JP2006244579A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

【課題】支持基盤上に情報記録層と光透過層を順に有し、該光透過層を通して記録光及び／又は再生光が入射するように使用される光ディスクであって、反りが少なく、表面硬度及び透明性に優れた光透過層を備える光ディスクの提供。
【解決手段】光透過層は、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、かつ水酸基を有さない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｐ）と、紫外線吸収剤（Ｑ）とを、（Ａ）と（Ｂ）の合計１００質量部に対し（Ｐ）を０．１〜１５質量部、（Ｑ）を０．０１〜１０質量部の割合で含有し、２５℃における粘度が１０００〜１５０００ｍＰａ・ｓである紫外線硬化性組成物の硬化物であることを特徴とする光ディスク。
【選択図】なし

Description

本発明は、記録及び／又は再生するのに用いられる光が光透過層を通して情報記録層に照射される方式の光ディスクに関する。

大量のデータを高密度で記録、再生できる光ディスクにおいて、より高密度にデータを記録、再生するためには、レーザー光スポットのサイズをより小さくする必要がある。このサイズを小さくする方法としては、レーザー光波長（λ）を短くする方法、又はレンズの開口数（ＮＡ）を大きくする方法の２通りの方法が考えられる。現在用いられている光ディスク用の半導体レーザー光の波長は、主に７８０〜６５０ｎｍであるが、より短波長の緑又は青色レーザー光を用いる検討がなされている。特に、青色レーザー光を用いる方式としては光源の波長を４００ｎｍ程度、ＮＡを０．６以上として、より大きな記録密度を得ることが提案されている（特許文献１参照）。

一方、光源の短波長化や対物レンズの高ＮＡ化に伴ない、光ディスクのレーザー光入射面が光軸に対して直角より傾くチルトの許容量が小さくなり、また、光ディスクの厚みムラの許容量も小さくなるため、上記許容量を少しでも稼ぐためにレーザー光入射面の光透過層の厚さを薄くする必要がある。従来の光ディスクの光透過層の厚さは、コンパクトディスク（ＣＤ）で１．２ｍｍ、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）で０．６ｍｍであり、ディスク基盤自体が光透過層としての役割を果たしていた。しかし、短波長のレーザー光を用いる光記録媒体では、光透過層の厚さを１００μｍ程度にする必要があるため、従来のようにディスク基盤自体を光透過層とすることができず、ディスク基盤の反射膜、記録膜などの積層膜（以下、該積層膜を単に記録層と記すことがある。）を形成した面に光透過層が形成される。

光透過層の形成方法としては、特許文献１に記載されているような、例えば、（１）ポリカーボネート等の熱可塑性プラスチックフィルムを透明接着層を介して記録層上に貼り付ける方法、（２）紫外線硬化性樹脂を記録層上にスピンコート法により塗布した後に、紫外線を照射して光透過層を得る方法等が代表的な方法として挙げられる。

上記（１）の光透過層形成方法においては、熱可塑性透明プラスチックフィルムを使用する場合、フィルム自身の複屈折性が記録の書き込み及び再生において信号不良の原因になることから、複屈折の少ない特殊かつ高価なフィルムを使用する必要がある。さらにこのようなフィルムは耐擦傷性に劣り傷がつきやすいため、表面にハードコート層を薄く設ける必要があり、光ディスクの製造コストの上昇を招くという課題がある。

また、上記（２）の光透過層形成方法においては、使用可能な紫外線硬化性樹脂として、例えば特許文献２〜４等に記載される紫外線硬化性樹脂がある。しかし、これらの硬化性樹脂を用いて光透過層を形成した場合、耐擦傷性は上述のようなプラスチック製透明フィルムより良好となるものの、波長４００ｎｍ程度の光に対する透過率が低いので短波長記録が困難であったり、また、硬化性樹脂の重合収縮が高いので光ディスクに大きな反りが生じるという、実用上の課題がある。そこで、重合収縮を低減させるために柔軟な樹脂を用いると、表面が傷付きやすく信号の記録再生に支障を来しやすいといった不都合が生じるため、結局はさらにハードコート層を薄く設ける必要が生じ、光ディスクの製造コストの上昇を招くという課題がある。またこのような柔軟な樹脂層上にハードコート層を形成しても下地が柔軟すぎて、所定のハードコート性能が確保できないといった問題があった。

特開平８−２３５６３８号公報（請求項６、７、段落００２７〜００３０） 特開平３−１３１６０５号公報（実施例） 特開平１０−７７５１号公報（実施例） 特開平１１−１２４９５号公報（実施例）

そこで本発明は、支持基盤上に情報記録層と光透過層を順に有し、該光透過層を通して記録光及び／又は再生光が入射するように使用される光ディスクであって、反りが少なく、表面硬度及び透明性に優れた光透過層を備える光ディスクを提供することを課題とする。

本発明者らは、光透過層として、特定の紫外線硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物を用いることが非常に有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、支持基盤上に情報記録層を有し、該情報記録層上に厚さが５０〜１５０μｍの光透過層を有し、該光透過層を通して記録光及び／又は再生光が入射するように使用される光ディスクであって、前記光透過層は、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、かつ水酸基を有さない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｐ）と、紫外線吸収剤（Ｑ）とを、（Ａ）と（Ｂ）の合計１００質量部に対し（Ｐ）を０．１〜１５質量部、（Ｑ）を０．０１〜１０質量部の割合で含有し、２５℃における粘度が１０００〜１５０００ｍＰａ・ｓである紫外線硬化性組成物の硬化物であることを特徴とする光ディスクを提供する。

対物レンズの高ＮＡ化に伴ない、本発明の光ディスクは、光透過層の厚さを５０〜１５０μｍとする必要がある。本発明における紫外線硬化性組成物の２５℃における粘度は１０００〜１５０００ｍＰａ・ｓである。粘度が１０００ｍＰａ・ｓ未満ではスピンコートなどで一度の塗布により５０μｍ以上の膜厚を与えることが困難になり、一方１５０００ｍＰａ・ｓ超では泡などによる欠陥が出やすくなり、塗布が困難になる。

紫外線硬化性組成物において、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、水酸基を有しない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）は、硬化性組成物の粘度及び硬化性組成物から得られる硬化物の靭性の制御に寄与しうる成分である。
分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）は、上記（メタ）アクリレート化合物（Ａ）との相溶性が良好で硬化物の透明性を向上させ、かつ硬化物の表面耐擦傷性と機械的強度との向上に寄与しうる成分である。

紫外線吸収剤（Ｑ）は、記録層上に塗布された紫外線硬化性組成物を紫外線照射によって硬化物すなわち光透過層を得る際に、深部に到達する紫外線の強度を制御するための成分であり、本発明において特に重要な役割を有する。すなわち光透過層の表面から情報記録層の表面に向けて到達する紫外線の強度が、紫外線吸収剤（Ｑ）による吸収により深部方向に連続的に低下することから、形成された硬化物すなわち光透過層は深部方向へ硬化度が低下するという異方性構造を有する。この異方性構造の形成により、光透過層の表面は充分な耐擦傷性を保持しているにもかかわらず深部は比較的柔軟であるため、基盤にかかる重合収縮応力を緩和することができ、光ディスクの反りを最小限に抑えることが可能となる。

ここで、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対し、紫外線吸収剤（Ｑ）が０．０１質量部未満であると光透過層の表面に当たる光量と深部に届く光量の差異が小さくなるため、光透過層表面と、深部の硬化性の差異が小さくなり、本発明の特徴である重合収縮の低減効果が低下するため不適切である。一方、１０質量部超であると紫外線吸収剤の溶解性が充分でなくなり光透過層の透明性を損なうおそれがあり、かつ深部の硬化が不充分であるため光透過層と情報記録層の密着性が不充分になり剥離を生じる場合がある。

本発明はまた、支持基盤上に情報記録層を有し、該情報記録層上に厚さが５０〜１５０μｍの光透過層を有し、該光透過層を通して記録光及び／又は再生光が入射するように使用される光ディスクであって、前記光透過層は、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、かつ水酸基を有さない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｐ）と、紫外線吸収剤（Ｑ）を含有し、２５℃における粘度が１０００〜１５０００ｍＰａ・ｓである紫外線硬化性組成物の硬化物であって、光透過層の表面から情報記録層の表面に向けて深部方向へ硬化度が低下する異方性構造を有することを特徴とする光ディスクを提供するものである。なお、光透過層の表面と深部の硬化度の差は、表面反射型赤外線スペクトルにより、（メタ）アクリロイル基のＣ＝Ｃ二重結合の残存率を比較することにより確認することが可能である。すなわち、この発明においては、深部方向に徐々に二重結合の残存率が増大する。

本発明の光ディスクは、光ディスク基盤の情報記録面に光透過層が形成されており、この光透過層は高い表面耐擦傷性及び透明性を有すると同時に光ディスク全体の反りを抑えることができる。また、本発明によれば、上記の優れた特性を有する光透過層を一度のコーティングで光ディスク基盤の情報記録面に形成できるため、製造コスト面で有利である。

本発明において、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基とメタクリロイルオキシ基の総称であり、（メタ）アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの総称である。

本発明の光ディスクは、支持基盤上に情報記録層を有し、該情報記録層上に該光透過層を有するという構造を備え、この光透過層を通して記録光及び／又は再生光が入射するように使用されるものである。

光ディスクにおける光透過層は、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、かつ水酸基を有さない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｐ）と、紫外線吸収剤（Ｑ）を含有し、２５℃における粘度が１０００〜１５０００ｍＰａ・ｓである紫外線硬化性組成物の硬化物である。

分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、かつ水酸基を有さない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）としては、特に限定されることはないが、具体例として、例えば、（１）２以上のイソシアネート基を有する化合物（ａ１）と、（メタ）アクリロイル基と水酸基とを有する化合物（ａ２）との反応生成物、（２）２以上のイソシアネート基を有する化合物（ａ１）と、（メタ）アクリロイル基と水酸基とを有する化合物（ａ２）と、２以上の水酸基を有する化合物（ａ３）との反応生成物、（３）２以上のイソシアネート基を有する化合物（ａ１）と、２以上の水酸基を有する化合物（ａ３）と、（メタ）アクリロイル基とイソシアネート基とを有する化合物（ａ４）との反応生成物、などがある。

２以上のイソシアネート基を有する化合物（ａ１）の具体例としては、例えば以下の化合物がある（［ ］内は略称）。２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、メチレンビス（４−フェニルイソシアネート）［ＭＤＩ］、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート［ＸＤＩ］、水添ＸＤＩ、水添ＭＤＩ、１，６−ヘキサンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート。特にヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トランスシクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、水添ＸＤＩ、水添ＭＤＩ、１，６−ヘキサンジイソシアネートなどの脂肪族あるいは脂肪族環状構造を有する２官能のイソシアネートは、可視光領域の吸収が少なく青色レーザーによる黄変による透過率の低下が起こりにくいため好ましい。

（メタ）アクリロイル基と水酸基とを有する化合物（ａ２）の具体例としては、例えば以下の化合物がある。２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールモノ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ブテン−１，４−ジオールモノ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物。

２以上の水酸基を有する化合物（ａ３）の具体例としては、例えば以下の化合物がある。１，２−プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、２，２，４ートリメチル−１，３−ペンタンジオール、シクロヘキサンジオール、ジメチロールシクロヘキサン、トリメチロールプロパン、グリセリン、トリス（ヒドロキシアルキル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルの開環物。
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ビスフェノールＡ−アルキレンオキシド付加物、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポリオール。ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジオール等の脂肪族ポリオール。ポリε−カプロラクトンポリオール。アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、アゼライン酸、グルタル酸等の多塩基酸と上記多価アルコールとの反応で得られるポリエステルポリオール。１，６−ヘキサンジオールとホスゲンの反応で得られるポリカーボネートジオール。

（メタ）アクリロイル基とイソシアネート基とを有する化合物（ａ４）としては、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネートが挙げられる。

分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、かつ水酸基を有さない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）としては、脂肪族又は脂環族イソシアネートと、ポリエチレングリコール、ポリエステルポリオール及びポリカーボネートジオールからなる群から選択される１種以上と、（メタ）アクリロイル基と１個の水酸基とを有する化合物との反応性生物からなるウレタン（メタ）アクリレート化合物が、適当な粘度を有し、非晶質であるため透明性に優れ、４００ｎｍ付近の吸収が少なく、かつ靭性の高い硬化物を与えるため、好ましい。

分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）の具体例としては、例えば以下の化合物がある。トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、
ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸との反応生成物。

本発明における紫外線硬化性組成物は、必要に応じて反応性希釈剤又は粘度調整剤として、上記化合物（Ａ）及び上記化合物（Ｂ）以外のエチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｃ）を含有することが好ましい。化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）以外のエチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｃ）の具体例としては、例えば以下の化合物がある。

単官能（メタ）アクリレートとして例えば、置換基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ノニルフェノキシエチル、テトラヒドロフルフリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル、イソボルニル、ジシクロペンタニル、ジシクロペンテニル、ジシクロペンテニロキシエチル等の如き基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。

多官能（メタ）アクリレートとして例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ（メタ）アクリレート；トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等があげられる。

エチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｃ）としては、光重合時の着色が少なく、４００ｎｍ付近の光の透過に悪影響を与えにくいことから、分子内に脂肪族環構造を有する（メタ）アクリレート化合物が好ましい。この好ましい化合物の具体例としては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタン、トリメチロールプロパンホルマール（メタ）アクリレート、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート等の化合物類が挙げられる。

光重合開始剤（Ｐ）としては、アリールケトン系光重合開始剤（例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、アルキルアミノベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジメチルケタール類、ベンゾイルベンゾエート類、α−アシルオキシムエステル類など）、含イオウ系光重合開始剤（例えば、スルフィド類、チオキサントン類など）、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤、その他の光重合開始剤などが挙げられる。

該光重合開始剤（Ｐ）としては、以下に挙げる化合物が例示できる。４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルホリノプロパン−１−オン。

ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、９，１０−フェナントレンキノン、カンファーキノン、ジベンゾスベロン、２−エチルアントラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、メチルフェニルグリオキシレート。

４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン。

２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド。

特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンは光重合時の着色が少なく、４００ｎｍ付近の光の透過に悪影響を与えにくいため好ましい。

紫外線吸収剤（Ｅ）は、通常使用される紫外線吸収剤が使用される。ここで紫外線吸収剤とは２５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下、特に３００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下の紫外線を吸収し、吸収剤自体は分解しないで安定な形、例えば熱エネルギーなどとして放出するような形態を有する化合物をいう。合成樹脂用紫外線吸収剤として使用されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、無機酸化物系紫外線吸収剤などが挙げられる。

より具体的には、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の市販品の例として、チバガイギー社製チヌビンＰ（２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール）、チヌビン２３４、チヌビン３２０、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９００（２−｛２−ヒドロキシ−３，５−ジ（１，１−ジメチルベンジル）フェニル｝−２Ｈ−ベンゾトリアゾール）、チヌビン９２８（２−｛２−ヒドロキシ−３−ジメチルベンジル−５−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル｝−２Ｈ−ベンゾトリアゾール）、チヌビン１１３０、チヌビン１７１、チヌビン３２９、チヌビン２１３、チヌビン３８４、チヌビン５７１などが例示され、フェニルトリアジン系紫外線吸収剤として、チバガイギー社製チヌビン４００（２−｛４−(２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル)オキシ｝−２−ヒドロキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン）、チヌビン１５７７ＦＦなどが例示され、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤として、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン（住友化学製、スミソープ１００）、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、ビス（２−ヒドロキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾフェニル）メタンなどが例示される。

本発明においては、特に（メタ）アクリロイル基を有する反応性紫外線吸収剤が、深部方向の硬化性を連続的に変化させ、かつ硬化後のブリードアウトによる透明性の低下を最小限に抑えるため好ましい。具体例としては、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−アクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル−３−（３−ベンゾトリアゾール−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾール（大塚化学社製、ＲＵＶＡ−９３）、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル−３−（３−ベンゾトリアゾール−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネートなどが挙げられる。

本発明における紫外線吸収剤（Ｑ）としては、その他ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシエート、ｐ−オクチルフェニルサリシエートなどのフェニルサリシエート系紫外線吸収剤や酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム等の無機系紫外線吸収剤などを使用することができる。本発明において、これらの紫外線吸収剤は１種又は２種以上の混合物として使用することができる。

これらの紫外線吸収剤（Ｑ）の種類や量は、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）に対する溶解性に加え、使用される光重合開始剤（Ｐ）の種類や量および吸収の強さによって決まる。例えば、光重合開始剤（Ｐ）として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを用いた場合は、紫外線吸収剤（Ｑ）は４００ｎｍ付近の吸収が小さくかつ比較的低波長領域の紫外線を吸収することができる、２−｛４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ｝−２−ヒドロキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン（チヌビン４００）及び２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾールの少なくとも一方を組み合わせて使用することが好ましい。

紫外線硬化性組成物における上記化合物（Ａ）と上記化合物（Ｂ）の質量比は、（Ａ）：（Ｂ）＝１０〜５０：５０〜９０であることが好ましい。化合物（Ａ）の量が少なすぎると、光透過層の靭性が不充分になり、伸びが低下するため重合収縮が大きくなって硬化時の反りを吸収しにくくなる傾向にある。一方、化合物（Ａ）の量が多すぎる、すなわち化合物（Ｂ）の量が少なすぎると光透過層の耐擦傷性が低下する傾向にある。

紫外線硬化性組成物における上記エチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｃ）の割合は、化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対し、３０質量部以下であることが好ましい。（Ｃ）の量が３０質量部を超えると光透過層の耐擦傷性が損なわれるおそれがある。

化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対し、光重合開始剤（Ｐ）は０．１〜１５質量部であり、かつ紫外線吸収剤（Ｑ）は０．０１〜１０質量部である。光重合開始剤（Ｐ）が０．１質量部未満であると表面での硬化性不良を生じやすいことから、耐擦傷性が不充分になりやすく、一方、１５質量部超であると硬化物の着色による光透過率の低下を生じやすくなる。光重合開始剤（Ｐ）は好ましくは２質量部以上、７質量部以下である。また、紫外線吸収剤（Ｑ）が０．０１質量部未満であると光透過層の表面に当たる光量と深部に届く光量の差異が小さくなるため、光透過層表面と、深部の硬化性の差異が小さくなり、本発明の特徴である重合収縮の低減効果が低下するため不適切である。一方、１０質量部超であると紫外線吸収剤の溶解性が充分でなくなり光透過層の透明性を損なうおそれがあり、かつ深部の硬化が不充分であるため光透過層と情報記録層の密着性が不充分になり剥離を生じる場合がある。紫外線吸収剤（Ｑ）の下限は好ましくは０．１質量部以上、より好ましくは０．２質量部以上である。紫外線吸収剤（Ｑ）の上限は好ましくは１５質量部以下、より好ましくは５質量部以下である。

紫外線硬化性組成物の２５℃における粘度は１０００〜１５０００ｍＰａ・ｓである。粘度が１０００ｍＰａ・ｓ未満ではスピンコートなどで一度の塗布により５０μｍ以上の膜厚を与えることが困難になり、一方１５０００ｍＰａ・ｓ超では泡などによる欠陥が出やすくなり、塗布が困難になる。より好ましい範囲はスピンコート法による場合は２０００〜８０００ｍＰａ・ｓである。

本発明に使用する支持基盤としては、光透過率や複屈折などの光学的特性は要求されず、情報ピット又は案内溝を正確に転写でき、平坦で機械的強度が充分である基板が好ましい。例えば、金属、ガラス、セラミックス、プラスチック等の材料が使用可能である。特に、従来の光ディスク製造プロセスを利用できることから、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィン等の熱可塑性樹脂が好適である。

本発明の光ディスクは、情報記録面として誘電体膜、情報記録膜、反射膜などからなる情報記録層を有する。この情報記録層の材料は特に限定されず、読み取り専用型媒体、相変化型記録媒体、ピット形成タイプ記録媒体、光磁気記録媒体等に適用可能な材料を必要に応じて使用すればよい。例えば、金、銀、銀合金、アルミ、アルミ合金、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ合金、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ・Ｇｅ合金、Ｇｅ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｇｅ・Ｓｎ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｔｂ・Ｆｅ・Ｃｏ合金、色素等が使用可能である。また、情報記録層の少なくとも一方の側に、情報記録層の保護や光学的効果を目的としてＳｉＮ、ＺｎＳ、ＳｉＯ_２等の誘電体層を設けることも可能である。これらの情報記録層は、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理蒸着法またはプラズマＣＶＤなどの化学蒸着法により形成できる。

次に、紫外線硬化性組成物の塗工、硬化方法について説明する。紫外線硬化性組成物を、記録層上に塗工する方法としては、特に制限されず、公知ないし周知の方法などを採用できる。例えば、ディップ法、フロートコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート法、マイクログラビアコート法などの種々の方法を採用できる。塗工膜の厚さの制御のしやすさや塗工に要する時間を考慮するとスピンコート法が好ましい。

紫外線硬化性組成物を硬化させる紫外線源としては、キセノンランプ、パルスキセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプなどを使用できる。

照射する紫外線の照射量は、所望の光透過層の膜厚、使用する光重合開始剤（Ｐ）や紫外線吸収剤（Ｑ）の吸光係数と濃度によって最適な値が異なる。本発明の光ディスクは、先述のように光透過層の表面から情報記録層の表面に向けて深部方向へ硬化度が低下する異方性構造を有することを特徴とすることから、光透過層の表面と深部の硬化度に差が生じるように、すなわち、深部方向に徐々に（メタ）アクリロイル基のＣ＝Ｃ二重結合の残存率が増大するように紫外線の照射量を制御することにより得られる。

以下、本発明を実施例（例１〜４）、比較例（例５〜７）に基づき説明するが、本発明はこれらに限定されない。
また、各例で得られたサンプルについての各種物性の測定及び評価は以下に示す方法で行い、その結果を表１に示した。なお、耐磨耗性及び光線透過率の測定は、反射膜の形成を省いた１．２ｍｍのダミー状の光ディスク基盤を用いて形成したサンプルについて行った。また、反りについての評価は、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基盤を用いて形成したサンプルについて行った。

［組成物の粘度］
Ｅ型粘度計を用いて２５℃で測定した。

［反り］
サンプルをガラス平板上に光透過層の面を上にして置き、中心部を手で押さえた際の、ディスク端部のガラス面からの距離を隙間ゲージにて測定した。

［耐磨耗性］
ＪＩＳ−Ｒ３２１２における耐磨耗試験法により、２つのＣＳ−１０Ｆ磨耗輪にそれぞれ５００ｇの重りを組み合わせ５００回転させたときの曇価（ヘーズ）をヘーズメータにて測定した。曇価の測定は磨耗サイクル軌道の４カ所で行い、平均値を算出した。耐磨耗性は（耐磨耗試験後曇価）−（耐磨耗試験前曇価）の値（％）を示す。

［光線透過率］
島津製作所社製ＵＶ−３１００により、サンプルの基盤の測定値をキャンセルした測定波長４００ｎｍにおける光線透過率を測定した。

［例１］
撹拌機及び冷却管を装着した２００ｍＬの４つ口フラスコに、２官能ウレタンアクリレート（日本化薬社製、商品名「ＵＸ−６１０１」）を３０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート１００ｇ、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート１０ｇ、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５．２ｇ、反応性紫外線吸収剤（商品名：ＲＵＶＡ−９３、大塚化学社製）１．３ｇを加え、常温及び遮光にした状態で１時間撹拌したのち、真空ポンプにて脱気して粘度３０００ｍＰａ・ｓの組成物を得た。この組成物をディスク上に５ｇフィードし、スピンコーターにセットして２０００回転／分で１０秒間回転させた後、高圧水銀灯にて１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線光を照射して硬化させ、ディスクサンプルを得た。

［例２〜７］
例１における組成物の調整において、各原材料の種類及び割合を表１のように変更したほかは例１と同様にしてディスクサンプルを得た。

ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート
ＵＸ６１０１：（日本化薬社製、２官能ウレタンアクリレート）
Ｕ−４ＨＡ：（新中村化学社製、４官能ウレタンアクリレート）
Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメチロールジアクリレート
ＰＥ４Ａ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート

本発明により、高い表面耐擦傷性及び透明性を有すると同時に光ディスク全体の反りを抑えることができる光透過層が形成された光ディスクが得られる。

Claims (8)

1. 支持基盤上に情報記録層を有し、該情報記録層上に厚さが５０〜１５０μｍの光透過層を有し、該光透過層を通して記録光及び／又は再生光が入射するように使用される光ディスクであって、
   前記光透過層は、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、かつ水酸基を有さない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｐ）と、紫外線吸収剤（Ｑ）とを、（Ａ）と（Ｂ）の合計１００質量部に対し（Ｐ）を０．１〜１５質量部、（Ｑ）を０．０１〜１０質量部の割合で含有し、２５℃における粘度が１０００〜１５０００ｍＰａ・ｓである紫外線硬化性組成物の硬化物であることを特徴とする光ディスク。
2. 支持基盤上に情報記録層を有し、該情報記録層上に厚さが５０〜１５０μｍの光透過層を有し、該光透過層を通して記録光及び／又は再生光が入射するように使用される光ディスクであって、
   前記光透過層は、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも２個のウレタン結合を有し、かつ水酸基を有さない（メタ）アクリレート化合物（Ａ）と、分子内に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｐ）と、紫外線吸収剤（Ｑ）とを含有し、２５℃における粘度が１０００〜１５０００ｍＰａ・ｓである紫外線硬化性組成物の硬化物であって、光透過層の表面から情報記録層の表面に向けて深部方向へ硬化度が低下する異方性構造を有することを特徴とする光ディスク。
3. 前記紫外線硬化性組成物は、前記化合物（Ａ）及び前記化合物（Ｂ）以外のエチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｃ）を含有する請求項１又は２に記載の光ディスク。
4. 前記エチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｃ）は、分子内に脂肪族環状構造を有する（メタ）アクリレート化合物である請求項３に記載の光ディスク。
5. 前記紫外線吸収剤（Ｑ）は、分子内に（メタ）アクリロイルオキシ基を含む反応性紫外線吸収剤である請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク。
6. 前記光重合開始剤（Ｐ）は１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンであり、前記紫外線吸収剤（Ｑ）は２−｛４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ｝−２−ヒドロキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン及び２−｛２−ヒドロキシ−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル｝ベンゾトリアゾールの少なくとも一方である請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク。
7. 前記紫外線硬化性組成物における前記化合物（Ａ）と前記化合物（Ｂ）の質量比は、（Ａ）：（Ｂ）＝１０〜５０：５０〜９０である請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク。
8. 前記紫外線硬化性組成物における前記エチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｃ）の割合は、前記化合物（Ａ）と前記化合物（Ｂ）の合計１００質量部に対し、３０質量部以下である請求項３〜７のいずれかに記載の光ディスク。