JP2000123408A - 光ディスク用組成物及びその硬化物 - Google Patents
光ディスク用組成物及びその硬化物Info
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- JP2000123408A JP2000123408A JP10291631A JP29163198A JP2000123408A JP 2000123408 A JP2000123408 A JP 2000123408A JP 10291631 A JP10291631 A JP 10291631A JP 29163198 A JP29163198 A JP 29163198A JP 2000123408 A JP2000123408 A JP 2000123408A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】硬化物の硬度が硬く、耐湿性に優れた光ディス
ク用材料を提供する。 【解決手段】式（１） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。）で表され
るイミド（メタ）アクリレート（Ａ）と該（Ａ）以外の
分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴と
する光ディスク用組成物。
ク用材料を提供する。 【解決手段】式（１） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。）で表され
るイミド（メタ）アクリレート（Ａ）と該（Ａ）以外の
分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴と
する光ディスク用組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光信号を高速・高
密度に記録再生する光ディスク記録媒体に対して良好な
接着性、耐湿性を与え、オーバーコート剤、接着剤ある
いはハードコート剤として有用な、紫外線硬化型光ディ
スク用組成物に関する。
密度に記録再生する光ディスク記録媒体に対して良好な
接着性、耐湿性を与え、オーバーコート剤、接着剤ある
いはハードコート剤として有用な、紫外線硬化型光ディ
スク用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、民生用のコンパクトディスク記録
媒体用オーバーコート剤として紫外線硬化型オーバーコ
ート剤が使用されている。一方、現在、書込み、消去の
可能な光ディスクの開発が行われており、光ディスク用
オーバーコート剤の開発も進められている。
媒体用オーバーコート剤として紫外線硬化型オーバーコ
ート剤が使用されている。一方、現在、書込み、消去の
可能な光ディスクの開発が行われており、光ディスク用
オーバーコート剤の開発も進められている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】光ディスク用の記録媒
体は、水分やヒートショックに弱く、オーバーコート剤
に対する特性として、耐湿熱性、接着性等に優れた品質
が要求されている。従来使用されているコンパクトディ
スク用オーバーコート剤は、高密度記録光ディスクのオ
ーバーコート剤として使用するには特性が不十分であ
り、使用できない。
体は、水分やヒートショックに弱く、オーバーコート剤
に対する特性として、耐湿熱性、接着性等に優れた品質
が要求されている。従来使用されているコンパクトディ
スク用オーバーコート剤は、高密度記録光ディスクのオ
ーバーコート剤として使用するには特性が不十分であ
り、使用できない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明者らは、鋭意研究の結果、紫外線による硬化
が速く、耐湿熱性の優れた光ディスク用組成物を提供す
ることに成功した。すなわち、本発明は、（１）式
（１）
め、本発明者らは、鋭意研究の結果、紫外線による硬化
が速く、耐湿熱性の優れた光ディスク用組成物を提供す
ることに成功した。すなわち、本発明は、（１）式
（１）
【０００５】
【化２】
【０００６】（式（１）中、Ｒは水素原子又はメチル基
を表す。）で表されるイミド（メタ）アクリレート
（Ａ）、該（Ａ）以外の分子中に１個以上のエチレン性
不飽和基を有する化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）
を含有することを特徴とする光ディスク用組成物、
（２）（１）項記載の光ディスク用組成物の硬化物、
（３）（２）項記載の硬化物層を有する光ディスク、に
関する。
を表す。）で表されるイミド（メタ）アクリレート
（Ａ）、該（Ａ）以外の分子中に１個以上のエチレン性
不飽和基を有する化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）
を含有することを特徴とする光ディスク用組成物、
（２）（１）項記載の光ディスク用組成物の硬化物、
（３）（２）項記載の硬化物層を有する光ディスク、に
関する。
【０００７】本発明で使用する式（１）で表されるイミ
ド（メタ）アクリレート（Ａ）としては、例えば上記式
（１）において、Ｒが水素原子である化合物（東亜合成
化学工業（株）製、アロニックスＴＯＡ−１４２９）や
Ｒがメチル基である化合物等を挙げることができる。
ド（メタ）アクリレート（Ａ）としては、例えば上記式
（１）において、Ｒが水素原子である化合物（東亜合成
化学工業（株）製、アロニックスＴＯＡ−１４２９）や
Ｒがメチル基である化合物等を挙げることができる。
【０００８】本発明で使用する、式（１）以外の、分子
中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）としては、例えば単官能（メタ）アクリレートモ
ノマー、多官能（メタ）アクリレートモノマー、（メ
タ）アクリレート系オリゴマー等の上記式（１）以外の
（メタ）アクリレート基を有する化合物があげられる。
中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）としては、例えば単官能（メタ）アクリレートモ
ノマー、多官能（メタ）アクリレートモノマー、（メ
タ）アクリレート系オリゴマー等の上記式（１）以外の
（メタ）アクリレート基を有する化合物があげられる。
【０００９】単官能（メタ）アクリレートモノマーは分
子中に（メタ）アクリレート基を１つ有するモノマー
で、例えばトリシクロ〔５，２，１，０2,6 〕デカン
（メタ）アクリレート（例えば日立化成（株）製のＦＡ
−５１３Ａ、ＦＡ−５１３Ｍ）、イソボルニル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等があ
げられる。
子中に（メタ）アクリレート基を１つ有するモノマー
で、例えばトリシクロ〔５，２，１，０2,6 〕デカン
（メタ）アクリレート（例えば日立化成（株）製のＦＡ
−５１３Ａ、ＦＡ−５１３Ｍ）、イソボルニル（メタ）
アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリ
レート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等があ
げられる。
【００１０】多官能（メタ）アクリレートモノマーは分
子中に（メタ）アクリレート基を２つ以上、好ましくは
２から６個、有するモノマーで、例えばトリシクロデカ
ンジメチロールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート（例えば
日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４）、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノールＡ型ポリエトキシレートジ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサ（メタ）
アクリレート等があげられる。
子中に（メタ）アクリレート基を２つ以上、好ましくは
２から６個、有するモノマーで、例えばトリシクロデカ
ンジメチロールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
ジオキサングリコールジ（メタ）アクリレート（例えば
日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４）、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチ
ロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノールＡ型ポリエトキシレートジ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサ（メタ）
アクリレート等があげられる。
【００１１】（メタ）アクリレート系オリゴマーとして
は、例えばエポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステ
ルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリ
レート等があげられる。エポキシ（メタ）アクリレート
は、エポキシ樹脂（例えば、ビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック
型エポキシ樹脂等）と（メタ）アクリル酸との反応物で
ある。ポリエステルポリ（メタ）アクリレートは、ポリ
エステルポリオール（例えば、ネオペンチルグリコー
ル、エチレングリコール、トリメチロールプロパン等の
多価アルコールとコハク酸、フタル酸、アジピン酸、テ
トラヒドロフタル酸等の多塩基酸又はその無水物との反
応物）と（メタ）アクリル酸との反応物である。
は、例えばエポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステ
ルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリ
レート等があげられる。エポキシ（メタ）アクリレート
は、エポキシ樹脂（例えば、ビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック
型エポキシ樹脂等）と（メタ）アクリル酸との反応物で
ある。ポリエステルポリ（メタ）アクリレートは、ポリ
エステルポリオール（例えば、ネオペンチルグリコー
ル、エチレングリコール、トリメチロールプロパン等の
多価アルコールとコハク酸、フタル酸、アジピン酸、テ
トラヒドロフタル酸等の多塩基酸又はその無水物との反
応物）と（メタ）アクリル酸との反応物である。
【００１２】ウレタン（メタ）アクリレートは、ポリオ
ール類と有機ポリイソシアネート類とヒドロキシ（メ
タ）アクリレート類との反応物である。ポリオール類と
しては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフ
ェノールＡポリエトキシジオール、ビスフェノールＡポ
リプロポキシジオール等のポリエーテルポリオール、前
記ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオー
ル、ポリカプロラクトンポリオール等があげられる。有
機ポリイソシアネート類としては、例えばイソホロンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジ
イソシアネート、ビス（４−イソシアネートシクロヘキ
シル）メタン等があげられる。ヒドロキシ（メタ）アク
リレート類としては、例えば２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキサン−１，４−ジメタノールモノ（メ
タ）アクリレート等があげられる。
ール類と有機ポリイソシアネート類とヒドロキシ（メ
タ）アクリレート類との反応物である。ポリオール類と
しては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフ
ェノールＡポリエトキシジオール、ビスフェノールＡポ
リプロポキシジオール等のポリエーテルポリオール、前
記ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオー
ル、ポリカプロラクトンポリオール等があげられる。有
機ポリイソシアネート類としては、例えばイソホロンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジ
イソシアネート、ビス（４−イソシアネートシクロヘキ
シル）メタン等があげられる。ヒドロキシ（メタ）アク
リレート類としては、例えば２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキサン−１，４−ジメタノールモノ（メ
タ）アクリレート等があげられる。
【００１３】これら化合物（Ｂ）のうち特に好ましいも
のとしては、例えばトリシクロデカンアクリレート（日
立化成（株）製、ＦＡ−５１３Ａ）、トリシクロデカン
ジメチロールジアクリレート、テトラヒドロフルフリル
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレート等を挙げることができる。これら、分子
中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）は、１種又は２種以上使用することができる。
のとしては、例えばトリシクロデカンアクリレート（日
立化成（株）製、ＦＡ−５１３Ａ）、トリシクロデカン
ジメチロールジアクリレート、テトラヒドロフルフリル
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレート等を挙げることができる。これら、分子
中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）は、１種又は２種以上使用することができる。
【００１４】光重合開始剤（Ｃ）としては、例えばベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン類；アセ
トフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−
〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−プ
ロパン−１−オン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェ
ノン等のアセトフェノン類；２，４−ジエチルチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピル
チオキサントン等のチオキサントン類；ベンジルジメチ
ルケタール、アセトフェノンジメチルケタール等のケタ
ール類：ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、４，
４’−ビスジエチルアミノ−ベンゾフェノン、４−ベン
ゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベン
ゾフェノン類；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド
類等があり、単独または２種以上の組合せて用いること
ができる。
ゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン類；アセ
トフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセト
フェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−
〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−プ
ロパン−１−オン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェ
ノン等のアセトフェノン類；２，４−ジエチルチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピル
チオキサントン等のチオキサントン類；ベンジルジメチ
ルケタール、アセトフェノンジメチルケタール等のケタ
ール類：ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、４，
４’−ビスジエチルアミノ−ベンゾフェノン、４−ベン
ゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベン
ゾフェノン類；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド
類等があり、単独または２種以上の組合せて用いること
ができる。
【００１５】本発明に使用する（Ａ）成分の量は光ディ
スク用組成物全量中、好ましくは５〜７０重量％、特に
好ましくは１０〜５０重量％である。（Ｂ）成分の量は
光ディスク用組成物全量中、好ましくは２９．９〜９
４．９重量％、特に好ましくは４９〜８９重量％であ
る。（Ｃ）成分の量は光ディスク用組成物全量中、好ま
しくは０．１〜１０重量％、特に好ましくは１〜７重量
％である。
スク用組成物全量中、好ましくは５〜７０重量％、特に
好ましくは１０〜５０重量％である。（Ｂ）成分の量は
光ディスク用組成物全量中、好ましくは２９．９〜９
４．９重量％、特に好ましくは４９〜８９重量％であ
る。（Ｃ）成分の量は光ディスク用組成物全量中、好ま
しくは０．１〜１０重量％、特に好ましくは１〜７重量
％である。
【００１６】本発明の光ディスク用組成物は、（Ａ）、
（Ｂ）及び（Ｃ）の各成分だけで十分所期の目的を達成
するものであるが、さらに性能改良のため、本来の特性
を変えない範囲で、重合禁止剤、レベリング剤、シラン
カップリング剤、酸化防止剤、光安定剤等を添加するこ
とができる。
（Ｂ）及び（Ｃ）の各成分だけで十分所期の目的を達成
するものであるが、さらに性能改良のため、本来の特性
を変えない範囲で、重合禁止剤、レベリング剤、シラン
カップリング剤、酸化防止剤、光安定剤等を添加するこ
とができる。
【００１７】本発明の光ディスク用組成物は上記（Ａ）
〜（Ｃ）成分を、必要に応じその他の添加成分を、混合
溶解して製造することができる。この光ディスク用組成
物は、通常液状物として得られる。その好ましい粘度は
１０〜５００ｃｐｓ（２５℃）程度である。
〜（Ｃ）成分を、必要に応じその他の添加成分を、混合
溶解して製造することができる。この光ディスク用組成
物は、通常液状物として得られる。その好ましい粘度は
１０〜５００ｃｐｓ（２５℃）程度である。
【００１８】本発明の光ディスク用組成物の硬化物は常
法により紫外線照射により得ることができる。具体的に
は、例えば、低圧又は高圧水銀灯、キセノン灯等を用い
て紫外線を照射して得ることができる。本発明の光ディ
スク用組成物は、光ディスクの記録膜の保護剤としての
オーバーコート剤、ハードコート剤あるいは接着剤とし
て特に有用である。
法により紫外線照射により得ることができる。具体的に
は、例えば、低圧又は高圧水銀灯、キセノン灯等を用い
て紫外線を照射して得ることができる。本発明の光ディ
スク用組成物は、光ディスクの記録膜の保護剤としての
オーバーコート剤、ハードコート剤あるいは接着剤とし
て特に有用である。
【００１９】本発明の光ディスク用組成物を用いた光デ
ィスクの記録膜の保護層の形成は、光ディスクの記録膜
の上に光ディスク用組成物を例えばスピンコート法等に
より塗布し、紫外線を照射して硬化することによって保
護膜を形成させる。光ディスクの記録膜の上に光ディス
ク用組成物を塗布する場合、その厚さは通常１〜３０μ
程度とするのが好ましい。
ィスクの記録膜の保護層の形成は、光ディスクの記録膜
の上に光ディスク用組成物を例えばスピンコート法等に
より塗布し、紫外線を照射して硬化することによって保
護膜を形成させる。光ディスクの記録膜の上に光ディス
ク用組成物を塗布する場合、その厚さは通常１〜３０μ
程度とするのが好ましい。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。なお、実施例中の部は重量部である。
説明する。なお、実施例中の部は重量部である。
【００２１】実施例１ イミドアクリレート（アロニックスＴＯＡ−１４２９：
上記式（１）において、Ｒが水素原子である化合物）４
０部、トリメチロールプロパントリアクリレート３０
部、ネオペンチルグリコールジアクリレート１５部、エ
ポキシアクリレート〔エピコート８２８（油化シェルエ
ポキシ（株）製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）を
アクリル酸でエステル化して得られた樹脂〕１０部及び
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部を混
合し、本発明の光ディスク用組成物を得た。ポリカーボ
ネート基板に記録膜を作製（スパッタリングにより）し
た光ディスクの記録膜の上に、上記の光ディスク用組成
物をスピンコーターで塗布し、高圧水銀灯により光照射
し硬化させた。オーバーコートされた光ディスクを８０
℃、８５％ＲＨの状態に放置し、耐湿性試験を行ったと
ころ、１０００時間経過しても記録膜に異常がなかっ
た。硬化面を爪で引っかいても傷がつかなかった。
上記式（１）において、Ｒが水素原子である化合物）４
０部、トリメチロールプロパントリアクリレート３０
部、ネオペンチルグリコールジアクリレート１５部、エ
ポキシアクリレート〔エピコート８２８（油化シェルエ
ポキシ（株）製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂）を
アクリル酸でエステル化して得られた樹脂〕１０部及び
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５部を混
合し、本発明の光ディスク用組成物を得た。ポリカーボ
ネート基板に記録膜を作製（スパッタリングにより）し
た光ディスクの記録膜の上に、上記の光ディスク用組成
物をスピンコーターで塗布し、高圧水銀灯により光照射
し硬化させた。オーバーコートされた光ディスクを８０
℃、８５％ＲＨの状態に放置し、耐湿性試験を行ったと
ころ、１０００時間経過しても記録膜に異常がなかっ
た。硬化面を爪で引っかいても傷がつかなかった。
【００２２】実施例２ 実施例１で用いたイミドアクリレート４０部、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート３０部、ヒドロキシピ
バリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート２５
部、ウレタンアクリレート（日本合成（株）製、ゴーセ
ラック７０００Ｂ）５部、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン３部及びγ−アクリロイルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン３部を混合し、本発明の光ディ
スク用組成物を得た。これを用い実施例１と同様に試験
を行い、耐湿性の試験の結果、１０００時間経過しても
異常がなかった。又、硬化面を爪で引っかいても傷がつ
かなかった。
ロールプロパントリアクリレート３０部、ヒドロキシピ
バリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート２５
部、ウレタンアクリレート（日本合成（株）製、ゴーセ
ラック７０００Ｂ）５部、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン３部及びγ−アクリロイルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン３部を混合し、本発明の光ディ
スク用組成物を得た。これを用い実施例１と同様に試験
を行い、耐湿性の試験の結果、１０００時間経過しても
異常がなかった。又、硬化面を爪で引っかいても傷がつ
かなかった。
【００２３】比較例１ 実施例１で、イミドアクリレートのところをトリメチロ
ールプロパントリアクリレートに変えた以外は、実施例
１と同様にして光ディスク用組成物を得た。これを用い
て、実施例１と同様に光ディスクを得て同様に試験を行
い、耐湿性の試験の結果２００時間経過した頃より記録
膜にピンホールが多数発生してきた。硬化面を爪で引っ
かいても傷がつかなかった。
ールプロパントリアクリレートに変えた以外は、実施例
１と同様にして光ディスク用組成物を得た。これを用い
て、実施例１と同様に光ディスクを得て同様に試験を行
い、耐湿性の試験の結果２００時間経過した頃より記録
膜にピンホールが多数発生してきた。硬化面を爪で引っ
かいても傷がつかなかった。
【００２４】以上、実施例及び比較例から明らかなよう
に、本発明光ディスク用組成物は、その硬化物の硬度は
硬く、耐湿性に優れていることが明らかである。
に、本発明光ディスク用組成物は、その硬化物の硬度は
硬く、耐湿性に優れていることが明らかである。
【００２５】
【発明の効果】本発明の光ディスク用組成物は、硬化し
て得られる硬化物の硬度は硬く、耐湿性、接着性に優れ
ている。
て得られる硬化物の硬度は硬く、耐湿性、接着性に優れ
ている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J011 QA03 QA12 QA15 QA22 QA23 QA39 QB13 QB19 QB23 SA90 UA01 WA01 WA02 WA06 4J100 AL08P AL08Q AL62P AL63P AL66P AL67P BA02P BA03P BA08P BA15P BC07P BC43P BC45P BC53P BC58P BC66Q CA04 FA03 JA01 JA03 5D029 LA04 LC13 LC18 LC21 MA43
Claims (3)
- 【請求項１】式（１） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。）で表され
るイミド（メタ）アクリレート（Ａ）、該（Ａ）以外の
分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有することを特徴と
する光ディスク用組成物。 - 【請求項２】請求項１記載の光ディスク用組成物の硬化
物。 - 【請求項３】請求項２記載の硬化物層を有する光ディス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10291631A JP2000123408A (ja) | 1998-10-14 | 1998-10-14 | 光ディスク用組成物及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10291631A JP2000123408A (ja) | 1998-10-14 | 1998-10-14 | 光ディスク用組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000123408A true JP2000123408A (ja) | 2000-04-28 |
Family
ID=17771465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10291631A Pending JP2000123408A (ja) | 1998-10-14 | 1998-10-14 | 光ディスク用組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000123408A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6818681B2 (en) | 2002-02-22 | 2004-11-16 | Nagase Chemtex Corporation | Ultraviolet-curable resin composition for optical discs |
| JP2008007687A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
-
1998
- 1998-10-14 JP JP10291631A patent/JP2000123408A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6818681B2 (en) | 2002-02-22 | 2004-11-16 | Nagase Chemtex Corporation | Ultraviolet-curable resin composition for optical discs |
| JP2008007687A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
| JP4702204B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2011-06-15 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 活性エネルギー線硬化型組成物 |
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