JPH04264167A - 光ディスク用オーバーコート組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク用オーバー
コート組成物に関し、更に詳しくは、硬化収縮率が低く
、低粘度の光ディスク用オーバーコート組成物に関する
。

【０００２】

【従来の技術】近年、光硬化性樹脂が、硬化時間の短縮
、エネルギーの節約、大気汚染の低減などの利点から、
インキ、塗料、接着剤などの分野に広く応用されている
。

【０００３】コンパクトディスクの如き光ディスクの記
録層を保護するために用いるオーバーコート組成物にお
いても、光硬化性樹脂の応用が進められており、塗布方
法としては、スピンコーティング法が一般的に採用され
ている。

【０００４】ここで、光ディスク基板に反りがあると、
読みとり不能となる為、オーバオコート組成物として低
収縮率、低粘度であることが求められている。オーバー
コート組成物が高粘度である場合、光ディスクの記録層
の保護層の層厚が厚くなり、基板が反る傾向にあり、そ
の結果、記録情報を装置が誤読したり、或いは判読不能
になる。一方、オーバーコート組成物が低粘度であると
、保護層の層厚を薄くすることができる。

【０００５】一般に、硬化収縮率を低くするために、特
開昭５６−１３５５２６号公報、特開平２−１２３１７
２号公報等には、エポキシアクリレート等の高分子量の
オリゴマーを含有するオーバーコート組成物が提案され
ている。

【０００６】しかしながら、このオーバーコート組成物
を用いると、硬化収縮率を低くすることができるが、一
方で、組成物の粘度が高くなるという問題点を有してい
た。

【０００７】また、光ディスクの信頼性を高める為には
、記録層（無機系の記録膜保護層を含む）とオーバーコ
ート組成物を硬化させて得られる保護層との層間の接着
力も求められ、少なくともこれらの層間で容易に剥離す
ることは好ましくない。

【０００８】しかしながら、上記の如きエポキシアクリ
レートを含有するオーバーコート組成物を使用した場合
、記録層と保護層との層間で容易に剥離する欠点を有し
ていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、硬化収縮率が低く、低粘度であり、かつ記
録層と保護層との層間で剥離することがない保護層を形
成できる光ディスク用オーバーコート組成物を提供する
ことにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、鋭意検討した結果、本発明を完成す
るに至ったものである。即ち、本発明は、上記課題を解
決するために、一般式（Ｉ）

【００１１】

【化２】

【００１２】（式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わ
し、Ｘは、−ＣｐＨ２ｐ−又は−ＳＯ２−を表わし、ｎ
及びｒは各々独立的に２又は３を表わし、ｍ及びｓは各
々独立的に１〜６の整数を表わし、ｐは１〜３の整数を
表わす。）で表わされる化合物及び光重合開始剤を含有
することを特徴とする光ディスク用オーバーコート組成
物（以下、本発明の組成物という。）を提供する。

【００１３】本発明で使用する一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物は、硬化収縮率が低く、低粘度、記録層との接
着性に優れた本発明の組成物の中心成分である。

【００１４】本発明で使用する一般式（Ｉ）で表わされ
る化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、サ
ートマー社製の「ＳＲ−３４８」、「ＳＲ−３４９」、
共栄社油脂社製の「ＢＰ−４ＥＡ」、新中村化学社製の
「ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−４」、「ＮＫエステルＢＰ
Ｅ−２００」、「ＮＫエステルＢＰＥ−５００」、「Ｎ
ＫエステルＢＰＥ−１３００」、日本化薬社製の「カヤ
ラッドＲ−７１２」、「カヤラッドＲ−５５１」、東亜
合成化学社製の「アロニックスＭ−２０５」、「アロニ
ックスＭ−２１０」等が挙げられる。

【００１５】一般式（Ｉ）で表わされる化合物の本発明
の組成物中の使用割合は、１０〜６０重量％の範囲が好
ましく、１５〜４０重量％の範囲が特に好ましい。一般
式（Ｉ）で表わされる化合物の使用割合が１０重量％よ
り少ない場合、硬化収縮率が高くなる傾向にあり、使用
割合が６０重量％を越える場合、組成物の粘度が高くな
る傾向にあるので好ましくない。

【００１６】本発明で使用する光重合開始剤としては、
一般の紫外線硬化型樹脂に使用されている各種の光重合
開始剤及び光重合増感剤が使用できる。例えば、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−メチルベ
ンゾイン、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、ベンジ
ル、ベンジルジメチルケタール、２，２−ジエトキシア
セトフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香
酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサ
ルファイド、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾ
フェノン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロ
キシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒロドキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル
−１−［４−（メチルチオフェニル］−２−モルホリノ
プロパン−１，２−クロロチオキサントン、２，４−ジ
メチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキ
サントン、イソプロピルチオキサントン、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド
等を挙げることができ、これらの光重合開始剤は、アミ
ン類等の増感助剤と併用することもできる。

【００１７】光重合開始剤の本発明の組成物中の使用割
合は、１〜１０重量％の範囲が好ましい。

【００１８】アミン類等の増感助剤としては、例えば、
２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ジメチルアミ
ノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等を挙げられ
る。これらの増感助剤の使用割合は、光重合開始剤の０
．１〜１０重量％の範囲が好ましい。

【００１９】本発明の組成物中に、第３成分として希釈
モノマー（以下、第３成分という。）を用いる。

【００２０】第３成分としては、分子中に２個以上の（
メタ）アクリロイル基を有するモノマーが好ましく、３
個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーが特
に好ましい。

【００２１】分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル
基を有するモノマーとしては、例えば、ヒドロキシピバ
リン酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メ
タ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ
）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）
アクリレート）等が挙げられる。

【００２２】分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル
基を有する化合物としては、例えば、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストー
ルヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストール
モノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル
変性ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート
、アルキル変性ジペンタエリストールテトラ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリストールトリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレート
、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレ
ート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキ
シエチル］イソシアヌレート等が挙げられる。

【００２３】また、上記多官能モノマーの他に、本発明
の組成物中に、希釈能が高い単官能モノマーを併用する
こともできる。

【００２４】単官能モノマーとしては、ベンジル（メタ
）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート
、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロ
ペンテニロキシ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアミノエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビト
ールアクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート
、イソデシル（メタ）アクリレート、モルホリンアクリ
レート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート
、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等が挙げられる。

【００２５】第３成分の本発明の組成物中の配合割合は
、３０〜８０重量％の範囲が好ましい。第３成分の配合
割合が３０重量％より少ない場合、本発明の組成物の粘
度が高くなる傾向にあり、第３成分の配合割合が８０重
量％より多い場合、硬化収縮率が大きくなり、光ディス
ク基板に反りが発生し易くなる傾向にあるので好ましく
ない。

【００２６】本発明の組成物には、上記の他に各種の添
加剤を必要に応じて使用することもできる。

【００２７】一般に光ディスクは、Ａｌ、Ａｕ等の無機
薄膜の上に、オーバーコート組成物を塗布するため、本
発明の組成物中に、接着付与剤として、エチレンオキサ
イド変性コハク酸（メタ）アクリレート、エチレンオキ
サイド変性フタル酸（メタ）アクリレート、エチレンオ
キサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、ヒドロキシ
ナフトキシプロ（メタ）アクリレートの如きカルボキシ
ル基、リン酸基、水酸基を分子内に有する（メタ）アク
リレートを添加することもできる。

【００２８】また、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を
防止する為に、本発明の組成物中に、ハイドロキノンモ
ノメチルエーテル、ｔ−ブチルカテコール、ｐ−ベンゾ
キノン、２，５−ｔ−ブチルハイドロキノン、フェノチ
アジン等の公知の熱重合防止剤を添加することが好まし
い。

【００２９】更に、塗布性を改善するために、本発明の
組成物中に、界面活性剤を添加することもできる。

【００３０】界面活性剤としては、日本ユニカ社製の「
Ｌ−７７」、「Ｌ−７２０」、「Ｌ−７２２」、「Ｌ−
５３１０」、「Ｌ−７００１」、「Ｌ−７００２」、信
越化学工業社製の「ＫＦ−３５１」、「ＫＦ−３５２」
、「ＫＦ−３５３」、「ＫＦ−３５４」、「ＫＦ−３５
５」等のシリコール系界面活性剤；大日本インキ化学工
業社製の「メガファックＦ−１４２Ｄ」、「メガファッ
クＦ−１４４Ｄ」、「メガファックＦ−１５０」、「メ
ガファックＦ−１７１」、「メガファックＦ−１７３」
、「メガファックＦ−１７７」、「メガファックＦ−１
８３」等のフッ素系非イオン界面活性剤を挙げることが
できる。

【００３１】本発明の組成物は、光ディスクの金属薄膜
層上に、スピンコーター等塗布装置を用いて乾燥塗膜厚
が５〜１０μｍとなるように塗布され、更に、紫外線の
如き放射線を照射することによって、金属薄膜上にオー
バーコート（保護）層が形成される。

【００３２】

【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更
に詳細に説明する。

【００３３】（実施例１、２、比較例１及び２）第１表
に示した組成から成る光ディスク用オーバーコート組成
物を常法により調製した。

【００３４】なお、表中に示した各組成の略号は、以下
の通りである。 Ａ−ＢＰＥ−４：エチレンオキサイド変性ビスフェノー
ルＡジアクリレート ＥＰＯ−Ａ ビスフェノールＡ型エポキシジアクリレートＴＭＰ３Ａ
：トリメチロールプロパントリアクリレートＨＤＤＡ：
１，６−ヘキサンジオールジアクリレートＰＭ−２：エ
チレンオキサイド変性りん酸ジメタクリレート １８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン

【００３５】得られた各組成物の２５℃における粘度（
単位：センチポイズ）を、Ｂ型回転粘度計を用いて測定
し、その結果を第１表に示した。

【００３６】得られた各組成物の液比重と組成物の硬化
物固体比重を測定して、硬化収縮率を計算し、その結果
を第１表に掲げた。

【００３７】

【表１】

【００３８】（実施例３及び比較例３）アルミニウム蒸
着層から成る記録層を有する光ディスク基板上に、実施
例１及び比較例１で得た組成物を、乾燥塗膜厚が６〜７
μｍと成るように各組成物を塗布し、集光型メタルハラ
イドランプ（１２０Ｗ／ｃｍ）を有する硬化装置（ベル
トスピード：７ｍ／分）により、皮膜を硬化させて、保
護膜を形成した。

【００３９】次に、硬化皮膜を形成したコンパクトディ
スク基板を７５℃、８５ＲＨ％の恒温恒湿槽中に一昼夜
保管した後、保護膜とアルミニウム蒸着層との接着性を
１８ｍｍ巾の「セロテープ」（ニチバン社製セロファン
粘着テープ）を用いた剥離試験を行なった。その結果、
実施例１の組成物を用いて形成した保護膜は、記録層と
保護膜との間で剥離しなかったが、比較例１の組成物を
用いて形成した保護膜は、容易に剥がれてしまった。

【００４０】

【発明の効果】本発明の組成物は、硬化収縮率が低く、
低粘度であり、この組成物を硬化させて得られた硬化皮
膜は、記録層との接着性が良好である。

【００４１】従って、本発明の組成物は、コンパクトデ
ィスクの如き光ディスクの記録層を保護するために用い
るオーバーコート組成物として極めて有用である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　一般式 【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わし、Ｘは、−
   ＣｐＨ２ｐ−又は−ＳＯ２−を表わし、ｎ及びｒは各々
   独立的に２又は３を表わし、ｍ及びｓは各々独立的に１
   〜６の整数を表わし、ｐは１〜３の整数を表わす。）で
   表わされる化合物及び光重合開始剤を含有することを特
   徴とする光ディスク用オーバーコート組成物。