JP3381099B2 - 紫外線硬化型塗料及び光ディスク - Google Patents
紫外線硬化型塗料及び光ディスクInfo
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- JP3381099B2 JP3381099B2 JP14498794A JP14498794A JP3381099B2 JP 3381099 B2 JP3381099 B2 JP 3381099B2 JP 14498794 A JP14498794 A JP 14498794A JP 14498794 A JP14498794 A JP 14498794A JP 3381099 B2 JP3381099 B2 JP 3381099B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばコンパクトディ
スク、光磁気ディスクなどの光ディスクに関する。また
本発明は、この光ディスクの保護膜に適用して好適な紫
外線硬化型塗料に関する。
スク、光磁気ディスクなどの光ディスクに関する。また
本発明は、この光ディスクの保護膜に適用して好適な紫
外線硬化型塗料に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】コンパ
クトディスク、光磁気ディスク等をはじめとする光ディ
スクは、ポリカーボネート等の透明性基板上に蒸着又は
スパッタリングにより形成された金属薄膜層を有する構
造を持っている。この金属薄膜層は、大気中で酸素や水
分の影響を受け、その特性が劣化し易い為従来保護膜と
して紫外線硬化型樹脂などが使用されてきた。一般に塗
布方法としてはスピンコーティング法が採られている。
クトディスク、光磁気ディスク等をはじめとする光ディ
スクは、ポリカーボネート等の透明性基板上に蒸着又は
スパッタリングにより形成された金属薄膜層を有する構
造を持っている。この金属薄膜層は、大気中で酸素や水
分の影響を受け、その特性が劣化し易い為従来保護膜と
して紫外線硬化型樹脂などが使用されてきた。一般に塗
布方法としてはスピンコーティング法が採られている。
【０００３】また、光ディスクの記録層の保護膜の層厚
が厚くなると基板が反る傾向にあり、その結果、記録情
報を装置が誤読したり、或いは判読不能になるため保護
層の層厚を薄くする必要がある。そのため、スピンコー
ティング法で用いるオーバーコート組成物は低粘度であ
ることが要求されている。
が厚くなると基板が反る傾向にあり、その結果、記録情
報を装置が誤読したり、或いは判読不能になるため保護
層の層厚を薄くする必要がある。そのため、スピンコー
ティング法で用いるオーバーコート組成物は低粘度であ
ることが要求されている。
【０００４】しかしながら光硬化性樹脂組成物に用いら
れている特に低分子量で低粘度である化合物は一般的に
ＰＩＩ値が高いため、製造装置のメンテナーがその光硬
化性樹脂組成物に触れて、かぶれるという問題がいくつ
か報告されている。
れている特に低分子量で低粘度である化合物は一般的に
ＰＩＩ値が高いため、製造装置のメンテナーがその光硬
化性樹脂組成物に触れて、かぶれるという問題がいくつ
か報告されている。
【０００５】また、皮膚刺激性を低くするために、特開
平２−６５６２号公報にはトリメチロールプロパントリ
アクリレートのエチレンオキサイド３モル付加物の如
き、従来の低分子量アクリレート化合物をエチレンオキ
サイドで変性した化合物を使用した光ディスク用保護コ
ート剤が提案されている。しかしながら、この光ディス
ク用保護コート剤は、分子量を大きくしたため、粘度が
高いという問題点を有していた。
平２−６５６２号公報にはトリメチロールプロパントリ
アクリレートのエチレンオキサイド３モル付加物の如
き、従来の低分子量アクリレート化合物をエチレンオキ
サイドで変性した化合物を使用した光ディスク用保護コ
ート剤が提案されている。しかしながら、この光ディス
ク用保護コート剤は、分子量を大きくしたため、粘度が
高いという問題点を有していた。
【０００６】また、ＰＩＩ値を低くしようとすると、耐
腐食性能力が低下し、保護膜として成り立たなくなる。
更に、ＰＩＩ値を低くした保護膜では、硬化後の臭気が
強く、作業環境を悪化させるという問題点を有してい
た。
腐食性能力が低下し、保護膜として成り立たなくなる。
更に、ＰＩＩ値を低くした保護膜では、硬化後の臭気が
強く、作業環境を悪化させるという問題点を有してい
た。
【０００７】また、生産性の点からも低粘度でしかも塗
料のディスク基板に対する塗れ性がよくなるように表面
張力が低いことが望ましいが、その表面張力を低下させ
るために添加した添加剤の影響で泡が発生しやすくなり
ディスクの製品不良の多発、歩留まりの低下等生産性を
悪くするという問題と、さらには保護膜上への添加剤の
しみだしにより印刷密着性が低下し、それにより印刷イ
ンクの剥がれ等が生じるという問題点を有していた。
料のディスク基板に対する塗れ性がよくなるように表面
張力が低いことが望ましいが、その表面張力を低下させ
るために添加した添加剤の影響で泡が発生しやすくなり
ディスクの製品不良の多発、歩留まりの低下等生産性を
悪くするという問題と、さらには保護膜上への添加剤の
しみだしにより印刷密着性が低下し、それにより印刷イ
ンクの剥がれ等が生じるという問題点を有していた。
【０００８】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであり、皮膚刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得る
ことを目的とする。また、本発明は、保護膜としての能
力に優れ、硬化後の臭気が少ない紫外線硬化型塗料を得
ることを目的とする。また、本発明は、泡の発生が少な
く表面張力の低い紫外線硬化型塗料を得ることを目的と
する。また、本発明は、上述の紫外線硬化型塗料を用い
る新規な光ディスクを得ることを目的とする。
ものであり、皮膚刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得る
ことを目的とする。また、本発明は、保護膜としての能
力に優れ、硬化後の臭気が少ない紫外線硬化型塗料を得
ることを目的とする。また、本発明は、泡の発生が少な
く表面張力の低い紫外線硬化型塗料を得ることを目的と
する。また、本発明は、上述の紫外線硬化型塗料を用い
る新規な光ディスクを得ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の紫外線硬化型塗
料は、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパン
トリアクリル酸エステルが３０〜６０重量部と、エチレ
ンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジアクリレー
トが２０〜５０重量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリ
ル酸エステル及び／またはアクリル酸エステルが合計で
５〜２５重量部、そして、エチレンオキサイド変性リン
酸ジメタクリレート、及び、光重合開始剤からなるもの
である。
料は、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパン
トリアクリル酸エステルが３０〜６０重量部と、エチレ
ンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジアクリレー
トが２０〜５０重量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリ
ル酸エステル及び／またはアクリル酸エステルが合計で
５〜２５重量部、そして、エチレンオキサイド変性リン
酸ジメタクリレート、及び、光重合開始剤からなるもの
である。
【００１０】また、本発明の紫外線硬化型樹脂は、エチ
レンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリ
ル酸エステルが３０〜６０重量部と、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート及び／また
はエチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジア
クリレートが合計で２０〜５０重量部と、フェノキシエ
チルアクリレート及び／またはフェノキシジエチレング
リコールアクリレートが合計で５〜２５重量部、そし
て、エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレート、
及び、光重合開始剤からなるものである。
レンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリ
ル酸エステルが３０〜６０重量部と、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート及び／また
はエチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジア
クリレートが合計で２０〜５０重量部と、フェノキシエ
チルアクリレート及び／またはフェノキシジエチレング
リコールアクリレートが合計で５〜２５重量部、そし
て、エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレート、
及び、光重合開始剤からなるものである。
【００１１】また、本発明の紫外線硬化型塗料は、光重
合開始剤が２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オンである上述構成の紫外線硬化型塗料
である。
合開始剤が２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オンである上述構成の紫外線硬化型塗料
である。
【００１２】
【００１３】また、本発明の紫外線硬化型塗料は、ＰＩ
Ｉ値が２以下の三官能以上のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で３０〜６０重量部
と、ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル
及び／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重
量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部
と、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能基含
有ジアクリレートと、二官能のジメチルシロキサンが
０．０１〜１．０重量部と、光重合開始剤が５〜１５重
量部とからなるものである。
Ｉ値が２以下の三官能以上のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で３０〜６０重量部
と、ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル
及び／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重
量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部
と、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能基含
有ジアクリレートと、二官能のジメチルシロキサンが
０．０１〜１．０重量部と、光重合開始剤が５〜１５重
量部とからなるものである。
【００１４】また、本発明の紫外線硬化型塗料は、ＰＩ
Ｉ値が２以下の三官能以上のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で３０〜６０重量部
と、ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル
及び／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重
量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部、
そして、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能
基含有ジアクリレート、及び、光重合開始剤からなり、
光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノンと
オルソベンゾイル安息香酸メチルとの混合物であり、そ
れぞれの重量％比が２５：７５〜８０：２０の範囲にあ
るものである。
Ｉ値が２以下の三官能以上のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で３０〜６０重量部
と、ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル
及び／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重
量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部、
そして、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能
基含有ジアクリレート、及び、光重合開始剤からなり、
光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノンと
オルソベンゾイル安息香酸メチルとの混合物であり、そ
れぞれの重量％比が２５：７５〜８０：２０の範囲にあ
るものである。
【００１５】また、本発明の紫外線硬化型塗料は、ＰＩ
Ｉ値が２以下の三官能以上のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で３０〜６０重量部
と、ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル
及び／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重
量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部、
そして、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能
基含有ジアクリレート、及び、光重合開始剤からなり、
光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノンと
ベンゾフェノンとの混合物であり、それぞれの重量％比
が１７：８３〜６７：３３の範囲にあるものである。
Ｉ値が２以下の三官能以上のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で３０〜６０重量部
と、ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル
及び／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重
量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部、
そして、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能
基含有ジアクリレート、及び、光重合開始剤からなり、
光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノンと
ベンゾフェノンとの混合物であり、それぞれの重量％比
が１７：８３〜６７：３３の範囲にあるものである。
【００１６】また、本発明の紫外線硬化型塗料は、二官
能のジメチルシロキサンがジメチルシロキサンジアクリ
レートである上述構成の紫外線硬化型塗料である。
能のジメチルシロキサンがジメチルシロキサンジアクリ
レートである上述構成の紫外線硬化型塗料である。
【００１７】また、本発明の光ディスクは、透明性基板
上に金属箔膜層を形成し、この金属箔膜層上に保護膜を
形成する光ディスクにおいて、保護膜が、上述いずれか
の紫外線硬化型塗料から作製されるする光ディスクであ
る。
上に金属箔膜層を形成し、この金属箔膜層上に保護膜を
形成する光ディスクにおいて、保護膜が、上述いずれか
の紫外線硬化型塗料から作製されるする光ディスクであ
る。
【００１８】
【００１９】
【作用】本発明の紫外線硬化型塗料によれば、エチレン
オキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリル酸
エステルが３０〜６０重量部と、エチレンオキサイド変
性ネオペンチルグリコールジアクリレートが２０〜５０
重量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及
び／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５重量
部、そして、光重合開始剤からなるものとすることによ
り、皮膚刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得ることがで
き、製造装置のメンテナーのかぶれをなくすることがで
きる。
オキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリル酸
エステルが３０〜６０重量部と、エチレンオキサイド変
性ネオペンチルグリコールジアクリレートが２０〜５０
重量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及
び／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５重量
部、そして、光重合開始剤からなるものとすることによ
り、皮膚刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得ることがで
き、製造装置のメンテナーのかぶれをなくすることがで
きる。
【００２０】また、本発明の紫外線硬化型塗料によれ
ば、ＰＩＩ値が２以下の三官能以上のメタクリル酸エス
テル及び／またはアクリル酸エステルが合計で３０〜６
０重量部と、ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸
エステル及び／またはアクリル酸エステルが合計で２０
〜５０重量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エス
テル及び／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５
重量部、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能
基含有ジアクリレート、二官能のジメチルシロキサンを
０．０１〜１．０重量部、及び、光重合開始剤が５〜１
５重量部からなる紫外線硬化型塗料とすることにより、
上述の効果の他に、皮膚刺激性が低く泡の発生が少な
い、低粘度なコーティング剤を得ることができる。
ば、ＰＩＩ値が２以下の三官能以上のメタクリル酸エス
テル及び／またはアクリル酸エステルが合計で３０〜６
０重量部と、ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸
エステル及び／またはアクリル酸エステルが合計で２０
〜５０重量部と、ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エス
テル及び／またはアクリル酸エステルが合計で５〜２５
重量部、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能
基含有ジアクリレート、二官能のジメチルシロキサンを
０．０１〜１．０重量部、及び、光重合開始剤が５〜１
５重量部からなる紫外線硬化型塗料とすることにより、
上述の効果の他に、皮膚刺激性が低く泡の発生が少な
い、低粘度なコーティング剤を得ることができる。
【００２１】また、本発明の紫外線硬化型塗料によれ
ば、光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノ
ンとオルソベンゾイル安息香酸メチルとの混合物であ
り、それぞれの重量％比が２５：７５〜８０：２０の範
囲にあることことにより、または、光重合開始剤が、パ
ラジメチルアミノアセトフェノンとベンゾフェノンとの
混合物であり、それぞれの重量％比が１７：８３〜６
７：３３の範囲にあることにより、上述の効果の他に、
硬化後に臭気を発することがなく、作業環境を悪化させ
ることなく改善することができる。
ば、光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノ
ンとオルソベンゾイル安息香酸メチルとの混合物であ
り、それぞれの重量％比が２５：７５〜８０：２０の範
囲にあることことにより、または、光重合開始剤が、パ
ラジメチルアミノアセトフェノンとベンゾフェノンとの
混合物であり、それぞれの重量％比が１７：８３〜６
７：３３の範囲にあることにより、上述の効果の他に、
硬化後に臭気を発することがなく、作業環境を悪化させ
ることなく改善することができる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明紫外線硬化型塗料の実施例につ
いて説明しよう。
いて説明しよう。
【００２３】なお、実施例及び比較例に用いた各組成物
の略号は以下の通りである。 ３ＥＯ−ＴＭＰＴＡ：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリア （新中村化学） クリレート ＭＡＮＤＡ：ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート（日本化薬） フォトマー４１６０：エチレンオキサイド変性ネオペン
チルグリコールジアクリレート（サンノプコ） Ｐｏ−Ａ：フェノキシエチルアクリレート（共栄社油
脂） Ｍ−１０１：フェノキシジエチレングリコールアクリレ
ート（東亜合成） ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート（大阪
有機） ＰＭ−２：エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレ
ート（日本化薬） １１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン（メルク）
の略号は以下の通りである。 ３ＥＯ−ＴＭＰＴＡ：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリア （新中村化学） クリレート ＭＡＮＤＡ：ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート（日本化薬） フォトマー４１６０：エチレンオキサイド変性ネオペン
チルグリコールジアクリレート（サンノプコ） Ｐｏ−Ａ：フェノキシエチルアクリレート（共栄社油
脂） Ｍ−１０１：フェノキシジエチレングリコールアクリレ
ート（東亜合成） ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート（大阪
有機） ＰＭ−２：エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレ
ート（日本化薬） １１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン（メルク）
【００２４】実施例１
多官能（メタ）アクリレートとして３ＥＯ−ＴＭＰＴＡ
４０重量部、ＭＡＮＤＡ ４０重量部、希釈剤とし
て、Ｐｏ−Ａ ２０重量部、密着性促進剤として、ＰＭ
−２ ０．１重量部、開始剤として、１１７３ ７重量
部を用いて、均一に混合し、コーティング剤とした。
４０重量部、ＭＡＮＤＡ ４０重量部、希釈剤とし
て、Ｐｏ−Ａ ２０重量部、密着性促進剤として、ＰＭ
−２ ０．１重量部、開始剤として、１１７３ ７重量
部を用いて、均一に混合し、コーティング剤とした。
【００２５】実施例２
実施例１において、希釈剤としてＭ−１０１に変更した
以外は実施例１と同様にしてコーティング剤とした。
以外は実施例１と同様にしてコーティング剤とした。
【００２６】実施例３
多官能（メタ）アクリレートとして３ＥＯ−ＴＭＰＴＡ
を５０重量部、ＭＡＮＤＡを４５重量部、希釈剤として
ＰＯ−Ａを５重量部用いた。これ以外は、実施例Ｉと同
様とした。
を５０重量部、ＭＡＮＤＡを４５重量部、希釈剤として
ＰＯ−Ａを５重量部用いた。これ以外は、実施例Ｉと同
様とした。
【００２７】実施例４
多官能（メタ）アクリレートとして３ＥＯ−ＴＭＰＴＡ
を４０重量部、ＭＡＮＤＡを３５重量部、希釈剤として
ＰＯ−Ａを２５重量部用いた。これ以外は、実施例Ｉと
同様とした。
を４０重量部、ＭＡＮＤＡを３５重量部、希釈剤として
ＰＯ−Ａを２５重量部用いた。これ以外は、実施例Ｉと
同様とした。
【００２８】実施例５
エチレンオキサイド変性の三官能（メタ）アクリル酸エ
ステルとして３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを３０重量部、エチレ
ンオキサイド変性の２官能（メタ）アクリル酸エステル
としてフォトマー４１６０を５０重量部、希釈剤として
ＰＯ−Ａを２０重量部、密着性促進剤としてＰＭ−２を
０．１重量部、開始剤として１１７３を７重量部用いて
均一に混合しコーティング剤とした。
ステルとして３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを３０重量部、エチレ
ンオキサイド変性の２官能（メタ）アクリル酸エステル
としてフォトマー４１６０を５０重量部、希釈剤として
ＰＯ−Ａを２０重量部、密着性促進剤としてＰＭ−２を
０．１重量部、開始剤として１１７３を７重量部用いて
均一に混合しコーティング剤とした。
【００２９】実施例６
実施例５において、３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを５０重量部、
フォトマー４１６０を３０重量部に変更した以外は実施
例５と同様にしてコーティング剤とした。
フォトマー４１６０を３０重量部に変更した以外は実施
例５と同様にしてコーティング剤とした。
【００３０】実施例７
実施例５において３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを６０重量部、フ
ォトマー４１６０を２０重量部に変更した以外は実施例
５と同様にしてコーティング剤とした。
ォトマー４１６０を２０重量部に変更した以外は実施例
５と同様にしてコーティング剤とした。
【００３１】実施例８
実施例５において、３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを６０重量部、
フォトマー４１６０を３０重量部、ＰＯ−Ａを１０重量
部に変更した以外は実施例５と同様にしてコーティング
剤とした。
フォトマー４１６０を３０重量部、ＰＯ−Ａを１０重量
部に変更した以外は実施例５と同様にしてコーティング
剤とした。
【００３２】比較例１
３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを１００重量部、密着性促進剤とし
て、ＰＭ−２を０．１重量部、開始剤として１１７３を
７重量部用いて均一に混合し、コーティング剤とした。
て、ＰＭ−２を０．１重量部、開始剤として１１７３を
７重量部用いて均一に混合し、コーティング剤とした。
【００３３】比較例２
比較例１において、３ＥＯ−ＴＭＰＴＡ１００重量部の
うち３０重量部を希釈剤としてのＰＯ−Ａに変更した以
外は比較例１と同様にしてコーティング剤とした。
うち３０重量部を希釈剤としてのＰＯ−Ａに変更した以
外は比較例１と同様にしてコーティング剤とした。
【００３４】比較例３
実施例１において希釈剤としてＴＨＦＡに変換した以外
は実施例１と同様にしてコーティング剤とした。
は実施例１と同様にしてコーティング剤とした。
【００３５】比較例４
実施例５において希釈剤としてＴＨＦＡに変換した実施
例５と同様にしてコーティング剤とした。
例５と同様にしてコーティング剤とした。
【００３６】比較例５
ここでは、３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを１０重量部、フォトマ
ー４１６０を８０重量部、ＰＯ−Ａを１０重量部として
コーティング剤とした。
ー４１６０を８０重量部、ＰＯ−Ａを１０重量部として
コーティング剤とした。
【００３７】前記の実施例及び比較例の組成物の物性を
以下のようにして評価した。
以下のようにして評価した。
【００３８】紫外線照射条件
紫外線照射装置： ＵＶＣ−２５３３（ウシオ電機）
メタルハライドランプ １灯
入力 １２０Ｗ／ｃｍ
ランプ高さ １０ｃｍ
光量： ２００ｍＪ／ｃｍ2
光量計：ＵＩＴ−１０２（ウシオ電機）、受光：ＵＶＤ
−３６５ＰＤ
−３６５ＰＤ
【００３９】粘度測定
コーンプレート型粘度計を用いて、２５℃における粘度
を測定した。粘度計はハーケのもので、センサシステム
はＰＫ１００、測定システムはPotovisco ＲＶ２０−Ｍ
５、センサはＰＫ５，１°を使用した。一方、サンプル
の体積は０．５ｃｍ3 とし、ずり速度（Shear rate）は
１０００ｓ-1とした。
を測定した。粘度計はハーケのもので、センサシステム
はＰＫ１００、測定システムはPotovisco ＲＶ２０−Ｍ
５、センサはＰＫ５，１°を使用した。一方、サンプル
の体積は０．５ｃｍ3 とし、ずり速度（Shear rate）は
１０００ｓ-1とした。
【００４０】皮膚刺激性
原料のＰＩＩ値と組成物の重量分率より重量平均値とし
て推算し、表１に示すようにその数値によってその刺激
性について評価を行った。数値は０〜８の範囲に分類さ
れており小さい程刺激性は低い。
て推算し、表１に示すようにその数値によってその刺激
性について評価を行った。数値は０〜８の範囲に分類さ
れており小さい程刺激性は低い。
【００４１】
【表１】
【００４２】鉛筆硬度
コイルバー＃１２を用いて、各サンプルをガラス板上に
塗布し、上述条件の紫外線を照射して硬化膜を得た。鉛
筆は三菱ユニを用い、ＪＩＳ Ｋ５４００に基づいて表
面の硬度を測定した。
塗布し、上述条件の紫外線を照射して硬化膜を得た。鉛
筆は三菱ユニを用い、ＪＩＳ Ｋ５４００に基づいて表
面の硬度を測定した。
【００４３】密着性
【００４４】金属薄膜蒸着又はスパッタリング層に対す
る密着 まず、アルミニウムが蒸着された直径１２ｃｍ、厚み
１．２ｍｍのポリカーボネート基板に、実施例及び比較
例の紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコーテンィグし、
上述条件の紫外線を照射して硬化させ、厚み７μｍ程度
の保護膜を形成した。この場合、スピンコーターとして
はミカサ株式会社製のＭＩＫＡＳＡ ＳＰＩＮＣＯＡＴ
ＥＲ１ Ｈ−ＤＸＩＩを使用し、回転数を３０００ＲＰ
Ｍ、振り切り時間を粘度によって変更し、膜厚を均一に
調整した。上記のように作成したサンプルをカッターナ
イフでアルミニウム蒸着膜に達するように硬化膜に切れ
目を入れ、切れ目に沿ってセロテープを貼り、テープの
一端を塗膜面に対し直角に保ち、瞬間的に引き剥がす。
その結果、硬化膜にアルミニウム蒸着膜が付着した状態
で剥離するときは、密着力を「Ａ」とし、硬化膜とアル
ミニウム蒸着膜の間に剥離が生じ、アルミニウム蒸着膜
がＰＥＴフィルム上に半分ほど残ったときの密着力を
「Ｂ」とし、アルミニウム蒸着膜がＰＥＴフィルム上に
全て残ったときの密着力を「Ｃ」とした。
る密着 まず、アルミニウムが蒸着された直径１２ｃｍ、厚み
１．２ｍｍのポリカーボネート基板に、実施例及び比較
例の紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコーテンィグし、
上述条件の紫外線を照射して硬化させ、厚み７μｍ程度
の保護膜を形成した。この場合、スピンコーターとして
はミカサ株式会社製のＭＩＫＡＳＡ ＳＰＩＮＣＯＡＴ
ＥＲ１ Ｈ−ＤＸＩＩを使用し、回転数を３０００ＲＰ
Ｍ、振り切り時間を粘度によって変更し、膜厚を均一に
調整した。上記のように作成したサンプルをカッターナ
イフでアルミニウム蒸着膜に達するように硬化膜に切れ
目を入れ、切れ目に沿ってセロテープを貼り、テープの
一端を塗膜面に対し直角に保ち、瞬間的に引き剥がす。
その結果、硬化膜にアルミニウム蒸着膜が付着した状態
で剥離するときは、密着力を「Ａ」とし、硬化膜とアル
ミニウム蒸着膜の間に剥離が生じ、アルミニウム蒸着膜
がＰＥＴフィルム上に半分ほど残ったときの密着力を
「Ｂ」とし、アルミニウム蒸着膜がＰＥＴフィルム上に
全て残ったときの密着力を「Ｃ」とした。
【００４５】ポリカーボネート板に対する密着
ポリカーボネート基板に上記のようにスピンコーティン
グしたサンプルを、カッターナイフでポリカーボネート
基板に達するように硬化膜に１００個の碁盤目を入れ、
その上からセロテープを貼りテープの一端を塗膜面に対
し直角に保ち、瞬間的に引き剥がす。ポリカーボネート
基板上に残った硬化膜の碁盤目の数をそのサンプルのポ
リカーボネート板に対する密着力とした。
グしたサンプルを、カッターナイフでポリカーボネート
基板に達するように硬化膜に１００個の碁盤目を入れ、
その上からセロテープを貼りテープの一端を塗膜面に対
し直角に保ち、瞬間的に引き剥がす。ポリカーボネート
基板上に残った硬化膜の碁盤目の数をそのサンプルのポ
リカーボネート板に対する密着力とした。
【００４６】耐腐蝕性
アルミニウムが蒸着された直径１２ｃｍ、厚み１．２ｍ
ｍのポリカーボネート基板に上記のようにスピンコーテ
ィングしたサンプルを、６０℃ ９５％ＲＨのオーブン
中に配置して１００時間エージングを行い、Ａｌ層の腐
食によるピンホールの増加量を測定した。このピンホー
ルは次のようなものである。即ち、例えばコンパクトデ
ィスクの反射膜には、金属Ａｌが用いられ、また、光磁
気ディスクには基板上に順次、誘電体膜／光磁気記録膜
／誘電体膜／反射膜（Ａｌ層）がスパッタリングにより
形成されているが、これらのスパッタ膜は大気中の酸素
や水分の影響を受け、非常に腐蝕しやすいため有機材料
からなる保護膜をコーティングする。そして、Ａｌ層等
の無機材料からなる無機層は基材と保護膜との間に挟ま
れた形となる。通常、このような構成ではディスク下面
から光源によって照明しディスク上面から観察した場
合、不透明な無機層に遮られて光を確認することができ
ない。しかし、高温高湿下に放置したディスクを同様に
観察した場合、不透明な無機層に遮られていた光が腐食
により透明化した円形状の孔の部分から確認することが
できる。この孔をピンホールと呼ぶ。本実施例において
は、ピンホールの大きさを、０〜１０μｍ：１０〜３０
μｍ：３０〜５０μｍ：５０〜１００μｍ：１００μｍ
以上に分類し、１００μｍ以上のピンホール及び５０〜
１００μｍのピンホールで成長性の腐食を有するものを
確認した場合に、ピンホール有りとしてカウントし、表
２に示すようにその数によって腐食性について評価を行
った。
ｍのポリカーボネート基板に上記のようにスピンコーテ
ィングしたサンプルを、６０℃ ９５％ＲＨのオーブン
中に配置して１００時間エージングを行い、Ａｌ層の腐
食によるピンホールの増加量を測定した。このピンホー
ルは次のようなものである。即ち、例えばコンパクトデ
ィスクの反射膜には、金属Ａｌが用いられ、また、光磁
気ディスクには基板上に順次、誘電体膜／光磁気記録膜
／誘電体膜／反射膜（Ａｌ層）がスパッタリングにより
形成されているが、これらのスパッタ膜は大気中の酸素
や水分の影響を受け、非常に腐蝕しやすいため有機材料
からなる保護膜をコーティングする。そして、Ａｌ層等
の無機材料からなる無機層は基材と保護膜との間に挟ま
れた形となる。通常、このような構成ではディスク下面
から光源によって照明しディスク上面から観察した場
合、不透明な無機層に遮られて光を確認することができ
ない。しかし、高温高湿下に放置したディスクを同様に
観察した場合、不透明な無機層に遮られていた光が腐食
により透明化した円形状の孔の部分から確認することが
できる。この孔をピンホールと呼ぶ。本実施例において
は、ピンホールの大きさを、０〜１０μｍ：１０〜３０
μｍ：３０〜５０μｍ：５０〜１００μｍ：１００μｍ
以上に分類し、１００μｍ以上のピンホール及び５０〜
１００μｍのピンホールで成長性の腐食を有するものを
確認した場合に、ピンホール有りとしてカウントし、表
２に示すようにその数によって腐食性について評価を行
った。
【００４７】
【表２】
【００４８】実施例１〜８、比較例１〜５について、上
述した項目により評価した結果は表３に示すとおりであ
る。
述した項目により評価した結果は表３に示すとおりであ
る。
【００４９】
【表３】
【００５０】実施例１の評価結果を見ると、粘度は２５
ｍＰａ・ｓ／２５℃、ＰＩＩ値はＡ、硬度はＨ、密着性
（対Ａｌ）はＡ、密着性（対Ｐｃ）は１００／１００、
また耐食性はＡと全ての項目について満足すべきもので
あった。ＭＡＮＤＡが４０重量部入っていることから、
密着性（対Ａｌ）及び対腐食性が、比較例２と比較する
と改善されている。
ｍＰａ・ｓ／２５℃、ＰＩＩ値はＡ、硬度はＨ、密着性
（対Ａｌ）はＡ、密着性（対Ｐｃ）は１００／１００、
また耐食性はＡと全ての項目について満足すべきもので
あった。ＭＡＮＤＡが４０重量部入っていることから、
密着性（対Ａｌ）及び対腐食性が、比較例２と比較する
と改善されている。
【００５１】実施例２においては、ＰＯ−Ａと同様な構
造式を有するＭ−１０１をＰＯ−Ａの代わりに２０重量
部添加したものであるが、実施例１に比較して、粘度が
２５ｍＰａ・ｓ／２５℃から３０ｍＰａ・ｓ／２５℃に
僅かに大きくなっているが、他の項目については実施例
１と同様に満足すべき値であった。
造式を有するＭ−１０１をＰＯ−Ａの代わりに２０重量
部添加したものであるが、実施例１に比較して、粘度が
２５ｍＰａ・ｓ／２５℃から３０ｍＰａ・ｓ／２５℃に
僅かに大きくなっているが、他の項目については実施例
１と同様に満足すべき値であった。
【００５２】実施例３及び実施例４においては、実施例
１に対して、３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを４０〜５０重量部、
ＭＡＮＤＡを３５〜４５重量部、ＰＯ−Ａを５〜２５重
量部と変化させた場合であるが、粘度が多少変化する他
は、全ての項目について実施例１と同様、満足すべき結
果が得られた。
１に対して、３ＥＯ−ＴＭＰＴＡを４０〜５０重量部、
ＭＡＮＤＡを３５〜４５重量部、ＰＯ−Ａを５〜２５重
量部と変化させた場合であるが、粘度が多少変化する他
は、全ての項目について実施例１と同様、満足すべき結
果が得られた。
【００５３】また、実施例５〜８においても、全ての評
価項目について満足することのできるコーティング剤が
得られた。
価項目について満足することのできるコーティング剤が
得られた。
【００５４】一方、表３から明らかなように、比較例１
で得られたコーティング剤は、粘度が高く、また架橋密
度が高いため、ポリカーボネートの密着が不十分であっ
た。それゆえ、耐環境試験において、金属薄膜層の腐食
がディスク基板の外周に多く見られた。
で得られたコーティング剤は、粘度が高く、また架橋密
度が高いため、ポリカーボネートの密着が不十分であっ
た。それゆえ、耐環境試験において、金属薄膜層の腐食
がディスク基板の外周に多く見られた。
【００５５】比較例２で得られたコーティング剤は、単
官能モノマーが３０重量部入っているため硬度が低く、
また３ＥＯ−ＴＭＰＴＡの配合量が多いので金属薄膜層
（Ａｌ）との密着性も不十分であった。
官能モノマーが３０重量部入っているため硬度が低く、
また３ＥＯ−ＴＭＰＴＡの配合量が多いので金属薄膜層
（Ａｌ）との密着性も不十分であった。
【００５６】比較例３で得られたコーティング剤は、希
釈剤で用いたＴＨＦＡのＰＩＩ値が高いため、全体的に
この化合物のＰＩＩ値が実施例１や実施例２に比べて、
高くなっている。
釈剤で用いたＴＨＦＡのＰＩＩ値が高いため、全体的に
この化合物のＰＩＩ値が実施例１や実施例２に比べて、
高くなっている。
【００５７】比較例４で得られたコーティング剤は比較
例３と同様に希釈剤で用いたＴＨＦＡのＰＩＩ値が高い
ため、全体的に、この化合物のＰＩＩ値が実施例５〜実
施例８に比べて高くなっている。
例３と同様に希釈剤で用いたＴＨＦＡのＰＩＩ値が高い
ため、全体的に、この化合物のＰＩＩ値が実施例５〜実
施例８に比べて高くなっている。
【００５８】比較例５で得られたコーティング剤は、硬
度が低く、保護膜としての耐擦傷性が不十分であった。
度が低く、保護膜としての耐擦傷性が不十分であった。
【００５９】このように、実施例Ｉ〜実施例８におい
て、ＰＩＩ値が低く、かつ低粘度で紫外線により硬化が
速く密着性、硬度に優れ、また耐環境試験において金属
薄膜層の腐食が極めて良好な膜を得ることのできる光デ
ィスク用材料を提供することに成功した。
て、ＰＩＩ値が低く、かつ低粘度で紫外線により硬化が
速く密着性、硬度に優れ、また耐環境試験において金属
薄膜層の腐食が極めて良好な膜を得ることのできる光デ
ィスク用材料を提供することに成功した。
【００６０】本発明において、使用されるＰＩＩ値が２
以下の多官能（メタ）アクリル酸エステルモノマーとし
ては、例えば、アリル化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性ビ
スフェノールＡジアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールトリアクリレート、カプロラクトン変性
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１．６−
ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメ
チロールプロパンジアクリレート、ＥＯ変性ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ＰＯ変性ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、１．９−ノナンジオールジア
クリレート、２−ヒドロキシ１．３−ジメタクリロキシ
プロパン、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、Ｐ
Ｏ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジ
アクリレート、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレ
ートなどがあげられる。これらの多官能（メタ）アクリ
ル酸エステルモノマーは、皮膚刺激性におけるかぶれな
どの理由からＰＩＩ値が２以下であることが好ましく、
この化合物の使用範囲は７５〜９５重量部で、より好ま
しくは８０〜９０重量部となる割合が適している。しか
しながら、この化合物の光重合性二重結合を３個以上有
したもの、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリア
クリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、エチレンオキサイド又
はプロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパント
リアクリレートについては、使用範囲が７０重量部を超
えた場合、そのコーティング剤から形成された塗膜は硬
化収縮ひずみが大きくなり基材との密着性が悪く、かつ
耐候性の低下をきたすため好ましくない。そこで、光重
合性二重結合を３個以上有しているこの化合物の他に、
前述したＰＩＩ値が２以下の二官能（メタ）アクリル酸
エステルモノマーを１種ないし２種以上をブレンドする
ことにより、その二官能（メタ）アクリル酸エステルモ
ノマー単独を使用するよりもさらに密着性、硬度に優れ
たコーティング剤が得られ、好ましい。これら多官能
（メタ）アクリル酸エステルモノマーの使用範囲は、光
重合性二重結合を３個以上有している化合物が２０〜７
０重量部好ましくは３０〜６０重量部、光重合性二重結
合を２個有している化合物が５〜７５重量部、好ましく
は２０〜５０重量部である。
以下の多官能（メタ）アクリル酸エステルモノマーとし
ては、例えば、アリル化シクロヘキシルジアクリレー
ト、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ＰＯ（プロピレンオキサイド）変性ビ
スフェノールＡジアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレート、アルキル変性ジペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールトリアクリレート、カプロラクトン変性
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１．６−
ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメ
チロールプロパンジアクリレート、ＥＯ変性ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ＰＯ変性ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、１．９−ノナンジオールジア
クリレート、２−ヒドロキシ１．３−ジメタクリロキシ
プロパン、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、Ｐ
Ｏ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジ
アクリレート、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレ
ートなどがあげられる。これらの多官能（メタ）アクリ
ル酸エステルモノマーは、皮膚刺激性におけるかぶれな
どの理由からＰＩＩ値が２以下であることが好ましく、
この化合物の使用範囲は７５〜９５重量部で、より好ま
しくは８０〜９０重量部となる割合が適している。しか
しながら、この化合物の光重合性二重結合を３個以上有
したもの、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリア
クリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトール
ペンタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、エチレンオキサイド又
はプロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパント
リアクリレートについては、使用範囲が７０重量部を超
えた場合、そのコーティング剤から形成された塗膜は硬
化収縮ひずみが大きくなり基材との密着性が悪く、かつ
耐候性の低下をきたすため好ましくない。そこで、光重
合性二重結合を３個以上有しているこの化合物の他に、
前述したＰＩＩ値が２以下の二官能（メタ）アクリル酸
エステルモノマーを１種ないし２種以上をブレンドする
ことにより、その二官能（メタ）アクリル酸エステルモ
ノマー単独を使用するよりもさらに密着性、硬度に優れ
たコーティング剤が得られ、好ましい。これら多官能
（メタ）アクリル酸エステルモノマーの使用範囲は、光
重合性二重結合を３個以上有している化合物が２０〜７
０重量部好ましくは３０〜６０重量部、光重合性二重結
合を２個有している化合物が５〜７５重量部、好ましく
は２０〜５０重量部である。
【００６１】本発明において使用されるエチレンオキサ
イド変性の三官能（メタ）アクリルエステルとしては例
えばトリメチロールプロパントリアクリレート（ＮＫエ
ステル Ａ−ＴＭＰＡ−３Ｅｏ、新中村化学）等があげ
られる。この使用範囲は、７０重量部を超えた場合その
コーティング剤から形成された塗膜は硬化収縮、ひずみ
が大きくなり、基材との密着性が悪くかつ耐候性の低下
をきたすため好ましくない。また、２０重量部以下の場
合、そのコーティング剤から形成された塗膜は、傷つき
やすく膜表面の硬度が低くなる。よってこのエチレンオ
キサイド変性の三官能（メタ）アクリル酸エステルの使
用範囲は２０〜７０重量％好ましくは３０〜６０重量部
である。
イド変性の三官能（メタ）アクリルエステルとしては例
えばトリメチロールプロパントリアクリレート（ＮＫエ
ステル Ａ−ＴＭＰＡ−３Ｅｏ、新中村化学）等があげ
られる。この使用範囲は、７０重量部を超えた場合その
コーティング剤から形成された塗膜は硬化収縮、ひずみ
が大きくなり、基材との密着性が悪くかつ耐候性の低下
をきたすため好ましくない。また、２０重量部以下の場
合、そのコーティング剤から形成された塗膜は、傷つき
やすく膜表面の硬度が低くなる。よってこのエチレンオ
キサイド変性の三官能（メタ）アクリル酸エステルの使
用範囲は２０〜７０重量％好ましくは３０〜６０重量部
である。
【００６２】本発明において使用されるエチレンオキサ
イド変性の二官能（メタ）アクリル酸エステルとして
は、例えばネオペンチルグリコールジアクリレート（フ
ォトマー４１６０，サンノプコ）、１．６−ヘキサンジ
オールジアクリレート（フォトマー４０１７，サンノプ
コ）等があげられる。この使用範囲は５〜７５重量部好
ましくは２０〜５０重量部である。
イド変性の二官能（メタ）アクリル酸エステルとして
は、例えばネオペンチルグリコールジアクリレート（フ
ォトマー４１６０，サンノプコ）、１．６−ヘキサンジ
オールジアクリレート（フォトマー４０１７，サンノプ
コ）等があげられる。この使用範囲は５〜７５重量部好
ましくは２０〜５０重量部である。
【００６３】本発明において使用されるＰＩＩ値が２以
下で２５℃における粘度が２０ｍＰａ．ｓ以下の希釈効
果の高い、かつ光ディスクの記録層保護膜としての性能
を維持できる（メタ）アクリル酸エステルとしては、例
えば１．４−ブタンジオールジメタクリレート，１．３
−ブチレングリコールジメタクリレート，ジエチレング
リコールジメタクリレート，エチレングリコールジメタ
クリレート，ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジア
クリレート，ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト，テトラエチレングリコールジメタクリレート，トリ
エチレングリコールジメタクリレート，トリプロピレン
グリコールジアクリレート，フェノキシジエチレングリ
コールアクリレート，フェノキシエチルアクリレート，
イソボニルアクリレート，モルホリンアクリレート，テ
トラヒドロフルフリルメタクリレート，ジシクロペンタ
ニルメタクリレート，ジシクロペンテニロキシエチルメ
タクリレート，ラウリル（メタ）アクリレートステアリ
ルメタクリレート，ポリプロピレングリコールメタクリ
レート，２−エチルヘキシルメタクリレート，２−エト
キシエチルメタクリレート等があげられる。
下で２５℃における粘度が２０ｍＰａ．ｓ以下の希釈効
果の高い、かつ光ディスクの記録層保護膜としての性能
を維持できる（メタ）アクリル酸エステルとしては、例
えば１．４−ブタンジオールジメタクリレート，１．３
−ブチレングリコールジメタクリレート，ジエチレング
リコールジメタクリレート，エチレングリコールジメタ
クリレート，ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジア
クリレート，ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト，テトラエチレングリコールジメタクリレート，トリ
エチレングリコールジメタクリレート，トリプロピレン
グリコールジアクリレート，フェノキシジエチレングリ
コールアクリレート，フェノキシエチルアクリレート，
イソボニルアクリレート，モルホリンアクリレート，テ
トラヒドロフルフリルメタクリレート，ジシクロペンタ
ニルメタクリレート，ジシクロペンテニロキシエチルメ
タクリレート，ラウリル（メタ）アクリレートステアリ
ルメタクリレート，ポリプロピレングリコールメタクリ
レート，２−エチルヘキシルメタクリレート，２−エト
キシエチルメタクリレート等があげられる。
【００６４】本発明で使用されるフェノキシエチルアク
リレート又はフェノキシジエチレングリコールアクリレ
ートは希釈能（低粘度）、低皮膚刺激性を有する成分
で、使用範囲が２５重量部を超えた場合、そのコーティ
ング剤から形成された塗膜は膜表面が硬化しにくく硬度
にも支障をきたす。また使用範囲が５重量部未満である
場合、希釈効果が小さくなる傾向にあるので好ましくな
い。よってこの希釈モノマーの使用範囲は５〜２５重量
部が好ましい。
リレート又はフェノキシジエチレングリコールアクリレ
ートは希釈能（低粘度）、低皮膚刺激性を有する成分
で、使用範囲が２５重量部を超えた場合、そのコーティ
ング剤から形成された塗膜は膜表面が硬化しにくく硬度
にも支障をきたす。また使用範囲が５重量部未満である
場合、希釈効果が小さくなる傾向にあるので好ましくな
い。よってこの希釈モノマーの使用範囲は５〜２５重量
部が好ましい。
【００６５】本発明で使用される光重合開始剤として
は、例えばアセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフ
ェノン系、チオキサンソン系、その他特殊グループのも
のがあげられ、このうちアセトフェノン系及びベンゾイ
ン系のものは単独で使用され、ベンゾフェノン系及びチ
オキサンソン系のものは光開始助剤との組み合わせで使
用される。この場合、光開始助剤としてはアミン類、ス
ルホン類、ホスフィン類等のものが使用可能である。
は、例えばアセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフ
ェノン系、チオキサンソン系、その他特殊グループのも
のがあげられ、このうちアセトフェノン系及びベンゾイ
ン系のものは単独で使用され、ベンゾフェノン系及びチ
オキサンソン系のものは光開始助剤との組み合わせで使
用される。この場合、光開始助剤としてはアミン類、ス
ルホン類、ホスフィン類等のものが使用可能である。
【００６６】光重合開始剤には、化学構造（分子結合エ
ネルギー）の差によりラジカル発生機構が２種類、即ち
分子結合開裂型（Ｐ１型）と分子間水素引抜き型（Ｐ２
型）がある。これらのうちＰ１型がアセトフェノン系、
ベンゾイン系で、Ｐ２型がベンゾフェノン系、チオキサ
ンソン系に該当する。
ネルギー）の差によりラジカル発生機構が２種類、即ち
分子結合開裂型（Ｐ１型）と分子間水素引抜き型（Ｐ２
型）がある。これらのうちＰ１型がアセトフェノン系、
ベンゾイン系で、Ｐ２型がベンゾフェノン系、チオキサ
ンソン系に該当する。
【００６７】具体的にアセトフェノン系の光重合開始剤
としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン（ＤＥＡ
Ｐ）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロ
パン−１−オン（ダロキュア １１７３）、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア １
８４）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノプロパン−１（イルガキュア ９
０７）等があげられる。
としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン（ＤＥＡ
Ｐ）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロ
パン−１−オン（ダロキュア １１７３）、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア １
８４）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノプロパン−１（イルガキュア ９
０７）等があげられる。
【００６８】一方、ベンゾイン系の光重合開始剤として
は例えば、ベンゾイン（セイクオールＺ）、ベンゾイン
メチルエーテル（ニッソキュアＭＢＯ）、ベンゾインエ
チルエーテル（セイクオールＢＥＥ）、ベンゾインイソ
プロピルエーテル（ＢＩＰ）、ベンゾインイソブチルエ
ーテル（セイクオールＢＢＩ）、ベンジルジメチルケタ
ール（イルガキュア６５１）等があげられる。
は例えば、ベンゾイン（セイクオールＺ）、ベンゾイン
メチルエーテル（ニッソキュアＭＢＯ）、ベンゾインエ
チルエーテル（セイクオールＢＥＥ）、ベンゾインイソ
プロピルエーテル（ＢＩＰ）、ベンゾインイソブチルエ
ーテル（セイクオールＢＢＩ）、ベンジルジメチルケタ
ール（イルガキュア６５１）等があげられる。
【００６９】また、ベンゾフェノン系の光重合開始剤と
しては、例えば、ベンゾフェノン（カヤキュアＢＰ）、
ベンゾイル安息香酸メチル（ユビソレーター２５０）、
４−フェニルベンゾフェノン（Ｔｒｉｇｏｎａｌ１
２）、ヒドロキシベンゾフェノン（ＵｖｅｃｒｙｌＰ−
３６）、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサル
ファイド（Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＢＭＳ）、３．３′
−ジメチル−４−メトキシブンゾフェノン（カヤキュア
ＭＢＰ）等があげられる。
しては、例えば、ベンゾフェノン（カヤキュアＢＰ）、
ベンゾイル安息香酸メチル（ユビソレーター２５０）、
４−フェニルベンゾフェノン（Ｔｒｉｇｏｎａｌ１
２）、ヒドロキシベンゾフェノン（ＵｖｅｃｒｙｌＰ−
３６）、４−ベンゾイル−４′−メチルジフェニルサル
ファイド（Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＢＭＳ）、３．３′
−ジメチル−４−メトキシブンゾフェノン（カヤキュア
ＭＢＰ）等があげられる。
【００７０】さらにチオキサンソン系の光重合開始剤と
しては、チオキサンソン（ニッソキュアＴＸ）、２−ク
ロルチオキサンソン（カヤキュア ＣＴＸ）、２−メチ
ルチオキサンソン（ニッソキュアＭＴＸ）、２，４−ジ
メチルチオキサンソン（カヤキュア ＲＴＸ）、イソプ
ロピルチオキサンソン（Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＩＴ
Ｘ）、２，４−ジクロロチオキサンソン（カヤキュア
ＣＴＸ）、２，４−ジエチルチオキサンソン（カヤキュ
ア ＤＥＴＸ）、２，４−ジイソプロピルチオキサンソ
ン（カヤキュア ＤＩＴＸ）等があげられる。
しては、チオキサンソン（ニッソキュアＴＸ）、２−ク
ロルチオキサンソン（カヤキュア ＣＴＸ）、２−メチ
ルチオキサンソン（ニッソキュアＭＴＸ）、２，４−ジ
メチルチオキサンソン（カヤキュア ＲＴＸ）、イソプ
ロピルチオキサンソン（Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＩＴ
Ｘ）、２，４−ジクロロチオキサンソン（カヤキュア
ＣＴＸ）、２，４−ジエチルチオキサンソン（カヤキュ
ア ＤＥＴＸ）、２，４−ジイソプロピルチオキサンソ
ン（カヤキュア ＤＩＴＸ）等があげられる。
【００７１】その他、特殊グループの光重合開始剤とし
ては、例えばα−アシロキシムエステル（Ｑｕａｎｔａ
ｃｕｒｅ ＰＤＯ）、アシルホスフィンオキサイド（ル
シリン ＴＰＯ）、メチルフェニルグリオキシレート
（バイキュア５５）、ベンジル（セイクオール Ｂ
Ｚ）、カンファーキノン（東京化成など）、ジベンゾス
ベロン（Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＤＢＳ）、２−エチル
アンスラキノン（ＢＡＳＦ）、３，３′、４，４′−テ
トラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン（ＢＴＴＢ）等があげられる。
ては、例えばα−アシロキシムエステル（Ｑｕａｎｔａ
ｃｕｒｅ ＰＤＯ）、アシルホスフィンオキサイド（ル
シリン ＴＰＯ）、メチルフェニルグリオキシレート
（バイキュア５５）、ベンジル（セイクオール Ｂ
Ｚ）、カンファーキノン（東京化成など）、ジベンゾス
ベロン（Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＤＢＳ）、２−エチル
アンスラキノン（ＢＡＳＦ）、３，３′、４，４′−テ
トラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン（ＢＴＴＢ）等があげられる。
【００７２】光重合開剤の使用範囲は本発明の組成物１
００重量部に対し、０．２〜２０重量部である。
００重量部に対し、０．２〜２０重量部である。
【００７３】さらに、ベンゾフェノン系、チオキサンソ
ン系の光開始助剤としては、例えばトリエタノールアミ
ン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノール
アミン、４，４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、
４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ベトキシ）
エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−
ジメチルアミノ安息香酸、２−エチルヘキシル等があげ
られる。これらの使用範囲は、光重合開始剤の０．１〜
１０重量部が好ましい。
ン系の光開始助剤としては、例えばトリエタノールアミ
ン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノール
アミン、４，４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、
４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ベトキシ）
エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−
ジメチルアミノ安息香酸、２−エチルヘキシル等があげ
られる。これらの使用範囲は、光重合開始剤の０．１〜
１０重量部が好ましい。
【００７４】尚、上記のＰ１型の光重合開始剤同士を併
用してもよく、また、Ｐ１型とＰ２型の光重合開始剤同
士を併用することも可能である。
用してもよく、また、Ｐ１型とＰ２型の光重合開始剤同
士を併用することも可能である。
【００７５】本発明の光ディスク用紫外線硬化型コーテ
ィング剤は、上記の成分物質だけで十分所期の目的を達
成できるものであるが、さらに性能改良のため、本来の
特性を変えない範囲で従来公知の下記成分、例えばレベ
リング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリ
ング剤、シリコンオイル、接着促進剤等の添加剤を適宜
含ませるようにしてもよい。
ィング剤は、上記の成分物質だけで十分所期の目的を達
成できるものであるが、さらに性能改良のため、本来の
特性を変えない範囲で従来公知の下記成分、例えばレベ
リング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリ
ング剤、シリコンオイル、接着促進剤等の添加剤を適宜
含ませるようにしてもよい。
【００７６】特に、腐蝕性に関して、深いかかわりのあ
る密着性をさらに改良するに至っては、接着促進剤、例
えばエチレンオキサイド変性コハク酸（メタ）アクリレ
ート、エチレンオキサイド変性フタル酸（メタ）アクリ
レート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリ
レートの他、カルボキシル基、リン酸基又は水酸基を有
する（メタ）アクリレート等を添加することにより密着
性を向上させることができる。これらの接着促進剤の使
用範囲は本発明の組成物１００重量物に対し、０．１〜
５重量部である。
る密着性をさらに改良するに至っては、接着促進剤、例
えばエチレンオキサイド変性コハク酸（メタ）アクリレ
ート、エチレンオキサイド変性フタル酸（メタ）アクリ
レート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリ
レートの他、カルボキシル基、リン酸基又は水酸基を有
する（メタ）アクリレート等を添加することにより密着
性を向上させることができる。これらの接着促進剤の使
用範囲は本発明の組成物１００重量物に対し、０．１〜
５重量部である。
【００７７】本発明の紫外線硬化型コーティング剤は、
前述した各成分を一般的な配合方法により配合して製造
される。本発明のコーティング剤より光ディスクを基材
に保護コーティング層を形成するには、配合したコーテ
ィング剤を０．２μｍメンブランフィルターにより濾過
した後、クリーンルーム内でスピンコーターを用い、塗
膜が５〜１０μｍとなるように塗布し、次いで紫外線を
照射して硬化させればよい。
前述した各成分を一般的な配合方法により配合して製造
される。本発明のコーティング剤より光ディスクを基材
に保護コーティング層を形成するには、配合したコーテ
ィング剤を０．２μｍメンブランフィルターにより濾過
した後、クリーンルーム内でスピンコーターを用い、塗
膜が５〜１０μｍとなるように塗布し、次いで紫外線を
照射して硬化させればよい。
【００７８】本発明に使用する紫外線の光発生源として
は高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ラン
プなどを使用することができる。なお、これらの方法に
おいて、光ディスク用材料の硬化は紫外線照射の代わり
に電子線照射によることもできる。
は高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ラン
プなどを使用することができる。なお、これらの方法に
おいて、光ディスク用材料の硬化は紫外線照射の代わり
に電子線照射によることもできる。
【００７９】このように、本発明のコーティング剤は、
皮膚刺激性が低く、低粘度で紫外線による硬化が速くさ
らに光ディスク用基材の保護膜として表面硬度、密着
性、耐腐蝕性に優れた硬化塗膜が形成される。
皮膚刺激性が低く、低粘度で紫外線による硬化が速くさ
らに光ディスク用基材の保護膜として表面硬度、密着
性、耐腐蝕性に優れた硬化塗膜が形成される。
【００８０】以上のことから、本例によれば、ＰＩＩ値
が２以下の多官能（メタ）アクリル酸エステル７５〜９
５重量部、フェノキシエチルアクリレート又はフェノキ
シジエチレングリコールアクリレート５〜２５重量部及
びこれらの合計１００重量部に対して０．２〜２０重量
部の光重合開始剤を含むことから、皮膚刺激性の低い、
低粘度なコーティング剤を得ることが可能となり、この
ことから製造装置のメンテナーの“かぶれ”がなくな
り、また製造においても塗布性が良く作業性が良いとい
う効果がある。その他紫外線による硬化が速く、密着
性、硬度に優れ、また耐環境試験において、金属薄膜層
の腐蝕に対しても極めて良好な保護膜となり、製品の信
頼性を向上させることができる。
が２以下の多官能（メタ）アクリル酸エステル７５〜９
５重量部、フェノキシエチルアクリレート又はフェノキ
シジエチレングリコールアクリレート５〜２５重量部及
びこれらの合計１００重量部に対して０．２〜２０重量
部の光重合開始剤を含むことから、皮膚刺激性の低い、
低粘度なコーティング剤を得ることが可能となり、この
ことから製造装置のメンテナーの“かぶれ”がなくな
り、また製造においても塗布性が良く作業性が良いとい
う効果がある。その他紫外線による硬化が速く、密着
性、硬度に優れ、また耐環境試験において、金属薄膜層
の腐蝕に対しても極めて良好な保護膜となり、製品の信
頼性を向上させることができる。
【００８１】次に、本発明紫外線硬化型塗料の他の実施
例について説明しよう。
例について説明しよう。
【００８２】なお、本実施例に用いた各組成物の略号
は、上述実施例で用いた略号の他、以下の通りである。 ＢＰ１００ ：ベンゾフェノン ＯＢＭ ：オルソベンゾイル安息香酸メチル ＤＡＡ−Ｐ ：パラ（Ｐ）ジメチルアミノアセト
フェノン
は、上述実施例で用いた略号の他、以下の通りである。 ＢＰ１００ ：ベンゾフェノン ＯＢＭ ：オルソベンゾイル安息香酸メチル ＤＡＡ−Ｐ ：パラ（Ｐ）ジメチルアミノアセト
フェノン
【００８３】実施例９〜実施例２１の組成物配合比は表
６に示す通りである。ここで、実施例９〜２１におい
て、多官能アクリレ−トとして３ＥＯ一ＴＭＰＴＡを５
０重量部、フォトマ−４１６０を３０重量部、希釈剤と
してＰＯ−Ａを２０重量部、密着性促進剤としてＰＭ−
２を０．１重量部は一定としこれをベースとした。すな
わち、実施例６と同じベースである。
６に示す通りである。ここで、実施例９〜２１におい
て、多官能アクリレ−トとして３ＥＯ一ＴＭＰＴＡを５
０重量部、フォトマ−４１６０を３０重量部、希釈剤と
してＰＯ−Ａを２０重量部、密着性促進剤としてＰＭ−
２を０．１重量部は一定としこれをベースとした。すな
わち、実施例６と同じベースである。
【００８４】実施例９
開始剤としてＯＢＭを１重量部、ＤＡＡ−Ｐを４重量部
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
【００８５】実施例１０
開始剤としてＯＢＭを２重量部、ＤＡＡ−Ｐを４重量部
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
【００８６】実施例１１
開始剤としてＯＢＭを４重量部、ＤＡＡ−Ｐを４重量部
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
【００８７】実施例１２
開始剤としてＯＢＭを４重量部、ＤＡＡ−Ｐを８重量部
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
【００８８】実施例１３
開始剤としてＯＢＭを５重量部、ＤＡＡ−Ｐを５重量部
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
【００８９】実施例１４
開始剤としてＯＢＭを６重量部、ＤＡＡ−Ｐを２重量部
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ
−ティング剤とした。
【００９０】実施例１５
開始剤としてＯＢＭを１０重量部、ＤＡＡ−Ｐを５重量
部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌し
コ−ティング剤とした。
部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌し
コ−ティング剤とした。
【００９１】実施例１６
開始剤としてＢＰ１００を２重量部、ＤＡＡ−Ｐを２重
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
【００９２】実施例１７
開始剤としてＢＰ１００を３重量部、ＤＡＡ−Ｐを６重
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
【００９３】実施例１８
開始剤としてＢＰ１００を４重量部、ＤＡＡ−Ｐを８重
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
【００９４】実施例１９
開始剤としてＢＰ１００を５重量部、ＤＡＡ−Ｐを１重
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
【００９５】実施例２０
開始剤としてＢＰ１００を５重量部、ＤＡＡ−Ｐを５重
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌
しコ−ティング剤とした。
【００９６】実施例２１
開始剤としてＢＰ１００を１０重量部、ＤＡＡ−Ｐを５
重量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹
拌しコ−ティング剤とした。
重量部をベースと撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹
拌しコ−ティング剤とした。
【００９７】これらの実施例の組成物の物性を以下のよ
うにして評価した。なお、以下に示した以外の物性の評
価については、上述した実施例と同様な方法により評価
した。
うにして評価した。なお、以下に示した以外の物性の評
価については、上述した実施例と同様な方法により評価
した。
【００９８】粘度測定
コーンプレート型粘度計を用いて、２５℃における粘度
を測定した。粘度計はハーケ社製のもので、センサシス
テムはＰＫ１００，測定システムはRotoviscoＲＶ２０
−Ｍ５，センサはＰＫ５，１゜を使用した。一方、サン
プルの体積は１． ０ｃｍ3 とし、ずり速度（Shear ra
te）は１０００ｓ-1とした。粘度の値が２５ｍＰａ・ｓ
〜３５ｍＰａ・ｓのときが生産性に影響のない範囲と
し、評価を○とした。それ以外の粘度の時、評価は×と
なる。
を測定した。粘度計はハーケ社製のもので、センサシス
テムはＰＫ１００，測定システムはRotoviscoＲＶ２０
−Ｍ５，センサはＰＫ５，１゜を使用した。一方、サン
プルの体積は１． ０ｃｍ3 とし、ずり速度（Shear ra
te）は１０００ｓ-1とした。粘度の値が２５ｍＰａ・ｓ
〜３５ｍＰａ・ｓのときが生産性に影響のない範囲と
し、評価を○とした。それ以外の粘度の時、評価は×と
なる。
【００９９】外観
まず、アルミニウムが蒸着された直径１２ｃｍ，厚み
１．２ｍｍのポリカーボネート基板に実施例及び比較例
の紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコーティングし、上
述条件の紫外線を照射して硬化させ、厚み７μｍ程度の
保護膜を形成し、目視により評価を行った。
１．２ｍｍのポリカーボネート基板に実施例及び比較例
の紫外線硬化型樹脂組成物をスピンコーティングし、上
述条件の紫外線を照射して硬化させ、厚み７μｍ程度の
保護膜を形成し、目視により評価を行った。
【０１００】
【表４】
【０１０１】臭気
アルミニウムが蒸着された直径１２ｃｍ、厚み１．２ｍ
ｍのポリカーボネート基板に上記のようにスピンコーテ
ィングし硬化させたサンプルを１００枚積み重ね用意
し、硬化直後と２４時間後に積み重なった１００枚のデ
ィスクから発せられる臭気の強さを評価した。
ｍのポリカーボネート基板に上記のようにスピンコーテ
ィングし硬化させたサンプルを１００枚積み重ね用意
し、硬化直後と２４時間後に積み重なった１００枚のデ
ィスクから発せられる臭気の強さを評価した。
【０１０２】
【表５】
【０１０３】実施例９〜実施例２１について、上述した
項目により評価した結果は表６に示す通りである。
項目により評価した結果は表６に示す通りである。
【０１０４】
【表６】
【０１０５】実施例９〜実施例２１の評価結果を見る
と、粘度は○、ＰＩＩ値はＡ、硬度はＨ、密着性（対Ａ
ｌ）はＡ、密着性（対ポリカーボネート）は１００／１
００、対腐食性はＡ、外観は○、また臭気は○と全ての
項目について満足すべきものであった。
と、粘度は○、ＰＩＩ値はＡ、硬度はＨ、密着性（対Ａ
ｌ）はＡ、密着性（対ポリカーボネート）は１００／１
００、対腐食性はＡ、外観は○、また臭気は○と全ての
項目について満足すべきものであった。
【０１０６】これに対して、多官能アクリレ−トとして
３ＥＯ一ＴＭＰＴＡを５０重量部、フォトマ−４１６０
を３０重量部、希釈剤としてＰＯ−Ａを２０重量部、密
着性促進剤としてＰＭ−２を０．１重量部をベースと
し、重合開始剤として１１７３を７重量部配合したも
の、すなわち実施例６においては臭気が認められ、評価
としてはＸであった。
３ＥＯ一ＴＭＰＴＡを５０重量部、フォトマ−４１６０
を３０重量部、希釈剤としてＰＯ−Ａを２０重量部、密
着性促進剤としてＰＭ−２を０．１重量部をベースと
し、重合開始剤として１１７３を７重量部配合したも
の、すなわち実施例６においては臭気が認められ、評価
としてはＸであった。
【０１０７】ここで、臭気が、実施例６においては×で
あったのに対して、実施例９〜実施例２１においては○
と改善されたのは、本実施例では重合開始剤としてベン
ゾフェノン：Ｐージメチルアミノアセトフェノンの混合
物、叉はオルソベンゾイル安息香酸メチル：Ｐージメチ
ルアミノアセトフェノンの混合物を用いたためと思われ
る。
あったのに対して、実施例９〜実施例２１においては○
と改善されたのは、本実施例では重合開始剤としてベン
ゾフェノン：Ｐージメチルアミノアセトフェノンの混合
物、叉はオルソベンゾイル安息香酸メチル：Ｐージメチ
ルアミノアセトフェノンの混合物を用いたためと思われ
る。
【０１０８】本発明において使用される重合開始剤とし
ては、硬化性、臭気、外観それに耐腐食性を同時に満足
するために、ベンゾフェノン：Ｐージメチルアミノアセ
トフェノンの混合物、叉はオルソベンゾイル安息香酸メ
チル：Ｐージメチルアミノアセトフェノンの混合物を用
いるのが好ましい。その成分の量としては、ベンゾフェ
ノン：Ｐージメチルアミノアセトフェノンの混合物の場
合、２成分合計で４重量部〜１５重量部、ベンゾフェノ
ンの量としては２重量部〜１０重量部、それにベンゾフ
ェノン：Ｐ−ジメチルアミノアセトフェノンの比が１
０：１〜１：２を同時に満足する場合、特性的に満足で
きるコーティング剤を得ることができる。
ては、硬化性、臭気、外観それに耐腐食性を同時に満足
するために、ベンゾフェノン：Ｐージメチルアミノアセ
トフェノンの混合物、叉はオルソベンゾイル安息香酸メ
チル：Ｐージメチルアミノアセトフェノンの混合物を用
いるのが好ましい。その成分の量としては、ベンゾフェ
ノン：Ｐージメチルアミノアセトフェノンの混合物の場
合、２成分合計で４重量部〜１５重量部、ベンゾフェノ
ンの量としては２重量部〜１０重量部、それにベンゾフ
ェノン：Ｐ−ジメチルアミノアセトフェノンの比が１
０：１〜１：２を同時に満足する場合、特性的に満足で
きるコーティング剤を得ることができる。
【０１０９】同様に、オルソベンゾイル安息香酸メチ
ル：Ｐージメチルアミノアセトフェノンの混合物の場
合、２成分合計で５重量部〜１５重量部、オルソベンゾ
イル安息香酸メチルの量としては１重量部〜１０重量
部、それにベンゾフェノン：Ｐ−ジメチルアミノアセト
フェノンの比が１０：１〜１：４を同時に満足する場
合、特性的に満足できるコーティング剤を得ることがで
きる
ル：Ｐージメチルアミノアセトフェノンの混合物の場
合、２成分合計で５重量部〜１５重量部、オルソベンゾ
イル安息香酸メチルの量としては１重量部〜１０重量
部、それにベンゾフェノン：Ｐ−ジメチルアミノアセト
フェノンの比が１０：１〜１：４を同時に満足する場
合、特性的に満足できるコーティング剤を得ることがで
きる
【０１１０】なお、本例で用いられた、他の組成物の最
適範囲などは上述実施例と同様である。
適範囲などは上述実施例と同様である。
【０１１１】以上のことから、本例によれば、ＥＯ変性
の３官能と２官能をブレンドした（メタ）アクリル酸エ
ステル７５〜９５重量部、フェノキシエチルアクリレー
ト叉はフェノキシジエチレングリコールアクリレート５
〜２５重量部及びこれらの合計１００重量部に対して、
ベンゾフェノン：Ｐージメチルアミノアセトフェノンを
組み合わせた光重合開始剤を４重量部〜１５重量部、ま
たは、オルソベンゾイル安息香酸メチル：Ｐージメチル
アミノアセトフェノンを組み合わせた光重合開始剤を５
重量部〜１５重量部を含むことから、皮膚刺激性の低
い、低粘度なコーティング剤を得ることが可能となり、
このことから製造装置のメンテナーの“かぶれ”がなく
なり、また製造においても塗布性が良く作業性が良いと
いう効果がある。その他紫外線による硬化が速く、密着
性、硬度に優れ、また耐環境試験において、金属薄膜層
の腐食に対しても極めて良好な保護膜となり、製品の信
頼性を向上させることができる。
の３官能と２官能をブレンドした（メタ）アクリル酸エ
ステル７５〜９５重量部、フェノキシエチルアクリレー
ト叉はフェノキシジエチレングリコールアクリレート５
〜２５重量部及びこれらの合計１００重量部に対して、
ベンゾフェノン：Ｐージメチルアミノアセトフェノンを
組み合わせた光重合開始剤を４重量部〜１５重量部、ま
たは、オルソベンゾイル安息香酸メチル：Ｐージメチル
アミノアセトフェノンを組み合わせた光重合開始剤を５
重量部〜１５重量部を含むことから、皮膚刺激性の低
い、低粘度なコーティング剤を得ることが可能となり、
このことから製造装置のメンテナーの“かぶれ”がなく
なり、また製造においても塗布性が良く作業性が良いと
いう効果がある。その他紫外線による硬化が速く、密着
性、硬度に優れ、また耐環境試験において、金属薄膜層
の腐食に対しても極めて良好な保護膜となり、製品の信
頼性を向上させることができる。
【０１１２】また、硬化後のディスクから発せられる臭
気が極めて少ないため、大量のディスクを製造した際に
も、異臭により作業環境を悪化させることが無い。
気が極めて少ないため、大量のディスクを製造した際に
も、異臭により作業環境を悪化させることが無い。
【０１１３】次に、本発明紫外線硬化型塗料の他の実施
例について説明しよう。
例について説明しよう。
【０１１４】なお、本実施例及び比較例に用いた各組成
物の略号は、上述実施例で用いた略号の他、以下の通り
である。 ＳＭ１１ ：ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサ
ン（松本油脂） ＳＡ２００ ：ジメチルシロキサンジアクリレー
ト（新中村化学） Ｎｅｗｃａｌ １６０７：ポリオキシエチレンアルキル
エーテル（日本乳化剤）
物の略号は、上述実施例で用いた略号の他、以下の通り
である。 ＳＭ１１ ：ＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシロキサ
ン（松本油脂） ＳＡ２００ ：ジメチルシロキサンジアクリレー
ト（新中村化学） Ｎｅｗｃａｌ １６０７：ポリオキシエチレンアルキル
エーテル（日本乳化剤）
【０１１５】実施例２２〜実施例２５、及び比較例６〜
比較例７の組成物配合比は表７に示す通りである。
比較例７の組成物配合比は表７に示す通りである。
【０１１６】実施例２２〜２５、及び比較例６〜７にお
いて、多官能アクリレ−トとして３ＥＯ一ＴＭＰＴＡを
５０重量部、フォトマ−４１６０を３０重量部、希釈剤
としてＰＯ−Ａを２０重量部、密着性促進剤としてＰＭ
−２を０．１重量部は一定としこれをベースとした。す
なわち、実施例６と同じベースである。
いて、多官能アクリレ−トとして３ＥＯ一ＴＭＰＴＡを
５０重量部、フォトマ−４１６０を３０重量部、希釈剤
としてＰＯ−Ａを２０重量部、密着性促進剤としてＰＭ
−２を０．１重量部は一定としこれをベースとした。す
なわち、実施例６と同じベースである。
【０１１７】実施例２２
開始剤としてＯＢＭを５重量部、ＤＡＡ−Ｐを３重量
部、表面張力調整剤としてＳＡ２００を０．５重量部、
これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解
撹拌しコ−ティング剤とした。
部、表面張力調整剤としてＳＡ２００を０．５重量部、
これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解
撹拌しコ−ティング剤とした。
【０１１８】実施例２３
開始剤としてＯＢＭを５重量部、ＤＡＡ−Ｐを５重量
部、表面張力調整剤としてＳＡ２００を１．０重量部、
これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解
撹拌しコ−ティング剤とした。
部、表面張力調整剤としてＳＡ２００を１．０重量部、
これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解
撹拌しコ−ティング剤とした。
【０１１９】実施例２４
開始剤としてＢＰ１００を５重量部、ＤＡＡ−Ｐを３重
量部、表面張力調整剤としてＳＡ２００を０．０１重量
部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に
溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
量部、表面張力調整剤としてＳＡ２００を０．０１重量
部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に
溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
【０１２０】実施例２５
開始剤としてＢＰ１００を６重量部、ＤＡＡ−Ｐを６重
量部、表面張力調整剤としてＳＡ２００を０．１重量
部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に
溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
量部、表面張力調整剤としてＳＡ２００を０．１重量
部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解装置で均一に
溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
【０１２１】比較例６
開始剤としてＢＰ１００を５重量部、ＤＡＡ−Ｐを５重
量部、表面張力調整剤としてＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシ
ロキサン ＳＭ１１を０．１重量部、これをベースと共
に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ−ティン
グ剤とした。
量部、表面張力調整剤としてＥＯ／ＰＯ変性ジメチルシ
ロキサン ＳＭ１１を０．１重量部、これをベースと共
に撹拌機付きの溶解装置で均一に溶解撹拌しコ−ティン
グ剤とした。
【０１２２】比較例７
開始剤としてＢＰ１００を５重量部、ＤＡＡ−Ｐを５重
量部、表面張力調整剤として炭化水素系界面活性剤ポリ
オキシエチレンアルキルエーテルＮｅｗｃａｌ１６０７
を０．１重量部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解
装置で均一に溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
量部、表面張力調整剤として炭化水素系界面活性剤ポリ
オキシエチレンアルキルエーテルＮｅｗｃａｌ１６０７
を０．１重量部、これをベースと共に撹拌機付きの溶解
装置で均一に溶解撹拌しコ−ティング剤とした。
【０１２３】これらの実施例及び比較例の組成物の物性
を以下のようにして評価した。なお、以下に示した以外
の物性の評価については、上述した実施例と同様な方法
により評価した。
を以下のようにして評価した。なお、以下に示した以外
の物性の評価については、上述した実施例と同様な方法
により評価した。
【０１２４】粘度測定
コーンプレート型粘度計を用いて、２５℃における粘度
を測定した。粘度計はハーケ社製のもので、センサシス
テムはＰＫ１００，測定システムはRotoviscoＲＶ２０
−Ｍ５，センサはＰＫ５，１゜を使用した。一方、サン
プルの体積は１． ０ｃｍ3 とし、ずり速度（Shear ra
te）は１０００ｓ-1とした。粘度の値が２４ｍＰａ・ｓ
〜３５ｍＰａ・ｓのときが生産性に影響のない範囲と
し、評価を○とした。それ以外の粘度の時、評価は×と
なる。
を測定した。粘度計はハーケ社製のもので、センサシス
テムはＰＫ１００，測定システムはRotoviscoＲＶ２０
−Ｍ５，センサはＰＫ５，１゜を使用した。一方、サン
プルの体積は１． ０ｃｍ3 とし、ずり速度（Shear ra
te）は１０００ｓ-1とした。粘度の値が２４ｍＰａ・ｓ
〜３５ｍＰａ・ｓのときが生産性に影響のない範囲と
し、評価を○とした。それ以外の粘度の時、評価は×と
なる。
【０１２５】鉛筆硬度
コイルバー＃１２を用いて、各サンプルをガラス板上に
塗布し、上述条件の紫外線を照射して硬化膜を得た。鉛
筆は三菱ユニを用い、ＪＩＳ Ｋ５４００に基づいて表
面の硬度を測定した。実用硬度としては、基板であるポ
リカーボネートのＢ叉はＨＢより硬いＦ以上であること
が好ましいので、Ｆ以上の硬さのものを「○」、ポリカ
ーボネートと同等以下の硬度のものを「×」とした。
塗布し、上述条件の紫外線を照射して硬化膜を得た。鉛
筆は三菱ユニを用い、ＪＩＳ Ｋ５４００に基づいて表
面の硬度を測定した。実用硬度としては、基板であるポ
リカーボネートのＢ叉はＨＢより硬いＦ以上であること
が好ましいので、Ｆ以上の硬さのものを「○」、ポリカ
ーボネートと同等以下の硬度のものを「×」とした。
【０１２６】消泡性
消泡性は、１００ｃｃの透明ガラス瓶に樹脂組成物を３
０ｇ入れ、ペイントシェーカー（Ｒｅｄ Ｄｅｖｉｌ社
製モデルＮｏｓ．５４００）にて５分間シェイキングを
行った後に静置し、泡の消えるまでの時間を測定した。
１０分以内に完全に消泡した場合「○」、２０分以上消
えない場合「×」、それ以外を「△」とした。
０ｇ入れ、ペイントシェーカー（Ｒｅｄ Ｄｅｖｉｌ社
製モデルＮｏｓ．５４００）にて５分間シェイキングを
行った後に静置し、泡の消えるまでの時間を測定した。
１０分以内に完全に消泡した場合「○」、２０分以上消
えない場合「×」、それ以外を「△」とした。
【０１２７】表面張力
表面張力は、自動表面張力計（協和界面科学社製、ＣＢ
ＶＰ−Ａ３型）を用いて、２５℃の値を求めた。表面張
力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であれば、蒸着アルミ面、
スパッタアルミ面に対して安定した濡れ性を示すので、
この場合を「○」、３０ｄｙｎｅ／ｃｍより大きな値を
示すとき、濡れ性が悪くなる傾向にある。この場合を
「×」とした。ちなみに、界面活性剤を添加しない樹脂
組成物の表面張力は３５〜４５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲の
値を示し、この場合、光ディスクの記録膜上のアルミニ
ウムの状態によっては、例えば、蒸着されてから樹脂が
コーティングされるまでの間にアルミニウムが酸化する
ことにより、アルミ表面の表面張力が低下し、樹脂組成
物の表面張力に近くなることで、濡れ性が悪くなり、最
悪の場合、完全にはじいてしまう。
ＶＰ−Ａ３型）を用いて、２５℃の値を求めた。表面張
力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であれば、蒸着アルミ面、
スパッタアルミ面に対して安定した濡れ性を示すので、
この場合を「○」、３０ｄｙｎｅ／ｃｍより大きな値を
示すとき、濡れ性が悪くなる傾向にある。この場合を
「×」とした。ちなみに、界面活性剤を添加しない樹脂
組成物の表面張力は３５〜４５ｄｙｎｅ／ｃｍの範囲の
値を示し、この場合、光ディスクの記録膜上のアルミニ
ウムの状態によっては、例えば、蒸着されてから樹脂が
コーティングされるまでの間にアルミニウムが酸化する
ことにより、アルミ表面の表面張力が低下し、樹脂組成
物の表面張力に近くなることで、濡れ性が悪くなり、最
悪の場合、完全にはじいてしまう。
【０１２８】実施例２２〜実施例２５、及び比較例６〜
比較例７について、上述した項目により評価した結果は
表７に示す通りである。
比較例７について、上述した項目により評価した結果は
表７に示す通りである。
【０１２９】
【表７】
【０１３０】実施例２２〜実施例２５の評価結果を見る
と、粘度は○、ＰＩＩ値はＡ、硬度は○、密着性（対Ａ
ｌ）はＡ、密着性（対ポリカーボネート）は１００／１
００、対腐食性はＡ、消泡性は○、表面張力は○と全て
の項目について満足すべきものであった。
と、粘度は○、ＰＩＩ値はＡ、硬度は○、密着性（対Ａ
ｌ）はＡ、密着性（対ポリカーボネート）は１００／１
００、対腐食性はＡ、消泡性は○、表面張力は○と全て
の項目について満足すべきものであった。
【０１３１】これに対して比較例６〜比較例７の評価結
果を見ると、粘度は○、ＰＩＩ値はＡ、硬度は○、密着
は、対アルミ、対ポリカーボネートともに問題無し、耐
腐食性はＡと以上の項目について満足すべきものであっ
たが、消泡性、表面張力の何れか一方において満足でき
ないものであった。
果を見ると、粘度は○、ＰＩＩ値はＡ、硬度は○、密着
は、対アルミ、対ポリカーボネートともに問題無し、耐
腐食性はＡと以上の項目について満足すべきものであっ
たが、消泡性、表面張力の何れか一方において満足でき
ないものであった。
【０１３２】ここで、消泡性及び表面張力が同時に満足
できる結果となったのは、表面張力調整剤として、ジメ
チルシロキサンジメタクリル酸エステルであるＳＡ２０
０（新中村化学）を用いた為と思われる。
できる結果となったのは、表面張力調整剤として、ジメ
チルシロキサンジメタクリル酸エステルであるＳＡ２０
０（新中村化学）を用いた為と思われる。
【０１３３】本発明において使用される表面張力調整剤
としては、消泡性と表面張力低下を同時に満足するため
に、ジメチルシロキサンジメタクリル酸エステル叉はア
クリル酸エステルを用いるのが好ましい。その成分の量
としては、０．０１重量部〜１．０重量部とする時、特
性的に満足できるコーティング剤を得ることができる。
としては、消泡性と表面張力低下を同時に満足するため
に、ジメチルシロキサンジメタクリル酸エステル叉はア
クリル酸エステルを用いるのが好ましい。その成分の量
としては、０．０１重量部〜１．０重量部とする時、特
性的に満足できるコーティング剤を得ることができる。
【０１３４】なお、本例で用いられた、他の組成物の最
適範囲などは上述実施例と同様である。
適範囲などは上述実施例と同様である。
【０１３５】このように、本発明のコーティング剤は、
皮膚刺激性が低く泡の発生がすくない、低粘度で紫外線
による硬化が速くさらに光ディスク用基材の保護膜とし
て表面硬度、密着性、耐腐食性に優れ、且つ硬化後に強
い臭気を発しない硬化塗膜が形成される。
皮膚刺激性が低く泡の発生がすくない、低粘度で紫外線
による硬化が速くさらに光ディスク用基材の保護膜とし
て表面硬度、密着性、耐腐食性に優れ、且つ硬化後に強
い臭気を発しない硬化塗膜が形成される。
【０１３６】なお、本発明は上述の実施例に限らず本発
明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採り得
ることはもちろんである。
明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採り得
ることはもちろんである。
【０１３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
皮膚刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得ることができ
る。すなわち、製造装置のメンテナーのかぶれをなくす
ることができる。また、製造においても、塗布性が良く
なり、作業性が良いという効果がある。また、紫外線に
よる硬化が速く、密着性、硬度に優れ、さらに、金属薄
膜層の腐食に対しても極めて良好な保護膜となる。ま
た、硬化後に臭気を発することがなく、作業環境を悪化
させることが無い。また、皮膚刺激性が低く泡の発生が
少ない、低粘度なコーティング剤を得ることができる。
皮膚刺激性の低い紫外線硬化型塗料を得ることができ
る。すなわち、製造装置のメンテナーのかぶれをなくす
ることができる。また、製造においても、塗布性が良く
なり、作業性が良いという効果がある。また、紫外線に
よる硬化が速く、密着性、硬度に優れ、さらに、金属薄
膜層の腐食に対しても極めて良好な保護膜となる。ま
た、硬化後に臭気を発することがなく、作業環境を悪化
させることが無い。また、皮膚刺激性が低く泡の発生が
少ない、低粘度なコーティング剤を得ることができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平４−108813（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−98188（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−149280（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−6562（ＪＰ，Ａ)
特開 昭58−154765（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C09D 4/02
Claims (8)
- 【請求項１】 エチレンオキサイド変性トリメチロール
プロパントリアクリル酸エステルが３０〜６０重量部
と、 エチレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジアク
リレートが２０〜５０重量部と、 ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び／または
アクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部、 そして、エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレー
ト、及び、光重合開始剤からなることを特徴とする紫外
線硬化型塗料。 - 【請求項２】 エチレンオキサイド変性トリメチロール
プロパントリアクリル酸エステルが３０〜６０重量部
と、 ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリ
レート及び／またはエチレンオキサイド変性ネオペンチ
ルグリコールジアクリレートが合計で２０〜５０重量部
と、 フェノキシエチルアクリレート及び／またはフェノキシ
ジエチレングリコールアクリレートが合計で５〜２５重
量部、 そして、エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレー
ト、及び、光重合開始剤からなることを特徴とする紫外
線硬化型塗料。 - 【請求項３】 光重合開始剤は、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オンであることを
特徴とする請求項１または２記載の紫外線硬化型塗料。 - 【請求項４】 ＰＩＩ値が２以下の三官能以上のメタク
リル酸エステル及び／またはアクリル酸エステルが合計
で３０〜６０重量部と、 ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重量部
と、 ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び／または
アクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部と、 官能基含有ジメタクリレート及び／または官能基含有ジ
アクリレートと、 二官能のジメチルシロキサンが０．０１〜１．０重量部
と、 光重合開始剤が５〜１５重量部とからなることを特徴と
する紫外線硬化型塗料。 - 【請求項５】 ＰＩＩ値が２以下の三官能以上のメタク
リル酸エステル及び／またはアクリル酸エステルが合計
で３０〜６０重量部と、 ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重量部
と、 ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び／または
アクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部、 そして、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能
基含有ジアクリレート、及び、光重合開始剤からなり、 上記光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノ
ンとオルソベンゾイル安息香酸メチルとの混合物であ
り、それぞれの重量％比が２５：７５〜８０：２０の範
囲にあることを特徴とする紫外線硬化型塗料。 - 【請求項６】 ＰＩＩ値が２以下の三官能以上のメタク
リル酸エステル及び／またはアクリル酸エステルが合計
で３０〜６０重量部と、 ＰＩＩ値が２以下の二官能のメタクリル酸エステル及び
／またはアクリル酸エステルが合計で２０〜５０重量部
と、 ＰＩＩ値が２以下のメタクリル酸エステル及び／または
アクリル酸エステルが合計で５〜２５重量部、 そして、官能基含有ジメタクリレート及び／または官能
基含有ジアクリレート、及び、光重合開始剤からなり、 上記光重合開始剤が、パラジメチルアミノアセトフェノ
ンとベンゾフェノンとの混合物であり、それぞれの重量
％比が１７：８３〜６７：３３の範囲にあることを特徴
とする紫外線硬化型塗料。 - 【請求項７】 二官能のジメチルシロキサンは、ジメチ
ルシロキサンジアクリレートであることを特徴とする請
求項４記載の紫外線硬化型塗料。 - 【請求項８】 透明性基板上に金属箔膜層を形成し、こ
の金属箔膜層上に保護膜を形成する光ディスクにおい
て、 上記保護膜は、請求項１〜７から選ばれるいずれか１つ
の請求項に記載の紫外線硬化型塗料から作製されること
を特徴とする光ディスク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14498794A JP3381099B2 (ja) | 1993-06-29 | 1994-06-27 | 紫外線硬化型塗料及び光ディスク |
| US08/645,156 US5663211A (en) | 1994-06-27 | 1996-05-13 | Ultraviolet curing resin having low primary irritation index for optical disk |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15917393 | 1993-06-29 | ||
| JP5-159173 | 1993-06-29 | ||
| JP14498794A JP3381099B2 (ja) | 1993-06-29 | 1994-06-27 | 紫外線硬化型塗料及び光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0770472A JPH0770472A (ja) | 1995-03-14 |
| JP3381099B2 true JP3381099B2 (ja) | 2003-02-24 |
Family
ID=26476258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14498794A Expired - Lifetime JP3381099B2 (ja) | 1993-06-29 | 1994-06-27 | 紫外線硬化型塗料及び光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3381099B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0919058A1 (en) * | 1997-06-19 | 1999-06-02 | Borden Chemical, Inc. | Coated optical disks |
| DE19747890A1 (de) * | 1997-10-30 | 1999-05-06 | Henkel Kgaa | Verwendung von (Meth)acrylsäureestern von Dimerdiolalkoxylaten als Bausteine für strahlenhärtbare Beschichtungen |
| JP2000353340A (ja) | 1999-06-10 | 2000-12-19 | Sony Chem Corp | 光記録媒体 |
| JP3491575B2 (ja) * | 1999-09-24 | 2004-01-26 | ソニーケミカル株式会社 | 光記録媒体 |
| EP1820819A1 (de) * | 2006-02-20 | 2007-08-22 | Sika Technology AG | (Meth)Acrylatzusammensetzung mit erhöhter Lagerstabilität |
| JP6171767B2 (ja) * | 2013-09-13 | 2017-08-02 | 三菱ケミカル株式会社 | 硬化性樹脂組成物、硬化物及び積層体 |
-
1994
- 1994-06-27 JP JP14498794A patent/JP3381099B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0770472A (ja) | 1995-03-14 |
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