JPH0354214A - 樹脂組成物及び光ディスク用材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用．分野） 本発明は、光信号を高速、高密度に記録再生す゛る光デ
ィスク記録媒体用の帯電防止能を有する保護コート剤や
、光ディスクの傷つき防止用ハードコート剤として有用
な紫外線等により硬化し、記録媒体に対する接着性、耐
湿性の良好々硬度の優れた、光ディスク表面にゴミの付
着しにくい紫外線硬化型樹脂組成物に関する。

（従来の技術） 現在、民生用のコンパクトディスク記録媒体用保護コー
ト剤としては紫外線硬化型オーバコート剤が使用されて
いる。一方、現在、書き込み、消去の可能な光ディスク
の開発が行われており、光ディスク用保護コート剤や傷
つき防土用ハードコート剤等の開発も進められている。

（発明が解決しようとする課題） 光ディスク用の記録媒体は、水分やヒートショックに弱
く、保護コート剤に対する特性とし５て、耐湿性、耐ヒ
ートショック性、高い硬度、ゴミが付着しにくい等の優
れた品質が要求されている。

従来使用されているコンパクトディスク用保護コート剤
は、光ディスクの保護コート剤やハードコート剤として
使用するには、耐湿性が不十分であり、又ゴミの付着の
問題もあり、使用できない。又、従来、紫外線硬化型樹
脂組成物としては、多くの組成物が知られているが、帯
電防止能を有した組成物は、今日まで十分に満足するも
のは見い出されていないのが実状である。

（課題を解決するための手段） 上記の問題を解決するため、本発明者らは、鋭意研究の
結果、紫外線により硬化が速く、帯電防止能を有し、ゴ
ミの付着が少なく接着性、耐湿性、硬度の優れた光ディ
スク用材料を提供することに或功した。すなわち、本発
明は、１）有機ホウ素化合物と不飽和基含有化合物及び
任意成分として光重合開始剤を含んでなる樹脂組成物。

２）有機ホウ素化合物と不飽和基含有化合物及び任意成
分として光重合開始剤を含んでなる光ディスク用材科に
関する。

本発明に於いて使用される有機ホウ素化合物は具体的に
は、例えば特開昭６３−３７１３０に記載された方法に
よって合戊することができる一般式（１） 〔式中、ｑは０または１で、ｑ＝１のとき、Ａはー（Ｘ
ｉｔ−（Ｍｌｍ−４Ｚｌ，　−　｛但し、ＸおよびＺは
１組の末端エーテル残基をもつ炭素数合計１００以下の
含酸素炭化水素基、Ｙは 素数２〜１３の炭化水素基）であり、／’ｌ　ｍＩｎは
Ｏまたは１である｝であり、ｐは１０〜１０００である
〕 にて表される化合物などを挙げることができる。

この有機ホウ素化合物は市場より入手でき、例えば、（
掬ボロンイ／ターナショナル製、ノ・イボロ７ＣＴＮ−
１２００，ハイボロンＣＴＰ−２　０　０　，ハイボロ
／ＬＢ−１２０．　　ハイホロンＳＣ，　　ノ為イボロ
ノＣＴＮ−１３１等である。本発明で使用する不飽和基
含有化合物としては、例えば（メタ）アクリロイル基を
有する化合物が挙げられ、耐湿性を良くするために、な
るべく親水性の少ないものが良く、大きくわけると、低
分子単量体と高分子不飽和基含有樹脂にわかれる。

低分子単量体としては、具体的には、トリシクロデカン
（メタ）アクリレート（日立化或■製、ＦＡ−５１３Ａ
，ＦＡ−５１３Ｍ），　　ジシクロペンタジエンオキシ
エチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）ア
クリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイル
オキシエトキシフエニル）フロパン，２２−ビス（４−
（メタ）アクリロイルオキシエトキシフェニル）メタ／
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネ
オベンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロ
キシビバリン酸ネオベンチルグリコールジ（メタ）アク
リレート、テトラヒド口フルフリル（メタ）アクリレー
ト、トリシクロデカ／ジメテロールジ（メタ）アクリレ
ート、ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート（
日本化薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｒ＝６０４）ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリプロボキシトリ（メタ）アクリレートジペ
ンタエリスリトールヘキサ及びぺ／夕（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールのε一カブロラクトン付
加物のポリ（メタ）アクリレート（日本化薬■製、ＫＡ
ＹＡＲＡＤ　　ＤＰＣＡ−２０．３０，６０，１２０）
，ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレー
ト等の（メタ）アクリレートモノマー類を挙げることが
できる。

高分子不飽基含有樹脂としては、具体的には、例えば、
ビスフェノール型エボキシ樹脂（例えば、シェル石油化
学社製、エピコート８２８．１００１．１００４等のビ
スフェノールＡ型エボキシ樹脂）あるいは、ノボラック
型エボキシ樹脂（例えば、シェル石油化学社製、エビコ
ート１５２．１５４）等のエボキシ樹脂と（メタ）アク
リル酸との反応によって得られるエボキシ（メタ）アク
リレート、多価アルコール例えば、ネオベンチルグリコ
ール、エチレンク＋）　コ−　ル、プロビレングリコー
ル、１６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン
、ペンタエリスリトール、トリシクロデカノジメチロー
ル、ビス−（ヒドロキシメチル）一シクロヘキサン等と
多塩基酸勿１えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒド口
無水フタル酸、テレフタル酸、アジビ／酸、アゼライン
酸、テトラヒド口無水フタル酸等との反応によって得ら
れるポリエステルボリオールと（メタ）アクリル酸との
反応によって得られるポリエステル（メタ）アクリレー
トあるいは、ボリオール例えば、ボリエチレ７グリコー
ル、ポリブロビレングリコール、ポリテトラメチレ／グ
リコール等のポリエーテルポリオール、前記多価アルコ
ールと前記多塩基酸との反応によって得られるポリエス
テルボリオール、前記多価アルコールと前記多塩基酸と
ε一力プロラクトンとの反応によって得られるカブロラ
クトンポリオール、及びポリカーボネートボリオール例
えば、１，６−ヘキサ／ジオールとジフェニルカーボネ
ートとの反応によって得られるボリカーボネートボリオ
ール等と有機ポリイソシアネート、例えば、インホロン
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
トリレンジイソシアネート、キシリレ／ジインシアネー
ト、ジフェニルメタン−４４′−ジインシアネート等と
ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物との反応によっ
て得られるウレタン（メタ）アクリレート等を挙げるこ
とができる。ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物の
例としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
ヒドロキシグロピル（メタ）アクリレート、ε一カグロ
ラクト／一β−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
付加物（ダイセル化学工業■製、ブラクセルＦＡ−１，
ＦＭ−１．ＦＡ．−２等）等である。これら、不飽相基
含有化合物のうち特に好ましいものとしては、トリシク
ロデカンアクリレート、インボルニルアクリレート、テ
トラヒド口フルフリルアクリレート、トリメチロールプ
ロバ／トリアクリレート、ジオキサングリコールジアク
リレート、ヒドロキシビバリ／酸ネオベンチルグリコー
ルジアクリレート、トリシクロデカ／ジメチロールジア
クリレート、ベンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチ
口−ルプ口パ／テトラアクリレート、ジベンタエリスリ
トールヘキサ及びペンタアクリレート、ポリエーテルジ
オールのウレタンアクリレート及びビスフェノールＡ型
エボキシ樹脂のエボキンアクリレート等が挙げられる。

これら不飽和基含有樹脂化合物は、１種又は、２種以上
使用することができる。光重合開始剤としては、公知の
どのような光重合開始削でも使用することができるが配
合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。この様な光重
合開始剤としては、ベンゾインエチルエーテル、ペンゾ
インブチルエーテル々どのペンゾインアルキルエーテル
系、２，２−ジエトキシアセトフエノン、４１−フェノ
キシ−２２−ジクロロアセトフエノンなどのアセトフエ
ノン系、２−ヒドロキシ−２−メチルグロビオフェノ／
、４′−イソプロビル−２−ヒドロキシ−２−メチルブ
ロビオフェノ７などのプロビオフエノン系、１−ヒドロ
キシシク口へキシルフエニルケト／、ペンジルジメチル
ケトン及び２−エチルアントラキノン、２−クロロアン
トラキノンなどのア／トラキノ／系、２ークロロチオキ
サントン、２４−ジエチルチオキサ７トン々どのチオキ
サント／系光重合開始削ｆ．どがあげられる。特に好ま
しいものとしては、１−ヒドロキシシク口へキシルフェ
ニルケト７等があげられる。これら光重合開始剤は、ｌ
種または、２種以上を任意の割合で混合して使用する事
が出来る。本発明に使用される有機ホウ素化合物（４）
の量は樹脂組成物あるいは光ディスク用材科（以後組成
物と省略する）の好ましくは０．５〜２５重量多、特に
好ましくは１〜１５重量係である。不飽和基含有化合物
（Ｂ）の量は組戊物の好ましくは、８５〜９９．５重量
優、特に好ましくは、９０〜９９重量多である。光重合
開始剤（←つの量は組成物の好ましくは、Ｏ〜１０重量
褒、特に好ましくは、１〜５重量多である。

本発明の組成物は、（ＡＪ、（坊及び（Ｃ）（任意成分
）の成分物質だけで十分所期の目的を達或するものであ
るが、さらに性能改良のため、本来の特性を変えない範
囲で、シランカノプリング剤、重合禁止剤、レベリング
剤等の材料を添加するこどもできる。

シランカンプリング剤としては、ｒ−アクリロキシブ口
ビルトリメトキシシラン、ｒ−メルカブトグロビルトリ
メトキシシラ／、ｒ−（２一アミノエチル）アミノプロ
ピルトリメトキシシラ７等が挙げられる。重合禁止剤と
しては、メトキノ７、メチルハイドロキノ／、ペンゾキ
ノ／等が挙げられる。又、レベリング剤としては、モダ
クロー（モンサント社製）、フルオラド（３Ｍ社製）等
が挙げられる。７ランカノプリング剤、重合禁止剤、レ
ベリング剤の使用量としでは、それぞれ組成物のＯ〜３
重量φの範囲が好ましい。又、塗布性の改良のため溶剤
類を任意量使用することもできる。本発明の組戊物の紫
外線照射による硬化は、常法により行うことができる。

例えば、低圧又は、高圧水銀灯、キセノ／灯等を用いて
紫外線を照射すればよい。

本発明の組成物は、特に光ディスク用保護コティ／グ剤
及び光ディスク用ハードコート剤として有用であるが、
その他にも、金属、プラスチック、ゴム、紙、木材及び
セラミック用塗料等にも使用できる。本発明の光ディス
ク用材科は、特に光ディスクの記録膜の保護剤として、
又、光ディスクの傷つき防止剤として有用である。本発
明の光ディスク用材科を用いた光ディスクの記録膜の保
護膜の形成は、光ディスクの記録膜の上に光ディスク用
材科を例えば、スピンコート法等により塗布し、紫外線
を照射して硬化することによって保護膜を形成させる。

光ディスクの記録膜の上に光ディスク用材科を塗布する
場合、その厚さは、通常１〜５０μ程度とするのが好ま
しい。なお、これらの方法において、尤ディスク用材科
の硬化は、紫外線照射の代りに電子線照射によることも
できる。

（実株例） ｕ下、本発明を実施例により具体的に説明する。なあ、
実施ψり中の部は、重量部である。

実施例１． トリシクロデカンアクリレート（日立化或■製ＦＡ−５
１３Ａ）３０部、トリシクロデカンジメチロールジアク
リレート（日本化薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　　Ｒ−６８
４）５５部、ウレタンアクリレート（日本合或化学■製
、ＸＰ−７０００Ｂ）１０部、イルガキュア−ｌ８４（
チバ・ガイギー■製、尤重合開始剤）５部、及びハイボ
ロ／ＬＢ−１２０（■ボロンインターナショナル製、有
機ホウ素化合物）１０部を混合し、紫外線硬化型樹指組
成物（光ディスク用材料）を調製した。

ボリカーボネート基板に記録膜を作製した光ディスクの
記録膜の上に、上記の紫外線硬化型樹脂組成物をスピン
コーターで塗布し、高圧水銀灯（日本電池■製、２ＫＷ
）により照射し該組成物を硬化させた。保護コートされ
た光ディスクを６０℃の９０％ＲＨの状態に放置し、耐
湿性試験を行った所、１０００時間を経過しても記録膜
に異常がなかった。又、保護コートされた光ディスクの
コートされた面の表面抵抗は、５，５　Ｘ　１０　　Ω
であった。同様にコートされた面で、タバコ吸着テスト
（コートされた面をテｌ・ロノ布で１５回強く摩擦した
後タバコの灰をふりかげ、吸着していない灰を、光ディ
スクをふって落とし、灰の付着の程度を目視で観察した
。）の結果は、ほとんど灰の付着は見られなかった。

実施例２． トリメチロールプロパントリアクリレート２０部、ヒド
ロキシピバリン酸ネオペンチルクリコールジアクリレー
｝　４０部、ジペンタエリスリトールヘキサ及びペンタ
アタリレート（日本化薬■製、ＫＡＹＡＲＡＤ　　ＤＰ
ＨＡ）３０部、ウレタンアクリレート（日本合或化学■
製、ＸＰ−７０００Ｂ）１０部、イルガキュア−１８４
　５部及ヒハイボロノＣＴＮ−１　３　１　（■ボロン
インターナショナル製、有機ホウ素化合物、メチルエチ
ルケト７４０％品）５部を混合し、紫外線硬化型樹脂咀
或物（光ディスク用材＃４）を調製した。

これを用い、実施例１と同様にし−〔、保護コートされ
た光ディスクを得た。実施例１と同様に試験を行い、耐
湿性の試験の結果、１０００時間経過しても異常がなか
った。表面抵抗は、２，ＩＸＩＯ　　で、タバコ吸着テ
ストの結果は、ほとんど灰の付着は見られなかった。

実施例３． ぺ／タエリスリトールテトラアクリレート３０部、ジオ
キサングリコールジアクリレート（日本化薬■製、ＫＡ
ＹＡＲＡＤ　　Ｒ−６０４　）２０部、トリシクロデカ
／ジメチロールジアクリレト（日本化薬（掬製、ＫＡＹ
ＡＲＡＤ　　Ｒ　　６８４）４０部、エボキシアクリレ
ート〔エビコート８２８（１’［ＩＩＩ化シェル化−ｆ
　（ｍ　Ｍ　、ビスフェノールＡ型エボキシ樹脂）をア
クリル酸でエステル化して得られた。〕　ＩＯ部、イル
ガキュア−１８４５部及びハイボロ／ｃＴＰ−２００　
　（■ボロンインターナショナル製、有機ホウ素化合物
）７部を混合し、紫外線硬化型樹脂組成物（尤ディスク
用材料）を調製した。これを用い、実施例１と同様にし
て、保護コートされた尤ディスクを得た。実施例１と同
様に試験を行い、耐湿性の試験の結果、■０００時間経
過しても異常がなかった。表面抵抗は、３Ｊ　Ｘ　１０
”Ωで、タバコ吸着テストの結果は、ほとんど灰の付着
は、見られなかった。

比較例１ 実施例１の中でハイボ０７ＬＢ−１２０を、のぞいた坦
外は実施例１と同様に混合し、紫外線硬化型樹脂組成物
（″／ｔディスク用材料）を調製した。これを用い、実
施例１と同様にして、保護コートされた光ディスクを得
た。実施例１と同様に試験を行ない、耐湿性の試験の結
果、１０００時間経過しても異常がなかった。表面抵抗
は２，５　Ｘ　１０　Ωで、タバコ吸着テストの結果は
、灰の付着が見られた。

（発明の効果） 本発明の樹脂組成物及び光ディスク用材料を硬化して得
られる硬化物は、帯電防止性能を有してねり、ゴミが付
着しにくく、耐湿性、接着性に優れ、尤ディスク用保護
コート剤として有用である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、有機ホウ素化合物と不飽和基含有化合物及び任意成
   分として光重合開始剤を含んでなる樹脂組成物。 ２、有機ホウ素化合物と不飽和基含有化合物及び任意成
   分として光重合開始剤を含んでなる光ディスク用材料。