JPH04172634A

JPH04172634A - 光ディスク用材料及びその硬化物

Info

Publication number: JPH04172634A
Application number: JP2299843A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Ishii; 一彦石井; Minoru Yokoshima; 実横島
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1990-11-07
Filing date: 1990-11-07
Publication date: 1992-06-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、光信号を高速、高密度に記録再生する光ディ
スク記録媒体用の帯電防止能を有する光ディスクの傷つ
き防止用ハードコート剤等の光ディスク用材料及びその
硬化物に関する。

（従来の技術）現在、民生用のコンパクトディスク記録媒体用保護コー
ト剤としては紫外線硬化型オーバーコート剤か使用され
ている。一方、現在、書き込み、消去の可能な光ディス
クの開発か行われており、光ディスク用保護コート剤や
傷つき防止用ハートコート剤等の開発も進められている
。

（発明か解決しようとする課題）光ディスク用の記録媒体は、水分やヒートショックに弱
く、保護コート剤に対する特性として、耐湿性、耐ヒー
トシヨツク性、高い硬度、ゴミか付着しにくい等の優れ
た品質か要求されている。

従来使用されているコンパクトディスク用保護コート剤
は、光ディスクの保護コート剤やハードコート剤として
使用するには、耐湿性か不十分てあり、又ゴミの付着の
問題もあり、使用できない。

又、従来、紫外線硬化型樹脂組成物としては、多くの組
成物か知られているか、帯電防止能を有した組成物は、
今日まで十分に満足するものは見い出されていないのか
実状である。

（課題を解決するための手段）上記の課題を解決するため、本発明者らは、鋭意研究の
結果、紫外線により硬化か速く、帯電防止能を有し、ゴ
ミの付着か少なく接着性、耐湿性、硬度の優れた光ディ
スク用材料を提供することに成功した。

すなわち、本発明は、３官能以上のアクリル酸エステル（Ａ）と１官能エチレ
ン性不飽和基含有化合物（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）と
酸化錫又は酸化インジウムを主成分とする導電性粉末（
Ｄ）とを含有することを特徴とする光ディスク用材料及
びその硬化物に関する。

本発明に於いて使用される３官能以上のアクリル酸エス
テル（Ａ）の具体例としては、トリメチロールプロパン
・トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ト
リメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラプロポキシテトラアクリレ
ート、ジトリメチルプロパンテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルとε−カプロラクトンの反応物のベキサアクリレート
等を挙げることかできる。これら３官能以上のアクリル
酸エステル（、八）は、１種又は、２種以上を使用する
ことかできる。

１官能エチレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）としては、
例えば、トリシクロデカン（メタ）アクリレート（日立
化成（株）製、ＦＡ−５１３Ａ）ンシクロペンタジエン
オキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メ
タ）アクリレート、フェノキンエチル（メタ）アクリレ
ート、テトラヒドロフルクリル（メタ）アクリレート、
アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−
ビニルカプロラクタム等を挙げることかできる。これら
１官能エチレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）は、１種又
は、２種以上を使用することかできる。１官能エチレン
性不飽和基含有化合物（Ｂ）のうち、特に好ましいもの
としては、トリシフ：デカンアクリレート、Ｎ−ビニル
ビフリトン等を挙げることかできる。本発明の光ディス
ク材料に含まれる１官能エチレン性不飽和基含有化合物
（Ｂ）の使用量は、３官能以上のアクリル酸エステル（
Ａ）１００重量部に対して、５〜１５０重量部か好まし
く、特に好ましくは、１０〜８０重量部である。

本発明の光ディスク用材料には、必要に応して（Ａ）及
び＜Ｂ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化合物、例
えば、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、
２，２−ヒス（４−アクリロイルオキシエトキシフェニ
ル）プロパン、ネオペンチルクリコールジアクリレート
、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールンアク
リレート等の２官能アクリレートを使用することかでき
る。

光重合開始剤（Ｃ）としては、通常使用されるとのよう
な光重合開始剤でも使用することかできるか配合後の貯
蔵安定性の良いものか望ましい。この様な光重合開始剤
としては、ベンゾインエチルエーテル、ヘンジインブチ
ルエーテルなとのヘンジインアルキルエーテル系、２，
２−ジェトキシアセトフェノン、４′−フェノキシ−２
，２−シクロファセトフエノンなとのアセトフェノン系
、２−ヒドコキシー２−メチルプロピオフェノン、４′
−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオ
フェノンなとのプロピオフェノン系、１〜ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトンジルジメチルケトン及び２
−エチルアントラキノン、２−クロコアントラキノンな
とのアントラキノン系、２−クコロチオキサントン、２
，４−ジエチルチオキサイトンなとのチオキサントン系
光重合開始剤なとかあげられる。特に好ましいものとし
ては、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン等
かあげられる。これら光重合開始剤は、１種または、２
種以上を任意の割合で混合して使用する事か出来る。

本発明に使用される光重合開始剤（Ｃ）の使用量は、（
Ａ）成分＋（Ｂ）成分の総量、１００重量部に対して、
０．５〜２０重量部か好ましく、特に好ましくは１〜７
重量部である。

本発明に使用される酸化錫又は酸化インジウムを主成分
とする導電性粉末は具体例としては例えばリン含有酸化
錫、三酸化アンチモン含有酸化錫、又はリン含有酸化イ
ンジウム、三酸化アンチモン含有酸化インジウム等が挙
げられ、その粒径か０．２μｍ以下か好ましく、特に好
ましくは、０．１μｍ以下である。その含有量は、硬化
膜の透明性と帯電防止性を確保するうえて（Ａ）成分＋
（Ｂ）成分＋（Ｃ）成分の総量、１００重量部に対して
１０〜２００重量部か好ましく、特に好ましくは１５〜
１００重量部である。

本発明の光ディスク用材料の調製は、前記した（　Ａ、
　’）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び酸化錫又は、
酸化インジウムを主成分とする導電性粉末の各成分を混
合して行われる。又必要に応じて、有機溶剤（例えば、
イソプロピルアルコール、エチルセロソルブ、エチル上
０ソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルセロソ
ルブアセテート、トルエン等を挙げることかできる。）
を加えてもよい。導電性粉末を光ディスク用材料中に充
分分散させるために分散や配合に通常用いられる機器（
例えばサンドミル、ボールミル高速回転攪拌装置、三本
ロールなと）か使用され得る。

このようにして、調製された本発明の光ディスク用材料
を用いた光ディスクのハードコート膜の形成は、光ディ
スクの記録膜の反対側の面上に、スピンコード法により
塗布し、紫外線を照射して硬化することによってハード
コート膜を形成される。光ディスクの記録膜の反対側の
面上に光ディスク用材料を塗布する場合、その厚さは、
通常１〜３０μ程度とするのか好ましい。

（実施例）以下、本発明を実施例により具体的に説明する。

なお、実施例中の部は重量部である。

実施例１、（Ａ）ペンタエリスリトールテトラアクリレート７０部
、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート１０部
、（Ｂ）Ｎ−ヒニルピロリトン　１０部、（Ｂ）トリシ
クロデカンアクリレート（日立化成（株）製、ＦＡ−５
１３Ａ）２０部、（Ｃ）イルガキュアー１８４（チバ・
ガイギー社製、光重合開始剤）１７部、平均粒径０．２
μｍ以下のリン含有酸化スズ（触媒化成工業（株）製、
ＥＬＣＯＭＴＬ３０Ｓ）１１０部及びイソプロピルアル
コール１２０部をボールミルに仕込み、２４時間分散処
理を施し、次いて０．５μのフィルターでろ過を行ない
本発明の光ディスク用材料（）飄−ドコート剤）を得た
。この光ディスク用材料（ハードコート剤）をポリカー
ボネート基板の光ディスクの記録膜の反対側の面上に乾
燥時の厚みか５μになるようにスピンコーターで塗布し
溶剤を乾燥させた。これに高圧水銀ランプ（出力２ｋｗ
、有効ランプ長２５ａｎ）を用いて８ｃｍの距離から紫
外線を照射し硬化させた。得られたノ＼−ドコート膜の
表面固有抵抗、全光線透過率、フェーズ値、鉛筆硬度を
測定した。表面固有抵抗はＡＳＴＭ　Ｄ−２５７、全光
線透過率およびフェーズ値はＡＳＴＭ　Ｄ−１００３、
鉛筆硬度はＪＩＳ　Ｋ−５４００にもとづく試験法によ
り測定された。試験結果を表１に示した。又、ノ１−ド
コートされた光ディスクを７０°Ｃの９０％ＲＨの状態
に放置し、耐湿性試験を行った所、２０００時間を経過
してもハードコート膜に異常か生じなかった。

実施例２（Ａ）ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０４
部、（Ｂ）Ｎ−ビニルピロリドン２０部、（Ｂ）トリシ
クロデカンアクリレート２０部、（Ｃ）イルガキュアー
１８４５部、平均粒径０．２μｍ以下の三酸化アンチモ
ン含有酸化スズ（触媒化成工業（株）製、ＥＬＣＯＭＴ
Ｌ３０）３４部及びイソプロピルアルコール６０部をボ
ールミルに仕込み、２４時間分散処理を施し、次いて０
．５μのフィルターでろ過を行ない、　、本発明の光デ
ィスク用材料（ハードコート剤）を得た。次いて、この
光ディスク用材料（／’ｔ−ドコート剤）を用いて、実
施例１と同様にして光ディスク上にハートコート膜を作
製し、性能評価を行った。試験結果を表１に示した。

実施例３（Ａ）ジペンタエリスリトールへキサアクリレート３０
部、（Ａ）ペンタエリスリトールテトラアクリレート７
８．５部、（Ａ）トリメチロールプロパントリアクリレ
ート１０部、（Ｂ）テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト１０部、（Ｂ）トリシクロデカンアクリレート２０部
、（Ｃ）イルガキュアー１８４５部、平均粒径０．２μ
ｍ以下の三酸化アンチモン含有酸化インジウム３９部及
びイソプロピルアルコール７０部をボールミルに仕込み
、これを２４時間分散させ、次いて０．５μのフィルタ
ーでろ過を行ない本発明の光ディスク用材料（ハートコ
ート剤）を得た。次いて、この光ディスク用材料（ハー
ドコート剤）を用いて、実施例１と同様にして光ディス
ク上にハードコート膜を作製し、性能評価を行った。試
験結果を表１に示した。

（発明の効果）本発明の光ディスク用材料を硬化して得られる硬化物は
、高い帯電防止性能を有しており、硬度、耐湿性、接着
性に優れ、光ディスク用ハードコート剤等の光ディスク
用材料として有用である。

特許出願人　　日本化薬株式会社

Claims

【特許請求の範囲】１、３官能以上のアクリル酸エステル（Ａ）と１官能エ
チレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ
）と酸化錫又は、酸化インジウムを主成分とする導電性
粉末（Ｄ）とを含有することを特徴とする光ディスク用
材料。２、請求項１記載の光ディスク用材料の硬化物。