JPH11286657A - 光ディスク用接着剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い光硬化性を保持したまま、高温高湿下に
おいても金属反射層や情報記録層を劣化させない光ディ
スクなどの貼り合わせに適した光硬化性接着剤を提供す
ること。 【解決手段】 （Ａ）ラジカル重合性ビニル化合物 （Ｂ）特定のフェノールノボラック型（メタ）アクリレ
ート化合物 （Ｃ）ラジカル重合開始剤 上記（Ａ）〜（Ｃ）からなる光硬化性接着剤を用いて光
ディスクなどの貼り合わせを行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は光ディスク用の光
硬化型樹脂組成物に関するもので、特に光ディスク基板
の貼り合わせに適した光硬化型接着剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】光硬化性接着剤を使用した光ディスク等
の製造に際しては、２枚の基板を光硬化性の接着剤で貼
り合わせた後、光を照射して光重合硬化させる方法が使
用されている。例えば、特開平９−３１４１６号公報に
は、重合性モノマーとラジカル光重合開始剤とからなる
光硬化性樹脂組成物が示されている。また、特開平７−
１２６５７７号公報には、予め２枚の基板に接着剤を塗
布し光を照射した後に貼り合わせて光ディスクを製造す
るシステムについて開示されている。また、特開平７−
４４８９０にはフェノールノボラック型エポキシアクリ
レートを使用した光記録媒体のコーティング剤が、更に
は、特開平８−１８１４３６には同様にフェノールノボ
ラック型エポキシアクリレートをプリント配線板に用い
ることが開示されている。

【０００３】ところで、一般に光ディスクには、ＰＤ
（相変化光ディスク）、ＭＯ（光磁気ディスク）、ＤＶ
Ｄ（デジタルビデオ（又はバーサタイル）ディスク）等
があり、透明基板に反射層と情報記録層を積層した構造
となっている。そして、現在では、これらの透明基板を
接着剤を介して２枚を貼り合わせた大容量の光ディスク
が主流になりつつある。このため、前述の接着剤に求め
られる性能も年々向上し、特に、高温高圧下（８０℃−
９０％ＲＨ）での耐久性が要求されるようになってき
た。

【発明が解決しようとする課題】

【０００４】前記したように光ディスクを構成する透明
基板の反射層や情報記録層は、空気中の湿気により容易
に腐食や変質が発生し、例えば８０℃−９０％ＲＨの雰
囲気中に１００時間放置するだけで光反射層となる金属
薄膜が欠落したりする。このため、前記透明基板の貼り
合わせに使用する接着剤には接着硬化後の硬化物が湿気
や水分を透過しない性質や湿気や水分そのものに対して
十分な耐久性を要求されるが、前述した高温高湿下での
耐久性を満足する光硬化性接着剤は未だに開発されてい
ない。

【０００５】

【課題を解決する為の手段】上記の課題を解決するため
に鋭意検討した結果、以下の（Ａ）〜（Ｃ）を含む光硬
化型接着剤により、耐久性、特に耐湿性に優れた接着剤
が得られることを見いだし、この発明を完成するに至っ
た。すなわち、 （Ａ）ラジカル重合性ビニル化合物 （Ｂ）下式（１）で示される１種以上のフェノールノボ
ラック型（メタ）アクリレート化合物

【０００６】

【化１】

【０００７】式中Ｒは、下式（２）で表される基であ
り、Ａは水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基であ
る。ｎは１〜１０であり、また、Ｘは−ＣＨ_２Ｃ（Ｏ
Ｈ）ＨＣＨ _２Ｏ−、または、−ＣＨ_２Ｃ（Ａ）ＨＯ−で
表される基であり、Ｙは水素原子もしくはメチル基であ
る。

【０００８】

【化２】

【０００９】式中ｍは、Ｘが−ＣＨ_２Ｃ（ＯＨ）ＨＣＨ
_２Ｏ−基の場合は１であり、また、Ｘが−ＣＨ_２Ｃ
（Ａ）ＨＯ−基の場合は１〜１０である。 （Ｃ）ラジカル重合開始剤

【００１０】次に本発明の各構成について詳細に説明す
る。本発明で用いられる（Ａ）ラジカル重合性ビニル化
合物は、分子内にエチレン性二重結合を少なくとも一つ
有するものであればよく特に限定されないが、好ましく
は、分子の末端または側鎖に（メタ）アクリロイルオキ
シ基を有する化合物が適当である。具体的な化合物とし
ては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレング
リコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル
（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシメチ
ル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、シクロ
ヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）
アクリレート、メトキシカルボニルメチル（メタ）アク
リレート、エトキシカルボニルメチル（メタ）アクリレ
ート、アシッドホスホオキシエチル（メタ）アクリレー
ト、イソボロニル（メタ）アクリレート、水添ジシクロ
ペンタジエニルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スルトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メ
タ）アクリレート等の（メタ）アクリロイルオキシ基を
有する化合物が上げられ、また、これ以外の化合物とし
ては、酢酸ビニル、メチルビニルエーテル、スチレン、
ビニルトルエン等が上げられる。また、本発明の（Ａ）
ラジカル重合性ビニル化合物は、前記したビニル化合物
の１種または２種以上を混合して用いることができる。

【００１１】さらに、前記以外の（Ａ）ラジカル重合性
ビニル化合物としては、分子内にウレタン結合を有する
（メタ）アクリレートのモノマーまたはオリゴマー、１
分子中に２個以上のビニル基を有するエポキシ（メタ）
アクリレートのモノマーまたはオリゴマー、ポリブタジ
エン（メタ）アクリレートのモノマーまたはオリゴマー
等があり、これらの化合物と前記のラジカル重合性ビニ
ル化合物とを併用することにより、光硬化型接着剤組成
物の硬化物の柔軟性や耐熱性等の特性を広範囲にわたっ
て調製できる。

【００１２】尚、前記した（Ａ）ラジカル重合性ビニル
化合物に、さらに（メタ）クリロイルモルホリン化合物
を併用した場合は、これらの化合物の添加により少量の
光照射で光重合が可能になり、光硬化性接着剤組成物の
硬化性を向上させることができる。前記（メタ）アクリ
ロイルモルホリン化合物の添加量は併用する他のラジカ
ル重合性化合物の種類によって異なるが、他のラジカル
重合性ビニル化合物の合計量１００重量部に対して１〜
５０重量部、より好ましくは１０〜３０重量部である。
１重量部未満では光反応性を向上させるためには不十分
であり、５０重量部を超えると組成物の安定性が低下す
る。

【００１３】次に、（Ｂ）フェノールノボラック型（メ
タ）アクリレート化合物について説明する。本発明に使
用される（Ｂ）フェノールノボラック型（メタ）アクリ
レート化合物としては、下記式（１）で表される１種以
上の化合物である。

【００１４】

【化１】

【００１５】式中Ｒは、下式（２）で表される基であ
り、Ａは水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基であ
る。ｎは１〜１０であり、また、Ｘは−ＣＨ_２Ｃ（Ｏ
Ｈ）ＨＣＨ _２Ｏ−、または、−ＣＨ_２Ｃ（Ａ）ＨＯ−で
表される基であり、Ｙは水素原子もしくはメチル基であ
る。

【００１６】

【化２】

【００１７】式中ｍは、Ｘが−ＣＨ_２Ｃ（ＯＨ）ＨＣＨ
_２Ｏ−基の場合は１であり、また、Ｘが−ＣＨ_２Ｃ
（Ａ）ＨＯ−基の場合は１〜１０である。

【００１８】なお、前記式（１）におけるフェノールノ
ボラック型（メタ）アクリレート化合物の製造方法とし
ては、アルキルフェノールノボラックとグリシジル（メ
タ）アクリレートを反応させて合成するか、グリシジル
エーテル化したフェノールノボラックと（メタ）アクリ
ル酸を反応させて合成するか、あるいはフェノールノボ
ラックアルキレンオキサイド化合物と（メタ）アクリル
酸を反応させて得ることができる。また、このフェノー
ルノボラック型（メタ）アクリレート化合物の添加量
は、前記（Ａ）ラジカル重合性ビニル化合物の添加量１
００重量部に対して１〜２００重量部、より好ましくは
１０〜５０重量部である。１重量部より少ないと耐湿性
が悪くなり、２００重量部を越えると接着力が低下す
る。

【００１９】次に、（Ｃ）光重合開始剤について説明す
る。本発明に使用できる（Ｃ）光重合開始剤としては従
来から公知のラジカル光重合開始剤が使用でき、その具
体例としては、例えば、ベンゾフェノン、２−イソプロ
ピルチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチル
チオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１、
２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−
オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケ
トン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−
モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、
１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−
２−ヒドロキシジ−２−メチル−１−プロパン−１−オ
ン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォ
スフィンオキサイド等が上げられる。

【００２０】これら（Ｃ）光重合開始剤の配合割合は、
光重合性触媒として働き、光硬化性を与えるのに充分な
量であれば良い。一般的には、（Ａ）ラジカル重合性ビ
ニル化合物及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計量１
００重量部当たり、０．０１〜１０．０重量部、より好
ましくは０．１〜５．０重量部である。０．０１重量部
未満では反応が極めて遅くなり反応が充分に進行せず、
１０．０重量部を越えると安定性が悪くなったり、また
硬化物の性能低下をきたす。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下実施例及び比較例により本発
明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。

【実施例及び比較例】調合 調合容器の周囲を遮光し、表１に示す配合に（Ａ）のラ
ジカル重合性ビニル化合物に、（Ｂ）フェノールノボラ
ック型エポキシアクリレート（アルキルフェノールノボ
ラックとグリシジル（メタ）アクリレートを反応させて
合成したもの）を配合し、更に（Ｃ）光重合開始剤を添
加した後、６０℃に加温しながら混合攪拌することによ
り均一な光硬化型接着剤を調合した。

【００２２】評価 アルミニウム反射層と情報記録層が形成されたポリカー
ボネート製透明基板に、調合した接着剤を塗布し気泡が
押し出しながら貼り合わせた後、光を照射し接着した。
その結果を表１に示す。

【００２３】

【表１】

【００２４】なお、表１の各記号等は以下のとおりであ
る。 ＊１：フェノールノボラック型アクリレートは、アルキ
ルフェノールノボラックとグリシジルメタクリレートを
反応させて得られたものを用いた。 ＵＮ−９２００Ａ：ポリカーボネート変性ウレタンアク
リレート（根上工業株式会社製商品名） ＴＭＤＰＯ ：２、４、６−トリメチルベンゾイル
ジフェニルフォスフィンオキサイド

【００２５】１．光硬化性試験 ： 接着面をはく離
し、介在する接着剤の硬化状況を指触により評価した。
評価結果を表１に示し、完全に硬化した場合は◎、ほぼ
硬化した場合は○、タックが残っている場合は△、液状
の場合は×とした。 ２．耐湿性試験 ： ８５℃−９０％ＲＨの雰囲気下に
５００時間放置した後ディスクの外観を確認した。変化
無しは○、反射膜にピンホールが発生した場合もしくは
一部溶解した場合は△、全面が腐食した場合は×とし
た。

【００２６】

【発明の効果】表１の結果からも分かるように、本発明
の光硬化性接着剤組成物は、従来の光硬化性接着剤に比
較して耐湿試験後の外観も良好で極めて耐湿性に優れて
おり、また、微量の光照射でも速やかに硬化する。さら
に、アクリロイルモルホリンを添加した系ではさらに光
硬化速度が向上する。以上のことから、本発明の光硬化
性接着剤を使用すると、耐湿性、耐水性が良好な長期信
頼性に優れた光ディスクが得られ、かつその生産性も向
上する。 化学式等を記載した書面

【化１】

【化２】

【表１】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 接合面の一方、または両方に情報記録層
   が形成された二つの透明基板から構成されこれらの接合
   面を光硬化型接着剤を用いて貼り合わせて製造される光
   ディスクにおいて、前記光硬化型接着剤が以下（Ａ）〜
   （Ｃ）を含むことを特徴とする光ディスク用接着剤組成
   物。 （Ａ）ラジカル重合性ビニル化合物 （Ｂ）下記式（１）で示される１種以上のフェノールノ
   ボラック型（メタ）アクリレート化合物 【化１】式中Ｒは、下式（２）で表される基であり、Ａ
   は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基である。ｎは
   １〜１０であり、また、ＸはＣＨ_２Ｃ（ＯＨ）ＨＣＨ_２
   Ｏ−、または、ＣＨ_２Ｃ（Ａ）ＨＯで表される基であ
   り、Ｙは水素原子もしくはメチル基である。 【化２】式中ｍは、Ｘが−ＣＨ_２Ｃ（ＯＨ）ＨＣＨ_２Ｏ
   −の場合は１であり、また、Ｘが−ＣＨ_２Ｃ（Ａ）ＨＯ
   −の場合は１〜１０である。 （Ｃ）ラジカル重合開始剤
2. 【請求項２】 前記（Ｂ）フェノールノボラック型（メ
   タ）アクリレート化合物が、（Ａ）ラジカル重合性ビニ
   ル化合物１００重量部に対し１〜２００重量部である請
   求項１に記載の光ディスク用接着剤組成物。