JPH0464936A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
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- JPH0464936A JPH0464936A JP2175175A JP17517590A JPH0464936A JP H0464936 A JPH0464936 A JP H0464936A JP 2175175 A JP2175175 A JP 2175175A JP 17517590 A JP17517590 A JP 17517590A JP H0464936 A JPH0464936 A JP H0464936A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光ビームにより記録・再生・消去を行なうこ
とが可能な光学的記録媒体に関し、特に磁場変調法によ
るオーバーライド(重ね書き)が可能な光磁気記録媒体
に関するものである。
とが可能な光学的記録媒体に関し、特に磁場変調法によ
るオーバーライド(重ね書き)が可能な光磁気記録媒体
に関するものである。
[従来の技術]
従来、オーバーライドが可能な光磁気ディスク及びその
装置としては、例えば特開昭51−107121号公報
、特開昭63−217548号公報、特開昭59215
008号公報、特公昭60−48806号公報等に記載
されているように、記録する情報に応じて光磁気記録層
への印加磁場を変調させる方式、或いはアイ イー イ
ー イー(IEEE) r)ランサクション オン
マグネティクス(Transaction onMag
net;1cs) MAG−20J Vol、5.
1013頁(1,984年)に報告されているように、
2個の光スポットを用いる方式等が知られている。
装置としては、例えば特開昭51−107121号公報
、特開昭63−217548号公報、特開昭59215
008号公報、特公昭60−48806号公報等に記載
されているように、記録する情報に応じて光磁気記録層
への印加磁場を変調させる方式、或いはアイ イー イ
ー イー(IEEE) r)ランサクション オン
マグネティクス(Transaction onMag
net;1cs) MAG−20J Vol、5.
1013頁(1,984年)に報告されているように、
2個の光スポットを用いる方式等が知られている。
また、従来の光学的記録媒体における保護層としては、
特開昭61−123593号公報、特開昭611330
67号公報、特開昭61−139961号公報、特開昭
61−153844号公報等に開示されているように、
紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物により構成され
たものが用いられている。
特開昭61−123593号公報、特開昭611330
67号公報、特開昭61−139961号公報、特開昭
61−153844号公報等に開示されているように、
紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物により構成され
たものが用いられている。
上記の保護層を用いて光磁気記録層を保護している従来
の光学的記録媒体の代表的なものとしては、案内溝及び
プリフォーマット信号を有する樹脂基板上に真空蒸着、
スパッタリング等の方法によりSiN、 SiOx、
ZnS、 SiC等の無機誘電体の一種あるいは二種以
上を組み合わせた積層膜を形成し、その上にGdTb、
TbFe、 GdTbFe、 TbFe(:o。
の光学的記録媒体の代表的なものとしては、案内溝及び
プリフォーマット信号を有する樹脂基板上に真空蒸着、
スパッタリング等の方法によりSiN、 SiOx、
ZnS、 SiC等の無機誘電体の一種あるいは二種以
上を組み合わせた積層膜を形成し、その上にGdTb、
TbFe、 GdTbFe、 TbFe(:o。
GdTbFeCo等の非晶質光磁気記録層を設け、その
光磁気記録層の上に前記無機誘電体と同様の積層膜を形
成し、さらにその上に紫外線硬化型アクリレート系樹脂
組成物からなる保護層を設けて光磁気記録層を保護して
なるものである。
光磁気記録層の上に前記無機誘電体と同様の積層膜を形
成し、さらにその上に紫外線硬化型アクリレート系樹脂
組成物からなる保護層を設けて光磁気記録層を保護して
なるものである。
[発明が解決しようとする課題]
この様な光磁気記録層を有する光磁気記録媒体を用いた
、磁界変調方式のオーバーライド可能な光磁気記録シス
テムでは、特に始動時において、磁気ヘッドと光磁気記
録媒体の摺動が激しいために、度々磁気ヘッドがクラッ
シュする問題が発生する。この磁気ヘッドのクラッシュ
の原因としては、摺動により発生する光磁気記録媒体の
削れ(ず、媒体摺動面の突起や硬度等が考えられる。
、磁界変調方式のオーバーライド可能な光磁気記録シス
テムでは、特に始動時において、磁気ヘッドと光磁気記
録媒体の摺動が激しいために、度々磁気ヘッドがクラッ
シュする問題が発生する。この磁気ヘッドのクラッシュ
の原因としては、摺動により発生する光磁気記録媒体の
削れ(ず、媒体摺動面の突起や硬度等が考えられる。
従来、この磁気ヘッドのクラッシュを防止する対策とし
て、光磁気記録層の磁気ヘッドと対向する側に紫外線硬
化型アクリレート系樹脂などの樹脂を、例えば、1〜2
0gmの厚さに積層した保護層を設けることが提案され
ているが、クラッシュの防止は不十分である。具体的に
は、磁気ディスクに樹脂からなる保護層が設けられてい
るが、C8S試験(C:ontact 5tart 5
top Te5t)を行うと、 100万パスをクリア
することができず、ヘッドクラッシュが発生する状況で
ある。
て、光磁気記録層の磁気ヘッドと対向する側に紫外線硬
化型アクリレート系樹脂などの樹脂を、例えば、1〜2
0gmの厚さに積層した保護層を設けることが提案され
ているが、クラッシュの防止は不十分である。具体的に
は、磁気ディスクに樹脂からなる保護層が設けられてい
るが、C8S試験(C:ontact 5tart 5
top Te5t)を行うと、 100万パスをクリア
することができず、ヘッドクラッシュが発生する状況で
ある。
また、磁気ヘッドと光磁気記録媒体の表面とのステッキ
ング(吸着現象)も発生し、媒体の回転がスムーズにい
かないという問題が発生した。
ング(吸着現象)も発生し、媒体の回転がスムーズにい
かないという問題が発生した。
即ち、従来の紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物な
どの樹脂保護層では、耐摺動性が悪いものが多いい問題
があった。
どの樹脂保護層では、耐摺動性が悪いものが多いい問題
があった。
本発明は、この様な従来技術の問題を解決するするため
になされたものであり、保護層の表面粗さを特定の範囲
にすることにより、ヘッドクラッシュの発生およびステ
ッキングの発生がな(、耐摺動性に優れた長期間の信頼
性を維持することができる光学的記録媒体を提供するこ
とを目的とするものである。
になされたものであり、保護層の表面粗さを特定の範囲
にすることにより、ヘッドクラッシュの発生およびステ
ッキングの発生がな(、耐摺動性に優れた長期間の信頼
性を維持することができる光学的記録媒体を提供するこ
とを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
すなわち、本発明は、円板状の基板上に少なくとも光磁
気記録層を有し、その上に保護層を形成してなる光学的
記録媒体において、前記保護層の表面粗さが0.O1〜
0.051Lmの範囲であることを特徴とする光学的記
録媒体である。
気記録層を有し、その上に保護層を形成してなる光学的
記録媒体において、前記保護層の表面粗さが0.O1〜
0.051Lmの範囲であることを特徴とする光学的記
録媒体である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明者は、上記目的を達成するために、鋭意研究を行
なった結果、磁気ヘッドのヘッドクラッシュの発生およ
びステッキングの発生は、保護層の表面粗さが適切でな
いことが原因となっていることを見い出した。したがっ
て、本発明は、保護層の表面粗さを0.01〜0.05
pmの範囲に規定することにより、上記の問題を解決す
るものである。
なった結果、磁気ヘッドのヘッドクラッシュの発生およ
びステッキングの発生は、保護層の表面粗さが適切でな
いことが原因となっていることを見い出した。したがっ
て、本発明は、保護層の表面粗さを0.01〜0.05
pmの範囲に規定することにより、上記の問題を解決す
るものである。
本発明において、保護層を形成する樹脂組成物としては
、特に制限することなく光学的記録媒体の保護層に通常
使用されているものを用いることができる、例えば紫外
線の照射により硬化する紫外線硬化型樹脂組成物、特に
紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物が好ましい。
、特に制限することなく光学的記録媒体の保護層に通常
使用されているものを用いることができる、例えば紫外
線の照射により硬化する紫外線硬化型樹脂組成物、特に
紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物が好ましい。
紫外線硬化型アクリレート系樹脂組成物としては、通常
、(A)プレポリマー成分、(B)反応性希釈剤成分、
(C)光重合開始剤成分を混合した組成物よりなり、そ
の成分(A)、 (B)、 (C)の使用割合は、
(A)成分5〜95%=(B)成分95〜5%(重量比
) 、 (C)成分0.1〜10%(重量比)で組み入
れた組成物が用いられる。(A)プレポリマー成分とし
ては、ポリオールポリアクリレート、ポリエステルアク
リレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト等が挙げられる。また、(B)反応性希釈剤成分とし
ては、多価アルコールのアクリル酸エステルが用いられ
る。(C)光重合開始剤成分としては、公知の光重合開
始剤が用いられ、特に配合後の貯蔵安定性のよいものが
好ましく、例えば、ベンゾインアルキルエーテル系、ア
セトフェノン系、プロピオフェノン系、アントラキノン
系、チオキサントン系などである。これらは−種または
二種以上を任意の割合で混合して用いられている。
、(A)プレポリマー成分、(B)反応性希釈剤成分、
(C)光重合開始剤成分を混合した組成物よりなり、そ
の成分(A)、 (B)、 (C)の使用割合は、
(A)成分5〜95%=(B)成分95〜5%(重量比
) 、 (C)成分0.1〜10%(重量比)で組み入
れた組成物が用いられる。(A)プレポリマー成分とし
ては、ポリオールポリアクリレート、ポリエステルアク
リレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト等が挙げられる。また、(B)反応性希釈剤成分とし
ては、多価アルコールのアクリル酸エステルが用いられ
る。(C)光重合開始剤成分としては、公知の光重合開
始剤が用いられ、特に配合後の貯蔵安定性のよいものが
好ましく、例えば、ベンゾインアルキルエーテル系、ア
セトフェノン系、プロピオフェノン系、アントラキノン
系、チオキサントン系などである。これらは−種または
二種以上を任意の割合で混合して用いられている。
本発明においては、保護層の表面粗さが0.01〜0.
05ルm、好ましくは0.02〜0.04ルmの範囲に
あることが好ましく、0.01pm未満では磁気ヘッド
と保護層とのステッキングが発生し、また0、05gm
を越えるとステッキングの発生はないが、ヘッドクラッ
シュが発生するという問題が生ずる。なお、保護層の表
面粗さは、クリステツブ(ティラー・ホブソン■社製)
により、荷重5gをかけてディスク表面に測定子を圧着
し、ディスクの半径方向に走査して測定した値を示す。
05ルm、好ましくは0.02〜0.04ルmの範囲に
あることが好ましく、0.01pm未満では磁気ヘッド
と保護層とのステッキングが発生し、また0、05gm
を越えるとステッキングの発生はないが、ヘッドクラッ
シュが発生するという問題が生ずる。なお、保護層の表
面粗さは、クリステツブ(ティラー・ホブソン■社製)
により、荷重5gをかけてディスク表面に測定子を圧着
し、ディスクの半径方向に走査して測定した値を示す。
本発明において、保護層の表面粗さを0.01〜0.0
51部mに規定するためには、前記の紫外線硬化型樹脂
組成物に無機フィラーを添加する方法が挙げられる。こ
こで用いられる無機フィラーとしては、高硬度のもので
あればよ(、例えば、Ap203゜5iJ4. TiO
2,BN、 Zr0z等が挙げられる。無機フィラーの
添加量は、通常10〜60重量%、好ましくは10〜5
0重量%の範囲が望ましく、10重量%未満では保護層
の表面粗さが0.01gm未満となり、60重量%を越
えると保護層の接着性が低下し、基板上の下地層との密
着性が低下することがあり好ましくない。
51部mに規定するためには、前記の紫外線硬化型樹脂
組成物に無機フィラーを添加する方法が挙げられる。こ
こで用いられる無機フィラーとしては、高硬度のもので
あればよ(、例えば、Ap203゜5iJ4. TiO
2,BN、 Zr0z等が挙げられる。無機フィラーの
添加量は、通常10〜60重量%、好ましくは10〜5
0重量%の範囲が望ましく、10重量%未満では保護層
の表面粗さが0.01gm未満となり、60重量%を越
えると保護層の接着性が低下し、基板上の下地層との密
着性が低下することがあり好ましくない。
無機フィラーの平均粒子径は2μm以下、好ましくば0
.8〜1.5pmの範囲が望ましい。平均粒子径が2p
mを越えると、保護層の表面粗さが0.051部mを越
えるので好ましくない。
.8〜1.5pmの範囲が望ましい。平均粒子径が2p
mを越えると、保護層の表面粗さが0.051部mを越
えるので好ましくない。
また、保護層の表面粗さを0.01〜0.05#Lmに
規定する他の方法として、紫外線硬化型樹脂組成物を塗
布した後、表面粗さ0.旧〜0.05g、mのガラス基
板をその上に載せ、UV光を照射して樹脂を硬化させた
後、ガラス基板を剥離して保護層を形成する方法も用い
ることができる。
規定する他の方法として、紫外線硬化型樹脂組成物を塗
布した後、表面粗さ0.旧〜0.05g、mのガラス基
板をその上に載せ、UV光を照射して樹脂を硬化させた
後、ガラス基板を剥離して保護層を形成する方法も用い
ることができる。
また、保護層の厚さは2〜30pm、好ましくは5〜1
0pmの範囲が望ましい。2pm未満では外部からの傷
に対する保護層の保護機能が十分でなく、30μmをこ
えると樹脂保護層の硬化収縮により剥離を生じるために
好ましくない。
0pmの範囲が望ましい。2pm未満では外部からの傷
に対する保護層の保護機能が十分でなく、30μmをこ
えると樹脂保護層の硬化収縮により剥離を生じるために
好ましくない。
本発明における保護層の形成方法は、例えば、スピンコ
ーター、ロールコータ−、バーコーター等により紫外線
硬化型樹脂組成物を記録層上に塗布して、紫外線を照射
して硬化させることによって形成することができる。
ーター、ロールコータ−、バーコーター等により紫外線
硬化型樹脂組成物を記録層上に塗布して、紫外線を照射
して硬化させることによって形成することができる。
また、保護層は、光学的記録媒体の片面あるいは両面に
設けることができる。
設けることができる。
本発明の光学的記録媒体において、光磁気記録層には特
に制限することなる広範囲のものを用いることができる
が、例えばGdTb、 TbFe、 GdTbFe。
に制限することなる広範囲のものを用いることができる
が、例えばGdTb、 TbFe、 GdTbFe。
TbFeCo、 GdTbFeCo等の非晶質磁気記録
層が挙げられる。
層が挙げられる。
また、基板には、特に限定することはないが、例えば案
内溝及びプリフォーマット信号を有するポリカーボネー
ト樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフ
ィン系樹脂等よりなるものが用いられる。
内溝及びプリフォーマット信号を有するポリカーボネー
ト樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフ
ィン系樹脂等よりなるものが用いられる。
[実施例]
以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
なお、部は重量部を示す。
実施例1
第1図は本発明の光学的記録媒体の一実施例を示す説明
図である。同図に示す光学的記録媒体を以下の様にして
作成した。まず、案内溝および/またはプリフォーマッ
ト信号を有する厚さ1.2 mmのポリカーボネート基
板1上に、スパッタリング法により層厚800人のSi
、J4層2を成膜し、次いで層厚400人の非晶質Gd
Tb、層厚400人の非晶質TbFeを積層し光磁気記
録層3を設け、さらに層厚1000人のSj、J4層4
を成膜した。
図である。同図に示す光学的記録媒体を以下の様にして
作成した。まず、案内溝および/またはプリフォーマッ
ト信号を有する厚さ1.2 mmのポリカーボネート基
板1上に、スパッタリング法により層厚800人のSi
、J4層2を成膜し、次いで層厚400人の非晶質Gd
Tb、層厚400人の非晶質TbFeを積層し光磁気記
録層3を設け、さらに層厚1000人のSj、J4層4
を成膜した。
次に、以下の組成の紫外線硬化型ウレタンアクリレート
樹脂組成物をスピンコード(4000r、 p、 m。
樹脂組成物をスピンコード(4000r、 p、 m。
、7秒間)し、層厚7pmの樹脂層を作成した後、UV
ランプ(照射面上233W/cm2.波長365 nm
)を7秒間照射して、樹脂を硬化させ、樹脂保護層5を
形成し、光学的記録媒体を得た。
ランプ(照射面上233W/cm2.波長365 nm
)を7秒間照射して、樹脂を硬化させ、樹脂保護層5を
形成し、光学的記録媒体を得た。
なお、紫外線硬化型樹脂組成物としては、(1)紫外線
硬化樹脂 (5PC−339日本化薬■製)100部(2)アルミ
ナ(ARP−10住友化学(11)製平均粒子径1.O
μm) 50部 の混合物を用いた。
硬化樹脂 (5PC−339日本化薬■製)100部(2)アルミ
ナ(ARP−10住友化学(11)製平均粒子径1.O
μm) 50部 の混合物を用いた。
保護層の表面粗さを、クリステツブにより測定したとこ
ろ0.04部mであった。
ろ0.04部mであった。
実施例2
保護層を形成する紫外線硬化型樹脂組成物として、
(1)紫外線硬化樹脂
(SPCニー339日本化薬■製)100部(2)アル
ミナ (ARP−10住友化学■製)10部 の混合物を用いる以外は、実施例1と同様にして光学的
記録媒体を作成した。
ミナ (ARP−10住友化学■製)10部 の混合物を用いる以外は、実施例1と同様にして光学的
記録媒体を作成した。
保護層の表面粗さは0..015 p、mであった。
実施例3
保護層を形成する紫外線硬化型樹脂組成物として、
(1)紫外線硬化樹脂
(SPC−3,39日本化薬■製)100部(2)アル
ミナ (AKP−1o 住友化学■製)25部の混合物を用
いる以外は、実施例1と同様にして光学的記録媒体を作
成した。
ミナ (AKP−1o 住友化学■製)25部の混合物を用
いる以外は、実施例1と同様にして光学的記録媒体を作
成した。
保護層の表面粗さは0.025.pmであった。
実施例4
実施例1と同様に、紫外線硬化樹脂(5PC−339日
本化薬■製)をSi3N4層4上にコートした後、その
上から表面粗さ0.03部mにエツチング加工したガラ
ス板をのせ、ガラス板を透して上からUV光を照射し、
前記紫外線硬化樹脂層を硬化させた後、ガラス板を剥離
して保護層5を形成した。
本化薬■製)をSi3N4層4上にコートした後、その
上から表面粗さ0.03部mにエツチング加工したガラ
ス板をのせ、ガラス板を透して上からUV光を照射し、
前記紫外線硬化樹脂層を硬化させた後、ガラス板を剥離
して保護層5を形成した。
保護層の表面粗さは0.028 p、rnであった。
比較例1
紫外線硬化型樹脂組成物として、紫外線硬化樹脂(5P
C−339日本化薬■製)のみを用いる以外は実施例1
と同様にして光学的記録媒体を作成した。保護層の表面
粗さは0.008gmであった。
C−339日本化薬■製)のみを用いる以外は実施例1
と同様にして光学的記録媒体を作成した。保護層の表面
粗さは0.008gmであった。
比較例2
保護層を形成する紫外線硬化型樹脂組成物として、
(1)紫外線硬化樹脂
(5PC−339日本化薬■製)100部(2)アルミ
ナ (ARP−10住友化学■製)70部 の混合物を用いる以外は、実施例1と同様にして光学的
記録媒体を作成した。
ナ (ARP−10住友化学■製)70部 の混合物を用いる以外は、実施例1と同様にして光学的
記録媒体を作成した。
保護層の表面粗さは0.06部mであった。
作成した各光学的記録媒体を用いて、第1図に示す様に
、浮上型磁気ヘッド6を媒体表面に接触させた状態から
、2秒間で、媒体を浮上、 3600rpmに回転させ
る。(磁気ヘッドの浮上量1.6p’m)その後、2秒
間で、媒体の回転を3600rpmから落して停止させ
て磁気ヘッドを媒体表面に接触させる。これをくり返す
C3S試験を行った結果、実施例1〜4はC8S試験1
00万バスをクリアでき、ヘッドクラッシュの発生およ
びステッキングの発生もなかった。
、浮上型磁気ヘッド6を媒体表面に接触させた状態から
、2秒間で、媒体を浮上、 3600rpmに回転させ
る。(磁気ヘッドの浮上量1.6p’m)その後、2秒
間で、媒体の回転を3600rpmから落して停止させ
て磁気ヘッドを媒体表面に接触させる。これをくり返す
C3S試験を行った結果、実施例1〜4はC8S試験1
00万バスをクリアでき、ヘッドクラッシュの発生およ
びステッキングの発生もなかった。
方、比較例1,2は、CSS試験100万パスをクリア
できず、ヘッドクラッシュが発生した。また、ステッキ
ングが発生した。
できず、ヘッドクラッシュが発生した。また、ステッキ
ングが発生した。
○ステッキングの測定方法
バネ荷重5gをスライダー上にかけたときのスライダー
をディスク上で平行方向に移動させるのに要する力を測
定したところ、比較例では50gの駆動力が必要であっ
た。本発明の実施例においては5g以下となり、ステッ
キングの発生はなかった。
をディスク上で平行方向に移動させるのに要する力を測
定したところ、比較例では50gの駆動力が必要であっ
た。本発明の実施例においては5g以下となり、ステッ
キングの発生はなかった。
即ち、本発明により、長期間信頼性を維持する光磁気デ
ィスクシステムを達成することが可能となった。
ィスクシステムを達成することが可能となった。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の光学的記録媒体は、保護
層の表面粗さを0.01〜0.05部mの範囲に規定す
ることにより、ヘッドクラッシュの発生及びステッキン
グの発生がなく、長期間の信頼性を維持するこができる
効果が得られる。
層の表面粗さを0.01〜0.05部mの範囲に規定す
ることにより、ヘッドクラッシュの発生及びステッキン
グの発生がなく、長期間の信頼性を維持するこができる
効果が得られる。
第1図は本発明の光学的記録媒体の一実施例を示す説明
図である。 1・・・基板 2,4・・・5iaN4層
3・・・光磁気記録層 5・・・保護層6・・・浮
上型磁気ヘッド
図である。 1・・・基板 2,4・・・5iaN4層
3・・・光磁気記録層 5・・・保護層6・・・浮
上型磁気ヘッド
Claims (1)
- 円板状の基板上に少なくとも光磁気記録層を有し、その
上に保護層を形成してなる光学的記録媒体において、前
記保護層の表面粗さが0.01〜0.05μmの範囲で
あることを特徴とする光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2175175A JPH0464936A (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2175175A JPH0464936A (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | 光学的記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0464936A true JPH0464936A (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=15991583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2175175A Pending JPH0464936A (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0464936A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0479045A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-12 | Sharp Corp | 光磁気ディスクの製造方法 |
US5576087A (en) * | 1992-09-18 | 1996-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium |
US7129019B2 (en) * | 2001-06-22 | 2006-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
US7341820B2 (en) | 2001-11-30 | 2008-03-11 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
US7384723B2 (en) | 2002-01-23 | 2008-06-10 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
-
1990
- 1990-07-04 JP JP2175175A patent/JPH0464936A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0479045A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-12 | Sharp Corp | 光磁気ディスクの製造方法 |
US5576087A (en) * | 1992-09-18 | 1996-11-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Magneto-optical recording medium |
US7129019B2 (en) * | 2001-06-22 | 2006-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
US7341820B2 (en) | 2001-11-30 | 2008-03-11 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
US7384723B2 (en) | 2002-01-23 | 2008-06-10 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium |
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