JP3074104B2 - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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Description
される光磁気ディスク、光磁気テープ、光磁気カード等
の光磁気記録媒体に関するものである。
ディスクとして研究開発が進められ、その一部は既に、
コンピューター用の外部メモリとして実用化がなされて
いる。光磁気ディスクは、記録媒体として垂直磁化膜を
用い、光を用いて記録再生を行うため、面内磁化膜を用
いたフロッピーディスクあるいはハードディスクに比べ
て、記録容量が大きいことが特徴である。
リが要求され、ハードディスクをはじめ、光磁気ディス
クにおいても、記録密度をより向上させるための研究が
精力的になされている。
ディスクにおいては、その記録密度が、記録再生に使用
される光ビームの記録媒体上での大きさに依存し、光ビ
ーム径によって、再生可能な記録ビットの大きさが制約
を受けるという問題点を有している。すなわち、光ビー
ム径に比べて記録ビット径及び記録ビットの間隔が小さ
くなってくると、集光された光ビームの中に、隣接する
ビットを含めた複数のビットが入ってくるため、雑音が
増加し、一つ一つのビットを分離して再生することがで
きなくなってしまうという問題である。
おいて、情報を光磁気記録する記録層と、室温で面内磁
気異方性が優位な面内磁化を示す一方、温度上昇に伴い
垂直磁気異方性が優位な垂直磁化に移行する読み出し層
とを備えた光磁気記録媒体が提案され、従来より小さな
記録ビットの再生が行え、記録密度は著しく向上するこ
とが可能となった。
小さくなったことにより、再生信号レベルの低下を招く
といった問題が発生する。さらに、近年の半導体レーザ
の短波長化にともない、再生信号レベルが低下してしま
うといった問題も存在する。
発明により解決される。即ち本発明は、本質的に面内磁
化状態である読み出し磁性層と、垂直磁化状態である記
録磁性層と、これら読み出し磁性層と記録磁性層の間に
設けられ、室温では面内磁化状態であり、温度 が上昇す
ると垂直磁化状態となる中間磁性層とからなる光磁気記
録媒体において、中間磁性層が温度上昇にともない垂直
磁化状態となったとき、読み出し磁性層が中間磁性層と
の磁気的結合により垂直磁化状態となる光磁気記録媒体
を提供するものである。
なった部分のみの記録磁性層の情報を交換結合力により
読み出し磁性層に転写し、それ以外の部分の読み出し磁
性層を面内磁化状態とすることにより、従来より小さな
記録ビットの再生が可能となり、記録密度は著しく向上
する。また、読み出し磁性層として、希土類金属の副格
子磁化よりも遷移金属の副格子磁化が相対的に大きいG
dFeCoからなる本質的に面内磁化状態の磁性膜を使
用することにより、再生信号を大きくすることが可能と
なる。
eCo又は、Pt/Co人工格子膜の本質的に面内磁化
状態の磁性膜を使用することにより、短波長(400n
m〜600nm)の半導体レーザを使用して再生を行っ
た場合において、再生信号を大きくすることが可能とな
る。
る。図1は、本発明の参考となる構成(以下、第1の構
成と記す)光磁気記録媒体を示すものであり、高いキュ
リー温度と低い保磁力を有し、垂直磁化状態である読み
出し磁性層1と、この読み出し磁性層に比べて相対的に
低いキュリー温度と高い保磁化を有し、垂直磁化状態で
ある記録磁性層3と、これら読み出し磁性層と記録磁性
層の間に設けられ、室温では面内磁化状態であり、温度
が上昇すると垂直磁化状態となる中間磁性層2とで構成
されている。
ム4の光強度分布がガウシアン分布であるため、光磁気
記録媒体の温度分布も同様にガウシアン分布となる。中
間磁性層2は室温で面内磁化状態であり、温度上昇によ
り垂直磁化状態となるため、光ビーム4の中心部分の温
度が十分に上昇した部分のみ垂直磁化状態となる。この
中間磁性層2の垂直磁化状態となった部分のみの記録磁
性層3の磁化情報が、強い交換結合力により読み出し磁
性層1へと転写される。一方、中間磁性層2の光ビーム
4の中心部分以外の温度が十分に上昇していない部分
は、面内磁化状態となる。この中間磁性層2の面内磁化
状態である部分の記録磁性層3の磁化情報は、交換結合
力が弱いため、読み出し磁性層1へと転写されず、読み
出し磁性層1の磁化方向は、外部から印加された磁界H
readの方向を向くことになる。
間磁性層2の温度分布、すなわち垂直磁化状態となる部
分の範囲を調整することが可能であり、光ビーム4のビ
ーム径よりも小さい径、ピッチで記録磁性層3に記録さ
れた磁化情報を読み出し磁性層1から再生することが可
能となる。
構成と記す)の光磁気記録媒体を示すものであり、高い
キュリー温度を有し、本質的に面内磁化状態である読み
出し磁性層1と、この読み出し磁性層に比べて相対的に
低いキュリー温度を有し、垂直磁化状態である記録磁性
層3と、これら読み出し磁性層と記録磁性層の間に設け
られ、室温では面内磁化状態であり、温度が上昇すると
垂直磁化状態となる中間磁性層2とで構成されている。
に、集光された光ビーム4の光強度分布がガウシアン分
布であるため、光磁気記録媒体の温度分布も同様にガウ
シアン分布となる。中間磁性層2は室温で面内磁化状態
であり、温度上昇により垂直磁化状態となるため、光ビ
ーム4の中心部分の温度が十分に上昇した部分のみ垂直
磁化状態となる。この中間磁性層2の垂直磁化状態とな
った部分のみの記録磁性層3の磁化情報が、強い交換結
合力により読み出し磁性層1へと転写され、読み出し磁
性層1は、面内磁化状態から垂直磁化状態となる。一
方、中間磁性層2の光ビーム4の中心部分以外の温度が
十分に上昇していない部分は、面内磁化状態となる。こ
の中間磁性層2の面内磁化状態である部分の記録磁性層
3の磁化情報は、交換結合力が弱いため、読み出し磁性
層1へと転写されず、読み出し磁性層1の磁化方向は、
面内磁化状態のままである。再生時、読み出し磁性層1
の磁化方向をカー効果を用いて再生するため、読み出し
磁性層1が垂直磁化状態となった部分のみの磁化情報が
再生されることとなる。
間磁性層2の温度分布、すなわち垂直磁化状態となる部
分の範囲を調整することが可能であり、光ビーム4のビ
ーム径よりも小さい径、ピッチで記録磁性層3に記録さ
れた磁化情報を読み出し磁性層1から再生することが可
能となる。
7号と本発明とを比較するため、図7に特開平5−81
717号において提案された光磁気記録媒体の構成を示
す。この光磁気記録媒体は、垂直磁化状態である記録磁
性層3と、室温において面内磁化状態であり、温度上昇
により垂直磁化状態となる読み出し磁性層5とで構成さ
れている。この構成の光磁気記録媒体においては、次の
ような方法で再生が行われる。集光された光ビーム4の
光強度分布がガウシアン分布であるため、光磁気記録媒
体の温度分布も同様にガウシアン分布となる。読み出し
磁性層5は室温で面内磁化状態であり、温度上昇により
垂直磁化状態となるため、光ビーム4の中心部分の温度
が十分に上昇した部分のみ垂直磁化状態となる。この垂
直磁化状態となった部分の読み出し磁性層5の磁化方向
は、記録磁性層3との交換結合により、記録磁性層3の
磁化方向と同一となる。再生時、読み出し磁性層1の磁
化方向をカー効果を用いて再生するため、読み出し磁性
層1が垂直磁化状態となった部分のみの磁化情報が再生
されることとなる。
も、本発明同様に、光ビームの強度を調整することによ
り、読み出し磁性層5の温度分布、すなわち垂直磁化状
態となる部分の範囲を調整することが可能であり、光ビ
ーム4のビーム径よりも小さい径、ピッチで記録磁性層
3に記録された磁化情報を読み出し磁性層5から再生す
ることが可能となる。
は、読み出し層5が室温において面内磁化状態であり、
温度上昇にともない垂直磁化状態となる必要があるた
め、その材料が特定されてしまう。例えば、読み出し層
5として、GdFeCoを用いた場合、室温において面
内磁化状態であり、温度上昇にともない垂直磁化状態と
するためには、GdFeCoの組成を希土類金属(R
E)であるGdと遷移金属(TM)であるFeCoの副
格子磁気モーメントが釣り合う補償組成に対して、Gd
を多く含む組成、すなわちRErichな状態の膜とし
ておく必要がある。
限定する動作を中間磁性層2で行っているため、読み出
し層1は、室温において面内磁化状態であり、温度上昇
にともない垂直磁化状態とする必要がなくなる。そのた
め、読み出し層1の材料として、その選択の自由度が増
し、再生信号レベルの上昇が可能となる。
層2として、特開平5−81717号の読み出し層5と
同一材料を使用することが可能であることがわかる。
のGdFeCo(RErich)を使用することが可能
である。
じGdFeCoを使用することもできる。ただし、この
読み出し磁性層1は室温において面内磁化状態であり、
温度上昇にともない垂直磁化状態とする必要はない。
キュリー温度TCと補償温度TCOMPの組成依存性を示し
たものであり、補償温度を境にして、Gdの含有量が多
い部分がRErichとなり、FeCoの含有量が多い
部分がTMrichとなる。この図から、TMrich
側のGdFeCoの方がキュリー温度が高いことがわか
る。さらに、図4は、希土類遷移金属合金薄膜のキュリ
ー温度とカー回転角の関係を示すものである。この図か
ら、希土類遷移金属合金薄膜においては、キュリー温度
が高いほどカー回転角が大きいことが分かる。図3、図
4とから、GdFeCoにおいては、TMrich側の
材料の方が、カー回転角、すなわち再生出力が大きいこ
とが分かる。
出し層5として、RErich側のGdFeCoしか使
用できなかったが、本発明においては、読み出し磁性層
1として、TMrich側のGdFeCoを使用するこ
とが可能であり、特開平5−81717号に比較して、
カー回転角すなわち再生出力を大きくすることが可能と
なる。
性について、さらに詳しく説明する。
0.18)1-Xにおいては、0.15<X<0.20の範囲
においては垂直磁化状態となり、上記第1の構成の光磁
気記録媒体に適用することが可能である。一方、X<
0.15において面内磁化状態となるため、本発明の構
成(上記第2の構成)の光磁気記録媒体に適用すること
が可能である。ただしX<0.05になると、GdFe
Coの面内磁気異方性が強くなり過ぎて、中間磁性層2
からの交換結合力で読み出し磁性層1の磁化方向を膜面
に垂直にすることができなくなるため、X≧0.05で
ある必要がある。
の材料として、NdFeCo,NdGdFeCo,Pt
/Co人工格子膜について説明する。
(θK)の波長依存性を示すものである。特開平5−8
1717号において、読み出し層5として使用可能なG
d0.26Fe0.61Co0.13の特性を比較のため同図に併せ
て記載してある。この図より、特開平5−81717号
において使用可能なGdFeCoは、光の波長が短くな
るとカー回転角が小さくなることが分かる。一方、Gd
FeCoにNdを添加し、NdGdFeCoとすること
により、短波長においてカー回転角が上昇することが分
かる。この傾向は、Ndの添加量に依存し、純粋なNd
FeCoにおいては、さらに顕著となる。また、Pt/
Co人工格子膜についても同様な傾向が存在する。
量に応じて、その磁化状態が変わり、図5に示すNd
0.05Gd0.20Fe0.63Co0.12は垂直磁化状態であり、
Nd0.20Fe0.61Co0.42は面内磁化状態となる。すな
わち、前者を上述の第1の構成に適用し、後者を本発明
の構成(上述の第2の構成)に適用することにより、短
波長においても大きなカー回転角を有し、大きな再生出
力の得られる光磁気記録媒体を提供することが可能とな
る。
示すPt0.8nm/Co0.45nmの膜は垂直磁化状態となっ
ており、膜厚構成を変えてPt0.5nm/Co0.65nmとす
ることにより、同様なカー回転角の波長依存性を持つ面
内磁化状態のPt/Co膜を形成することが可能であ
り、前者に上述の第1の構成を適用し、後者に本発明の
構成(上述の第2の構成)を適用することにより、短波
長においても大きなカー回転角を有し、大きな再生出力
の得られる光磁気記録媒体を提供することが可能とな
る。
使用した光磁気ディスクの構成を示している。基板6、
透明誘電体層7、光磁気記録媒体8、保護層9、バック
コート層10からなっており、レーザ光4が光磁気記録
媒体8に集光され、記録再生が行われる。
厚さ1.2mmの円盤状のガラス基板で、図示していな
いが、片側の表面には、光ビーム案内用の凹凸状のガイ
ドトラックが1.6μmピッチ、グルーブ(凹部)の幅
が0.8μm、ランド(凸部)の幅が0.8μmで形成
されている。
に、透明誘電体層7として、AlNが厚さ60nmで形
成されている。
1、中間磁性層2、記録磁性層3からなる光磁気記録媒
体8が形成されている。
の構成)に対応して6種類の光磁気記録媒体8を持つ光
磁気ディスクを作成した。また、同時に比較例として、
図7に示す従来の光磁気ディスクについても同様にして
作成した。
るTMrich組成のGdFeCoを厚さ50nmで形
成した。このGdFeCo膜は、垂直磁化状態であり、
その組成は、Gd0.18(Fe0.82Co0.18)0.82で、そ
のキュリー温度は約340℃であった。
属合金薄膜であるRErich組成のGdFeCoを厚
さ50nmで形成した。GdFeCoの組成は、Gd
0.26(Fe0.78Co0.22)0.74で、そのキュリー温度は
約300℃であり、約100℃の温度で、面内磁化状態
から垂直磁化状態に移行した。
属合金薄膜であるTMrich組成のDyFeCoを厚
さ50nmで形成した。DyFeCoの組成は、Dy
0.23(Fe0.78Co0.22)0.77で、そのキュリー温度は
約200℃であった。
るTMrich組成のGdFeCoを厚さ50nmで形
成した。このGdFeCo膜は、本質的に面内磁化状態
であり、その組成は、Gd0.13(Fe0.82Co0.18)
0.87で、そのキュリー温度は約360℃であった。
属合金薄膜であるRErich組成のGdFeCoを厚
さ50nmで形成した。GdFeCoの組成は、Gd
0.26(Fe0.78Co0.22)0.74で、そのキュリー温度は
約300℃であり、約100℃の温度で、面内磁化状態
から垂直磁化状態に移行した。
属合金薄膜であるTMrich組成のDyFeCoを厚
さ50nmで形成した。DyFeCoの組成は、Dy
0.23(Fe0.78Co0.22)0.77で、そのキュリー温度は
約200℃であった。
るNdGdFeCoを厚さ50nmで形成した。このN
dGdFeCo膜は、垂直磁化状態であり、その組成
は、Nd0.05Gd0.20Fe0.63Co0.12であった。
属合金薄膜であるRErich組成のGdFeCoを厚
さ50nmで形成した。GdFeCoの組成は、Gd
0.26(Fe0.78Co0.22)0.74で、そのキュリー温度は
約300℃であり、約100℃の温度で、面内磁化状態
から垂直磁化状態に移行した。
属合金薄膜であるTMrich組成のDyFeCoを厚
さ50nmで形成した。DyFeCoの組成は、Dy
0.23(Fe0.78Co0.22)0.77で、そのキュリー温度は
約200℃であった。
るNdFeCoを厚さ50nmで形成した。このNdF
eCo膜は、本質的に面内磁化状態であり、その組成
は、Nd0.20Fe0.61Co0.42であった。
属合金薄膜であるRErich組成のGdFeCoを厚
さ50nmで形成した。GdFeCoの組成は、Gd
0.26(Fe0.78Co0.22)0.74で、そのキュリー温度は
約300℃であり、約100℃の温度で、面内磁化状態
から垂直磁化状態に移行した。
属合金薄膜であるTMrich組成のDyFeCoを厚
さ50nmで形成した。DyFeCoの組成は、Dy
0.23(Fe0.78Co0.22)0.77で、そのキュリー温度は
約200℃であった。
25nmで形成した。このPt/Co人工格子膜は、垂
直磁化状態であり、それぞれの膜厚比をPt0.8nm/C
o0.45nmとした。
属合金薄膜であるRErich組成のGdFeCoを厚
さ50nmで形成した。GdFeCoの組成は、Gd
0.26(Fe0.78Co0.22)0.74で、そのキュリー温度は
約300℃であり、約100℃の温度で、面内磁化状態
から垂直磁化状態に移行した。
属合金薄膜であるTMrich組成のDyFeCoを厚
さ50nmで形成した。DyFeCoの組成は、Dy
0.23(Fe0.78Co0.22)0.77で、そのキュリー温度は
約200℃であった。
25nmで形成した。このPt/Co人工格子膜は、本
質的に面内磁化状態であり、それぞれの膜厚比をPt
0.5nm/Co0.65nmとした。
属合金薄膜であるRErich組成のGdFeCoを厚
さ50nmで形成した。GdFeCoの組成は、Gd
0.26(Fe0.78Co0.22)0.74で、そのキュリー温度は
約300℃であり、約100℃の温度で、面内磁化状態
から垂直磁化状態に移行した。
属合金薄膜であるTMrich組成のDyFeCoを厚
さ50nmで形成した。DyFeCoの組成は、Dy
0.23(Fe0.78Co0.22)0.77で、そのキュリー温度は
約200℃であった。
Erich組成のGdFeCoを厚さ50nmで形成し
た。GdFeCoの組成は、Gd0.26(Fe0.78Co
0.22)0.74で、そのキュリー温度は約300℃であり、
約100℃の温度で、面内磁化状態から垂直磁化状態に
移行した。
属合金薄膜であるTMrich組成のDyFeCoを厚
さ50nmで形成した。DyFeCoの組成は、Dy
0.23(Fe0.78Co0.22)0.77で、そのキュリー温度は
約200℃であった。
磁気記録媒体8上には、保護層9として、AlNが厚さ
20nmで形成されている。
して、ポリウレタンアクリレート系の紫外線硬化型樹脂
が、厚さ5μmで形成されている。
オンエッチング法により、ガラス表面に直接形成した。
護層9は、いずれもスパッタ法により、同じスパッタ装
置内で、真空を破らずに形成した。
AlターゲットをN2 ガス雰囲気中でスパッタする反
応性スパッタ法により形成した。
合金薄膜については、FeCo合金ターゲット上にG
d、NdあるいはDyのチップを並べた、いわゆる複合
ターゲット、若しくはGdFeCo、GdNdFeC
o、NdFeCo及びDyFeCoの3元合金ターゲッ
トを用いて、Arガスでスパッタすることにより形成し
た。また、Pt/Co人工格子膜については、PtとC
oのターゲットを同時にスパッタし、シャッターを操作
することにより形成した。
により樹脂を塗布した後、紫外線照射装置で紫外線を当
て、硬化させることで形成した。
を用いて、以下のような記録再生実験を行った。
スクと比較例の光磁気ディスクについて、波長780n
mの半導体レーザを用いて、レーザビーム照射位置にお
いて、光磁気記録媒体の線速度が10m/sとなるよう
に回転させ、25kA/mの記録磁界を印加した状態
で、10MHzの周波数でレーザパワーをパルス変調し
て記録行い、記録磁性層3に、1μm周期で、0.5μ
mの長さの反転磁区を形成した。次に、レーザパワーを
2mWとして、情報の再生を行った。再生時、実施例1
においては、外部より15kA/mの磁界を印加しなが
ら再生を行っており、実施例2においては、磁界を印加
することなく再生を行った。
zの再生信号を得ることができた。この実験において、
光磁気記録媒体8上に絞り込まれたレーザビームのビー
ム径が約1.4μmであることから、ビーム径よりも小
さい径、ピッチで記録された磁化情報を再生できること
が確認された。
比較した所、比較例の再生信号の出力レベルを基準とし
て、参考例1の光磁気ディスクが1.5dB出力レベル
が上昇し、実施例1の光磁気ディスクが2.2dB出力
レベルが上昇していることが確認された。
考例3の光磁気ディスクと比較例の光磁気ディスクにつ
いて、波長488nmのArレーザを用いて、レーザビ
ーム照射位置において、光磁気記録媒体の線速度が10
m/sとなるように回転させ、25kA/mの記録磁界
を印加した状態で、16.67MHzの周波数でレーザ
パワーをパルス変調して記録行い、記録磁性層3に、
0.6μm周期で、0.3μmの長さの反転磁区を形成
した。次に、レーザパワーを2mWとして、情報の再生
を行った。再生時、参考例1、参考例2、参考例3にお
いては、外部より15kA/mの磁界を印加しながら再
生を行っており、実施例1、実施例2、実施例3におい
ては、磁界を印加することなく再生を行った。
7MHzの再生信号を得ることができた。この実験にお
いて、光磁気記録媒体8上に絞り込まれたレーザビーム
のビーム径が約0.8μmであることから、ビーム径よ
りも小さい径、ピッチで記録された磁化情報を再生でき
ることが確認された。
比較した所、比較例の再生信号の出力レベルを基準とし
て、参考例1の光磁気ディスクが1.2dB出力レベル
が上昇し、実施例1の光磁気ディスクが2.0dB出力
レベルが上昇し、参考例2の光磁気ディスクが2.8d
B出力レベルが上昇し、実施例2の光磁気ディスクが
2.3dB出力レベルが上昇し、参考例3の光磁気ディ
スクが3.0dB出力レベルが上昇し、実施例3の光磁
気ディスクが3.0dB出力レベルが上昇していること
が確認された。
としてその選択の自由度が増し、再生信号レベルを向上
できる。さらに、読み出し磁性層として、TMrich
組成のGdFeCoを使用することにより、従来より小
さな記録ビットの再生が可能となり、記録密度が著しく
向上するとともに、再生信号を大きくすることが可能と
なる。また、読み出し磁性層として、NdGdFeCo
又は、Pt/Co人工格子膜を使用することにより、短
波長(400nm〜600nm)のレーザを使用して再
生を行った場合においても、記録密度が著しく向上する
とともに、再生信号を大きくすることが可能となる。
体の構成を示す図である。
る。
図である。
図である。
図である。
ある。
体の構成を示す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】本質的に面内磁化状態である読み出し磁性
層と、垂直磁化状態である記録磁性層と、これら読み出
し磁性層と記録磁性層の間に設けられ、室温では面内磁
化状態であり、温度が上昇すると垂直磁化状態となる中
間磁性層とからなる光磁気記録媒体において、前記中間
磁性層が温度上昇にともない垂直磁化状態となったとき
に、前記読み出し磁性層が前記中間磁性層との磁気的結
合により垂直磁化状態となることを特徴とする光磁気記
録媒体。 - 【請求項2】前記読み出し磁性層が希土類金属の副格子
磁化よりも遷移金属の副格子磁化が相対的に大きいGd
FeCoからなる面内磁化膜であることを特徴とする請
求項1記載の光磁気記録媒体。 - 【請求項3】前記読み出し磁性層が、NdFeCo又
は、NdGdFeCo又は、Pt/Co人工格子膜の面
内磁化膜であることを特徴とする請求項1記載の光磁気
記録媒体。
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