JP2958015B2 - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JP2958015B2 JP2958015B2 JP1053133A JP5313389A JP2958015B2 JP 2958015 B2 JP2958015 B2 JP 2958015B2 JP 1053133 A JP1053133 A JP 1053133A JP 5313389 A JP5313389 A JP 5313389A JP 2958015 B2 JP2958015 B2 JP 2958015B2
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- Japan
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- film
- magnetic
- optical disk
- disk
- head
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 光ディスクに関し、案内溝が形成されたディスク基板
と、ディスク基板の案内溝が形成された面上に形成され
た下地膜と、下地膜上に形成された記録膜と、記録膜上
に形成された保護膜と、保護膜上に形成されてなるとと
もに、ヘッドの吸着を防止するようにその表層に機械的
手段による粗面化処理が施されてなる樹脂膜とを少なく
とも備えてなる光ディスクを構成する。
と、ディスク基板の案内溝が形成された面上に形成され
た下地膜と、下地膜上に形成された記録膜と、記録膜上
に形成された保護膜と、保護膜上に形成されてなるとと
もに、ヘッドの吸着を防止するようにその表層に機械的
手段による粗面化処理が施されてなる樹脂膜とを少なく
とも備えてなる光ディスクを構成する。
本発明は浮上磁気ヘッドの使用に適した光磁気ディス
クの構成に関する。
クの構成に関する。
光磁気ディスクは記録膜を垂直磁化している磁性膜で
形成し、外部より磁化方向と反対方向に垂直磁界を加え
ながらレーザ光を照射すると、照射した磁性膜が温度上
昇することによって磁性膜の保磁力が減少し、磁化反転
が生じるのを利用して情報の記録と消去とを行うメモリ
である。
形成し、外部より磁化方向と反対方向に垂直磁界を加え
ながらレーザ光を照射すると、照射した磁性膜が温度上
昇することによって磁性膜の保磁力が減少し、磁化反転
が生じるのを利用して情報の記録と消去とを行うメモリ
である。
そして、情報の再生は磁性膜にレーザ光を照射した場
合に反射光の偏光面が回転するが、この回転方向が磁性
膜の磁化方向により異なるのを利用して行われている。
合に反射光の偏光面が回転するが、この回転方向が磁性
膜の磁化方向により異なるのを利用して行われている。
このように光磁気ディスクは情報の書き換え可能なメ
モリ（Erasable Memory）である点に特徴があり、電算
機用ファイルメモリとして期待されている。
モリ（Erasable Memory）である点に特徴があり、電算
機用ファイルメモリとして期待されている。
然し、従来の光磁気ディスク装置において、既にディ
スクに情報が記録されている場合には、記録情報を消去
して後に記録が行う必要があり、情報の消去に費やす一
回転分の時間と動作が余分に必要であった。
スクに情報が記録されている場合には、記録情報を消去
して後に記録が行う必要があり、情報の消去に費やす一
回転分の時間と動作が余分に必要であった。
そのため、重ね書き（Over−write）の実現が要望さ
れていた。
れていた。
重ね書きを実現する方法の一つとして、レーザ光を光
ディスクに照射しながら、外部磁界を記録すべき情報に
合わせて印加する方法がある。
ディスクに照射しながら、外部磁界を記録すべき情報に
合わせて印加する方法がある。
この場合、外部磁界発生部は信号に合わせて高速に磁
界反転することが必要であり、そのためには磁界発生部
の磁気回路は小型で且つ小インダクタンスであることが
必要である。
界反転することが必要であり、そのためには磁界発生部
の磁気回路は小型で且つ小インダクタンスであることが
必要である。
また、磁界発生部は迅速に位置決め制御ができること
が必要である。
が必要である。
かゝる要求に対して、従来の磁気ディスク装置に用い
られている浮上磁気ヘッド（Flying−head）をそのまゝ
使用することができれば、ヘッドアクセス機構は最適で
あり、また磁気回路についても現状のまゝで適用でき、
垂直磁界を効率よく発生できるようにすることで、適用
性を大幅に増すことができる。
られている浮上磁気ヘッド（Flying−head）をそのまゝ
使用することができれば、ヘッドアクセス機構は最適で
あり、また磁気回路についても現状のまゝで適用でき、
垂直磁界を効率よく発生できるようにすることで、適用
性を大幅に増すことができる。
然し、浮上磁気ヘッド（以下略して磁気ヘッド）を使
用する場合は、CSS（コンタクト・スタート・ストッ
プ）動作に耐えることが必要である。
用する場合は、CSS（コンタクト・スタート・ストッ
プ）動作に耐えることが必要である。
すなわら、磁気ディスク回転の始動時と停止時に磁気
ヘッドとの間に発生する摺動摩擦と、浮上の際や塵埃の
存在などによって生ずるヘッドクラッシュ（Head−cras
h）に対して、記録膜が耐えて損傷しないことが必要で
ある。
ヘッドとの間に発生する摺動摩擦と、浮上の際や塵埃の
存在などによって生ずるヘッドクラッシュ（Head−cras
h）に対して、記録膜が耐えて損傷しないことが必要で
ある。
先に記したように磁気ディスク装置において行われて
いる重ね書き法を光磁気ディスクに適用しようとする
と、磁気ヘッドの摺動摩擦やヘッドクラッシュによる記
録膜の破壊が問題となる。
いる重ね書き法を光磁気ディスクに適用しようとする
と、磁気ヘッドの摺動摩擦やヘッドクラッシュによる記
録膜の破壊が問題となる。
すなわち、第２図に示すように光磁気ディスクは透明
なディスク基板１の上に下地膜2,記録膜3,保護膜４と層
構造をなして形成されている。
なディスク基板１の上に下地膜2,記録膜3,保護膜４と層
構造をなして形成されている。
こゝで、ディスク基板１としてはディスク状をしたガ
ラス基板の上にフォトポリマを型形成した状態でガラス
基板を通して紫外線を照射し、硬化させることにより案
内溝（プリグルーブ）を形成したディスク基板を用いる
か、或いは直接に樹脂モールドを施して案内溝をつけた
ディスク基板１が使用されている。
ラス基板の上にフォトポリマを型形成した状態でガラス
基板を通して紫外線を照射し、硬化させることにより案
内溝（プリグルーブ）を形成したディスク基板を用いる
か、或いは直接に樹脂モールドを施して案内溝をつけた
ディスク基板１が使用されている。
そして、フォトポリマや樹脂を通って湿気や不純物の
拡散による記録膜３の劣化を防ぐために、このディスク
基板１の上に、二酸化硅素（SiO2）や窒化硅素（Si
3N4）などからなる下地膜２を設け、また記録膜３の上
には同様な材料を用いて保護膜４が形成されている。
拡散による記録膜３の劣化を防ぐために、このディスク
基板１の上に、二酸化硅素（SiO2）や窒化硅素（Si
3N4）などからなる下地膜２を設け、また記録膜３の上
には同様な材料を用いて保護膜４が形成されている。
然し、これら下地膜2,記録膜3,保護膜４などの厚さは
0.1μｍ程度と薄いために、磁気ヘッドの摺動摩擦やヘ
ッドクラッシュのような機械的な衝撃に対しては弱く、
数回の繰り返しで記録膜に傷がついて不良となる。
0.1μｍ程度と薄いために、磁気ヘッドの摺動摩擦やヘ
ッドクラッシュのような機械的な衝撃に対しては弱く、
数回の繰り返しで記録膜に傷がついて不良となる。
そこで、かゝる問題を解決し、重ね書きを実用化する
ことが課題である。
ことが課題である。
上記の課題は、案内溝が形成されたディスク基板１
と、ディスク基板の案内溝が形成された面上に形成され
た下地膜２と、下地膜２上に形成された記録膜３と、記
録膜３上に形成された保護膜４と、保護膜４上に形成さ
れてなるとともに、ヘッドの吸着を防止するようにその
表面に機械的手段による粗面化処理が施されてなる樹脂
膜５とを少なくとも備えてなる光ディスクを構成するこ
とにより解決することができる。
と、ディスク基板の案内溝が形成された面上に形成され
た下地膜２と、下地膜２上に形成された記録膜３と、記
録膜３上に形成された保護膜４と、保護膜４上に形成さ
れてなるとともに、ヘッドの吸着を防止するようにその
表面に機械的手段による粗面化処理が施されてなる樹脂
膜５とを少なくとも備えてなる光ディスクを構成するこ
とにより解決することができる。
本発明は第１図に示すように、 ディスク基板1/下地膜2/記録膜3/保護膜４と層構造をな
して形成されている光磁気ディスクの保護膜４の上に樹
脂膜５を設けるものである。
して形成されている光磁気ディスクの保護膜４の上に樹
脂膜５を設けるものである。
こゝで、保護膜は紫外線硬化樹脂，熱硬化樹脂や両者
の混合樹脂など各種の樹脂を使用することができる。
の混合樹脂など各種の樹脂を使用することができる。
例えば、紫外線硬化樹脂としてアクリル系やエポキシ
系の樹脂があり、また熱硬化樹脂としてアクリル樹脂，
エポキシ樹脂，メラミン樹脂などがあるが、これを単独
に、また混合して使用してもよい。
系の樹脂があり、また熱硬化樹脂としてアクリル樹脂，
エポキシ樹脂，メラミン樹脂などがあるが、これを単独
に、また混合して使用してもよい。
然し、こゝで問題となるのは樹脂膜５の表面状態であ
る。
る。
すなわち、磁気ディスクの場合、磁気ヘッドは例えば
マンガン（Mn）・亜鉛（Zn）フェライトからなり、磁気
ヘッドの荷重は約8gで、磁気ディスクを3000rpmで回転
させた場合に記録膜上に0.16μｍ浮上するようにして使
用されている。
マンガン（Mn）・亜鉛（Zn）フェライトからなり、磁気
ヘッドの荷重は約8gで、磁気ディスクを3000rpmで回転
させた場合に記録膜上に0.16μｍ浮上するようにして使
用されている。
然し、記録膜の表面粗さが悪いと磁気ヘッドの浮上は
困難となり、一方、ガラス基板のように平坦な場合〔表
面粗さ＜0.01μm Ra（Roughness−averageの略）〕では
磁気ヘッドは吸着を起こして磁気ディスクを回転させる
のに大きな回転トルクを必要とし、また、例え吸着力以
上のトルクで磁気ディスクを回転させても、吸着が解除
された瞬間に、磁気ヘッドは吸着による拘束力の反動で
ディスクに衝突する。
困難となり、一方、ガラス基板のように平坦な場合〔表
面粗さ＜0.01μm Ra（Roughness−averageの略）〕では
磁気ヘッドは吸着を起こして磁気ディスクを回転させる
のに大きな回転トルクを必要とし、また、例え吸着力以
上のトルクで磁気ディスクを回転させても、吸着が解除
された瞬間に、磁気ヘッドは吸着による拘束力の反動で
ディスクに衝突する。
これらのことから、光磁気ディスクにおいて、表面が
平滑な樹脂膜を作るのは簡単であるが、この場合に起こ
る吸着を避けるために、吸着が発生しない程度の粗面化
を行うことが必要である。
平滑な樹脂膜を作るのは簡単であるが、この場合に起こ
る吸着を避けるために、吸着が発生しない程度の粗面化
を行うことが必要である。
厚さが1.2mm,直径が８インチのガラス基板面にフォト
ポリマを用いて案内溝を形成してあるディスク基板を使
用した。
ポリマを用いて案内溝を形成してあるディスク基板を使
用した。
そして、従来のように高周波スパッタ法によりテルビ
ウム・二酸化硅素の混合物（Tb−SiO2）からなる下地
膜，テルビウム・鉄・コバルト（TbFeCo）合金からなる
記録膜,Tb−SiO2からなる保護膜を順次に、それぞれ0.1
μｍの厚さに形成して光磁気ディスクを作った。
ウム・二酸化硅素の混合物（Tb−SiO2）からなる下地
膜，テルビウム・鉄・コバルト（TbFeCo）合金からなる
記録膜,Tb−SiO2からなる保護膜を順次に、それぞれ0.1
μｍの厚さに形成して光磁気ディスクを作った。
次に、この従来の光ディスクの上にアクリル系紫外線
硬化樹脂（三菱油化，品名SA−1002）をスピンコート
し、紫外線を照射を施して硬化せしめ、厚さが１μｍの
樹脂膜を形成した。
硬化樹脂（三菱油化，品名SA−1002）をスピンコート
し、紫外線を照射を施して硬化せしめ、厚さが１μｍの
樹脂膜を形成した。
次に、樹脂膜の上に表面粗さが10μm Raのラッピング
テープを当接し、ゴム製のピンチローラを押しつけ荷重
1Kgの条件で摺動させることにより表面粗さが0.1μm Ra
の樹脂膜とした。
テープを当接し、ゴム製のピンチローラを押しつけ荷重
1Kgの条件で摺動させることにより表面粗さが0.1μm Ra
の樹脂膜とした。
かゝる光磁気ディスクを磁気ディスク装置に装着し、
ヘッド材質がMn−Znフェライトで、ヘッド荷重が8gの磁
気ヘッドを用い、最高回転数が3000rpm,最高回転数維持
時間10秒,CSSサイクル０〜3000rpmの条件でCSS試験を行
った。
ヘッド材質がMn−Znフェライトで、ヘッド荷重が8gの磁
気ヘッドを用い、最高回転数が3000rpm,最高回転数維持
時間10秒,CSSサイクル０〜3000rpmの条件でCSS試験を行
った。
その結果、CCS10万回以上の耐久性を付与できること
が判った。
が判った。
なお、樹脂膜の表面粗さを0.1μm Ra程度とすると磁
気ヘッドは１μｍ以上の浮上が可能であり、光磁気ディ
スクの場合、５〜６μｍ浮上させた状態でも重ね書きが
可能なことから、本発明の実施により重ね書き可能な光
磁気ディスクを実用化することができる。
気ヘッドは１μｍ以上の浮上が可能であり、光磁気ディ
スクの場合、５〜６μｍ浮上させた状態でも重ね書きが
可能なことから、本発明の実施により重ね書き可能な光
磁気ディスクを実用化することができる。
以上記したように本発明の実施により、光磁気ディス
クの記録膜を磁気ヘッドの摺動摩擦および衝撃から保護
することができ、浮上磁気ヘッドを用いて安定に情報の
重ね書きを行うことが可能となる。
クの記録膜を磁気ヘッドの摺動摩擦および衝撃から保護
することができ、浮上磁気ヘッドを用いて安定に情報の
重ね書きを行うことが可能となる。
また、本発明は、ディスク基板の案内溝が形成された
面上に、下地膜、記録膜、保護膜、樹脂膜を形成するこ
とで、案内溝上の層構成の影響を受けた媒体表面を得る
とともに、さらに、案内溝の形成とは無関係な機械的手
段による粗面化処理を施す構成を成している。よって、
機械的手段による削り粗さや荷重等の粗面化を施す構成
を成している。よって、機械的手段による削り粗さや荷
重等の粗面化処理条件を制御することができるので、案
内溝の形状によらず、つまり、媒体表面は案内溝上の層
構成の影響は受けるものの、その影響の大小によらず、
簡単に所望の表面粗さを得ることができる。また、案内
溝の形成とは無関係に粗面化処理を行なっているので、
案内溝間にも粗い面を形成でき、きめ細かな媒体表面の
表面粗さを実現することが可能になる。従って、ヘッド
の光ディスクへの吸着を確実に防止することが可能にな
る。
面上に、下地膜、記録膜、保護膜、樹脂膜を形成するこ
とで、案内溝上の層構成の影響を受けた媒体表面を得る
とともに、さらに、案内溝の形成とは無関係な機械的手
段による粗面化処理を施す構成を成している。よって、
機械的手段による削り粗さや荷重等の粗面化を施す構成
を成している。よって、機械的手段による削り粗さや荷
重等の粗面化処理条件を制御することができるので、案
内溝の形状によらず、つまり、媒体表面は案内溝上の層
構成の影響は受けるものの、その影響の大小によらず、
簡単に所望の表面粗さを得ることができる。また、案内
溝の形成とは無関係に粗面化処理を行なっているので、
案内溝間にも粗い面を形成でき、きめ細かな媒体表面の
表面粗さを実現することが可能になる。従って、ヘッド
の光ディスクへの吸着を確実に防止することが可能にな
る。
第１図は本発明に係る光磁気ディスクの構成を示す断面
図、 第２図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図、で
ある。 図において、 １はディスク基板、２は下地膜、 ３は記録膜、４は保護膜、 ５は樹脂膜、 である。
図、 第２図は従来の光磁気ディスクの構成を示す断面図、で
ある。 図において、 １はディスク基板、２は下地膜、 ３は記録膜、４は保護膜、 ５は樹脂膜、 である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−15442（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−10517（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−319143（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−211236（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−237329（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−42019（ＪＰ，Ａ) 特公 昭59−195380（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (1)
- 【請求項１】案内溝が形成されたディスク基板と、 前記ディスク基板の前記案内溝が形成された面上に形成
された下地膜と、 前記下地膜上に形成された記録膜と、 前記記録膜上に形成された保護膜と、 前記保護膜上に形成されてなるとともに、ヘッドの吸着
を防止するようにその表面に機械的手段による粗面化処
理が施されてなる樹脂膜と、 を少なくとも備えてなることを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1053133A JP2958015B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1053133A JP2958015B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02232836A JPH02232836A (ja) | 1990-09-14 |
| JP2958015B2 true JP2958015B2 (ja) | 1999-10-06 |
Family
ID=12934320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1053133A Expired - Fee Related JP2958015B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2958015B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2622017B2 (ja) * | 1990-07-20 | 1997-06-18 | シャープ株式会社 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01319143A (ja) * | 1988-06-20 | 1989-12-25 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1989
- 1989-03-06 JP JP1053133A patent/JP2958015B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02232836A (ja) | 1990-09-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |