリアクリレート３０部を用
いた以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物を調製
し、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施例１
と同様にして、恒温恒湿槽中に５０時間放置した後、記
録膜表面を観察した結果、記録膜全面が腐食していた。
てトリメチロールプロパントリアクリレート３０部を用
いた以外は、実施例１と同様にして、樹脂組成物を調製
し、オーバーコートされた光ディスクを得た。実施例１
と同様にして、恒温恒湿槽中に５０時間放置した後、記
録膜表面を観察した結果、記録膜全面が腐食していた。
【００２９】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、効果塗膜の記録
媒体に対する接着性、耐湿性が良好であり、光ディスク
の金属層薄膜層の腐食を長期間に亘って効果的に防止す
ることができる。従って、本発明の樹脂組成物は特に光
ディスクのオーバーコート剤等の光学材料として極めて
有用である。
媒体に対する接着性、耐湿性が良好であり、光ディスク
の金属層薄膜層の腐食を長期間に亘って効果的に防止す
ることができる。従って、本発明の樹脂組成物は特に光
ディスクのオーバーコート剤等の光学材料として極めて
有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/027 Ｇ１１Ｂ 7/24 Ｂ 7215−5Ｄ
Claims (3)
- 【請求項１】式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1 は水素原子、メチル基又はエチル基、Ｒ2
は水素原子又はメチル基、ａ、ｂはそれぞれ１以上の数
である。）で表される化合物（Ａ）、希釈剤として反応
性単量体及び／又は溶剤（Ｂ）並びに任意成分としての
光重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴とする放射線
硬化性樹脂組成物。 - 【請求項２】請求項１記載の式（１）で表される化合物
（Ａ）、希釈剤として反応性単量体及び／又は溶剤
（Ｂ）並びに任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を含有
することを特徴とする光学材料用樹脂組成物。 - 【請求項３】請求項１又は請求項２記載の樹脂組成物の
硬化物。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5026047A JPH06220131A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 |
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|---|---|---|---|
| JP5026047A JPH06220131A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 |
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|---|---|
| JPH06220131A true JPH06220131A (ja) | 1994-08-09 |
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ID=12182785
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5026047A Pending JPH06220131A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 放射線硬化性樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06220131A (ja) |
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