JP2000230136A - 光ディスク用保護コーティング材組成物および光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 銀など腐食しやすい金属を反射膜材料として
用いても、優れた耐久性を有する光ディスクを得る。 【解決手段】 全塩素含有量１５００ｐｐｍ以下のビス
フェノール型エポキシ樹脂（a-1）と（メタ）アクリル
酸(a-2)を３級アミンを触媒として反応させて得たエポ
キシジ（メタ）アクリレート（Ａ）、下記一般式（Ｉ）
で示される化合物（Ｂ）、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＲ（Ｒは炭素数６〜１２の脂環式炭化水素残基）…（Ｉ） （Ａ）および（Ｂ）成分以外のエチレン性不飽和基含有
化合物（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）を含有するこ
とを特徴とする光ディスク用保護コーティング材組成
物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクの金属
反射膜保護コーティング材に関し、特に金属反射膜が銀
または銀合金で形成された光ディスクに有用な保護コー
ティング材組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報記録の媒体としてコンパクト
ディスク、追記型光ディスク、光磁気ディスク、相変化
型光ディスク等の光ディスクが多く用いられるようにな
ってきた。これらの光ディスクは、ポリカーボネート等
の透明樹脂基板上に、スパッタリング法により金属反射
膜層を形成した構造となっている。

【０００３】該金属反射膜層は、一般に３０〜１５０ｎ
ｍの厚みで形成される薄膜層であることから、空気中の
水分や酸素による劣化を受けた場合、金属反射膜層の反
射率が低下したり、孔蝕が発生し、光ディスクの読み込
みエラーや書き込みエラーの原因となることがある。そ
こで、このような劣化を防止するために、金属反射膜表
面に特殊な紫外線硬化型樹脂による保護膜を設けること
が一般的となっている。

【０００４】具体的には、例えば、塩素イオン捕捉剤を
含有した樹脂組成物を用いた特開平２−１１６０３４号
公報、特定量のイオウとリンを含有する樹脂組成物を用
いた特開平７−３７２８４号公報、加水分解性塩素の含
有量が７００ppm以下であるビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂を用いた特開平７−２４７３３１号公報、および
残留するアルカリ金属またはアルカリ土類金属含有量は
１０ppm以下、ハロゲン含有量は２０ppm以下である硬化
性樹脂からなる保護層を用いた特許登録第２５２７８４
２号公報等、金属の腐食を促進するハロゲンや硫黄等の
含有量を制御して、金属反射膜の保護性能を高めたコー
ティング材が利用されてきた。

【０００５】

【発明が解決しようとしている課題】現在、追記型光デ
ィスクでは、反射膜材料として金が使用されているが、
金は高価であることから銀への代替えが検討されてい
る。銀は、光ディスクの読み取りレーザーとして用いる
波長領域の光線反射率が他の金属に比べて高く、金属反
射膜として利用するには最適であるが、非常に腐食され
やすいという難点を有している。そのため、前記のよう
な従来公知の保護コーティング材では、銀のような腐食
されやすい金属反射膜を、高温高湿下での耐環境試験に
おいて金属反射膜は腐食を発生することがあり実用化で
きないのが現状であった。

【０００６】本発明の目的は、このように腐食を受けや
すい金属を金属反射膜材料として用いても、耐環境試験
における保護性能が良好な光ディスクを得るために有用
な、金属反射膜の保護コーティング材を提供することに
ある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明を完成
するに至った。

【０００８】すなわち、本発明は、全塩素含有量１５０
０ｐｐｍ以下のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メ
タ）アクリル酸とを３級アミンを触媒として反応させて
得た、エポキシジ（メタ）アクリレート（Ａ）、下記一
般式（Ｉ）で示される化合物（Ｂ）、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＲ（Ｒは炭素数６〜１２の脂環式炭化水素残基）…（Ｉ） （Ａ）および（Ｂ）成分以外のエチレン性不飽和基含有
化合物（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）を含有する光
ディスク用保護コーティング材組成物に関する。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の組成物について、
詳細に説明する。

【００１０】本発明では、全塩素含有量が１５００ｐｐ
ｍ以下のビスフェノール型エポキシ樹脂(a-1)と（メ
タ）アクリル酸(a-2)の反応物であるエポキシジ（メ
タ）アクリレート（Ａ）を使用する。ここでいう全塩素
含有量とは、試料を酸素気流中で燃焼し、生成するハロ
ゲン化水素を電解的に発生させた銀イオンで滴定する方
法を用いて得られた塩素含有量をｐｐｍで表したものを
意味する。

【００１１】この全塩素含有量が１５００ｐｐｍより高
いエポキシ樹脂を用いて合成したエポキシジ（メタ）ア
クリレートを使用した場合、得られるコーティング材中
の塩素濃度が高くなるため、銀のように腐食されやすい
金属反射膜の保護に適用するにはその保護性能の点で不
適である。従って、本発明においては、エポキシジ（メ
タ）アクリレート（Ａ）の原料は、全塩素含有量１５０
０ｐｐｍ以下のビスフェノール型エポキシ樹脂(a-1)を
用いることが重要であり、より好ましくは５００ｐｐｍ
以下のビスフェノール型エポキシ樹脂である。

【００１２】このようなエポキシ樹脂(a-1)は一般に市
販されており、具体例としては、例えばビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂では、油化シェルエポキシ社製のエピ
コート８２８ＵＳやエピコートＹＬ９８０等が、またビ
スフェノールＦ型エポキシ樹脂ではエピコートＹＬ９８
３Ｕ等が挙げられる。

【００１３】本発明の（Ａ）成分であるエポキシジ（メ
タ）アクリレートは、前記(a-1)成分に（メタ）アクリ
ル酸(a-2)を付加させる際に、反応触媒として３級アミ
ンを使用することを特徴としている。これは、銀のよう
に非常に腐食されやすい金属反射材料を用いた金属反射
膜の保護性能を向上させるために重要なことである。

【００１４】通常用いられるトリフェニルホスフィンや
トリエチルメチルアンモニウムクロライド等の反応触媒
を使用しても、エポキシジ（メタ）アクリレートを合成
することは可能である。しかしながら、これらの触媒に
含まれるリンやイオン分が金属反射膜の腐食を促進する
傾向にあることがわかった。

【００１５】そこで、本発明者らは、金属腐食を促進し
ない保護コーティング材組成物を得るために鋭意検討を
行ったところ、(a-1)成分と(a-2)成分との反応の反応触
媒として、３級アミンを用いれば、腐食されやすい金属
反射材料を用いた金属反射膜の保護効果を発揮すること
を見いだした。

【００１６】ここでいう反応触媒として使用可能な３級
アミンとしては、具体例として、例えば、トリエチルア
ミン、ベンジルジメチルアミン、ｐ−ジメチルアミノピ
リジン、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリ
ル酸ジエチルアミノエチル、ｐ−ジメチルアミノアセト
フェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステ
ル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル等
を挙げることができる。これらの中でも、３００ｎｍ〜
４５０ｎｍの領域に極大吸収波長を有する、ｐ−ジメチ
ルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミ
ルエステル等は、(a-1)成分と(a-2)成分の反応触媒とし
て用いた場合、得られるエポキシジ（メタ）アクリレー
ト中に残留しているので、これを含む保護コーティング
材組成物は光増感効果を有することから、硬化時の光硬
化性が良好となり特に好ましい。

【００１７】本発明において、反応触媒として用いる３
級アミンの使用量は、(a-1)成分と(a-2)成分の合計量１
００重量％に対して０．０５〜１０重量％が好ましく、
より好ましくは０．１〜５重量％である。（Ａ）成分を
得るためのビスフェノール型エポキシ樹脂(a-1)と（メ
タ）アクリル酸(a-2)の反応は、エポキシ基１化学当量
に対して、（メタ）アクリル酸０．９〜１．０化学当量
の範囲で行うことが好ましく、より好ましくは０．９５
〜１．０化学当量の範囲である。０．９化学当量より少
ない場合には硬化性を十分に有するコーティング材組成
物が得られない傾向にあり、また、１．０化学当量より
多い場合にはエポキシジ（メタ）アクリレート中に過剰
の（メタ）アクリル酸が残存してしまい、酸価が高すぎ
るコーティング材組成物となり、金属反射膜の腐食原因
となり得る傾向にある。

【００１８】また、（Ａ）成分を得るための反応温度は
７０〜１３０℃の範囲が好ましく、より好ましくは８０
〜１００℃の範囲である。このような条件下で(a-1)成
分と(a-2)成分との反応を行い、酸価が２ｍｇＫＯＨ／
ｇ以下になる時点を反応終点として得たエポキシジ（メ
タ）アクリレートを、本発明の（Ａ）成分として使用す
る。

【００１９】本発明において、（Ａ）成分の使用割合は
（Ａ）〜（Ｃ）成分の合計１００重量％中、５〜４０重
量％の範囲が好ましく、より好ましくは５〜３０重量％
の範囲である。（Ａ）成分の使用量が５重量％より少な
いと、得られるコーティング材組成物に金属反射膜に対
する十分な保護性能を持たせることができない傾向にあ
り、また、４０重量％を超えると、得られるコーティン
グ材組成物の粘度が高すぎて塗装生産性が低下する傾向
にある。

【００２０】本発明における（Ｂ）成分は、下記一般式
（Ｉ）で示される化合物である。 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＲ（Ｒは炭素数６〜１２の脂環式炭化水素残基）…（Ｉ） これは、反応性希釈剤として得られるコーティング材組
成物の粘度を下げるだけでなく、その硬化物の耐水性を
向上させることができるため、金属反射膜の保護性能を
向上させる目的を有するものである。

【００２１】本発明で用いる（Ｂ）成分の具体例として
は、例えば、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニ
ルアクリレート、アダマンチルアクリレート、トリシク
ロデカニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレ
ートが挙げられるが、中でも、イソボルニルアクリレー
ト、トリシクロデカニルアクリレートが特に好ましい。

【００２２】本発明において、（Ｂ）成分の使用割合は
（Ａ）〜（Ｃ）成分の合計１００重量％中、５〜４０重
量％の範囲が好ましく、より好ましくは１０〜３０重量
％の範囲である。（Ｂ）成分の使用量が５重量％より少
ないと、得られるコーティング材組成物の粘度が高くな
るため、塗装生産性が低下し、また耐水性も低下してし
まう傾向にある。また、４０重量％を超えると、得られ
るコーティング材組成物の光硬化性が低下する傾向にあ
る。

【００２３】なお、本発明の（Ｂ）成分は、合成工程
上、蒸留精製する場合が多いため、基本的に塩素を含有
する可能性は少ないものの何らかの要因で塩素が混入し
た場合には、これを含むコーティング材組成物および／
または硬化物は金属反射膜の腐食原因となることがあ
る。従って、本発明においては、（Ｂ）成分の全塩素含
有量が２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。本発明に
おいて、（Ｂ）成分の全塩素含有量が２０ｐｐｍを超え
る場合には、得られたコーティング材組成物中の塩素濃
度が高くなり、金属反射膜（例えば銀など）が腐食され
やすくなる傾向がある。

【００２４】本発明における（Ｃ）成分は、前記（Ａ）
成分および（Ｂ）成分以外のエチレン性不飽和基含有化
合物であり、得られるコーティング材の粘度と紫外線硬
化性能を調整する目的で用いる。

【００２５】この（Ｃ）成分の具体例としては、例え
ば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エ
ステル、エトキシレーテッドトリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリル酸エステル、プロポキシレーテッド
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステ
ル、グリセリントリ（メタ）アクリル酸エステル、エト
キシレーテッドグリセリントリ（メタ）アクリル酸エス
テル、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリル
酸エステル、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
ル酸エステル、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリル酸エステル、ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールヘキ
サ（メタ）アクリル酸エステル、ジ（メタ）アクリル酸
エチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエチレ
ングリコール、ジ（メタ）アクリル酸１，３−ブチレン
グリコール、ジ（メタ）アクリル酸１，４−ブタンジオ
ール、ジ（メタ）アクリル酸１，６−ヘキサンジオー
ル、ジ（メタ）アクリル酸ノナンジオール、ジ（メタ）
アクリル酸ネオペンチルグリコール、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリル酸エス
テル、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコー
ル、ジ（メタ）アクリル酸ポリテトラメチレングリコー
ル、ジ（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジメタノー
ル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メ
タ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリ
ル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−
ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチ
ル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル等の（メ
タ）アクリル酸エステル類が挙げられる。これらは１種
または２種以上を併用して用いることが可能である。

【００２６】また、本発明においては、上記化合物のう
ち、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エ
ステル、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリル
酸エステル、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
ル酸エステル、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）ア
クリル酸エステル、ジペンタエリスリトールペンタ（メ
タ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールヘキ
サ（メタ）アクリル酸エステル、ジ（メタ）アクリル酸
１，３−ブチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸
１，４−ブタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸１，６
−ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ノナンジオ
ール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリル酸エステル、ジ（メタ）アクリル酸トリシ
クロデカンジメタノール等の疎水性の化合物が特に好ま
しい。

【００２７】本発明における（Ｃ）成分は、（Ｃ）成分
中に塩素を含有する場合には、洗浄工程水から混入する
イオン性塩素であることが多い。このイオン性塩素は結
合性塩素よりも金属に対する腐食促進効果が大きくなっ
てしまうため、本発明の（Ｃ）成分として用いる際に
は、特に（Ｃ）成分中の塩素含有率を低減することが重
要である。

【００２８】本発明においては、（Ｃ）成分の全塩素含
有量が２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。本発明に
おいて、（Ｃ）成分の全塩素含有量が２０ｐｐｍを超え
ると、得られたコーティング材組成物中の塩素イオン濃
度が高くなり、金属反射膜（例えば銀など）が腐食され
やすくなる傾向がある。

【００２９】本発明の（Ｃ）成分の使用割合は（Ａ）〜
（Ｃ）成分の合計１００重量％中、２０〜９０重量％の
範囲が好ましく、より好ましくは３０〜８０重量％の範
囲である。（Ｃ）成分の使用量が２０重量％より少ない
と、紫外線硬化性を十分に付与することができない傾向
にあり、また９０重量％を超えると硬化収縮が大きくな
る傾向にある。

【００３０】本発明の光ディスク用保護コーティング材
組成物は、光重合開始剤（Ｄ）を含有することにより、
効率よく紫外線硬化法による硬化物を得ることができ
る。

【００３１】（Ｄ）成分の具体例としては、例えば、ベ
ンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾ
フェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェン、メチ
ルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾ
フェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアン
トラキノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベ
ンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル、メチルベンゾイル
ホルメート等が挙げられる。これらの化合物は、１種ま
たは２種以上を併用して用いることが可能である。

【００３２】本発明において、（Ｄ）成分は（Ａ）〜
（Ｃ）成分の合計１００重量部に対して、０．０１〜２
０重量部の範囲が好ましく、特に好ましくは０．１〜１
０重量部の範囲である。（Ｄ）成分が０．１重量部より
少ないと光重合開始剤の効果を十分発揮されない傾向に
あり、また、１０重量部を超えると、コーティング材組
成物の硬化膜を着色させたり、耐久性が低下する傾向に
ある。更に、本発明の組成物には、必要に応じて、４−
ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安
息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸アミル、４
−ジメチルアミノアセトフェノン等の公知の光増感剤を
添加することもできる。

【００３３】また、その他にも、本発明の組成物には、
その性能を損なわない範囲で、例えば、滑剤、レベリン
グ剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止
剤、シランカップリング剤等、公知の添加剤を添加する
ことができる。

【００３４】本発明の組成物は、光ディスクの金属反射
膜上にスピンコート法等、一般的な方法で塗装され、紫
外線照射により硬化膜を得る方法が一般的であるが、こ
の方法に限定されるものではない。公知公用の塗装、硬
化法により光ディスクの保護コーティング材として適用
可能である。

【００３５】また、本発明の組成物は、アルミニウム、
金、銀、銀合金など適用する光ディスクの金属反射膜の
金属材料に限定されることなく、光ディスクに優れた保
護性能を付与できるものであるが、通常腐食されやすい
とされる銀、銀合金などの金属であっても保護性能の効
果を発揮できることから、このような光ディスクに適用
するのが特に好ましい。以下、実施例および比較例によ
り本発明を具体的に示す。

【００３６】

【実施例】〈合成例１〉油化シェルエポキシ（株）製エ
ピコート８２８ＵＳ（ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、エポキシ当量１８９、全塩素含有量１４００ｐｐ
ｍ）１８９ｇ、アクリル酸７２ｇ、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル０．３９ｇ、ｐ−ジメチルアミノ安息香
酸エチル５．２ｇを仕込み、９５℃で反応させ、酸価が
１．５ｍｇＫＯＨ／ｇとなった１５時間後に反応を終了
し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｅ１）
を得た。

【００３７】〈合成例２〉油化シェルエポキシ（株）製
エピコートＹＬ９８０（ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、エポキシ当量１８９、全塩素含有量２００ｐｐｍ）
１８９ｇ、アクリル酸７２ｇ、ハイドロキノンモノメチ
ルエーテル０．３９ｇ、 ｐ−ジメチルアミノ安息香酸
エチル５．２ｇを仕込み、９５℃で反応させ、酸価が
１．５ｍｇＫＯＨ／ｇとなった１５時間後に反応を終了
し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｅ２）
を得た。

【００３８】〈合成例３〉油化シェルエポキシ（株）製
エピコート８２８（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、
エポキシ当量１８６、全塩素含有量１９００ｐｐｍ）１
８６ｇ、アクリル酸７２ｇ、ハイドロキノンモノメチル
エーテル０．３９ｇ、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル５．２ｇを仕込み、９５℃で反応させ、酸価が１．５
ｍｇＫＯＨ／ｇとなった１５時間後に反応を終了し、ビ
スフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｅ３）を得
た。

【００３９】〈合成例４〉油化シェルエポキシ（株）製
エピコート８２８ＵＳ（ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、エポキシ当量１８９、全塩素含有量１４００ｐｐ
ｍ）１８９ｇ、アクリル酸７２ｇ、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル０．３９ｇ、トリエチルメチルアンモニ
ウムクロリド０．３ｇを仕込み、９５℃で反応させ、酸
価が１．５ｍｇＫＯＨ／ｇとなった２０時間後に反応を
終了し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｅ
４）を得た。

【００４０】〈合成例５〉日本化薬（株）製ＲＥ−３１
０Ｓ（日本化薬（株）製、ビスフェノールＡ型エポキシ
樹脂、エポキシ当量１８３、全塩素含有量１５００ｐｐ
ｍ）１８３ｇ、アクリル酸７２ｇ、トリフェニルホスフ
ィン０．７５ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル
０．１３ｇを仕込み、９５℃で反応させ酸価が１．５ｍ
ｇＫＯＨ／ｇとなった２４時間後に反応を終了し、ビス
フェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｅ５）を得た。

【００４１】〈実施例１〉合成例１で得たエポキシアク
リレート（Ｅ１）２０重量部、ペンタエリスリトールト
リアクリレート３５重量部、１，６−ヘキサンジオール
ジアクリレート２５重量部、イソボルニルアクリレート
２０重量部、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン２重量部、ベンゾフェノン２重
量部、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル２重量部を混
合溶解し、コーティング材組成物を得た。次に、帝人化
成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧを射出成型して
得た光ディスク（コンパクトディスクテスト信号を有す
る直径１２ｃｍ、板厚１．２ｍｍ）に、スパッタリング
装置（バルザース（株）製、ＣＤＩ−９００）により、
銀（純度９９．９９％）を膜厚５０ｎｍでスパッタリン
グし、信号記録面に銀反射膜を有する光ディスクを得
た。この銀反射膜上に上記コーティング材組成物をスピ
ンコーターを用いて、平均膜厚６μｍとなるように塗装
し、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（８０ｗ／ｃｍ）
により、積算光量３００ｍｊ／ｃｍ２のエネルギー量で
硬化させて、保護コーティング層を有する光ディスクを
得た。

【００４２】〈耐久試験〉得られた光ディスクを、光デ
ィスクエラーカウンタ（シバソク（株）製ＤＸ６１０
Ａ）を用い、全トラックのＣ１エラー平均値を測定した
ところ、５ｆｒａｍｅｓ／ｓｅｃであった。また、この
光ディスクの耐久性を評価するために、得られた光ディ
スクを８５℃、９５％ＲＨの恒温恒湿槽に５００時間放
置した。取り出し後、再度、Ｃ１エラー平均値を測定し
たところ、６ｆｒａｍｅｓ／ｓｅｃであり、ほとんど信
号の劣化は見られず良好な耐久性を示した。

【００４３】〈実施例２〜４、比較例１〜４〉表１の樹
脂組成の欄に示す組成とする以外は、実施例１と同様に
コーティング材を調製し、コーティング材を得た。実施
例１と同様にして光ディスク基材の銀反射膜を有する面
に、得られたコーティング材を、塗布、硬化させて保護
コーティング層を有する光ディスクを得た。この光ディ
スクについて実施例１と同様の耐久試験を行い、その結
果を表１の評価結果の欄に示した。

【００４４】〈実施例５〉光ディスクの反射膜材料とし
てアルミニウム（ＪＩＳ Ａ６０６１）を用いた他は実
施例１と同様にして光ディスクを作製し、評価を行った
ところ、初期のＣ１エラー平均値は５．０であり、耐久
試験後においても、Ｃ１エラー平均値は５．０であり、
良好な耐久性を示した。

【００４５】〈実施例６〉光ディスクの反射膜材料とし
て金（純度９９．９９％）を用いた他は実施例１と同様
にして光ディスクを作製し、評価を行ったところ、初期
のＣ１エラー平均値は５．０であり、耐久試験後におい
ても、Ｃ１エラー平均値は５．０であり、良好な耐久性
を示した。

【００４６】〈比較例５〉合成例５で得たエポキシアク
リレート（Ｅ５）３０重量部、トリメチロールプロパン
トリアクリレート３０重量部、１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート２５重量部、テトラヒドロフルフリル
アクリレート１０重量部および１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン５重量部を混合溶解し、コーティ
ング材組成物を得た。次に、実施例１と同様にして光デ
ィスク基材の銀反射膜を有する面に、得られたコーティ
ング材を、塗布、硬化させて保護コーティング層を有す
る光ディスクを得た。この光ディスクについて実施例１
と同様の耐久試験を行い、その結果を表１の評価結果の
欄に示した。

【００４７】

【表１】

【００４８】表１中の略号は、以下の通りである。 ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート（全塩素濃度２ｐ
ｐｍ以下） ＴＣＤＡ：トリシクロデカニルアクリレート（全塩素濃
度２ｐｐｍ以下） ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート（全
塩素濃度１０ｐｐｍ） ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
（全塩素濃度１２ｐｐｍ） ＨＤＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
（全塩素濃度２ｐｐｍ以下） ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート（全塩
素濃度３０ｐｐｍ） ２ＨＰＡ：２−ヒドロキシプロピルアクリレート（全塩
素濃度５０ｐｐｍ） ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケ
トン ＢＮＰ：ベンゾフェノン ＥＰＡ：Ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル

【００４９】

【発明の効果】以上示したとおり、本発明の光ディスク
用保護コーティング材組成物は、非常に腐食を受けやす
い銀反射膜に対しても耐久性のある保護膜を形成できる
という優れた性能を有するため、種々の反射膜材料から
なる金属反射膜を有する光ディスクにおいても、優れた
耐久性を示すことができる。そのため、本発明の光ディ
スク用保護コーティング材組成物、および光ディスクは
極めて有用なものである。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 全塩素含有量１５００ｐｐｍ以下のビス
   フェノール型エポキシ樹脂（a-1）と（メタ）アクリル
   酸(a-2)とを３級アミンを触媒として反応させて得た、
   エポキシジ（メタ）アクリレート（Ａ）、 下記一般式（Ｉ）で示される化合物（Ｂ）、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯＲ（Ｒは炭素数６〜１２の脂環式炭化水素残基）…（Ｉ） （Ａ）および（Ｂ）成分以外のエチレン性不飽和基含有
   化合物（Ｃ）、 および光重合開始剤（Ｄ）を含有することを特徴とする
   光ディスク用保護コーティング材組成物。
2. 【請求項２】 ３級アミンが３００ｎｍ〜４５０ｎｍに
   吸収極大波長を有する化合物であることを特徴とする、
   請求項１記載の光ディスク用保護コーティング材組成
   物。
3. 【請求項３】 光ディスク用基材表面に請求項１記載の
   組成物の硬化膜を有する光ディスク。
4. 【請求項４】 光ディスク用基材表面に、予め銀または
   銀合金で金属反射膜が形成されている請求項３記載の光
   ディスク。