JP2001344821A

JP2001344821A - ハードコート層を有する光ディスクおよびその製造方法

Info

Publication number: JP2001344821A
Application number: JP2000161760A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Kondo; 聡近藤; Toshihiko Higuchi; 俊彦樋口
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2000-05-31
Filing date: 2000-05-31
Publication date: 2001-12-14

Abstract

(57)【要約】【課題】レーザー光入射面に、より一層の耐磨耗性、
透明性に優れたハードコート層を有する光ディスクおよ
びその製造方法の提供。【解決手段】光ディスクのレーザー光入射面に、最外
層に接する内層が活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を２個以上有する多官能性化合物を含む被覆組成物
（Ａ）の硬化物層であり、最外層がポリシラザンを含む
被覆組成物（Ｂ）の硬化物層である２層以上の透明硬化
物層からなるハードコート層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクのレー
ザー光入射面に、耐磨耗性、透明性などに優れたハード
コート層（透明硬化物層）を有する光ディスクおよびそ
の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクのレーザー光入射面に傷があ
ったり塵埃が付着していると、記録再生を行なう際にエ
ラーを生じやすい。

【０００３】そのため、このような記録再生時のエラー
を防止するために、レーザー光入射面には紫外線硬化性
樹脂などの硬化性樹脂の硬化物層からなるハードコート
層が形成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、情報の高密度
集積化が進むにしたがい、レーザー光入射面のわずかな
傷によっても記録再生時のエラーが生じやすくなったた
め、上記ハードコート層にはより一層の耐磨耗性が求め
られるようになってきた。

【０００５】本発明は、レーザー光入射面に、耐磨耗性
に優れたハードコート層を有する光ディスクおよびその
製造方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の光ディスクは、光ディスクのレーザー光入
射面にハードコート層を有する光ディスクにおいて、前
記ハードコート層が２層以上の透明硬化物層からなり、
この透明硬化物層のうち最外層に接する内層が活性エネ
ルギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性
化合物を含む被覆組成物（Ａ）の硬化物層であり、最外
層がポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物層で
あることを特徴とする。

【０００７】また、本発明の光ディスクの製造方法は、
光ディスクのレーザー光入射面の表面に、活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化合
物を含む被覆組成物（Ａ）の未硬化物層、部分硬化物層
または硬化物層を形成し、この被覆組成物（Ａ）の層の
表面にポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）の未硬化物
層または部分硬化物層を形成し、被覆組成物（Ａ）の層
が硬化物層である場合は被覆組成物（Ｂ）の層を硬化さ
せ、被覆組成物（Ａ）の層が未硬化物層または部分硬化
物層である場合は被覆組成物（Ａ）および被覆組成物
（Ｂ）の層を任意の順でまたは同時に硬化させることを
特徴とする。

【０００８】本発明によれば、光ディスクのレーザー光
入射面の表面に、最外層に接する内層である活性エネル
ギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化
合物を含む被覆組成物（Ａ）の硬化物層と、最外層であ
るポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物層との
２層以上の透明硬化物層からなるハードコート層が形成
されるため、耐磨耗性に優れ、かつ基板との密着性に優
れたハードコート層を有する光ディスクを提供できる。

【０００９】上記ハードコート層は、シリカの被膜であ
る最外層が相対的に柔らかい光ディスクに直接積層され
るのではなく、耐磨耗性の高い硬い内層の表面に積層さ
れているため、光ディスクに対して傷を付けようとして
加えられた外力による最外層の変位が小さくなること
で、通常の無機質被膜が有する表面特性以上の表面特性
が得られると考えられる。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明において光ディスクとは、
全てのタイプの光ディスクを意味し、たとえばＲＯＭデ
ィスク、追記型ディスク、相変化型ディスク、有機フォ
トクロミック材料を記録層としたディスク、磁気光学効
果を利用した光磁気ディスクなどが挙げられる。

【００１１】本発明の光ディスクは、光ディスクのレー
ザー光入射面に、最外層に接する内層である活性エネル
ギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化
合物を含む被覆組成物（Ａ）の硬化物層と、最外層であ
るポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物層との
２層以上の透明硬化物層からなるハードコート層を有す
る。内層は種類の異なる２層以上の透明硬化物からなっ
ていてもよい。

【００１２】また、光ディスクとして用いる基板と内層
との間には、他の合成樹脂、たとえば、熱可塑性アクリ
ル樹脂などの熱可塑性樹脂の層や接着剤層からなる第３
の層が存在していてもよい。この第３の層は、内層と基
板の両者に対して充分な密着性を有することが好まし
い。通常、ハードコート層は内層と最外層の２層からな
るのが好ましい。内層は、最外層と高い密着性を有する
と共に基板とも高い密着性を有する。

【００１３】まず、被覆組成物（Ａ）について説明す
る。なお、以下の説明において、アクリロイル基および
メタクリロイル基を総称して（メタ）アクリロイル基と
いい、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリ
ル酸、（メタ）アクリレートなどの表現も同様とする。

【００１４】被覆組成物（Ａ）に含まれる活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化合
物（以下、単に多官能性化合物という。）としては、特
開平１１−２４０１０３号公報段落番号００１６〜００
２０、００２３〜００４７に記載された化合物が好まし
く挙げられる。

【００１５】好ましい多官能性化合物としては、（メ
タ）アクリロイル基から選ばれる１種以上の重合性官能
基を２個以上（２〜５０個が好ましく、より好ましくは
３〜３０個）有する化合物が挙げられる。その中でも
（メタ）アクリロイルオキシ基を２個以上有する化合
物、すなわち多価アルコールなどの２個以上の水酸基を
有する化合物と（メタ）アクリル酸とのポリエステルが
好ましい。特に、ウレタン結合を有する（メタ）アクリ
ロイル基含有化合物（以下、アクリルウレタンとい
う。）と、ウレタン結合を有しない（メタ）アクリル酸
エステル化合物が好ましい。

【００１６】上記アクリルウレタンとしては、ペンタエ
リスリトールやその多量体であるポリペンタエリスリト
ールとポリイソシアネートとヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートの反応生成物であるアクリルウレタ
ン、またはペンタエリスリトールやポリペンタエリスリ
トールの水酸基含有ポリ（メタ）アクリレートと、ポリ
イソシアネートとの反応生成物であるアクリルウレタン
であって、活性エネルギ線硬化性の重合性官能基を３個
以上（より好ましくは４〜２０個）有する多官能性化合
物が挙げられる。

【００１７】また、ウレタン結合を有しない（メタ）ア
クリル酸エステル化合物としては、ペンタエリスリトー
ル系ポリ（メタ）アクリレート、およびイソシアヌレー
ト系ポリ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、ペ
ンタエリスリトール系ポリ（メタ）アクリレートとは、
ペンタエリスリトールやポリペンタエリスリトールと
（メタ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を４〜２０個有す
る。）をいう。また、イソシアヌレート系ポリ（メタ）
アクリレートとは、トリス（ヒドロキシアルキル）イソ
シアヌレート、またはトリス（ヒドロキシアルキル）イ
ソシアヌレート１モルに１〜６モルのカプロラクトンや
アルキレンオキシドを付加して得られる付加物と、（メ
タ）アクリル酸とのポリエステル（好ましくは活性エネ
ルギ線硬化性の重合性官能基を２〜３個有する。）をい
う。

【００１８】本発明においては、上記の好ましい多官能
性化合物と、他の活性エネルギ線硬化性の重合性官能基
を２個以上有する多官能性化合物（特に多価アルコール
のポリ（メタ）アクリレート）とを併用してもよい。

【００１９】被覆組成物（Ａ）は、上記の多官能性化合
物と共に、活性エネルギ線によって重合しうる重合性官
能基を１個有する単官能性化合物（以下、単に単官能性
化合物という。）を含有してもよい。

【００２０】単官能性化合物としては、（メタ）アクリ
ロイル基を有する化合物が好ましく、特にアクリロイル
基を有する化合物が好ましい。また、その他に水酸基、
エポキシ基などの官能基を有していてもよい。

【００２１】好ましい単官能性化合物は、（メタ）アク
リル酸エステル、すなわち（メタ）アクリレートであ
り、具体的には、特開平１１−２６８１９６号公報段落
番号００４５に記載されたものが挙げられる。

【００２２】単官能性化合物を使用する場合、被覆組成
物（Ａ）における多官能性化合物および単官能性化合物
（以下、これらを活性エネルギ線硬化性成分という。）
との合計に対する該単官能性化合物の割合は、特に限定
されないが、６０質量％以下が好ましく、特に３０質量
％以下が好ましい。単官能性化合物の割合が多すぎると
被覆組成物（Ａ）の硬化物の硬さが低下し、耐磨耗性が
不充分になる。

【００２３】被覆組成物（Ａ）には、上記の基本的成分
以外に下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことがで
きる。

【００２４】被覆組成物（Ａ）において、溶剤は通常必
須の成分であり、活性エネルギ線硬化性成分が特に低粘
度の液体でないかぎり溶剤が使用される。

【００２５】溶剤としては、多官能性化合物を硬化性成
分とする被覆組成物に通常使用される溶剤を使用でき、
たとえば炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ケトン
類、エーテル類、エステル類などが挙げられる。なお、
基材の種類によって適切な溶剤を選択して用いることが
好ましく、基材が耐溶剤性の低い芳香族ポリカーボネー
ト系樹脂の場合には、低級アルコール類、セロソルブ
類、エステル類、またはそれらの混合物などを用いるこ
とが好ましい。具体的には、特開平１１−２６８１９６
号公報の段落番号００７４に記載された溶媒が挙げられ
る。本発明においては、エステル類、セロソルブ類、低
級アルコール類が特に好ましい。

【００２６】また溶剤の量は、必要とする組成物の粘
度、目的とする硬化物層の厚さ、乾燥条件などにより適
宜変更できる。本発明において、溶剤は、被覆組成物
（Ａ）中の活性エネルギ線硬化性成分に対して質量で１
００倍以下、好ましくは０．１〜５０倍用いられる。

【００２７】また、被覆組成物（Ａ）は、活性エネルギ
線硬化性成分を効率よく硬化させるために、光重合開始
剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知
のものを使用でき、特に入手容易な市販のものが好まし
い。

【００２８】光重合開始剤としては、アリールケトン系
光重合開始剤（たとえば、アセトフェノン類、ベンゾフ
ェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル
類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジ
メチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−ア
シロキシムエステル類など）、含イオウ系光重合開始剤
（たとえば、スルフィド類、チオキサントン類など）、
アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、ジアシルホ
スフィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始
剤が挙げられる。具体的には、特開平１１−２６８１９
６号公報の段落番号００６３〜００６５に記載された化
合物が挙げられる。本発明においては、アシルホスフィ
ンオキシド系光重合開始剤が特に好ましい。光重合開始
剤は、複数の種類を併用してもよく、アミン類などの光
増感剤と組み合わせて使用してもよい。

【００２９】被覆組成物（Ａ）における光重合開始剤の
量は、活性エネルギ線硬化性成分１００質量部に対して
０．０１〜２０質量部が好ましく、特に０．１〜１０質
量部が好ましい。

【００３０】機能性配合剤としては、上記の光重合開始
剤以外に、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、熱重
合防止剤、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止
剤、顔料（有機着色顔料、無機顔料）、帯電防止剤、硬
化性触媒からなる群から選ばれる１種以上の機能性配合
剤が挙げられる。

【００３１】紫外線吸収剤としては、合成樹脂用紫外線
吸収剤として通常使用されているようなベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、
サリチル酸系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外
線吸収剤などが好ましい。具体的には、特開平１１−２
６８１９６号公報の段落番号００７８に記載された化合
物が挙げられる。本発明においては、被覆組成物（Ａ）
が多官能性化合物を含有することから、２−｛２−ヒド
ロキシ−５−（２−アクリロイルオキシエチル）フェニ
ル｝ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタク
リロイルオキシプロピル−３−（３−ベンゾトリアゾー
ル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピ
オネートなど分子内に光重合性の官能基を有するものが
特に好ましい。

【００３２】光安定剤としては、合成樹脂用光安定剤と
して通常使用されているようなヒンダードアミン系光安
定剤が好ましい。具体的には、特開平１１−２６８１９
６号公報の段落番号００８０に記載された化合物が挙げ
られる。本発明においては、Ｎ−メチル−４−メタクリ
ロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ンなどの分子内に重合性官能基を有するものが特に好ま
しい。

【００３３】酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−ｐ−クレゾールなどのヒンダードフェノール系酸
化防止剤、トリフェニルホスファイトなどのリン系酸化
防止剤などが挙げられる。

【００３４】レベリング剤としては、シリコーン樹脂系
レベリング剤、アクリル樹脂系レベリング剤などが挙げ
られる。

【００３５】消泡剤としては、ポリジメチルシロキサン
などのシリコーン樹脂系消泡剤などが挙げられる。

【００３６】増粘剤としては、ポリメチルメタクリレー
ト系ポリマー、水添ひまし油系化合物、脂肪酸アミド系
化合物などが挙げられる。

【００３７】有機着色顔料としては、縮合多環系有機顔
料、フタロシアニン系有機顔料などが挙げられる。

【００３８】無機顔料としては、二酸化チタン、酸化コ
バルト、モリブデンレッド、チタンブラックなどが挙げ
られる。

【００３９】帯電防止剤としては、ノニオン系帯電防止
剤、カチオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤など
が挙げられる。

【００４０】硬化触媒としては、酸、アルカリまたは塩
類などから選ばれる硬化触媒が挙げられる。

【００４１】被覆組成物（Ａ）の硬化物層の厚さは１〜
５０μｍが好ましく、特に２〜３０μｍが好ましい。こ
の層の厚さが５０μｍ超では活性エネルギ線による硬化
が不充分になり、基板との密着性が損なわれやすくな
り、１μｍ未満ではこの層の耐磨耗性が不充分となるお
それがあり、また、この層の表面に形成される最外層の
耐磨耗性が充分発現できないおそれがある。

【００４２】次に、被覆組成物（Ｂ）について説明す
る。被覆組成物（Ｂ）に含まれるポリシラザンとして
は、特開平１１−２４０１０３号公報段落番号００９７
〜０１０４に記載されたポリシラザンが好ましく挙げら
れる。

【００４３】本発明においては、ペルヒドロポリシラザ
ンが好ましく、また、その分子量は、数平均分子量で２
００〜５万が好ましい。数平均分子量が２００未満では
焼成しても均一な硬化物が得られにくく、５万超では溶
剤に溶解しにくくなり好ましくない。

【００４４】被覆組成物（Ｂ）には、ポリシラザン以外
に下記の溶剤や種々の機能性配合剤を含むことができ
る。

【００４５】溶剤としては、炭化水素類、ハロゲン化炭
化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類を使用で
きる。具体的には、特開平１１−２４０１０３号公報段
落番号０１０６に記載された溶媒が好ましく挙げられ
る。本発明においては、キシレン、ジブチルエーテルが
特に好ましい。

【００４６】また、溶剤は、ポリシラザンの溶解度や溶
剤の蒸発速度を調節するために、複数の種類の溶剤を混
合して用いてもよい。

【００４７】溶剤の使用量は、採用される塗工方法およ
びポリシラザンの構造や平均分子量などによって異なる
が、固形分濃度で０．５〜８０質量％となるように調製
することが好ましい。

【００４８】機能性配合剤としては、上記の被覆組成物
（Ａ）で説明した機能性配合剤が好ましく挙げられる。

【００４９】被覆組成物（Ｂ）により形成される最外層
の厚さは０．０５〜１０μｍが好ましく、特に０．１〜
３μｍが好ましい。最外層の厚さが１０μｍ超では、耐
磨耗性などの表面特性の向上がそれ以上期待できないう
え、層が脆くなり、光ディスクのわずかな変形によって
も最外層にクラックなどが生じやすくなる。また、０．
０５μｍ未満では、この最外層の耐磨耗性が充分発現で
きないおそれがある。

【００５０】次に、被覆組成物（Ａ）および（Ｂ）の塗
工、硬化方法について説明する。上記の２種類の被覆組
成物（Ａ）および（Ｂ）を、光ディスクのレーザー光入
射面に塗工する方法としては、特に制限されず公知の方
法を採用できる。たとえば、ディップ法、フロートコー
ト法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、
ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコー
ト法、スピンコート法、スリットコート法、マイクログ
ラビアコート法などの種々の方法を採用できる。本発明
においては、生産性や表面外観の点からスピンコート法
が好ましく採用される。

【００５１】被覆組成物（Ａ）を硬化させる活性エネル
ギ線としては、特に限定されず、紫外線、電子線やその
他の活性エネルギ線を使用できるが、紫外線が好まし
い。紫外線源としては、キセノンランプ、パルスキセノ
ンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メ
タルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステン
ランプなどを使用できる。

【００５２】また、被覆組成物（Ｂ）に含まれるポリシ
ラザンを硬化させてシリカとする方法としては、特開平
１１−２４０１０４号公報段落番号０１１１〜０１１５
に記載された方法を採用できる。

【００５３】本発明においては、低温（１８０℃以下）
で焼成してポリシラザンを硬化させることが好ましい。
低温でポリシラザンを硬化させるためには、被覆組成物
（Ｂ）に触媒を添加するのが好ましく、より低温で硬化
できる触媒を用いることが好ましい。そのような触媒と
しては、たとえば、特開平７−１９６９８６号公報に記
載されている金、銀、パラジウム、白金、ニッケルなど
の金属の微粒子、特開平９−３１３３３号公報に記載さ
れているアミン類や酸類が挙げられる。

【００５４】上記金属の微粒子の粒径は０．１μｍより
小さいことが好ましく、さらに硬化物の透明性を確保す
るためには０．０５μｍより小さいことが好ましい。ま
た、粒径が小さいほど比表面積が増大して触媒能も増大
するので、触媒性能向上の点からもより小さい粒径の触
媒を使用することが好ましい。

【００５５】上記アミン類としては、たとえば、モノア
ルキルアミン、ジアルキルアミン、トリアルキルアミ
ン、モノアリールアミン、ジアリールアミン、環状アミ
ンなどが挙げられる。上記酸類としては、たとえば、酢
酸などの有機酸や塩酸などの無機酸が挙げられる。

【００５６】被覆組成物（Ｂ）にあらかじめ触媒として
上記金属の微粒子を添加する場合、その添加量は、ポリ
シラザン１００質量部に対して０．０１〜１０質量部が
好ましく、特に０．０５〜５質量部が好ましい。添加量
が０．０１質量部未満では充分な触媒効果が期待でき
ず、１０質量部超では触媒どうしの凝集が起こりやすく
なり、透明性を損なうおそれがある。

【００５７】また、上記アミン類や酸類は、被覆組成物
（Ｂ）に予め添加して用いてもよく、また、被覆組成物
（Ｂ）を塗工した後に、アミン類や酸類の溶液（水溶液
を含む。）または、それらの蒸気（水溶液からの蒸気を
含む。）に接触させてもよい。

【００５８】次に、光ディスクとして用いる基板（以
下、基板という。）について説明する。基板としては、
ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アモル
ファスポリオレフィンなどの透明樹脂またはガラスに直
接案内溝を形成した基板、上記樹脂またはガラスにフォ
トポリマー法により案内溝を形成した基板が好ましく挙
げられる。

【００５９】また、基板の案内溝の表面には、下記の誘
電体膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜が形成され
る。

【００６０】誘電体膜の材質は、たとえば、Ｓｉ₃Ｎ₄、
ＳｉＯ₂、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、ＡｌＴ
ｉＮ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＳなどが好ましく挙げられる。

【００６１】記録膜の材質は、記録方式により異なる
が、たとえば、追記型光ディスクではＴｅ、Ｓｎ、Ｓｅ
などのカルコゲナイト系合金、相変化型光ディスクでは
ＴｅＯｘ、ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂなどのカルコゲナイト系
合金、光磁気ディスクではＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅ
Ｃｏなどの遷移金属と希土類金属との合金（単層または
２層以上の交換結合膜）が好ましく挙げられる。

【００６２】反射膜の材質は、たとえば、Ａｌ、Ａｕ、
Ａｇ、Ｃｕなどの金属、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒなどの
合金が好ましく挙げられる。

【００６３】図１には、本発明の一実施例である光ディ
スクの断面の模式図が示されている。この光ディスク８
は、基板１の片面に案内溝２を有し、該案内溝２の表面
に積層膜３が形成され、さらにその表面に保護層４が形
成されている。一方、レーザー光入射面には、被覆組成
物（Ａ）の硬化物層である内層５と被覆組成物（Ｂ）の
硬化物層である最外層６からなるハードコート層７が形
成されている。

【００６４】本発明の光ディスクは、たとえば以下のよ
うにして製造できる。なお、下記の積層膜および保護層
の形成工程とハードコート層の形成工程の順序は特に制
限されず、どちらを先に行ってもよい。

【００６５】基板の案内溝を有する側の面に、常法によ
り誘電体膜、記録膜、反射膜などからなる積層膜を形成
する。誘電体膜、記録膜または反射膜は、スパッタリン
グ、イオンプレーディングなどの物理蒸着法またはプラ
ズマＣＶＤなどの化学蒸着法により形成できる。

【００６６】また、反射膜の表面に積層される保護層
は、スピンコート法、ロールコーター法またはスクリー
ン印刷法などの塗布方法により、硬化性樹脂などを均一
に塗布した後、紫外線や電子線などの活性エネルギ線照
射による硬化および／または熱硬化などにより形成でき
る。

【００６７】一方、基板のレーザー光入射面（案内溝の
形成されていない面）には、前記の方法により被覆組成
物（Ａ）および（Ｂ）を塗工し、ハードコート層を形成
する。

【００６８】なお、被覆組成物（Ａ）の硬化と、被覆組
成物（Ｂ）の塗工〜硬化の組み合わせ（タイミング）と
しては、以下の（１）〜（４）のタイミングが挙げられ
る。

【００６９】（１）被覆組成物（Ａ）を塗工した後、充
分な量の活性エネルギ線を照射して充分に被覆組成物
（Ａ）の硬化を終了させた後、その表面に被覆組成物
（Ｂ）の層を形成する。

【００７０】（２）被覆組成物（Ａ）を塗工して被覆組
成物（Ａ）の未硬化物の層を形成した後、その未硬化物
の層の表面に被覆組成物（Ｂ）を塗工して被覆組成物
（Ｂ）の未硬化物の層を形成し、その後に充分な量の活
性エネルギ線を照射して被覆組成物（Ａ）の硬化を終了
させる。この場合、被覆組成物（Ｂ）は被覆組成物
（Ａ）とほぼ同時に硬化するか、被覆組成物（Ａ）の硬
化後、硬化触媒溶液の蒸気雰囲気下に曝す、常温に放置
する、または加熱などにより硬化される。

【００７１】（３）被覆組成物（Ａ）を塗工した後、指
触乾燥状態になり、かつ完全硬化に至らないまでの量の
活性エネルギ線（通常、約３００ｍＪ／ｃｍ²までの照
射量）を一旦照射して被覆組成物（Ａ）の部分硬化物の
層を形成した後、その部分硬化物の層の表面に被覆組成
物（Ｂ）を塗工して被覆組成物（Ｂ）の未硬化物の層を
形成し、その後、完全硬化させるに充分な量の活性エネ
ルギ線を照射して被覆組成物（Ａ）の硬化を終了させ
る。なお、被覆組成物（Ｂ）の未硬化物の硬化は上記
（２）の場合と同様である。

【００７２】（４）上記（２）または（３）のように被
覆組成物（Ａ）の未硬化物または部分硬化物の層と被覆
組成物（Ｂ）の未硬化物の層とを形成した後、被覆組成
物（Ｂ）の未硬化物を先に部分硬化または完全硬化させ
て、その後に被覆組成物（Ａ）の未硬化物または部分硬
化物を完全硬化させる。この場合、被覆組成物（Ｂ）を
塗工する時点では被覆組成物（Ａ）は部分硬化物である
ことが好ましい。また、被覆組成物（Ａ）を完全硬化さ
せる時点では被覆組成物（Ｂ）は部分硬化物であること
が好ましい。

【００７３】本発明においては、２つの硬化物層の層間
密着力を上げるために、上記（２）または（３）のタイ
ミングで行なうことが好ましい。また、被覆組成物が溶
剤を含有している場合は、塗工後、乾燥して溶剤を除去
してから硬化させることが好ましい。

【００７４】上記のようにして得られた光ディスクは、
単板で用いてもよく、２枚以上を貼り合わせて用いても
よい。このようにして、基板の両面に各層を形成した
後、必要に応じてハブを付け、カートリッジへ組み込め
ばよい。

【００７５】

【実施例】以下、本発明を実施例（例１〜５）、比較例
（例６）に基づき説明するが、本発明はこれらに限定さ
れない。各例で得られたサンプルについての各種物性の
測定および評価は以下に示す方法で行い、その結果を表
１に示した。なお、参考として通常の建築用ガラスシー
ト（板ガラス）についての物性の測定および評価の結果
も併せて表１に示した。

【００７６】［初期曇価、耐磨耗性］ＪＩＳ−Ｒ３２１
２における耐磨耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ磨
耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせ５００回転
させたときの曇価（ヘーズ）をヘーズメータにて測定し
た。曇価の測定は磨耗サイクル軌道の４カ所で行い、平
均値を算出した。初期曇価は耐磨耗試験前の曇価の値
（％）を、耐磨耗性は（耐磨耗試験後曇価）−（耐磨耗
試験前曇価）の値（％）を示す。

【００７７】［初期黄色度］スガ試験機社製カラーメー
タにより、サンプルの２点の黄色度（ＹＩ）の値を測定
し、平均値を示す。

【００７８】［密着性］サンプルを剃刀の刃で１ｍｍ間
隔で縦横それぞれ１１本の切れ目を付け、１００個の碁
盤目を作り、市販のセロハンテープをよく密着させた
後、９０度手前方向に急激にはがした際の、被膜が剥離
せずに残存した碁盤目の数（ｍ）をｍ／１００で表す。

【００７９】［例１］撹拌機および冷却管を装着した２
００ｍＬの４つ口フラスコに、イソプロピルアルコール
２０．５ｇ、酢酸ブチル２０．５ｇ、１−メトキシ−２
−プロパノール１０．３ｇ、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルジフェニルホスフィンオキシド０．３３ｇ、２
−［４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピ
ルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン０．６６ｇ、ＰＭＭＡ樹脂２．０ｇおよびＮ−メチル
−４−メタクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン０．４４ｇを加え溶解させた。続いて
水酸基を有するジペンタエリスリトールポリアクリレー
トと部分ヌレート化ヘキサメチレンジイソシアネートの
反応生成物であるウレタンアクリレート（１分子あたり
平均１５個のアクリロイル基を含有）１０．０ｇと、カ
プロラクトン変性トリス（アクリロイルオキシエチル）
イソシアヌレート（東亞合成社製、商品名「アロニクス
Ｍ−３２５」）１０．０ｇを加え、常温で１時間撹拌し
て被覆組成物（以下、塗工液１という。）を得た。

【００８０】そして、３．５インチの光ディスク用ポリ
カーボネート基板のレーザー光入射面に、スピンコート
法により塗工液１を塗工（ウェット厚さ２０μｍ）し
て、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５００
ｍＪ／ｃｍ²（波長３００〜３９０ｎｍ領域の紫外線積
算エネルギ量、以下同じ。）の紫外線を照射し、膜厚６
μｍの透明硬化物層を形成した。

【００８１】次に、この表面にさらに低温硬化性のペル
ヒドロポリシラザンのキシレン溶液（固形分２０質量
％、東燃社製、商品名「Ｌ１１０」）（以下、塗工液２
という。）をバーコータを用いて塗工（ウェット厚さ６
μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブン中で１０分間保
持して溶剤を除去した後、続いて１００℃の熱風循環オ
ーブン中で１２０分間保持することで最外層を充分に硬
化させ、基材の表面に総膜厚７．２μｍの透明硬化物層
（ハードコート層）を形成した。

【００８２】一方、上記ハードコート層を形成した面の
反対側の面（案内溝を有する面）に、ＳｉＮからなる第
１誘電体層、ＴｂＦｅＣｏからなる光磁気記録層、Ｓｉ
Ｎからなる第２誘電体層、Ａｌからなる反射膜層を順次
スパッタ法により成膜した。さらに、この反射膜層の表
面に、保護コート剤（大日本インキ化学工業社製、商品
名「ダイキュアクリアＳＤ−３０１」）（以下、塗工液
３という。）を約１０μｍの膜厚になるように塗布した
後、５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化させ
て、光ディスクを製造した。

【００８３】［例２］例１において、塗工液１を塗工し
た後の工程を以下のように変更した以外は例１と同様に
して光ディスクを製造した。

【００８４】塗工液１を塗工後、これを空気雰囲気中、
高圧水銀灯を用いて１５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
し、膜厚６μｍの部分硬化物層を形成した。そして、こ
の表面に塗工液２の代わりに、無触媒のペルヒドロポリ
シラザンのキシレン溶液（固形分２０質量％、東燃社
製、商品名「Ｖ１１０」）をスピンコート法により塗工
（ウェット厚さ６μｍ）して、８０℃の熱風循環オーブ
ン中で１０分間保持して溶媒を除去した後、これを空気
雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１５００ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線を照射した。さらに１００℃の熱風循環オーブン
中で１２０分間保持した。

【００８５】［例３］例２において、最後に１００℃の
熱風循環オーブン中で１２０分間保持する代わりに、２
３℃、相対湿度５５％の環境において１日間養生した以
外は例２と同様にして光ディスクを製造した。

【００８６】［例４］例３において、最後に２３℃、相
対湿度５５％の環境において１日間養生する代わりに、
２５℃に保たれた３ｖｏｌ％トリエチルアミン水溶液の
浴の上に３分間保持した以外は例３と同様にして光ディ
スクを製造した。

【００８７】［例５］例３において、塗工液３の代わり
に、末端の一部がトリメチルシリル基で変性されたポリ
シラザンのキシレン溶液（固形分２０質量％、東燃社
製、商品名「Ｎ−Ｎ３１０」）を用いた以外は例３と同
様にして光ディスクを製造した。

【００８８】［例６］３．５インチの光ディスク用ポリ
カーボネート基板のレーザー光入射面に、スピンコート
法により保護コート剤（三菱レーヨン社製、商品名「ダ
イヤビームＵＲ−４５００」）を塗工（厚さ５μｍ）し
て、これを空気雰囲気中、高圧水銀灯を用いて１０００
ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、膜厚５μｍの透明硬化
物層（ハードコート層）を形成した。

【００８９】一方、上記ハードコート層を形成した面の
反対側の面（案内溝を有する面）に、ＳｉＮからなる第
１誘電体層、ＴｂＦｅＣｏからなる光磁気記録層、Ｓｉ
Ｎからなる第２誘電体層、Ａｌからなる反射膜層を順次
スパッタ法により成膜した。さらに、この反射膜層の表
面に、塗工液３を約１０μｍの膜厚になるように塗布し
た後、５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して硬化さ
せ、光ディスクを製造した。

【００９０】

【表１】

【００９１】

【発明の効果】本発明によれば、レーザー光入射面に、
高い耐磨耗性有し、かつ基板との密着性に優れたハード
コート層を有する光ディスクおよびその製造方法を提供
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である光ディスクの断面を
示す模式図である。

【符号の説明】１．基板２．案内溝３．積層膜４．保護層５．内層６．最外層７．ハードコート層８．光ディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ１１Ｂ 7/26 ５３１Ｇ１１Ｂ 7/26 ５３１Ｆターム(参考） 4J038 DL171 FA121 FA161 FA281 NA11 NA17 PA07 PA17 PB11 5D029 LB02 LB07 LB13 5D121 AA04 EE22 EE23 GG02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光ディスクのレーザー光入射面にハード
コート層を有する光ディスクにおいて、前記ハードコート層が２層以上の透明硬化物層からな
り、この透明硬化物層のうち最外層に接する内層が活性
エネルギ線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官
能性化合物を含む被覆組成物（Ａ）の硬化物層であり、
最外層がポリシラザンを含む被覆組成物（Ｂ）の硬化物
層であることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】前記被覆組成物（Ａ）の硬化物層の厚さ
が１〜５０μｍである、請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】前記被覆組成物（Ｂ）の硬化物層の厚さ
が０．０５〜１０μｍである、請求項１または２に記載
の光ディスク。
【請求項４】請求項１〜３のいずれかに記載された光
ディスクの製造方法において、光ディスクのレーザー光入射面の表面に、活性エネルギ
線硬化性の重合性官能基を２個以上有する多官能性化合
物を含む被覆組成物（Ａ）の未硬化物層、部分硬化物層
または硬化物層を形成し、この表面にポリシラザンを含
む被覆組成物（Ｂ）の未硬化物層または部分硬化物層を
形成し、被覆組成物（Ａ）の層が硬化物層である場合は
被覆組成物（Ｂ）の層を硬化させ、被覆組成物（Ａ）の
層が未硬化物層または部分硬化物層である場合は被覆組
成物（Ａ）および被覆組成物（Ｂ）の層を任意の順でま
たは同時に硬化させることを特徴とする光ディスクの製
造方法。