JP2002157779A - ハードコート層を有する青色レーザーディスク（登録商標）およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスクのレーザー光入射面に、耐磨耗性お
よび透明性に優れ、かつディスク基盤との密着性に優れ
たハードコート層を有する青色レーザーディスクおよび
その製造方法の提供。 【解決手段】 青色レーザーディスクのレーザー光入射
面に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個以上
有する化合物とポリシラザンとを含有する被覆組成物
（Ａ）の透明硬化物層からなるハードコート層を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスクのレーザ
ー光入射面に、耐磨耗性および透明性などに優れたハー
ドコート層（透明硬化物層）を有する青色レーザーディ
スクおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】大量のデータを高密度で記録可能な光記
録媒体において、より高密度にデータを記録するために
は、レーザー光スポットのサイズをより小さくする必要
がある。このサイズを小さくする方法としては、レーザ
ー光波長（λ）を短くする方法、またはレンズの開口数
（ＮＡ）を大きくする方法の２通りの方法が考えられ
る。現在用いられている光記録媒体用の半導体レーザー
光の波長は、主に７８０〜６８０ｎｍであるが、さらに
短波長の６５０ｎｍの橙色レーザー光、および、より短
波長の緑または青色レーザー光を用いる検討がなされて
いる。特に、青色レーザー光を用いる方式としては光源
の波長を４００ｎｍ程度、ＮＡを０．６以上として、よ
り大きな記録密度を得ることが提案されている。

【０００３】しかし、光源の短波長化や対物レンズの高
ＮＡ化に伴ない、光記録媒体のレーザー光入射面が光軸
に対して直角より傾くチルトの許容量が小さくなり、ま
た、光ディスクの厚みムラの許容量が小さくなるため、
上記許容量を少しでも稼ぐためにレーザー光入射面のカ
バー層の厚さを薄くする必要がある。従来の光記録媒体
のカバー層の厚さは、コンパクトディスク（ＣＤ）で
１．２ｍｍ、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）
で０．６ｍｍであり、ディスク基盤自体がカバー層とし
ての役割を果たしていた。しかし、短波長のレーザー光
を用いる光記録媒体では、カバー層の厚さを０．１ｍｍ
程度にする必要があるため、従来のようにディスク基盤
自体をカバー層とすることができず、ディスク基盤の反
射膜、記録膜などの積層膜を形成した面にカバー層が形
成される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】短波長のレーザー光を
用いた場合、光記録媒体のレーザー光入射面にわずかで
も傷や塵埃の付着があると、記録・再生を行なう際にエ
ラーを生じやすくなること、および光記録装置の光ヘッ
ドと光記録媒体のレーザー光入射面との間隔が０．１〜
０．２ｍｍ程度に接近し、場合によっては光ヘッドが光
記録媒体に接触する可能性も出てくることなどから、レ
ーザー光入射面のカバー層の表面にはより一層の耐磨耗
性が求められるようになってきた。

【０００５】本発明の目的は、ディスクのレーザー光入
射面に、耐磨耗性および透明性などに優れたハードコー
ト層を有する青色レーザーディスクおよびその製造方法
を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の一つは、ディスクのレーザー光入射面にハ
ードコート層を有する青色レーザーディスクにおいて、
前記ハードコート層が活性エネルギ線硬化性の重合性官
能基を１個以上有する化合物とポリシラザンとを含有す
る被覆組成物（Ａ）の透明硬化物層であることを特徴と
する青色レーザーディスクである。

【０００７】また、本発明のもう一つは、ディスクのレ
ーザー光入射面の表面に、活性エネルギ線硬化性の重合
性官能基を１個以上有する化合物とポリシラザンとを含
有する被覆組成物（Ａ）を塗工し、次いで活性エネルギ
線を照射して前記活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を１個以上有する化合物の硬化と、前記ポリシラザンの
硬化を任意の順でまたは同時に行うことにより、前記被
覆組成物（Ａ）の透明硬化物層を形成することを特徴と
する青色レーザーディスクの製造方法である。

【０００８】本発明によれば、青色レーザーディスクの
レーザー光入射面の表面に、活性エネルギ線硬化性の重
合性官能基を１個以上有する化合物とポリシラザンとを
含有する被覆組成物（Ａ）の透明硬化物層が形成される
ため、耐磨耗性に優れ、かつ基盤との密着性に優れたハ
ードコート層を有する青色レーザーディスクを提供でき
る。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明でいう青色レーザーディス
クとは、ディスク基盤とは別に設けられるカバー層、す
なわち、ディスク基盤において誘電体膜、記録膜、反射
膜など（以下、これらの層を総称して積層膜という。）
を形成した面にカバー層が形成される光記録媒体であっ
て、波長８００〜３８０ｎｍのレーザー光を用いる光記
録媒体を意味する。

【００１０】本発明の青色レーザーディスクは、ディス
クのレーザー光入射面に、活性エネルギ線硬化性の重合
性官能基を１個以上有する化合物とポリシラザンとを含
有する被覆組成物（Ａ）の透明硬化物からなるハードコ
ート層を有する。なお、上記ハードコート層は、レーザ
ー光入射面に形成されるカバー層の表面に積層されてい
てもよく、該ハードコート層がカバー層を兼ねていても
よい。

【００１１】なお、以下の説明において、アクリロイル
基およびメタクリロイル基を総称して（メタ）アクリロ
イル基といい、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メ
タ）アクリル酸、（メタ）アクリレートなどの表現も同
様とする。

【００１２】被覆組成物（Ａ）に含まれる活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を１個以上有する化合物（以
下、活性エネルギ線硬化性成分という。）のうち、活性
エネルギ線によって重合しうる重合性官能基を１個有す
る化合物（以下、単に単官能性化合物という。）として
は、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好まし
く、特にアクリロイル基を有する化合物が好ましい。ま
た、その他に水酸基、エポキシ基などの官能基を有して
いてもよい。上記単官能性化合物としては、たとえば以
下のものが挙げられる。

【００１３】アルキル（メタ）アクリレート（アルキル
基の炭素数は１〜１３）、アリル（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル
（メタ）アクリレート、ブタンジオール（メタ）アクリ
レート、ブトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）
アクリレート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリ
レート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）
アクリレート、２−シアノエチル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペ
ンタニル（メタ）アクリレート、２，３−ジブロモプロ
ピル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メ
タ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）ア
クリレート、２（２−エトキシエトキシ）エチル（メ
タ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリ
レート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジ
ル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロ
イルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、
２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソボ
ルニル（メタ）アクリレート、３−（メタ）アクリロイ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−メトキシエ
チル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリ
コール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレン
グリコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレ
ングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロ
デカトリエン（メタ）アクリレート、モルホリン（メ
タ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリ
コール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプ
ロピレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフル
オロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル
（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレング
リコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチ
レングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）
アクリレート、スルホン酸ソーダエトキシ（メタ）アク
リレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ト
リフルオロエチル（メタ）アクリレート、ビニルアセテ
ート、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルホルムアミド、モルホリノ（メタ）アク
リレート、２−モルホリノエチル（メタ）アクリレー
ト。

【００１４】また、活性エネルギ線硬化性の重合性官能
基を２個以上有する化合物（以下、単に多官能性化合物
という。）としては、特開平１１−２４０１０３号公報
の段落番号００１６〜００２０、００２３〜００４７に
記載された化合物が好ましく挙げられる。

【００１５】好ましい多官能性化合物としては、（メ
タ）アクリロイル基から選ばれる１種以上の重合性官能
基を２個以上（２〜５０個が好ましく、より好ましくは
３〜３０個）有する化合物が挙げられる。その中でも
（メタ）アクリロイルオキシ基を２個以上有する化合
物、すなわち多価アルコールなどの２個以上の水酸基を
有する化合物と（メタ）アクリル酸とのポリエステルが
好ましい。また、上記重合性官能基以外に種々の官能基
や結合を有する化合物であってもよい。特に、ウレタン
結合を有する（メタ）アクリロイル基含有化合物（以
下、アクリルウレタンという。）と、ウレタン結合を有
しない（メタ）アクリル酸エステル化合物が好ましい。

【００１６】上記アクリルウレタンとしては、ペンタエ
リスリトールやその多量体であるポリペンタエリスリト
ールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートの反応生成物であるアクリルウレタ
ン、またはペンタエリスリトールやポリペンタエリスリ
トールの水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートと、ポリ
イソシアネートとの反応生成物であるアクリルウレタン
であって、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個
以上（より好ましくは４〜２０個）有する多官能性化合
物が挙げられる。

【００１７】また、ウレタン結合を有しない（メタ）ア
クリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトー
ル系ポリ（メタ）アクリレート、およびイソシアヌレー
ト系ポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ペ
ンタエリスリトール系ポリ（メタ）アクリレートとは、
ペンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールと
（メタ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を４〜２０個有す
る。）をいう。また、イソシアヌレート系ポリ（メタ）
アクリレートとは、トリス（ヒドロキシアルキル）イソ
シアヌレート、またはトリス（ヒドロキシアルキル）イ
ソシアヌレートの１モルに１〜６モルのカプロラクトン
やアルキレンオキシドを付加して得られる化合物と、
（メタ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を２〜３個有する。）
をいう。

【００１８】本発明においては、上記の好ましい多官能
性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を２個以上有する多官能性化合物（特に多価アルコール
のポリ（メタ）アクリレート）とを併用してもよい。

【００１９】被覆組成物（Ａ）に含まれる活性エネルギ
線硬化性成分において、上記単官能性化合物および上記
多官能性化合物の割合は特に制限されない。

【００２０】被覆組成物（Ａ）に含まれるポリシラザン
としては、特開平１１−２６８１９６号公報の段落番号
００６７〜００６８に記載されたポリシラザンが好まし
く挙げられる。本発明においては、焼成温度の低さおよ
び焼成後の硬化被膜の緻密さの点でペルヒドロポリシラ
ザンが特に好ましい。また、ポリシラザンの数平均分子
量は２００〜５万が好ましい。数平均分子量が２００未
満では焼成しても均一な硬化物が得られにくく、５万超
では溶剤に溶解しにくくなり、また被覆組成物（Ａ）が
粘稠になるおそれがあるため好ましくない。

【００２１】被覆組成物（Ａ）における活性エネルギ線
硬化性成分に対するポリシラザンの配合割合は、耐磨耗
性や基盤との密着性により適宜選択できるが、特に耐磨
耗性と密着性のバランスを考慮した場合には、活性エネ
ルギ線硬化性成分１００質量部に対して、ポリシラザン
１〜１０００質量部が好ましく、特に、５〜１００質量
部が好ましい。活性エネルギ線硬化性成分に対するポリ
シラザンの割合が上記よりも少ないと耐磨耗性が不充分
になり、上記よりも多いと硬化物層にクラックが入りや
すく、また基盤との密着性も不充分になるため好ましく
ない。

【００２２】被覆組成物（Ａ）には、上記の基本的成分
以外に下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことがで
きる。

【００２３】溶剤としては、活性エネルギ線硬化性成分
およびポリシラザンの両方が可溶な溶剤を使用する。な
お、ディスク基盤となる樹脂の種類に応じて適切な溶剤
を用いることが好ましい。特にポリシラザンの貯蔵安定
性を考慮した場合には、分子中に水酸基を含まない溶剤
が好ましく、たとえば炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類、ケトン類、エーテル類、エステル類などが挙げられ
る。具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報の段
落番号００７４に記載された溶剤が挙げられる。本発明
においては、キシレン、ジブチルエーテルが特に好まし
い。

【００２４】また、溶剤の量は必要とする組成物の粘
度、目的とする硬化物層の厚さ、乾燥温度などの条件な
どにより適宜変更できる。本発明において、溶剤は、被
覆組成物（Ａ）中の活性エネルギ線硬化性成分に対して
質量で１００倍以下、好ましくは０．１〜５０倍用いら
れる。

【００２５】機能性配合剤としては、光重合開始剤、紫
外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重合防止剤、レ
ベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料（有機
着色顔料、無機顔料）、着色染料、赤外線吸収剤、蛍光
増白剤、分散剤、防汚性付与剤、指紋除去性付与剤、導
電性微粒子、帯電防止剤、防曇剤、硬化触媒、カップリ
ング剤からなる群から選ばれる１種以上の機能性配合剤
が挙げられる。

【００２６】被覆組成物（Ａ）は、活性エネルギ線硬化
性成分を効率よく硬化させるために、光重合開始剤を含
むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知のもの
を使用でき、特に入手容易な市販のものが好ましい。

【００２７】光重合開始剤としては、アリールケトン系
光重合開始剤（たとえば、アセトフェノン類、ベンゾフ
ェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル
類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジ
メチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−ア
シロキシムエステル類など）、含硫黄系光重合開始剤
（たとえば、スルフィド類、チオキサントン類など）、
アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ジアシルホ
スフィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始
剤が挙げられる。具体的には、特開平１１−２６８１９
６号公報の段落番号００６３〜００６５に記載された化
合物が挙げられる。光重合開始剤は、複数の種類を併用
してもよく、アミン類などの光増感剤と組み合わせて使
用してもよい。

【００２８】被覆組成物（Ａ）における光重合開始剤の
量は、活性エネルギ線硬化性成分１００質量部に対して
０．０１〜２０質量部が好ましく、特に０．１〜１０質
量部が好ましい。

【００２９】紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線
吸収剤として使用されているベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸
系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤な
どが好ましい。具体的には、特開平１１−２６８１９６
号公報の段落番号００７８に記載された化合物が挙げら
れる。本発明においては、２−｛２−ヒドロキシ−５−
（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾト
リアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキ
シプロピル−３−（３−ベンゾトリアゾール−４−ヒド
ロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネートなど
分子内に光重合性の官能基を有するものが特に好まし
い。

【００３０】光安定剤としては、合成樹脂用光安定剤と
して使用されているヒンダードアミン系光安定剤が好ま
しい。具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報の
段落番号００８０に記載された化合物が挙げられる。本
発明においては、Ｎ−メチル−４−メタクリロイルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの分
子内に重合性官能基を有するものが特に好ましい。

【００３１】酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾールなどのヒンダードフェノール系酸
化防止剤、トリフェニルホスファイトなどのリン系酸化
防止剤などが挙げられる。レベリング剤としては、シリ
コーン樹脂系レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング
剤などが挙げられる。

【００３２】消泡剤としては、ポリジメチルシロキサン
などのシリコーン樹脂系消泡剤などが挙げられる。増粘
剤としては、ポリメチルメタクリレート系ポリマー、水
添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系化合物などが挙げ
られる。

【００３３】有機着色顔料としては、縮合多環系有機顔
料、フタロシアニン系有機顔料などが挙げられる。無機
顔料としては、二酸化チタン、酸化コバルト、モリブデ
ンレッド、チタンブラックなどが挙げられる。

【００３４】着色染料としては、有機溶剤可溶性アゾ系
金属錯塩染料、有機溶剤可溶性フタロシアニン系染料な
どが挙げられる。

【００３５】赤外線吸収剤としては、ポリメチン系、フ
タロシアニン系、金属錯体系、アミニウム系、ジイモニ
ウム系、アントラキノン系、ジチオール金属錯体系、ナ
フトキノン系、インドールフェノール系、アゾ系、トリ
アリールメタン系の化合物などが挙げられる。

【００３６】防汚性付与剤、指紋除去性付与剤として
は、シリコン樹脂系防汚添加剤、フッ素樹脂系防汚添加
剤などが挙げられる。導電性微粒子としては、亜鉛、ア
ルミニウム、ニッケルなどの金属粉、リン化鉄、アンチ
モンドープ型酸化スズなどが挙げられる。

【００３７】帯電防止剤としては、ノニオン系帯電防止
剤、カチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤など
が挙げられる。硬化触媒としては、酸、アルカリまたは
塩類などから選ばれる硬化触媒が挙げられる。カップリ
ング剤としては、シランカップリング剤、チタネートカ
ップリング剤などが挙げられる。

【００３８】被覆組成物（Ａ）の硬化物層の厚さは０．
１〜１５０μｍが好ましい。ただし、被覆組成物（Ａ）
の硬化物層がカバー層を兼ねる場合は、該硬化物層の厚
さは５０〜１５０μｍが好ましく、特に９０〜１１０μ
ｍが好ましい。一方、別にカバー層が存在する場合は、
カバー層の厚さが０．１ｍｍ程度あるため、該硬化物層
の厚さは０．１〜５０μｍが好ましく、特に０．５〜３
０μｍが好ましい。

【００３９】次に、ディスク基盤について説明する。デ
ィスク基盤としては、ポリカーボネート、ポリメチルメ
タクリレート、アモルファスポリオレフィンなどの透明
樹脂またはガラスに直接案内溝を形成した基盤、上記樹
脂またはガラスにフォトポリマー法により案内溝を形成
した基盤が好ましく挙げられる。

【００４０】また、ディスク基盤の案内溝の表面には、
下記の誘電体膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜が
形成される。これらの膜の材質は特に限定されない。

【００４１】誘電体膜の材質としては、たとえば、Ｓｉ
₃Ｎ₄、ＳｉＯ₂、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、
ＡｌＴｉＮ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＳなどが好ましく挙げられ
る。

【００４２】記録膜の材質は、記録方式により異なる
が、たとえば、追記型光記録媒体ではＴｅ、Ｓｎ、Ｓｅ
などのカルコゲナイト系合金、相変化型光記録媒体では
ＴｅＯｘ、ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂなどのカルコゲナイト系
合金、光磁気ディスクではＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅ
Ｃｏなどの遷移金属と希土類金属との合金（単層または
２層以上の交換結合膜）が好ましく挙げられる。

【００４３】反射膜の材質としては、たとえば、Ａｌ、
Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕなどの金属、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒ
などの合金が挙げられる。

【００４４】図１には、本発明の一実施例である青色レ
ーザーディスクの断面の模式図（カバー層が別に設けら
れる場合）が示されている。この青色レーザーディスク
６は、ディスク基盤１の案内溝２を有する面に、誘電体
膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜３が形成され、
該積層膜３の表面にカバー層４が形成されている。そし
て、該カバー層の表面に被覆組成物（Ａ）の硬化物層で
あるハードコート層５が形成されている。

【００４５】本発明の青色レーザーディスクは、たとえ
ば以下のようにして製造できる。ディスク基盤の案内溝
を有する面に、常法により誘電体膜、記録膜、反射膜な
どからなる積層膜を形成する。誘電体膜、記録膜および
反射膜は、スパッタリング、イオンプレーティングなど
の物理蒸着法またはプラズマＣＶＤなどの化学蒸着法に
より形成できる。

【００４６】次いで、積層膜の表面に、スピンコート
法、ロールコーター法またはスクリーン印刷法などによ
り、（メタ）アクリル化合物、ビニル化合物、アリル化
合物などを含む活性エネルギ線硬化性樹脂またはエポキ
シ樹脂などの熱硬化性樹脂を均一に塗布した後、紫外線
や電子線などの活性エネルギ線照射による硬化および／
または熱硬化によりカバー層を形成する。カバー層の厚
さは９０〜１１０μｍが好ましい。

【００４７】次いで、カバー層の表面に、下記の方法に
より被覆組成物（Ａ）を塗工し、ハードコート層を形成
する。なお、被覆組成物（Ａ）の硬化物層がカバー層を
兼ねる場合は、積層膜の表面に被覆組成物（Ａ）を塗工
する。

【００４８】被覆組成物（Ａ）を塗工する方法として
は、スピンコート法、ロールコーター法、スクリーン印
刷法などを採用できる。本発明においては、生産性や表
面外観の点からスピンコート法が好ましく採用される。

【００４９】本発明において、被覆組成物（Ａ）を硬化
する方法としては、以下の１）〜３）の方法が挙げられ
る。なお、被覆組成物（Ａ）が溶剤を含む場合は、塗工
後に乾燥して溶剤を除いてから硬化することが好まし
い。

【００５０】１）被覆組成物（Ａ）を塗工した後、充分
な量の活性エネルギ線を照射して多官能性化合物の硬化
を終了させた後、ポリシラザンの部分硬化物または未硬
化物を加熱、室温に放置またはポリシラザンの硬化触媒
溶液の蒸気に曝して硬化させる。

【００５１】２）被覆組成物（Ａ）を塗工した後に、ポ
リシラザンの未硬化物を加熱、室温に放置またはポリシ
ラザンの硬化触媒溶液の蒸気に曝すことで硬化させ、次
いで充分な量の活性エネルギ線を照射して多官能性化合
物を硬化させる。

【００５２】３）被覆組成物（Ａ）を塗工した後に、充
分な量の活性エネルギ線を照射して、多官能性化合物の
硬化とポリシラザンの硬化をほぼ同時に行う。この方法
では、通常、ポリシラザンの硬化が多官能性化合物の硬
化よりも遅いので、実際は上記１）と同じプロセスで硬
化するものと考えられる。

【００５３】活性エネルギ線としては、特に紫外線が好
ましい。しかし、紫外線に限定されず、電子線やその他
の活性エネルギ線を使用できる。紫外線源としては、キ
セノンランプ、パルスキセノンランプ、低圧水銀灯、高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カー
ボンアーク灯、タングステンランプなどが使用できる。

【００５４】また、ポリシラザンを硬化させてシリカと
するためには、通常、焼成と呼ばれる加熱が必要である
が、本発明においては、ディスク基盤の耐熱性の点から
ポリシラザンの焼成温度は１８０℃以下とすることが好
ましい。

【００５５】通常、ポリシラザンの焼成温度を低下させ
るためには触媒が使用され、触媒の種類や量により低温
で硬化でき、場合によっては室温で硬化できる。また、
硬化を行う雰囲気としては空気中などの酸素の存在する
雰囲気が好ましい。ポリシラザンの焼成により、その窒
素原子が酸素原子に置換しシリカが生成する。充分な酸
素が存在する雰囲気中で焼成することにより緻密なシリ
カの層が形成される。

【００５６】触媒としては、より低温でポリシラザンを
硬化させる触媒を用いることが好ましい。そのような触
媒としては、たとえば特開平７−１９６９８６号公報に
記載されている金、銀、パラジウム、白金、ニッケルな
どの金属の微粒子や特開平５−９３２７５号公報に記載
されている上記金属のカルボン酸錯体の使用が挙げられ
る。また、触媒を被覆組成物（Ａ）に添加しておくので
はなく、特開平９−３１３３３号公報に記載されている
ように、触媒溶液、具体的にはアミン水溶液などに直接
被覆組成物（Ａ）を接触させる、またはその蒸気に一定
時間曝すといった方法も採用できる。

【００５７】また、ポリシラザンは光ラジカル発生剤の
存在下、活性エネルギ線の照射により硬化が促進される
ことが特開平１１−１８１２９０号公報に記載されてお
り、光ラジカル発生剤や活性エネルギ線の照射条件を最
適化することにより、上記触媒を含まない場合でも活性
エネルギ線により硬化できる。

【００５８】上記のようにして得られた青色レーザーデ
ィスクは、単板で用いてもよく、２枚以上を貼り合わせ
て用いてもよい。そして、必要に応じてハブを付け、カ
ートリッジへ組み込めばよい。

【００５９】

【実施例】以下、本発明を実施例（例１〜６）、比較例
（例７）に基づき説明するが、本発明はこれらに限定さ
れない。各例においては、ディスク基盤として、光記録
媒体用ポリカーボネート基盤（直径１２ｃｍ、厚さ１．
２ｍｍ）の片面（案内溝を有する面）に、積層膜（Ａｌ
からなる反射膜層、ＳｉＮからなる第１誘電体層、Ｔｂ
ＦｅＣｏからなる光磁気記録層、ＳｉＮからなる第２誘
電体層）をスパッタ法により成膜したものを用いた。

【００６０】また、各例で得られたサンプルについての
各種物性の測定および評価は以下に示す方法で行い、そ
の結果を表１に示した（初期曇価、耐磨耗性、および初
期黄色度の測定用サンプルは、反射膜の形成を省いたデ
ィスク基盤を用いて作製した。）。なお、参考として通
常の建築用ガラスシート（板ガラス）についての結果も
併せて表１に示した。

【００６１】［初期曇価、耐磨耗性］ＪＩＳ−Ｒ３２１
２における耐磨耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ磨
耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせ、５００回
転させたときの曇価（ヘーズ）をヘーズメータにて測定
した。曇価の測定は磨耗サイクル軌道の４カ所で行い、
平均値を算出した。初期曇価は耐磨耗試験前の曇価の値
（％）を、耐磨耗性は（耐磨耗試験後曇価）−（耐磨耗
試験前曇価）の値（％）を示す。

【００６２】［初期黄色度］スガ試験機社製カラーメー
タにより、サンプルの２点の黄色度（ＹＩ）の値を測定
し、平均値を求めた。

【００６３】［密着性］サンプルを剃刀の刃で１ｍｍ間
隔で縦横それぞれ１１本の切れ目を付け、１００個の碁
盤目を作り、市販のセロハンテープをよく密着させた
後、９０度手前方向に急激にはがした際の、ハードコー
ト層が剥離せずに残存した碁盤目の数（ｍ）をｍ／１０
０で表す。

【００６４】［例１］撹拌機および冷却管を装着した２
００ｍＬの４つ口フラスコに、水酸基を有するジペンタ
エリスリトールポリアクリレートと部分ヌレート化ヘキ
サメチレンジイソシアネートの反応生成物であるウレタ
ンアクリレート（１分子当り平均１５個のアクリロイル
基を含有）１０．０ｇと、カプロラクトン変性トリス
（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート（東亞
合成社製、商品名「アロニクスＭ−３２５」）１０．０
ｇを加え、続いてｎ−ブチルアクリレート１０．０ｇ
と、モルホリノアクリレート１０．０ｇ、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド
２．０ｇ、シリコーン系レベリング剤０．６３ｇ、ＰＭ
ＭＡ樹脂１０．０ｇを加え、常温で１時間撹拌した。続
いて低温硬化性のペルヒドロポリシラザンのキシレン溶
液（固形分２８質量％、クラリアントジャパン社製、商
品名「Ｎ−Ｄ１１０」、以下、塗工液２という。）４
４．６４ｇを加え、さらに常温で１時間撹拌して塗工液
１を得た。

【００６５】次に、ディスク基盤の積層膜の表面にスピ
ンコート法により塗工液１を塗工（ウエット厚さ１５０
μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保
持して溶剤を除去した後、これを空気雰囲気中、高圧水
銀灯を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ²（波長３００〜３９
０ｎｍ領域の紫外線積算エネルギ量、以下同じ。）の紫
外線を照射し、膜厚１００μｍの透明硬化物層を形成し
た。こうしてディスク基盤のレーザー光入射面に総膜厚
１００μｍのハードコート層（カバー層も兼ねる）を形
成したサンプルを得た。

【００６６】［例２］例１において、塗工液１を塗工
後、最後に１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射する代
わりに、３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その後
１００℃の熱風循環オーブン中で１２０分間保持した以
外は例１と同様にしてサンプルを得た。

【００６７】［例３］例２において、最後に１００℃の
熱風循環オーブン中で１２０分間保持する代わりに、２
３℃、相対湿度５５％の環境下で７日間養生した以外は
例１と同様にしてサンプルを得た。

【００６８】［例４］撹拌機および冷却管を装着した２
００ｍＬの４つ口フラスコに、酢酸ブチル１２１．３
ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０．
０ｇ、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−
２−モルホリノ−プロパン−１−オン３．０ｇ、シリコ
ーン系レベリング剤０．６３ｇを加え、常温で１時間撹
拌し、続いて塗工液２を３５．７１ｇ加え、さらに常温
で１時間撹拌して塗工液３を得た。

【００６９】次に、ディスク基盤の積層膜の表面に保護
コート剤（大日本インキ化学工業社製、商品名「ダイキ
ュアクリアＳＤ−３０１」、以下、塗工液４という。）
を約１００μｍの膜厚になるように塗布した後、１００
０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化させてカバー層
を形成した。

【００７０】そして、カバー層の表面にスピンコート法
により塗工液３を塗工（ウエット厚さ１５μｍ）して、
８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保持して溶剤を
除去した後、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて
１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚５μｍの
透明硬化物層を形成した。こうしてディスク基盤のカバ
ー層の表面に膜厚５μｍのハードコート層を形成したサ
ンプルを得た。

【００７１】［例５］例４において、塗工液３を塗工
後、最後に１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射する代
わりに、３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、その後
１００℃の熱風循環オーブン中で１２０分間保持した以
外は例４と同様にしてサンプルを得た。

【００７２】［例６］例５において、最後に１００℃の
熱風循環オーブン中で１２０分間保持する代わりに、２
３℃、相対湿度５５％の環境下で７日間養生した以外は
例５と同様にしてサンプルを得た。

【００７３】［例７］ディスク基盤の積層膜の表面に、
塗工液４を塗布（ウエット厚さ約１００μｍ）した後、
１０００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化させてカ
バー層を形成した。

【００７４】次いで、スピンコート法により三菱レーヨ
ン社製「ダイヤビームＵＲ−４５００」を塗工（厚さ５
μｍ）して、空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１００
０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚５μｍの層を形
成してサンプルを得た。

【００７５】

【表１】

【００７６】

【発明の効果】本発明によれば、ディスクのレーザー光
入射面に、高い耐磨耗性および透明性を有し、かつ基盤
との密着性に優れたハードコート層を有する青色レーザ
ーディスクおよびその製造方法を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例である青色レーザーディス
クの断面を表す模式図である。

【符号の簡単な説明】

１．ディスク基盤 ２．案内溝 ３．積層膜 ４．カバー層 ５．ハードコート層 ６．青色レーザーディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 博嗣 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 5D029 LA03 LA05 LB07 LC08 LC21 5D121 AA04 EE23 EE28 GG02

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ディスクのレーザー光入射面にハードコ
   ート層を有する青色レーザーディスクにおいて、前記ハ
   ードコート層が活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を
   １個以上有する化合物とポリシラザンとを含有する被覆
   組成物（Ａ）の透明硬化物層であることを特徴とする青
   色レーザーディスク。
2. 【請求項２】 前記透明硬化物層の厚さが０．１〜１５
   ０μｍである、請求項１に記載の青色レーザーディス
   ク。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載された青色レー
   ザーディスクの製造方法において、ディスクのレーザー
   光入射面の表面に、活性エネルギ線硬化性の重合性官能
   基を１個以上有する化合物とポリシラザンとを含有する
   被覆組成物（Ａ）を塗工し、次いで活性エネルギ線を照
   射して前記活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を１個
   以上有する化合物の硬化と、前記ポリシラザンの硬化を
   任意の順でまたは同時に行うことにより、前記被覆組成
   物（Ａ）の透明硬化物層を形成することを特徴とする青
   色レーザーディスクの製造方法。