JP3104092B2 - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスクの製造方法に
関し、特に紫外硬化樹脂層の形成方法に関する。
関し、特に紫外硬化樹脂層の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、レーザ光の照射により情報の記録
・再生を行う光ディスクとしては、光磁気ディスク，各
種追記型光ディスク，書換え可能光ディスク，デジダル
・オーディオ・ディスク（いわゆるコンパクトディス
ク），光学式ビデオディスク（いわゆるレーザディス
ク）等の各種媒体が知られている。
・再生を行う光ディスクとしては、光磁気ディスク，各
種追記型光ディスク，書換え可能光ディスク，デジダル
・オーディオ・ディスク（いわゆるコンパクトディス
ク），光学式ビデオディスク（いわゆるレーザディス
ク）等の各種媒体が知られている。
【０００３】このうち、光磁気ディスクは、磁性薄膜を
部分的にキュリー点または温度補償点を越えて昇温し、
この部分の保磁力を消滅させて外部から印加される記録
磁界の方向に磁化の向きを反転することを基本原理とす
るもので、光ファイルシステムやコンピュータの外部記
憶装置、あるいは音響，映像情報の記録装置等において
実用化されつつある。
部分的にキュリー点または温度補償点を越えて昇温し、
この部分の保磁力を消滅させて外部から印加される記録
磁界の方向に磁化の向きを反転することを基本原理とす
るもので、光ファイルシステムやコンピュータの外部記
憶装置、あるいは音響，映像情報の記録装置等において
実用化されつつある。
【０００４】このような光磁気ディスクは、たとえば、
ポリカーボネート等からなる透明基板の一主面に、膜面
と垂直方向に磁化容易軸を有し、且つ磁気光学効果の大
きな記録磁性層（例えば希土類−遷移金属合金非晶質薄
膜）や反射層，誘電体層を積層することにより記録部を
形成し、さらに記録部上の覆う如く紫外線硬化樹脂層を
形成した構成とされる。
ポリカーボネート等からなる透明基板の一主面に、膜面
と垂直方向に磁化容易軸を有し、且つ磁気光学効果の大
きな記録磁性層（例えば希土類−遷移金属合金非晶質薄
膜）や反射層，誘電体層を積層することにより記録部を
形成し、さらに記録部上の覆う如く紫外線硬化樹脂層を
形成した構成とされる。
【０００５】上記構成の光磁気ディスクに記録を行うに
は、透明基板側からレーザ光を照射することにより記録
磁性層の微小面積の領域のみをキュリー温度以上に加熱
するとともに、この領域に紫外線硬化樹脂層側から磁界
を印加する。すると、上記レーザビームが照射された領
域の記録磁性層は保磁力を失い、磁化方向が外部より印
加された磁界方向に倣わされ、信号が書き込まれること
となる。
は、透明基板側からレーザ光を照射することにより記録
磁性層の微小面積の領域のみをキュリー温度以上に加熱
するとともに、この領域に紫外線硬化樹脂層側から磁界
を印加する。すると、上記レーザビームが照射された領
域の記録磁性層は保磁力を失い、磁化方向が外部より印
加された磁界方向に倣わされ、信号が書き込まれること
となる。
【０００６】したがって、上記光磁気ディスクに対して
記録再生を行う記録再生装置は、たとえば光磁気ディス
クを保持して回転操作する回転駆動装置とレーザ光を照
射する光学ピックアップ装置と磁界を印加する磁気ヘッ
ドとを備えてなり、磁気ヘッドと光学ピックアップ装置
とが光磁気ディスクを介して、磁気ヘッドが紫外線硬化
樹脂層側，光学ピックアップ装置が透明基板側となるよ
うに対向配置された構成とされる。
記録再生を行う記録再生装置は、たとえば光磁気ディス
クを保持して回転操作する回転駆動装置とレーザ光を照
射する光学ピックアップ装置と磁界を印加する磁気ヘッ
ドとを備えてなり、磁気ヘッドと光学ピックアップ装置
とが光磁気ディスクを介して、磁気ヘッドが紫外線硬化
樹脂層側，光学ピックアップ装置が透明基板側となるよ
うに対向配置された構成とされる。
【０００７】従来、上記記録再生装置において備えられ
る磁気ヘッドには、サーボ機構が内蔵され、このサーボ
機構により、磁気ヘッドと光磁気ディスクの距離が常に
一定に保たれるようになされている。ところが、このよ
うなサーボ機構の設置は装置の製造工程の煩雑化，製造
コストの増大を招く。そこで、近年、磁気ヘッドのサー
ボ機構を不要とすることができる記録方式として、磁気
ヘッドが光磁気ディスクのディスク面に接触した状態で
磁界を印加する摺接記録方式が実用化へ向けて開発が進
められており、たとえば小径の光磁気ディスク（いわゆ
るミニディスク）の記録方式として採用が検討されてい
る。
る磁気ヘッドには、サーボ機構が内蔵され、このサーボ
機構により、磁気ヘッドと光磁気ディスクの距離が常に
一定に保たれるようになされている。ところが、このよ
うなサーボ機構の設置は装置の製造工程の煩雑化，製造
コストの増大を招く。そこで、近年、磁気ヘッドのサー
ボ機構を不要とすることができる記録方式として、磁気
ヘッドが光磁気ディスクのディスク面に接触した状態で
磁界を印加する摺接記録方式が実用化へ向けて開発が進
められており、たとえば小径の光磁気ディスク（いわゆ
るミニディスク）の記録方式として採用が検討されてい
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
摺接記録方式では、上述の如く磁気ヘッドが光磁気ディ
スクのディスク面を摺接することとなる。このため、使
用する光磁気ディスクとしては、磁気ヘッドが摺接する
面が潤滑剤等が塗布されることにより、動摩擦係数が低
減されているとともに平坦な面に形成されていることが
良好な記録再生特性を得るための必須条件となる。
摺接記録方式では、上述の如く磁気ヘッドが光磁気ディ
スクのディスク面を摺接することとなる。このため、使
用する光磁気ディスクとしては、磁気ヘッドが摺接する
面が潤滑剤等が塗布されることにより、動摩擦係数が低
減されているとともに平坦な面に形成されていることが
良好な記録再生特性を得るための必須条件となる。
【０００９】光磁気ディスクにおいて、磁気ヘッドが摺
接する側の面となる紫外線硬化樹脂層は、通常、生産
性，再現性が得られることから、スピンコート法により
形成される。すなわち、記録部の中央部に所定量の紫外
線硬化樹脂を滴下した後、ディスクをたとえば４５００
ｒｐｍで所定時間回転させることにより、滴下した紫外
線硬化樹脂を記録部全面に均一に行き亘らせる。そし
て、ディスクを止めて２〜３秒経過した後、塗布された
紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することにより、紫外線
硬化樹脂層を形成する。
接する側の面となる紫外線硬化樹脂層は、通常、生産
性，再現性が得られることから、スピンコート法により
形成される。すなわち、記録部の中央部に所定量の紫外
線硬化樹脂を滴下した後、ディスクをたとえば４５００
ｒｐｍで所定時間回転させることにより、滴下した紫外
線硬化樹脂を記録部全面に均一に行き亘らせる。そし
て、ディスクを止めて２〜３秒経過した後、塗布された
紫外線硬化樹脂に紫外線を照射することにより、紫外線
硬化樹脂層を形成する。
【００１０】ところが、このようにして形成された紫外
線硬化樹脂層は、外周から２ｍｍに亘る領域に２０〜３
０μｍの盛り上がりを有する形状で形成されてしまう。
光磁気ディスクにおいては、透明基板自体も若干外周付
近が盛り上がっている（約１０μｍの盛り上がり）形状
を有しているため、外周付近は他の部分と比べて３０〜
４０μｍ高い高さを有することとなる。
線硬化樹脂層は、外周から２ｍｍに亘る領域に２０〜３
０μｍの盛り上がりを有する形状で形成されてしまう。
光磁気ディスクにおいては、透明基板自体も若干外周付
近が盛り上がっている（約１０μｍの盛り上がり）形状
を有しているため、外周付近は他の部分と比べて３０〜
４０μｍ高い高さを有することとなる。
【００１１】光磁気ディスクにおいて、磁気ヘッドが盛
り上がり部分に摺接すると、ディスクが高周波数で振動
し、光学ピックアップ装置のフォーカスサーボやトラッ
キングサーボが効かなくなるといった問題を生ずる。こ
のため、このようにして紫外線硬化樹脂層が形成された
光磁気ディスクを摺接記録方式の媒体として使用する場
合には、外周から２ｍｍに亘る領域に磁気ヘッドが摺接
しないように、ユーザエリアを狭くすることが必要とな
り、十分な信号記録量が得られない。特に、直径６４ｍ
ｍ程度のミニディスクにおいて、外周から２ｍｍにも亘
る領域が磁気ヘッド非摺接部となってしまうと、ユーザ
エリアが狭くなりすぎて、記録情報量の点で実用性に欠
けるものとなってしまう。
り上がり部分に摺接すると、ディスクが高周波数で振動
し、光学ピックアップ装置のフォーカスサーボやトラッ
キングサーボが効かなくなるといった問題を生ずる。こ
のため、このようにして紫外線硬化樹脂層が形成された
光磁気ディスクを摺接記録方式の媒体として使用する場
合には、外周から２ｍｍに亘る領域に磁気ヘッドが摺接
しないように、ユーザエリアを狭くすることが必要とな
り、十分な信号記録量が得られない。特に、直径６４ｍ
ｍ程度のミニディスクにおいて、外周から２ｍｍにも亘
る領域が磁気ヘッド非摺接部となってしまうと、ユーザ
エリアが狭くなりすぎて、記録情報量の点で実用性に欠
けるものとなってしまう。
【００１２】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、盛り上がり部分の面積が
狭い紫外線硬化樹脂層が形成でき、たとえば光磁気ディ
スクとして摺接記録方式を採用した場合でもユーザエリ
アを広く採ることが可能な光ディスクの製造方法を提供
することを目的とする。
鑑みて提案されたものであり、盛り上がり部分の面積が
狭い紫外線硬化樹脂層が形成でき、たとえば光磁気ディ
スクとして摺接記録方式を採用した場合でもユーザエリ
アを広く採ることが可能な光ディスクの製造方法を提供
することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光ディスクの製造方法は、透明基板上に
形成された光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な
記録部上に、紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録
部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した
後、上記スピンコート法における振り切り回転数Ｒ１
よりも小さな回転数Ｒ２ で透明基板を回転させながら
塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬
化樹脂層を形成することを特徴とするものである。
めに、本発明の光ディスクの製造方法は、透明基板上に
形成された光学的に情報の記録及び／又は再生が可能な
記録部上に、紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録
部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した
後、上記スピンコート法における振り切り回転数Ｒ１
よりも小さな回転数Ｒ２ で透明基板を回転させながら
塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬
化樹脂層を形成することを特徴とするものである。
【００１４】
【作用】記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコートし、
透明基板を回転させながら紫外線を照射して紫外線硬化
樹脂層を形成すると、盛り上がり部分が狭く、平坦部分
の広い紫外線硬化樹脂層が形成される。
透明基板を回転させながら紫外線を照射して紫外線硬化
樹脂層を形成すると、盛り上がり部分が狭く、平坦部分
の広い紫外線硬化樹脂層が形成される。
【００１５】
【実施例】本発明の好適な実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００１６】本実施例は本発明を光磁気ディスクの製造
に適用した例である。本実施例において製造する光磁気
ディスクは、透明基板上に少なくとも記録磁性層よりな
る記録部が形成され、上記記録部を覆う如く紫外線硬化
樹脂層が形成されてなるものである。
に適用した例である。本実施例において製造する光磁気
ディスクは、透明基板上に少なくとも記録磁性層よりな
る記録部が形成され、上記記録部を覆う如く紫外線硬化
樹脂層が形成されてなるものである。
【００１７】記録部が形成される基板としては、ガラ
ス，ポリカーボネート，ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリ
レート），セラミクス，シリコンウェハ等が使用可能で
ある。
ス，ポリカーボネート，ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリ
レート），セラミクス，シリコンウェハ等が使用可能で
ある。
【００１８】上記記録磁性層としては、この種の媒体に
用いられるものがいずれも使用でき、たとえばＴｂＦｅ
Ｃｏ非晶質合金膜等の希土類−遷移金属非晶質合金膜等
が挙げられる。希土類−遷移金属非晶質合金膜は、スパ
ッタリング，分子線エピキタシー，真空蒸着等の真空薄
膜形成技術により基板上に成膜することができる。ここ
で、実用的な磁気光学特性を達成する観点からは、膜厚
を１００〜１００００Å程度に選ぶことが望ましい。
用いられるものがいずれも使用でき、たとえばＴｂＦｅ
Ｃｏ非晶質合金膜等の希土類−遷移金属非晶質合金膜等
が挙げられる。希土類−遷移金属非晶質合金膜は、スパ
ッタリング，分子線エピキタシー，真空蒸着等の真空薄
膜形成技術により基板上に成膜することができる。ここ
で、実用的な磁気光学特性を達成する観点からは、膜厚
を１００〜１００００Å程度に選ぶことが望ましい。
【００１９】上記紫外線硬化樹脂層は、記録部を衝撃や
外部環境との接触による腐食から保護するために設けら
れるものであり、摺動記録方式において磁気ヘッドが摺
動する側の面となるものである。この紫外線硬化樹脂層
は、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により
塗布した後、紫外線を照射して硬化することにより形成
される。
外部環境との接触による腐食から保護するために設けら
れるものであり、摺動記録方式において磁気ヘッドが摺
動する側の面となるものである。この紫外線硬化樹脂層
は、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により
塗布した後、紫外線を照射して硬化することにより形成
される。
【００２０】ここで、本発明においては、平坦部分の広
い紫外線硬化樹脂層を形成するために、紫外線硬化樹脂
の塗布，硬化を、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコ
ートし、ディスクを回転させながら塗布した紫外線硬化
樹脂に紫外線を照射することにより行うこととする。
い紫外線硬化樹脂層を形成するために、紫外線硬化樹脂
の塗布，硬化を、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコ
ートし、ディスクを回転させながら塗布した紫外線硬化
樹脂に紫外線を照射することにより行うこととする。
【００２１】すなわち、スピンコート法とは、ディスク
面の中央に所定量の塗料を滴下した後、ディスクを回転
させることにより、記録部全面に紫外線硬化樹脂を均一
に行き亘らせて塗布する方法である。従来の紫外線硬化
樹脂層の形成方法では、紫外線硬化樹脂をスピンコート
した後、ディスクの回転を停止させて２〜３秒経過した
後、紫外線照射を行っている。ところが、このようにし
て形成された紫外線硬化樹脂層は、外周から１〜２ｍｍ
に亘る広い領域に盛り上がりを有した形状で形成され
る。
面の中央に所定量の塗料を滴下した後、ディスクを回転
させることにより、記録部全面に紫外線硬化樹脂を均一
に行き亘らせて塗布する方法である。従来の紫外線硬化
樹脂層の形成方法では、紫外線硬化樹脂をスピンコート
した後、ディスクの回転を停止させて２〜３秒経過した
後、紫外線照射を行っている。ところが、このようにし
て形成された紫外線硬化樹脂層は、外周から１〜２ｍｍ
に亘る広い領域に盛り上がりを有した形状で形成され
る。
【００２２】すなわち、記録部上にスピンコート法によ
り紫外線硬化樹脂を塗布した後、基板の回転を停止させ
ると、塗布された紫外線硬化樹脂は、ディスク外周付近
に盛り上がりを有している。そして、この盛り上がり部
分の樹脂は時間の経過に伴って徐々に中心へ向かって流
動する。たとえば、紫外線硬化樹脂を振り切り回転数４
５００ｒｐｍ，振り切り時間４．５秒に設定してスピン
コートした場合、盛り上がり部分の紫外線硬化樹脂は、
ディスク回転停止から２秒経過後には、外周から１ｍｍ
の領域に、また１分経過後には外周から２ｍｍの領域に
まで流動する。
り紫外線硬化樹脂を塗布した後、基板の回転を停止させ
ると、塗布された紫外線硬化樹脂は、ディスク外周付近
に盛り上がりを有している。そして、この盛り上がり部
分の樹脂は時間の経過に伴って徐々に中心へ向かって流
動する。たとえば、紫外線硬化樹脂を振り切り回転数４
５００ｒｐｍ，振り切り時間４．５秒に設定してスピン
コートした場合、盛り上がり部分の紫外線硬化樹脂は、
ディスク回転停止から２秒経過後には、外周から１ｍｍ
の領域に、また１分経過後には外周から２ｍｍの領域に
まで流動する。
【００２３】図２，図３に基板１上に紫外線硬化樹脂を
スピンコートした後、回転停止から２秒後に紫外線を照
射して形成された紫外線硬化樹脂層２の形状（図２）、
回転停止から１分後に紫外線を照射して形成された紫外
線硬化樹脂層２の形状（図３）を示すが、この状態で紫
外線硬化樹脂に紫外線を照射すると、このようにそれぞ
れ外周付近に幅Ｄが１〜２ｍｍ，高さｈが２０〜３０μ
ｍの盛り上がり２ａを有する紫外線硬化樹脂層が形成さ
れることとなる。
スピンコートした後、回転停止から２秒後に紫外線を照
射して形成された紫外線硬化樹脂層２の形状（図２）、
回転停止から１分後に紫外線を照射して形成された紫外
線硬化樹脂層２の形状（図３）を示すが、この状態で紫
外線硬化樹脂に紫外線を照射すると、このようにそれぞ
れ外周付近に幅Ｄが１〜２ｍｍ，高さｈが２０〜３０μ
ｍの盛り上がり２ａを有する紫外線硬化樹脂層が形成さ
れることとなる。
【００２４】光磁気ディスクにおいて、摺動記録方式を
採用する場合、盛り上がり部分にヘッドが摺接すると良
好な情報記録を困難となる。このため、このようにして
紫外線硬化樹脂層が形成された光磁気ディスクは、外周
から１〜２ｍｍに亘る領域に磁気ヘッドが接触しないよ
うにユーザエリアを設定せざるを得ず、記録情報量の確
保が困難である。特に、ミニディスクとする場合には、
記録情報量において実用性を欠くものとなってしまう。
採用する場合、盛り上がり部分にヘッドが摺接すると良
好な情報記録を困難となる。このため、このようにして
紫外線硬化樹脂層が形成された光磁気ディスクは、外周
から１〜２ｍｍに亘る領域に磁気ヘッドが接触しないよ
うにユーザエリアを設定せざるを得ず、記録情報量の確
保が困難である。特に、ミニディスクとする場合には、
記録情報量において実用性を欠くものとなってしまう。
【００２５】本発明では、紫外線硬化樹脂をスピンコー
トした後、ディスクの回転を停止させずに引き続きディ
スクを回転させながら紫外線を照射して紫外線硬化樹脂
層を形成する。ディスクを回転させながら紫外線照射し
た場合には、紫外線照射時において、外周付近の紫外線
硬化樹脂はディスクの回転による遠心力によって、中心
部への流動が抑えられる。このため、盛り上がりは外周
から０．２ｍｍ程度の範囲に止まり、形成された紫外線
硬化樹脂層は平坦部の広いものとなる。したがって、摺
動記録方式を採用した場合でも、ユーザエリアを広く採
ることができ、ミニディスクとした場合でも十分な記録
情報量を得ることが可能な光磁気ディスクが得られるこ
ととなる。
トした後、ディスクの回転を停止させずに引き続きディ
スクを回転させながら紫外線を照射して紫外線硬化樹脂
層を形成する。ディスクを回転させながら紫外線照射し
た場合には、紫外線照射時において、外周付近の紫外線
硬化樹脂はディスクの回転による遠心力によって、中心
部への流動が抑えられる。このため、盛り上がりは外周
から０．２ｍｍ程度の範囲に止まり、形成された紫外線
硬化樹脂層は平坦部の広いものとなる。したがって、摺
動記録方式を採用した場合でも、ユーザエリアを広く採
ることができ、ミニディスクとした場合でも十分な記録
情報量を得ることが可能な光磁気ディスクが得られるこ
ととなる。
【００２６】ここで、良好な形状を有する紫外線硬化樹
脂層を形成するためには、紫外線照射の際のディスクの
回転数Ｒ2 は、スピンコートの際の振り切り回転数Ｒ1
よりも小さいことが好ましい。Ｒ2 がＲ1 よりも大きい
場合には、遠心力が大きくなり過ぎ、紫外線硬化樹脂が
硬化に際してディスク外周よりもはみ出してしまい、バ
リが残存する虞れがある。
脂層を形成するためには、紫外線照射の際のディスクの
回転数Ｒ2 は、スピンコートの際の振り切り回転数Ｒ1
よりも小さいことが好ましい。Ｒ2 がＲ1 よりも大きい
場合には、遠心力が大きくなり過ぎ、紫外線硬化樹脂が
硬化に際してディスク外周よりもはみ出してしまい、バ
リが残存する虞れがある。
【００２７】なお、図１に、Ｒ1 を４５００ｒｐｍ、Ｒ
2 を３０００ｒｐｍに設定した場合に形成された紫外線
硬化樹脂層２の形状を示すが、このように紫外線硬化樹
脂層は、盛り上がり２ａの幅Ｄが０．２ｍｍであり、平
坦部が広く、良好な形状を有して形成される。
2 を３０００ｒｐｍに設定した場合に形成された紫外線
硬化樹脂層２の形状を示すが、このように紫外線硬化樹
脂層は、盛り上がり２ａの幅Ｄが０．２ｍｍであり、平
坦部が広く、良好な形状を有して形成される。
【００２８】上記紫外線硬化樹脂としては、防水性に優
れ、紫外線硬化樹脂層として形成した場合にレーザ光を
十分に透過し得ることが要求され、アクリル系紫外線硬
化樹脂等、通常、使用されている紫外線硬化塗料のう
ち、これら要求を満たすものを使用することが望まし
い。また、紫外線硬化樹脂の粘度および表面張力は、形
成される紫外線硬化樹脂層の膜厚や塗布状態に影響する
ので、紫外線硬化樹脂を選択する場合には、このような
点を考慮することが望ましい。本実施例では、粘度５０
０ｃｐｓ，表面張力３９ｄｙｎｅ／ｃｍの紫外線硬化樹
脂を使用した。
れ、紫外線硬化樹脂層として形成した場合にレーザ光を
十分に透過し得ることが要求され、アクリル系紫外線硬
化樹脂等、通常、使用されている紫外線硬化塗料のう
ち、これら要求を満たすものを使用することが望まし
い。また、紫外線硬化樹脂の粘度および表面張力は、形
成される紫外線硬化樹脂層の膜厚や塗布状態に影響する
ので、紫外線硬化樹脂を選択する場合には、このような
点を考慮することが望ましい。本実施例では、粘度５０
０ｃｐｓ，表面張力３９ｄｙｎｅ／ｃｍの紫外線硬化樹
脂を使用した。
【００２９】本発明の製造方法において製造される光磁
気ディスクとしては、記録部が上記記録磁性層とともに
誘電体層や反射層等よりなるものであってもよい。
気ディスクとしては、記録部が上記記録磁性層とともに
誘電体層や反射層等よりなるものであってもよい。
【００３０】上記誘電体層は、耐蝕性の向上や多重反射
によるカー回転角の増大（カー効果エンハンスメント）
を目的として設けられるものであり、酸化物，窒化物，
オキシナイトライド等の材料を真空薄膜形成技術により
５〜５０００Åの膜厚に成膜することにより得られる。
この誘電体膜は、基板と記録磁性層の間に介在させて
も、記録磁性層の上に積層しても、あるいはその両方で
あっても良い。
によるカー回転角の増大（カー効果エンハンスメント）
を目的として設けられるものであり、酸化物，窒化物，
オキシナイトライド等の材料を真空薄膜形成技術により
５〜５０００Åの膜厚に成膜することにより得られる。
この誘電体膜は、基板と記録磁性層の間に介在させて
も、記録磁性層の上に積層しても、あるいはその両方で
あっても良い。
【００３１】上記反射膜は、記録磁性層を透過したレー
ザ光をも反射させることによりカー効果にファラデー効
果を相乗させ、回転角を拡大するために設けられるもの
である。通常、Ａｌ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｃｕ等の金属材料を
真空薄膜形成技術にて成膜することにより得られる。
ザ光をも反射させることによりカー効果にファラデー効
果を相乗させ、回転角を拡大するために設けられるもの
である。通常、Ａｌ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｃｕ等の金属材料を
真空薄膜形成技術にて成膜することにより得られる。
【００３２】なお、本実施例では、本発明を光磁気ディ
スクの製造に適用した例について説明したが、本発明は
これに限らず、各種追記型光ディスク，コンパクトディ
スク，レーザディスク等各種光ディスクについても適用
可能である。
スクの製造に適用した例について説明したが、本発明は
これに限らず、各種追記型光ディスク，コンパクトディ
スク，レーザディスク等各種光ディスクについても適用
可能である。
【００３３】
【発明の効果】上述の説明からも明らかなように、本発
明の光ディスクの製造方法は、記録部上に紫外線硬化樹
脂をスピンコート法により塗布した後、透明基板を回転
させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し
て紫外線硬化樹脂層を形成するので、盛り上がり部分が
狭く、平坦部分の広い紫外線硬化樹脂層を形成すること
ができる。
明の光ディスクの製造方法は、記録部上に紫外線硬化樹
脂をスピンコート法により塗布した後、透明基板を回転
させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し
て紫外線硬化樹脂層を形成するので、盛り上がり部分が
狭く、平坦部分の広い紫外線硬化樹脂層を形成すること
ができる。
【００３４】したがって、本発明によれば、たとえば光
磁気ディスクとして摺動記録方式を採用した場合でもユ
ーザエリアを広く採ることが可能となり、ミニディスク
として好適な光ディスクを得ることが可能となる。
磁気ディスクとして摺動記録方式を採用した場合でもユ
ーザエリアを広く採ることが可能となり、ミニディスク
として好適な光ディスクを得ることが可能となる。
【図１】 本発明の方法を適用して形成された紫外線硬
化樹脂層の形状を示す要部概略断面図である。
化樹脂層の形状を示す要部概略断面図である。
【図２】 紫外線硬化樹脂をスピンコートした後，ディ
スクの回転を停止させてから２秒経過後に紫外線を照射
して形成された紫外線硬化樹脂層の形状を示す要部概略
断面図である。
スクの回転を停止させてから２秒経過後に紫外線を照射
して形成された紫外線硬化樹脂層の形状を示す要部概略
断面図である。
【図３】 紫外線硬化樹脂をスピンコートした後，ディ
スクの回転を停止させてから１分経過後に紫外線を照射
して形成された紫外線硬化樹脂層の形状を示す要部概略
断面図である。
スクの回転を停止させてから１分経過後に紫外線を照射
して形成された紫外線硬化樹脂層の形状を示す要部概略
断面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−149953（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−15441（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−286146（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−310647（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 11/105 G11B 7/26 531
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板上に形成された光学的に情報の
記録及び／又は再生が可能な記録部上に、紫外線硬化樹
脂層を形成するに際し、 記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布
した後、上記スピンコート法における振り切り回転数Ｒ
１ よりも小さな回転数Ｒ２ で透明基板を回転させな
がら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外
線硬化樹脂層を形成することを特徴とする光ディスクの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03341938A JP3104092B2 (ja) | 1991-11-30 | 1991-11-30 | 光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03341938A JP3104092B2 (ja) | 1991-11-30 | 1991-11-30 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05159394A JPH05159394A (ja) | 1993-06-25 |
| JP3104092B2 true JP3104092B2 (ja) | 2000-10-30 |
Family
ID=18349924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03341938A Expired - Fee Related JP3104092B2 (ja) | 1991-11-30 | 1991-11-30 | 光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3104092B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7396562B2 (en) | 2001-06-06 | 2008-07-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information-recording medium manufacturing method and manufacturing apparatus |
| US7820234B2 (en) | 2001-06-07 | 2010-10-26 | Panasonic Corporation | Manufacturing method of optical information recording medium |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2002063737A (ja) * | 2000-06-09 | 2002-02-28 | Tdk Corp | 光情報媒体およびその製造方法 |
-
1991
- 1991-11-30 JP JP03341938A patent/JP3104092B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7396562B2 (en) | 2001-06-06 | 2008-07-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information-recording medium manufacturing method and manufacturing apparatus |
| US7820234B2 (en) | 2001-06-07 | 2010-10-26 | Panasonic Corporation | Manufacturing method of optical information recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05159394A (ja) | 1993-06-25 |
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