JPH07247331A - 樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物Info
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- JPH07247331A JPH07247331A JP6066509A JP6650994A JPH07247331A JP H07247331 A JPH07247331 A JP H07247331A JP 6066509 A JP6066509 A JP 6066509A JP 6650994 A JP6650994 A JP 6650994A JP H07247331 A JPH07247331 A JP H07247331A
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- Japan
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- meth
- acrylate
- epoxy
- resin
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- Epoxy Resins (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】耐湿熱性に優れ、光ディスクの金属薄膜層の腐
食を長期間にわたって防止することができる樹脂組成物
及びその硬化物を提供する。 【構成】加水分解性塩素の含有量が７００ｐｐｍ以下で
あるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と（メタ）アクリ
ル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート
（Ａ）、（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合
物（Ｂ）を含有することを特徴とする樹脂組成物。
食を長期間にわたって防止することができる樹脂組成物
及びその硬化物を提供する。 【構成】加水分解性塩素の含有量が７００ｐｐｍ以下で
あるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と（メタ）アクリ
ル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート
（Ａ）、（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合
物（Ｂ）を含有することを特徴とする樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光信号を高速・高密度
に記録再生する光ディスク記録媒体用オーバーコート
剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料として有用な紫
外線、電子線あるいは過酸化物等により硬化し、耐湿熱
性の良好な樹脂組成物及びその硬化物に関する。
に記録再生する光ディスク記録媒体用オーバーコート
剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料として有用な紫
外線、電子線あるいは過酸化物等により硬化し、耐湿熱
性の良好な樹脂組成物及びその硬化物に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスク、光磁気記録ディス
ク等をはじめとする光ディスクは、ポリカーボネート等
の透明基板上に蒸着又はスパックリングにより形成され
た金属薄膜層を有する構造を持っている。この金属薄膜
層を大気中に酸素や水分の影響を受け、その特性が劣化
し易い為、従来、熱可塑性樹脂やアクリル酸エステルを
主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバーコート剤とし
て使用されてきたが、接着性、耐湿性が不十分であり、
耐環境試験において金属薄膜層に腐食が見られることが
あった。
ク等をはじめとする光ディスクは、ポリカーボネート等
の透明基板上に蒸着又はスパックリングにより形成され
た金属薄膜層を有する構造を持っている。この金属薄膜
層を大気中に酸素や水分の影響を受け、その特性が劣化
し易い為、従来、熱可塑性樹脂やアクリル酸エステルを
主成分とする紫外線硬化型樹脂がオーバーコート剤とし
て使用されてきたが、接着性、耐湿性が不十分であり、
耐環境試験において金属薄膜層に腐食が見られることが
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、接着性及び耐湿性に優れ、耐環境試験にお
いても光ディスクの金属薄膜層に腐食がみられない硬化
膜が形成可能な放射線硬化性樹脂組成物を提供すること
にある。
する課題は、接着性及び耐湿性に優れ、耐環境試験にお
いても光ディスクの金属薄膜層に腐食がみられない硬化
膜が形成可能な放射線硬化性樹脂組成物を提供すること
にある。
【０００４】
【課題が解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、鋭意検討した結果、本発明を完成す
るに至ったものである。即ち、本発明は、加水分解性塩
素の含有量が７００ｐｐｍ以下であるビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるエ
ポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）、（Ａ）成分以外の
エチレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）を含有することを
特徴とする樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその
硬化物に関する。
を解決するために、鋭意検討した結果、本発明を完成す
るに至ったものである。即ち、本発明は、加水分解性塩
素の含有量が７００ｐｐｍ以下であるビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるエ
ポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）、（Ａ）成分以外の
エチレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）を含有することを
特徴とする樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその
硬化物に関する。
【０００５】本発明では、加水分解性塩素の含有量が７
００ｐｐｍ以下であるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）
アクリレート（Ａ）を使用する。加水分解性塩素の含有
量が７００ｐｐｍ以上、例えば、油化シェルエポキシ
（株）製、エピコート８２８、エピコート１００１等の
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、加水分解性塩素の
含有量は約２０００ｐｐｍのものが多く、これらを用い
たエポキシ（メタ）アクリレートを使用した組成物を金
属類、蒸着あるいはスパッタ金属膜に塗布し、硬化させ
て使用した場合、高温多湿の条件下で長期間使用すると
上記の金属類、金属膜の腐食が発生し問題である。本発
明の組成物中のエポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の
使用割合は、５〜５０重量％の範囲が好ましく、特に好
ましくは１０〜４０重量％である。本発明において加水
分解性塩素含有量とはエポキシ樹脂をブチルカルビトー
ルに溶解し、１Ｎ水酸化カリウムのプロピレングリコー
ル溶液を加え、還流状態で１０分間加熱した時に脱離す
る塩素イオンを硝酸銀溶液で滴定して定量し、該化合物
中の塩素原子の重量をｐｐｍで表したものを意味する。
加水分解塩素の含有量が７００ｐｐｍ以下のビスフェノ
ールＡ型エポキシ樹脂は、市場より容易に入手すること
ができる。例えば、日本化薬（株）製、ＲＥ−３１０Ｓ
（エポキシ当量１８０、加水分解性塩素含有量５００ｐ
ｐｍ）等を挙げることかできる。
００ｐｐｍ以下であるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）
アクリレート（Ａ）を使用する。加水分解性塩素の含有
量が７００ｐｐｍ以上、例えば、油化シェルエポキシ
（株）製、エピコート８２８、エピコート１００１等の
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂は、加水分解性塩素の
含有量は約２０００ｐｐｍのものが多く、これらを用い
たエポキシ（メタ）アクリレートを使用した組成物を金
属類、蒸着あるいはスパッタ金属膜に塗布し、硬化させ
て使用した場合、高温多湿の条件下で長期間使用すると
上記の金属類、金属膜の腐食が発生し問題である。本発
明の組成物中のエポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）の
使用割合は、５〜５０重量％の範囲が好ましく、特に好
ましくは１０〜４０重量％である。本発明において加水
分解性塩素含有量とはエポキシ樹脂をブチルカルビトー
ルに溶解し、１Ｎ水酸化カリウムのプロピレングリコー
ル溶液を加え、還流状態で１０分間加熱した時に脱離す
る塩素イオンを硝酸銀溶液で滴定して定量し、該化合物
中の塩素原子の重量をｐｐｍで表したものを意味する。
加水分解塩素の含有量が７００ｐｐｍ以下のビスフェノ
ールＡ型エポキシ樹脂は、市場より容易に入手すること
ができる。例えば、日本化薬（株）製、ＲＥ−３１０Ｓ
（エポキシ当量１８０、加水分解性塩素含有量５００ｐ
ｐｍ）等を挙げることかできる。
【０００６】本発明で使用する（Ａ）成分以外のエチレ
ン性不飽和基含有化合物（Ｂ）を具体例としては、例え
ば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジ
シクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリ
レート等の（メタ）アクリレート類、トリエチレングリ
コールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメチロール
ジビニルエーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエ
ーテル、等のビニルエーテル類等を挙げることができ
る。本発明の組成物中の（Ｂ）成分の使用割合は、５０
〜９５重量％の範囲が好ましく、特に好ましくは６０〜
９０重量％である。本発明の組成物は、紫外線あるいは
電子線を照射することによって硬化することかできる。
あるいは、過酸化物やアゾ化合物を組成物に添加し、常
温あるいは熱を加えることによって硬化する。好ましく
は紫外線を照射することによって硬化する。但し、紫外
線を照射することによって硬化する場合、光重合開始剤
を添加する必要がある。光重合開始剤の具体例として
は、例えば、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケター
ル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイル安
息香酸、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサル
ファイド、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフ
ェノン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−オン、２−メチル−１−
〔４−（メチルチオフェニル）〕−２−モルホリノプロ
パン−１，２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。これ
らの光重合開始剤は、アミン類等の促進剤と併用するこ
ともできる。光重合開始剤の本発明の組成物中の使用割
合は、０〜１５重量％の範囲が好ましく、特に好ましく
は３〜１０重量％である。アミン類等の促進剤として
は、例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、
ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノア
セトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等を挙げることが
できる。これらの促進剤の使用割合は、光重合開始剤１
００重量部に対して０〜１００重量部が好ましい。
ン性不飽和基含有化合物（Ｂ）を具体例としては、例え
ば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジ
シクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレ
ート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリ
レート等の（メタ）アクリレート類、トリエチレングリ
コールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメチロール
ジビニルエーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエ
ーテル、等のビニルエーテル類等を挙げることができ
る。本発明の組成物中の（Ｂ）成分の使用割合は、５０
〜９５重量％の範囲が好ましく、特に好ましくは６０〜
９０重量％である。本発明の組成物は、紫外線あるいは
電子線を照射することによって硬化することかできる。
あるいは、過酸化物やアゾ化合物を組成物に添加し、常
温あるいは熱を加えることによって硬化する。好ましく
は紫外線を照射することによって硬化する。但し、紫外
線を照射することによって硬化する場合、光重合開始剤
を添加する必要がある。光重合開始剤の具体例として
は、例えば、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケター
ル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイル安
息香酸、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサル
ファイド、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフ
ェノン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−オン、２−メチル−１−
〔４−（メチルチオフェニル）〕−２−モルホリノプロ
パン−１，２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。これ
らの光重合開始剤は、アミン類等の促進剤と併用するこ
ともできる。光重合開始剤の本発明の組成物中の使用割
合は、０〜１５重量％の範囲が好ましく、特に好ましく
は３〜１０重量％である。アミン類等の促進剤として
は、例えば、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、
ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノア
セトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等を挙げることが
できる。これらの促進剤の使用割合は、光重合開始剤１
００重量部に対して０〜１００重量部が好ましい。
【０００７】本発明の組成物は、（Ａ）及び（Ｂ）成分
を加熱、混合溶解することにより得ることができる。本
発明の組成物には、上記の成分以外に、さらに、シラン
カップリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、光安定剤
等の添加物を添加することもできる。シランカップリン
ク剤としては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン等が挙げられる。重合禁止剤として
は、例えば、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−
ブチルカテコール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブ
チルハイドロキノシ、フェノチアジン等が挙げられる。
レベリンク剤としては、例えば、モンサント社製の「モ
ダフロー」等が挙げられる。光安定剤としては、例え
ば、ヒンダードアミン系化合物等が挙げられる。これら
の添加剤の使用量は、本発明の組成物の０〜５重量％の
範囲が好ましい。
を加熱、混合溶解することにより得ることができる。本
発明の組成物には、上記の成分以外に、さらに、シラン
カップリング剤、重合禁止剤、レベリング剤、光安定剤
等の添加物を添加することもできる。シランカップリン
ク剤としては、例えば、γ−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン等が挙げられる。重合禁止剤として
は、例えば、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−
ブチルカテコール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ｔ−ブ
チルハイドロキノシ、フェノチアジン等が挙げられる。
レベリンク剤としては、例えば、モンサント社製の「モ
ダフロー」等が挙げられる。光安定剤としては、例え
ば、ヒンダードアミン系化合物等が挙げられる。これら
の添加剤の使用量は、本発明の組成物の０〜５重量％の
範囲が好ましい。
【０００８】本発明の組成物は、光ディスク記録媒体用
オーバーコート剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料
として有用であるが、その他にも、金属、プラスチッ
ク、ゴム、紙、木材及びセラミック用コーティング剤、
塗料、インキ、レジスト、接着剤等にも使用できる。
オーバーコート剤、ハードコート剤、溝材等の光学材料
として有用であるが、その他にも、金属、プラスチッ
ク、ゴム、紙、木材及びセラミック用コーティング剤、
塗料、インキ、レジスト、接着剤等にも使用できる。
【０００９】本発明の光学材料用樹脂組成物の光ディス
ク記録媒体用オーバーコート剤として使用する場合、光
ディスクの金属薄膜層上にスピンコーター等の塗布装置
を用いて乾燥塗膜厚が２〜１０μｍとなるように塗布さ
れ、更に、紫外線を照射することによって、金属膜上に
オーバーコート（保護）層が形成される。
ク記録媒体用オーバーコート剤として使用する場合、光
ディスクの金属薄膜層上にスピンコーター等の塗布装置
を用いて乾燥塗膜厚が２〜１０μｍとなるように塗布さ
れ、更に、紫外線を照射することによって、金属膜上に
オーバーコート（保護）層が形成される。
【００１０】
【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更
に詳細に説明する。なお、以下において部は特に断りの
ない限りすべて重量基準である。 ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ａ）の合成
例 合成例１．エピコート８２８（油化シェルエポキシ
（株）製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ
当量１８１、加水分解性塩素含有量２０００ｐｐｍ）３
６２部、アクリル酸１３４部、トリフェニルホスフィン
１．４９部及びハイドロキノンモノメチルエーテル０．
２５部を仕込み、９５℃で２４時間反応し、ビスフェノ
ールＡ型エポキシアクリレート（Ａ−１）を得た。得ら
れたエポキシアクリレート中の加水分解性塩素含有量
は、１４５０ｐｐｍであった。
に詳細に説明する。なお、以下において部は特に断りの
ない限りすべて重量基準である。 ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ａ）の合成
例 合成例１．エピコート８２８（油化シェルエポキシ
（株）製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ
当量１８１、加水分解性塩素含有量２０００ｐｐｍ）３
６２部、アクリル酸１３４部、トリフェニルホスフィン
１．４９部及びハイドロキノンモノメチルエーテル０．
２５部を仕込み、９５℃で２４時間反応し、ビスフェノ
ールＡ型エポキシアクリレート（Ａ−１）を得た。得ら
れたエポキシアクリレート中の加水分解性塩素含有量
は、１４５０ｐｐｍであった。
【００１１】合成例２ ＲＥ−３１０Ｓ（日本化薬（株）製、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂、エポキシ当量１８０、加水分解性塩素
含有量５００ｐｐｍ）３６０部、アクリル酸１３４部、
トリフェニルホスフィン１．４９部及びハイドロキノン
モノメチルエーテル０．２５部を仕込み、９５℃で２４
時間反応し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート
（Ａ−２）を得た。得られたエポキシアクリレート中の
加水分解性塩素含有量は、３６５ｐｐｍであった。
型エポキシ樹脂、エポキシ当量１８０、加水分解性塩素
含有量５００ｐｐｍ）３６０部、アクリル酸１３４部、
トリフェニルホスフィン１．４９部及びハイドロキノン
モノメチルエーテル０．２５部を仕込み、９５℃で２４
時間反応し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート
（Ａ−２）を得た。得られたエポキシアクリレート中の
加水分解性塩素含有量は、３６５ｐｐｍであった。
【００１２】実施例１ 合成例２で得たエポキシアクリレート（Ａ−２）３０
部、トリメチロールプロパントリアクリレート３０部、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２５部、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート１０部及びイルガキュ
アー１８４（チバ・ガイギー社製、１−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン）５部を混合、溶解し、樹脂
組成物を調製した。次にポリカーボネート基板にアルミ
ニウムを蒸着した光ディスクの記録膜の上に、得られた
樹脂組成物をスピンコーターを用いて５μｍになるよう
に塗布し、メタルハライドランプ（120w/cm)により照射
して、塗膜を硬化させた、得られたオーバーコートされ
た光ディスクを８５℃、９５ＲＨ％の恒温恒湿槽中に２
０００時間放置した後、記録膜を観察した結果はピンホ
ールや腐食を全く認められなかった。
部、トリメチロールプロパントリアクリレート３０部、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２５部、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート１０部及びイルガキュ
アー１８４（チバ・ガイギー社製、１−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン）５部を混合、溶解し、樹脂
組成物を調製した。次にポリカーボネート基板にアルミ
ニウムを蒸着した光ディスクの記録膜の上に、得られた
樹脂組成物をスピンコーターを用いて５μｍになるよう
に塗布し、メタルハライドランプ（120w/cm)により照射
して、塗膜を硬化させた、得られたオーバーコートされ
た光ディスクを８５℃、９５ＲＨ％の恒温恒湿槽中に２
０００時間放置した後、記録膜を観察した結果はピンホ
ールや腐食を全く認められなかった。
【００１３】実施例２ 合成例２で得たエポキシアクリレート（Ａ−２）４０
部、ネオペンチルグリコールジアクリレート２０部、ジ
シクロペンテニルアクリレート３５部及びイルガキュア
ー１８４ ５部を混合、溶解し樹脂組成物を調製した。
次いで実施例１と同様にしてオーバーコートされた光デ
ィスクを得た。実施例１と同様にして、恒温恒湿槽中に
２０００時間放置後、記録膜表面を観察した結果は、ピ
ンホールや腐食は、全く認められなかった。
部、ネオペンチルグリコールジアクリレート２０部、ジ
シクロペンテニルアクリレート３５部及びイルガキュア
ー１８４ ５部を混合、溶解し樹脂組成物を調製した。
次いで実施例１と同様にしてオーバーコートされた光デ
ィスクを得た。実施例１と同様にして、恒温恒湿槽中に
２０００時間放置後、記録膜表面を観察した結果は、ピ
ンホールや腐食は、全く認められなかった。
【００１４】比較例１ 合成例１で得たエポキシアクリレート（Ａ−１）３０
部、トリメチロールプロパントリアクリレート３０部、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２５部、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート１０部及びイルガキュ
アー１８４ ５部を混合、溶解し樹脂組成物を調製し
た。次いで、実施例１と同様にして、オーバーコートさ
れた光ディスクを得た。実施例１と同様にして、恒温恒
湿槽中に２０００時間放置後、記録膜表面を観察した結
果は、ピンホールが発生し、腐食が見られた。
部、トリメチロールプロパントリアクリレート３０部、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート２５部、テト
ラヒドロフルフリルアクリレート１０部及びイルガキュ
アー１８４ ５部を混合、溶解し樹脂組成物を調製し
た。次いで、実施例１と同様にして、オーバーコートさ
れた光ディスクを得た。実施例１と同様にして、恒温恒
湿槽中に２０００時間放置後、記録膜表面を観察した結
果は、ピンホールが発生し、腐食が見られた。
【００１５】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、効果塗膜の記録
媒体に対する接着性、耐湿熱性が良好であり、光ディス
クの金属薄膜層の腐食を長期間にわたって効果的に防止
することができる。従って、本発明の樹脂組成物は、特
に光ディスクのオーバーコート剤等の光学材料として極
めて有用である。
媒体に対する接着性、耐湿熱性が良好であり、光ディス
クの金属薄膜層の腐食を長期間にわたって効果的に防止
することができる。従って、本発明の樹脂組成物は、特
に光ディスクのオーバーコート剤等の光学材料として極
めて有用である。
Claims (3)
- 【請求項１】加水分解性塩素の含有量が７００ｐｐｍ以
下であるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と（メタ）ア
クリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート
（Ａ）、（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合
物（Ｂ）を含有することを特徴とする樹脂組成物。 - 【請求項２】加水分解性塩素の含有量が７００ｐｐｍ以
下であるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂と（メタ）ア
クリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート
（Ａ）、（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合
物（Ｂ）を含有することを特徴とする光学材料用樹脂組
成物。 - 【請求項３】請求項１及び請求項２記載の樹脂組成物の
硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6066509A JPH07247331A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6066509A JPH07247331A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07247331A true JPH07247331A (ja) | 1995-09-26 |
Family
ID=13317883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6066509A Pending JPH07247331A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 樹脂組成物、光学材料用樹脂組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07247331A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018194298A3 (ko) * | 2017-04-21 | 2019-01-10 | 주식회사 케이오씨솔루션 | 에폭시 아크릴계 중굴절 광학렌즈용 수지 조성물 및 그 제조방법 |
| WO2018216897A3 (ko) * | 2017-05-23 | 2019-01-17 | 주식회사 케이오씨솔루션 | 에폭시 아크릴계 중굴절 광학렌즈용 수지 조성물 및 그 제조방법 |
| WO2019050189A1 (ko) * | 2017-09-05 | 2019-03-14 | 주식회사 케이오씨솔루션 | 에폭시 아크릴계 중굴절 광학렌즈용 수지 조성물 및 그 제조방법 |
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1994
- 1994-03-11 JP JP6066509A patent/JPH07247331A/ja active Pending
Cited By (5)
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|---|---|---|---|---|
| WO2018194298A3 (ko) * | 2017-04-21 | 2019-01-10 | 주식회사 케이오씨솔루션 | 에폭시 아크릴계 중굴절 광학렌즈용 수지 조성물 및 그 제조방법 |
| CN110337456A (zh) * | 2017-04-21 | 2019-10-15 | 可奥熙搜路司有限公司 | 用于环氧丙烯酸类中折射光学透镜的树脂组合物及其制备方法 |
| WO2018216897A3 (ko) * | 2017-05-23 | 2019-01-17 | 주식회사 케이오씨솔루션 | 에폭시 아크릴계 중굴절 광학렌즈용 수지 조성물 및 그 제조방법 |
| CN110637060A (zh) * | 2017-05-23 | 2019-12-31 | 可奥熙搜路司有限公司 | 环氧丙烯酸酯类中等折射光学透镜用树脂组合物及其制备方法 |
| WO2019050189A1 (ko) * | 2017-09-05 | 2019-03-14 | 주식회사 케이오씨솔루션 | 에폭시 아크릴계 중굴절 광학렌즈용 수지 조성물 및 그 제조방법 |
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