JP3407316B2 - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
- Publication number
- JP3407316B2 JP3407316B2 JP31433192A JP31433192A JP3407316B2 JP 3407316 B2 JP3407316 B2 JP 3407316B2 JP 31433192 A JP31433192 A JP 31433192A JP 31433192 A JP31433192 A JP 31433192A JP 3407316 B2 JP3407316 B2 JP 3407316B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- optical disk
- protective film
- film
- peripheral side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
- G11B11/10584—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the form, e.g. comprising mechanical protection elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/1055—Disposition or mounting of transducers relative to record carriers
- G11B11/1058—Flying heads
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24056—Light transmission layers lying on the light entrance side and being thinner than the substrate, e.g. specially adapted for Blu-ray® discs
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気ディスクに関
し、特に金属薄膜よりなる機能膜を覆って形成される保
護膜を改良した光磁気ディスクに関する。
し、特に金属薄膜よりなる機能膜を覆って形成される保
護膜を改良した光磁気ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光の照射により情報の記録再生を
行う光ディスクとしては、デジタルオーディオディスク
や光学式ビデオディスクが用いられている。
行う光ディスクとしては、デジタルオーディオディスク
や光学式ビデオディスクが用いられている。
【０００３】デジタルオーディオディスク等の光ディス
クは、情報信号である凹凸パターンが形成された透明基
板上にＡｌ膜等の金属薄膜よりなる反射膜が形成され、
更にこの反射膜を大気中の水分、Ｏ2から隔離するため
の保護膜が反射膜上に形成されている。保護膜として
は、通常、紫外線硬化樹脂をスピンコート法，ロールコ
ート法等により、反射膜上の膜面全面に亘り均一に塗
布、硬化して形成される紫外線硬化樹脂層が用いられ
る。
クは、情報信号である凹凸パターンが形成された透明基
板上にＡｌ膜等の金属薄膜よりなる反射膜が形成され、
更にこの反射膜を大気中の水分、Ｏ2から隔離するため
の保護膜が反射膜上に形成されている。保護膜として
は、通常、紫外線硬化樹脂をスピンコート法，ロールコ
ート法等により、反射膜上の膜面全面に亘り均一に塗
布、硬化して形成される紫外線硬化樹脂層が用いられ
る。
【０００４】ところで、再生専用型の光ディスクは、製
造時に透明基板上に予め情報信号に対応する凹凸パター
ンが記録され、情報信号の更なる記録を行うことができ
ない。このような再生専用型の光ディスクに対し、使用
者による情報の繰り返し記録、消去が可能な光ディスク
として光磁気ディスクが提案されている。
造時に透明基板上に予め情報信号に対応する凹凸パター
ンが記録され、情報信号の更なる記録を行うことができ
ない。このような再生専用型の光ディスクに対し、使用
者による情報の繰り返し記録、消去が可能な光ディスク
として光磁気ディスクが提案されている。
【０００５】情報信号の再記録を可能とした光磁気ディ
スクは、記録磁性層として膜面と垂直方向に磁化容易軸
を有し且つ磁気光学効果の大きな磁性薄膜を用いてる。
そして、記録に際しては、レーザ光の照射によりこの磁
性薄膜を部分的にキュリー点又は温度補償点を越えて昇
温し、この部分の保磁力を消滅させて外部から印加され
る記録磁界の方向に磁化の向きを反転させる。一方、再
生に際しては、磁性薄膜にレーザ光を照射し、磁気カー
効果若しくはファラデー効果を利用して記録情報を読み
出す。
スクは、記録磁性層として膜面と垂直方向に磁化容易軸
を有し且つ磁気光学効果の大きな磁性薄膜を用いてる。
そして、記録に際しては、レーザ光の照射によりこの磁
性薄膜を部分的にキュリー点又は温度補償点を越えて昇
温し、この部分の保磁力を消滅させて外部から印加され
る記録磁界の方向に磁化の向きを反転させる。一方、再
生に際しては、磁性薄膜にレーザ光を照射し、磁気カー
効果若しくはファラデー効果を利用して記録情報を読み
出す。
【０００６】上述の記録磁性層として要求される特性を
有する磁性薄膜としては、例えばＴｂＦｅＣｏ系非晶質
薄膜等の希土類−遷移金属非晶質薄膜がある。
有する磁性薄膜としては、例えばＴｂＦｅＣｏ系非晶質
薄膜等の希土類−遷移金属非晶質薄膜がある。
【０００７】光磁気ディスクは、通常、このような希土
類−遷移金属非晶質薄膜とともに反射層、誘電体層を積
層することにより記録層を形成し、更にこの記録層上に
保護膜が設けられた構成とされる。この種の光磁気ディ
スクには、単板仕様のものと、２枚の光磁気ディスクを
保護膜が対向するように貼り合わせ、両面より記録再生
を行うようにした両面仕様のものがあり、製造が容易で
あること、記録再生装置が簡易な構成で済むこと等か
ら、単板仕様のものが普及品として検討されている。
類−遷移金属非晶質薄膜とともに反射層、誘電体層を積
層することにより記録層を形成し、更にこの記録層上に
保護膜が設けられた構成とされる。この種の光磁気ディ
スクには、単板仕様のものと、２枚の光磁気ディスクを
保護膜が対向するように貼り合わせ、両面より記録再生
を行うようにした両面仕様のものがあり、製造が容易で
あること、記録再生装置が簡易な構成で済むこと等か
ら、単板仕様のものが普及品として検討されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光磁気ディ
スクは、記録磁性層として形成される希土類−遷移金属
非晶質薄膜が非常に腐食し易いため、保護膜には、再生
専用型の光ディスク以上に高い防水機能が要求される。
特に、単板仕様とする場合には、保護膜面が大気と直接
接触するために、保護膜に対する要求はより厳しいもの
となる。
スクは、記録磁性層として形成される希土類−遷移金属
非晶質薄膜が非常に腐食し易いため、保護膜には、再生
専用型の光ディスク以上に高い防水機能が要求される。
特に、単板仕様とする場合には、保護膜面が大気と直接
接触するために、保護膜に対する要求はより厳しいもの
となる。
【０００９】このため、光磁気ディスクでは、保護膜と
して比較的膜厚の厚い紫外線硬化樹脂層や架橋度の高い
紫外線硬化樹脂層を記録層上に形成する等の試みがなさ
れているが、膜厚が厚かったり、架橋度の高い紫外線硬
化樹脂層を記録層上に形成しようとすると、硬化収縮に
より基板に反りが生じる等の不都合が生じる。このた
め、光磁気ディスクにおいても、再生専用型の光ディス
クと同様の膜厚、架橋度の紫外線硬化樹脂層を保護膜と
して形成しており、十分な耐食性が得られないのが実情
である。
して比較的膜厚の厚い紫外線硬化樹脂層や架橋度の高い
紫外線硬化樹脂層を記録層上に形成する等の試みがなさ
れているが、膜厚が厚かったり、架橋度の高い紫外線硬
化樹脂層を記録層上に形成しようとすると、硬化収縮に
より基板に反りが生じる等の不都合が生じる。このた
め、光磁気ディスクにおいても、再生専用型の光ディス
クと同様の膜厚、架橋度の紫外線硬化樹脂層を保護膜と
して形成しており、十分な耐食性が得られないのが実情
である。
【００１０】本発明は、このような従来の実情に鑑みて
提案されたものであり、希土類−遷移金属非晶質薄膜等
の腐食性の高い膜を記録層に用いた場合でも十分な耐食
性が得られる光磁気ディスクを提供することを目的とす
る。
提案されたものであり、希土類−遷移金属非晶質薄膜等
の腐食性の高い膜を記録層に用いた場合でも十分な耐食
性が得られる光磁気ディスクを提供することを目的とす
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、希土類−遷
移金属非晶質薄膜等の金属薄膜を有する光磁気ディスク
の耐食性は、保護膜の外周端部の膜厚を厚くすることに
より、飛躍的に改善されるとの知見を得るに至った。
めに、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、希土類−遷
移金属非晶質薄膜等の金属薄膜を有する光磁気ディスク
の耐食性は、保護膜の外周端部の膜厚を厚くすることに
より、飛躍的に改善されるとの知見を得るに至った。
【００１２】本発明に係る光磁気ディスクは、このよう
な知見に基づいて提案されたものであり、透明基板上に
少なくとも金属薄膜を含む記録層が形成されるととも
に、上記記録層を覆って保護膜が形成され、磁気ヘッド
素子を有する磁気記録部と上記保護膜上を摺接する実摺
動部とを有し、上記磁気記録部が当該光磁気ディスクの
外周側に位置し、上記実摺動部の当該光磁気ディスクへ
の摺接位置が上記磁気記録部より内周側に位置する磁気
ヘッド装置によりデータの記録が行われる光磁気ディス
クにおいて、上記記録層を覆う上記保護膜の外周側端部
に形成される膜厚部の最大膜厚をｄとし、上記保護膜の
上記膜厚部より内周側に形成される平坦部の平均厚さを
ｄoとしたときに、２ｄ0≦ｄ≦６ｄ0となし、上記磁気
ヘッド装置の上記実摺動部が上記保護膜の上記平坦部上
に摺接したときに、上記実摺動部の摺接面から上記磁気
記録部に至る高さをＬ2とするとき、上記保護膜の最大
膜厚ｄと上記保護膜の平坦部の平均厚さｄoの差Ｌ1がＬ
1＜Ｌ2の関係としたものである。
な知見に基づいて提案されたものであり、透明基板上に
少なくとも金属薄膜を含む記録層が形成されるととも
に、上記記録層を覆って保護膜が形成され、磁気ヘッド
素子を有する磁気記録部と上記保護膜上を摺接する実摺
動部とを有し、上記磁気記録部が当該光磁気ディスクの
外周側に位置し、上記実摺動部の当該光磁気ディスクへ
の摺接位置が上記磁気記録部より内周側に位置する磁気
ヘッド装置によりデータの記録が行われる光磁気ディス
クにおいて、上記記録層を覆う上記保護膜の外周側端部
に形成される膜厚部の最大膜厚をｄとし、上記保護膜の
上記膜厚部より内周側に形成される平坦部の平均厚さを
ｄoとしたときに、２ｄ0≦ｄ≦６ｄ0となし、上記磁気
ヘッド装置の上記実摺動部が上記保護膜の上記平坦部上
に摺接したときに、上記実摺動部の摺接面から上記磁気
記録部に至る高さをＬ2とするとき、上記保護膜の最大
膜厚ｄと上記保護膜の平坦部の平均厚さｄoの差Ｌ1がＬ
1＜Ｌ2の関係としたものである。
【００１３】本発明に係る光磁気ディスクを構成する透
明基板の材料としては、通常、光ディスクに使用されて
いる基板材料であればいずれでもよく、例えば、ポリカ
ーボネート系樹脂，ポリメチルメタクリレート系樹脂あ
るいはアモルファスポリオレフィン系樹脂等が挙げられ
る。
明基板の材料としては、通常、光ディスクに使用されて
いる基板材料であればいずれでもよく、例えば、ポリカ
ーボネート系樹脂，ポリメチルメタクリレート系樹脂あ
るいはアモルファスポリオレフィン系樹脂等が挙げられ
る。
【００１４】透明基板上に形成される記録層は、磁気光
学特性（磁気カー効果やファラデー効果）を有する垂直
磁化膜、例えばＴｂＦｅＣｏ系非晶質薄膜等の希土類−
遷移金属合金非晶質膜等を成膜して構成される。
学特性（磁気カー効果やファラデー効果）を有する垂直
磁化膜、例えばＴｂＦｅＣｏ系非晶質薄膜等の希土類−
遷移金属合金非晶質膜等を成膜して構成される。
【００１５】保護膜は、記録層を衝撃から保護するとと
もに、空気中の酸素、水分から隔離し、記録層の腐食、
孔食を防止するためのものである。
もに、空気中の酸素、水分から隔離し、記録層の腐食、
孔食を防止するためのものである。
【００１６】本発明においては、記録層を希土類−遷移
金属合金非晶質膜等の腐食性の高い金属薄膜により形成
した場合でも、保護膜によって金属薄膜の腐食が確実に
防止できるように、記録層を覆う上記保護膜の外周側端
部に形成される膜厚部の最大膜厚をｄとし、保護膜の膜
厚部より内周側に形成される平坦部の平均厚さをｄoと
したときにｄ≧２ｄ0とした。
金属合金非晶質膜等の腐食性の高い金属薄膜により形成
した場合でも、保護膜によって金属薄膜の腐食が確実に
防止できるように、記録層を覆う上記保護膜の外周側端
部に形成される膜厚部の最大膜厚をｄとし、保護膜の膜
厚部より内周側に形成される平坦部の平均厚さをｄoと
したときにｄ≧２ｄ0とした。
【００１７】保護膜は、外周側端部において腐食因子で
ある水分、Ｏ2の侵入をさせ易いが、外周側端部の膜厚
を厚くすることにより、このような腐食因子の侵入をも
効果的に防止でき防水効果の高いものとなる。
ある水分、Ｏ2の侵入をさせ易いが、外周側端部の膜厚
を厚くすることにより、このような腐食因子の侵入をも
効果的に防止でき防水効果の高いものとなる。
【００１８】保護膜は、例えばアクリル系紫外線硬化樹
脂等の紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布、紫
外線照射して形成される。
脂等の紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布、紫
外線照射して形成される。
【００１９】すなわち、スピンコート法により、紫外線
硬化樹脂を塗布するには、透明基板上に形成された記録
層の中央部に所定量の紫外線硬化樹脂を滴下し、透明基
板を回転させる。すると、滴下した紫外線硬化樹脂は遠
心力により外周端部へ向かって振り切られ、記録層全面
に行き亘る。その後、透明基板の回転を停止させると、
記録層上には、紫外線硬化樹脂塗膜が、基板の外周側端
部に盛り上がりを有した形状で形成される。この紫外線
硬化樹脂塗膜において、盛り上がり部の紫外線硬化樹脂
は放置により徐々に透明基板の中央部に向かって流動
し、外周側の端部が平坦となるが、透明基板の回転停止
直後に紫外線照射を行って外周側端部に盛り上がりを有
した状態で硬化させるか、あるいは透明基板を回転させ
て盛り上がり部の中央部への流動を遠心力により抑えた
状態で紫外線照射を行うと、保護膜の外周端部に盛り上
がりを持たせることができる。
硬化樹脂を塗布するには、透明基板上に形成された記録
層の中央部に所定量の紫外線硬化樹脂を滴下し、透明基
板を回転させる。すると、滴下した紫外線硬化樹脂は遠
心力により外周端部へ向かって振り切られ、記録層全面
に行き亘る。その後、透明基板の回転を停止させると、
記録層上には、紫外線硬化樹脂塗膜が、基板の外周側端
部に盛り上がりを有した形状で形成される。この紫外線
硬化樹脂塗膜において、盛り上がり部の紫外線硬化樹脂
は放置により徐々に透明基板の中央部に向かって流動
し、外周側の端部が平坦となるが、透明基板の回転停止
直後に紫外線照射を行って外周側端部に盛り上がりを有
した状態で硬化させるか、あるいは透明基板を回転させ
て盛り上がり部の中央部への流動を遠心力により抑えた
状態で紫外線照射を行うと、保護膜の外周端部に盛り上
がりを持たせることができる。
【００２０】このとき、保護膜の膜厚部が形成される外
周側端部より内周側に形成される平坦部の平均膜厚ｄ0
及び外周側端部に形成される膜厚部の最大膜厚ｄは、紫
外線硬化樹脂塗膜が塗布された透明基板の振り切り回転
数、振り切り時間、透明基板の回転停止後から紫外線照
射をするまでの放置時間及び紫外線照射時の透明基板の
回転数等を制御することにより所望の値とすることがで
き、これらの条件を調整することにより、ｄ≧２ｄ0な
る条件を満たす保護膜が形成される。
周側端部より内周側に形成される平坦部の平均膜厚ｄ0
及び外周側端部に形成される膜厚部の最大膜厚ｄは、紫
外線硬化樹脂塗膜が塗布された透明基板の振り切り回転
数、振り切り時間、透明基板の回転停止後から紫外線照
射をするまでの放置時間及び紫外線照射時の透明基板の
回転数等を制御することにより所望の値とすることがで
き、これらの条件を調整することにより、ｄ≧２ｄ0な
る条件を満たす保護膜が形成される。
【００２１】なお、紫外線硬化樹脂層よりなる保護膜の
記録層を覆う平坦部における平均膜厚ｄ0は、記録層の
保護を確実なものとする観点からはより厚い方が好まし
いが、あまり厚くすると硬化収縮により基板に反り等が
生じるおそれがあることから、通常は３〜１０μｍに制
御される。
記録層を覆う平坦部における平均膜厚ｄ0は、記録層の
保護を確実なものとする観点からはより厚い方が好まし
いが、あまり厚くすると硬化収縮により基板に反り等が
生じるおそれがあることから、通常は３〜１０μｍに制
御される。
【００２２】上述のように磁気光学効果を有する金属薄
膜を形成して構成された記録層を有する光磁気ディスク
の記録再生装置としては、磁界発生装置である磁気ヘッ
ド装置を記録磁性層側に配し、レーザ光を照射する光学
ピックアップ装置を基板を挟んだ記録磁性層の対面に配
置したものが挙げられる。
膜を形成して構成された記録層を有する光磁気ディスク
の記録再生装置としては、磁界発生装置である磁気ヘッ
ド装置を記録磁性層側に配し、レーザ光を照射する光学
ピックアップ装置を基板を挟んだ記録磁性層の対面に配
置したものが挙げられる。
【００２３】この種の記録再生装置に用いられる磁気ヘ
ッド装置は、諸々の制約から非常に小さな磁界しか発生
できず、磁気ヘッド装置をなるべく光磁気ディスクに近
接させる必要があるため、磁気ヘッド装置として磁気記
録部と実摺動部により構成される磁気ヘッド装置が用い
られている。この磁気ヘッド装置は、磁気記録部が光磁
気ディスクの外周側に位置し、実摺動部の当該光磁気デ
ィスクへの摺接位置が磁気記録部より内周側に位置して
保護膜上を摺接した状態でデータの記録を行う。
ッド装置は、諸々の制約から非常に小さな磁界しか発生
できず、磁気ヘッド装置をなるべく光磁気ディスクに近
接させる必要があるため、磁気ヘッド装置として磁気記
録部と実摺動部により構成される磁気ヘッド装置が用い
られている。この磁気ヘッド装置は、磁気記録部が光磁
気ディスクの外周側に位置し、実摺動部の当該光磁気デ
ィスクへの摺接位置が磁気記録部より内周側に位置して
保護膜上を摺接した状態でデータの記録を行う。
【００２４】磁気記録部よりも内周側に摺接位置を位置
させて光磁気ディスク上を摺接する実摺動部は、バネに
よる負荷を受けながら光磁気ディスク上に接しており、
磁気記録部をディスク表面から微小間隙を有して支持す
る部分である。
させて光磁気ディスク上を摺接する実摺動部は、バネに
よる負荷を受けながら光磁気ディスク上に接しており、
磁気記録部をディスク表面から微小間隙を有して支持す
る部分である。
【００２５】このような磁気ヘッド装置によりデータの
記録を行うに際しては、実摺動部が光磁気ディスクの保
護膜上を摺接することになり、光磁気ディスクの保護膜
の膜厚や形状及び用いる磁気ヘッド装置の形状を互いに
適合したものとする必要がある。
記録を行うに際しては、実摺動部が光磁気ディスクの保
護膜上を摺接することになり、光磁気ディスクの保護膜
の膜厚や形状及び用いる磁気ヘッド装置の形状を互いに
適合したものとする必要がある。
【００２６】そこで、本発明に係る光磁気ディスクにお
いては、記録層を構成する金属薄膜よりなる機能膜が磁
気光学効果を有する垂直磁化膜である場合において、保
護膜の外周側端部に形成された膜厚部の最大膜厚ｄとそ
の内周側に形成される平坦部における平均膜厚ｄoの差
Ｌ1が４０μｍ以下であることが望ましい。更に、保護
膜の膜厚は、外周側端部において次第に増加して曲面を
構成しており、曲面の曲率半径Ｒ1が１２．４８ｍｍ以
上とされる。
いては、記録層を構成する金属薄膜よりなる機能膜が磁
気光学効果を有する垂直磁化膜である場合において、保
護膜の外周側端部に形成された膜厚部の最大膜厚ｄとそ
の内周側に形成される平坦部における平均膜厚ｄoの差
Ｌ1が４０μｍ以下であることが望ましい。更に、保護
膜の膜厚は、外周側端部において次第に増加して曲面を
構成しており、曲面の曲率半径Ｒ1が１２．４８ｍｍ以
上とされる。
【００２７】上述のような光磁気ディスクにおいて、デ
ータの記録が可能とされた領域である記録可能領域の最
外周側の位置での磁気ヘッド素子と記録層間の距離があ
まり大きいとスペーシングロスによる記録不良が発生し
易いことから、保護膜の外周側端部に形成された膜厚部
の最大膜厚ｄとその内周側に形成される平坦部における
平均膜厚ｄoの差Ｌ1は４０μｍ以下であることが好まし
い。この光磁気ディスクに適合する磁気ヘッド装置は、
実摺動部の摺接面から磁気記録部に至る高さをＬ2とす
るとき、保護膜の最大膜厚ｄと平均膜厚ｄoの差Ｌ1に対
してＬ2＞Ｌ1の関係にあることが条件となる。
ータの記録が可能とされた領域である記録可能領域の最
外周側の位置での磁気ヘッド素子と記録層間の距離があ
まり大きいとスペーシングロスによる記録不良が発生し
易いことから、保護膜の外周側端部に形成された膜厚部
の最大膜厚ｄとその内周側に形成される平坦部における
平均膜厚ｄoの差Ｌ1は４０μｍ以下であることが好まし
い。この光磁気ディスクに適合する磁気ヘッド装置は、
実摺動部の摺接面から磁気記録部に至る高さをＬ2とす
るとき、保護膜の最大膜厚ｄと平均膜厚ｄoの差Ｌ1に対
してＬ2＞Ｌ1の関係にあることが条件となる。
【００２８】上述のような光磁気ディスクにおいて、保
護膜の外周側端部に形成される曲面の曲率半径Ｒ1が１
２．４８ｍｍ未満であると、磁気ヘッド装置の実摺動部
が曲面より滑り落ちてしまい光磁気ディスクの記録可能
領域の最外周側の位置への記録が不可能となるといった
不都合が生じる。更に、上述のような光磁気ディスクに
適合する磁気ヘッド装置においては、磁気記録部が記録
可能領域の最外周側の位置に位置するとき、実摺動部の
光磁気ディスクへの摺接位置が記録可能領域の内周側の
保護膜の平坦部に摺接するため、記録可能領域の最外周
側の位置に記録を行う際にも磁気ヘッド素子と記録層間
の距離が変わらないため、スペーシングロスが発生しに
くい。
護膜の外周側端部に形成される曲面の曲率半径Ｒ1が１
２．４８ｍｍ未満であると、磁気ヘッド装置の実摺動部
が曲面より滑り落ちてしまい光磁気ディスクの記録可能
領域の最外周側の位置への記録が不可能となるといった
不都合が生じる。更に、上述のような光磁気ディスクに
適合する磁気ヘッド装置においては、磁気記録部が記録
可能領域の最外周側の位置に位置するとき、実摺動部の
光磁気ディスクへの摺接位置が記録可能領域の内周側の
保護膜の平坦部に摺接するため、記録可能領域の最外周
側の位置に記録を行う際にも磁気ヘッド素子と記録層間
の距離が変わらないため、スペーシングロスが発生しに
くい。
【００２９】また、保護膜の外周側端部に形成される膜
厚部の最大膜厚ｄと平均膜厚ｄoの差Ｌ1が、磁気ヘッド
装置の実摺動部の摺接面から磁気記録部に至る高さＬ2
より小さくされているので、膜厚部上に磁気記録部が位
置するようになっても、磁気ヘッド素子と記録層間の距
離を一定に維持できるので、データの記録を可能とする
記録可能領域を当該光磁気ディスクの外周側まで設ける
ことが可能となる。
厚部の最大膜厚ｄと平均膜厚ｄoの差Ｌ1が、磁気ヘッド
装置の実摺動部の摺接面から磁気記録部に至る高さＬ2
より小さくされているので、膜厚部上に磁気記録部が位
置するようになっても、磁気ヘッド素子と記録層間の距
離を一定に維持できるので、データの記録を可能とする
記録可能領域を当該光磁気ディスクの外周側まで設ける
ことが可能となる。
【００３０】なお、磁気ヘッド装置の磁気ヘッド素子と
記録層間のスペーシングロスを考慮し、保護膜の外周側
端部に形成される膜厚部の最大膜厚ｄは、平坦部の平均
厚さｄoの６倍以下が望ましい。
記録層間のスペーシングロスを考慮し、保護膜の外周側
端部に形成される膜厚部の最大膜厚ｄは、平坦部の平均
厚さｄoの６倍以下が望ましい。
【００３１】上述のような条件を満たす保護膜も、スピ
ンコート法により紫外線硬化樹脂を塗布する際の透明基
板の振り切り回転数、振り切り時間、ディスクの回転停
止後から紫外線照射をするまでの放置時間及び紫外線照
射時のディスク回転数等を制御することによって形成さ
れる。
ンコート法により紫外線硬化樹脂を塗布する際の透明基
板の振り切り回転数、振り切り時間、ディスクの回転停
止後から紫外線照射をするまでの放置時間及び紫外線照
射時のディスク回転数等を制御することによって形成さ
れる。
【００３２】
【作用】本発明に係る光磁気ディスクは、記録層を覆う
保護膜の外周側端部に形成される膜厚部の最大膜厚をｄ
とし、保護膜の膜厚部より内周側に形成される平坦部の
平均厚さをｄoとしたときに、２ｄ0≦ｄ≦６ｄ0となる
条件を満たすようにすることにより、従来の光ディスク
において、保護膜の外周側の端部から侵入しやすかった
水分、Ｏ2の侵入を効果的に防止できる。したがって、
例えば希土類−遷移金属非晶質薄膜等の腐食性の高い金
属薄膜を記録層に用いた場合でも、優れた耐食性を示
し、信頼性の高い記録再生が達成される。
保護膜の外周側端部に形成される膜厚部の最大膜厚をｄ
とし、保護膜の膜厚部より内周側に形成される平坦部の
平均厚さをｄoとしたときに、２ｄ0≦ｄ≦６ｄ0となる
条件を満たすようにすることにより、従来の光ディスク
において、保護膜の外周側の端部から侵入しやすかった
水分、Ｏ2の侵入を効果的に防止できる。したがって、
例えば希土類−遷移金属非晶質薄膜等の腐食性の高い金
属薄膜を記録層に用いた場合でも、優れた耐食性を示
し、信頼性の高い記録再生が達成される。
【００３３】更に、本発明に係る光磁気ディスクは、磁
気ヘッド素子を有する磁気記録部と保護膜上を摺接する
実摺動部とを有し、磁気記録部が当該光磁気ディスクの
外周側に位置し、実摺動部の光磁気ディスクへの摺接位
置が磁気記録部より内周側に位置する磁気ヘッド装置に
よりデータの記録が行われるにとき、保護膜の外周側端
部に形成される膜厚部の最大膜厚ｄと平均膜厚ｄoの差
Ｌ1が、磁気ヘッド装置の実摺動部の摺接面から磁気記
録部に至る高さＬ2より小さくされているので、膜厚部
上に磁気記録部が位置するようになっても、磁気ヘッド
素子と記録層間の距離を一定に維持でき、データの記録
を可能とする記録可能領域を当該光磁気ディスクの外周
側まで設けることができる。
気ヘッド素子を有する磁気記録部と保護膜上を摺接する
実摺動部とを有し、磁気記録部が当該光磁気ディスクの
外周側に位置し、実摺動部の光磁気ディスクへの摺接位
置が磁気記録部より内周側に位置する磁気ヘッド装置に
よりデータの記録が行われるにとき、保護膜の外周側端
部に形成される膜厚部の最大膜厚ｄと平均膜厚ｄoの差
Ｌ1が、磁気ヘッド装置の実摺動部の摺接面から磁気記
録部に至る高さＬ2より小さくされているので、膜厚部
上に磁気記録部が位置するようになっても、磁気ヘッド
素子と記録層間の距離を一定に維持でき、データの記録
を可能とする記録可能領域を当該光磁気ディスクの外周
側まで設けることができる。
【００３４】
【実施例】本発明の好適な実施例について説明する。実験例
本例では、外径を１３０ｍｍとするポリカーボネート基
板を用意し、この基板上に、外周マスクを使用せずに、
第１の誘電体層、記録磁性層、第２の誘電体層、反射層
をスパッタリング法により順次成膜して記録層を形成し
た。次いで、この記録層上に粘度５０ｃｐｓの紫外線硬
化樹脂をスピンコートし、ディスク回転停止後、１秒以
内に高圧水銀ランプにて紫外線照射して保護膜を形成
し、光磁気ディスク（サンプルディスク１〜サンプルデ
ィスク８）を作成した。
板を用意し、この基板上に、外周マスクを使用せずに、
第１の誘電体層、記録磁性層、第２の誘電体層、反射層
をスパッタリング法により順次成膜して記録層を形成し
た。次いで、この記録層上に粘度５０ｃｐｓの紫外線硬
化樹脂をスピンコートし、ディスク回転停止後、１秒以
内に高圧水銀ランプにて紫外線照射して保護膜を形成
し、光磁気ディスク（サンプルディスク１〜サンプルデ
ィスク８）を作成した。
【００３５】なお、各光磁気ディスクの保護膜形成条件
（スピンコートの際の振り切り条件、紫外線照射時のデ
ィスク回転数）及び記録層を覆う保護膜の外周側端部に
形成される膜厚部の最大膜厚ｄ及びその内周側に形成さ
れ記録可能領域であるデータエリアを覆う平坦部におけ
る平均膜厚ｄ0は表１に示す通りである。
（スピンコートの際の振り切り条件、紫外線照射時のデ
ィスク回転数）及び記録層を覆う保護膜の外周側端部に
形成される膜厚部の最大膜厚ｄ及びその内周側に形成さ
れ記録可能領域であるデータエリアを覆う平坦部におけ
る平均膜厚ｄ0は表１に示す通りである。
【００３６】
【表１】
【００３７】また、参考のため、テンコール社製、Ｐ−
１にて測定したサンプルディスク１の表面形状プロファ
イルを図１に示す。
１にて測定したサンプルディスク１の表面形状プロファ
イルを図１に示す。
【００３８】更に、比較のために、保護膜を形成するに
際して、紫外線硬化樹脂をスピンコートし、ディスク回
転停止から５秒経過した後に紫外線照射して保護膜を形
成したこと以外は、本発明と同様にして光磁気ディスク
（比較ディスク１〜比較ディスク４）を作成した。
際して、紫外線硬化樹脂をスピンコートし、ディスク回
転停止から５秒経過した後に紫外線照射して保護膜を形
成したこと以外は、本発明と同様にして光磁気ディスク
（比較ディスク１〜比較ディスク４）を作成した。
【００３９】なお、ディスク回転停止から紫外線照射ま
での時間を５秒に設定したのは、通常のスピンコートに
おいてハンドリングにかかる時間に適合させるためであ
る。
での時間を５秒に設定したのは、通常のスピンコートに
おいてハンドリングにかかる時間に適合させるためであ
る。
【００４０】各光磁気ディスクの保護膜形成条件（スピ
ンコートの際の振り切り条件，紫外線照射時のディスク
回転数）及び記録層を覆う保護膜の外周側の端部におけ
る最大膜厚ｄ及びデータエリア上を覆う平坦部における
平均膜厚ｄ0は表２に示す通りである。
ンコートの際の振り切り条件，紫外線照射時のディスク
回転数）及び記録層を覆う保護膜の外周側の端部におけ
る最大膜厚ｄ及びデータエリア上を覆う平坦部における
平均膜厚ｄ0は表２に示す通りである。
【００４１】
【表２】
【００４２】参考のため、比較ディスクの表面形状プロ
ファイルを図２に示す。
ファイルを図２に示す。
【００４３】このようにして作成された各光磁気ディス
ク１０枚を温度８０℃、相対湿度８５％の高温多湿条件
下で１０００時間放置し、放置前後のバイトエラーレー
トを調べた。なお、バイトエラーレートは、ソニー社
製、商品名 ＳＭＯ−Ｄ５０１のドライブ装置にて最外
周トラックから１０００トラック目のトラックについて
測定した。その結果を表３に示す。また、各光磁気ディ
スクの基板の反り量についても表３に併せて示す。
ク１０枚を温度８０℃、相対湿度８５％の高温多湿条件
下で１０００時間放置し、放置前後のバイトエラーレー
トを調べた。なお、バイトエラーレートは、ソニー社
製、商品名 ＳＭＯ−Ｄ５０１のドライブ装置にて最外
周トラックから１０００トラック目のトラックについて
測定した。その結果を表３に示す。また、各光磁気ディ
スクの基板の反り量についても表３に併せて示す。
【００４４】
【表３】
【００４５】表３からわかるように、ｄ≧２．０ｄ0な
る条件を満たす保護膜を形成したサンプルディスク１〜
サンプルディスク８は、高温多湿条件下放置後において
も、バイトエラーが１×１０-5以下と小さく、耐食性に
優れている。しかも、基板の反りも±１ｍｒａｄ以下と
小さく良好な形状を有している。
る条件を満たす保護膜を形成したサンプルディスク１〜
サンプルディスク８は、高温多湿条件下放置後において
も、バイトエラーが１×１０-5以下と小さく、耐食性に
優れている。しかも、基板の反りも±１ｍｒａｄ以下と
小さく良好な形状を有している。
【００４６】これに対して、ｄ≧２ｄ0なる条件を満た
さない保護膜、すなわち保護膜を記録層全面に亘り略均
一な膜厚で形成した光磁気ディスクは、保護膜の膜厚が
薄い場合には高温多湿条件下放置によるバイトエラーレ
ートの増大が著しく、保護膜の膜厚を厚くすると放置に
よるエラーレートの増大は抑えられるものの、基板の反
り量が大きくなり機械的特性が劣化する。
さない保護膜、すなわち保護膜を記録層全面に亘り略均
一な膜厚で形成した光磁気ディスクは、保護膜の膜厚が
薄い場合には高温多湿条件下放置によるバイトエラーレ
ートの増大が著しく、保護膜の膜厚を厚くすると放置に
よるエラーレートの増大は抑えられるものの、基板の反
り量が大きくなり機械的特性が劣化する。
【００４７】したがって、以上の結果から、光磁気ディ
スクにおいてｄ≧２ｄ0なる条件を満たす保護膜を形成
することは、耐食性に優れ、しかも良好な形状を有する
光磁気ディスクを得る上で有効であることがわかった。
スクにおいてｄ≧２ｄ0なる条件を満たす保護膜を形成
することは、耐食性に優れ、しかも良好な形状を有する
光磁気ディスクを得る上で有効であることがわかった。
【００４８】磁気ヘッド装置の構成例
次に、本発明の光磁気ディスクに適合する磁気ヘッド装
置の実施例を図面を参照しながら説明する。本発明に係
る記録層に磁気光学効果を有する金属薄膜を用いた光磁
気ディスクの記録再生装置としては、磁界発生装置であ
る磁気ヘッド装置を記録磁性層側に配し、レーザ光を照
射する光学ピックアップ装置を基板を挟んだ記録磁性層
の対面に具備したものが挙げられる。
置の実施例を図面を参照しながら説明する。本発明に係
る記録層に磁気光学効果を有する金属薄膜を用いた光磁
気ディスクの記録再生装置としては、磁界発生装置であ
る磁気ヘッド装置を記録磁性層側に配し、レーザ光を照
射する光学ピックアップ装置を基板を挟んだ記録磁性層
の対面に具備したものが挙げられる。
【００４９】このような装置においては、光学ピックア
ップ装置より照射されるレーザ光によって記録磁性層を
部分的に昇温し、磁気ヘッド装置により記録磁界を印加
してデータの記録を行い、該記録磁性層に光学ピックア
ップよりレーザ光を照射して磁気光学効果を利用して記
録されたデータの再生を行う。
ップ装置より照射されるレーザ光によって記録磁性層を
部分的に昇温し、磁気ヘッド装置により記録磁界を印加
してデータの記録を行い、該記録磁性層に光学ピックア
ップよりレーザ光を照射して磁気光学効果を利用して記
録されたデータの再生を行う。
【００５０】上述のような磁気ヘッド装置においては、
諸々の制約から非常に小さな磁界しか発生できず、磁気
ヘッド装置をなるべく光磁気ディスクに近接させる必要
がある。そこで、磁気ヘッド装置として磁気記録部と実
摺動部により構成されたものが用いられる。この磁気ヘ
ッド装置は、例えば図３に示すように、図示しない磁気
ヘッド素子を有する磁気記録部１とこれを支持する実摺
動部２より構成されている。実摺動部２は、当該磁気ヘ
ッド装置が光磁気ディスク３を走査するとき、磁気記録
部１よりも内周側に位置するように設けられ、図示しな
いバネによる負荷を受けながら本発明が適用された光磁
気ディスク３上に接している。磁気記録部１は、光磁気
ディスク３の摺接面３ａから高さＬ2を有するように実
摺動部２により支持されている。
諸々の制約から非常に小さな磁界しか発生できず、磁気
ヘッド装置をなるべく光磁気ディスクに近接させる必要
がある。そこで、磁気ヘッド装置として磁気記録部と実
摺動部により構成されたものが用いられる。この磁気ヘ
ッド装置は、例えば図３に示すように、図示しない磁気
ヘッド素子を有する磁気記録部１とこれを支持する実摺
動部２より構成されている。実摺動部２は、当該磁気ヘ
ッド装置が光磁気ディスク３を走査するとき、磁気記録
部１よりも内周側に位置するように設けられ、図示しな
いバネによる負荷を受けながら本発明が適用された光磁
気ディスク３上に接している。磁気記録部１は、光磁気
ディスク３の摺接面３ａから高さＬ2を有するように実
摺動部２により支持されている。
【００５１】本発明に係る光磁気ディスク３に用いられ
る磁気ヘッド装置は、図３に示すように、実摺動部２が
保護膜の平坦部上に摺接したときに、実摺動部２の光磁
気ディスク３に対する摺接面３ａから磁気記録部１に至
る高さをＬ2とするとき、保護膜の最大膜厚ｄと保護膜
の平坦部の平均厚さｄoの差Ｌ1がＬ1＜Ｌ2の関係になる
ように形成されている。
る磁気ヘッド装置は、図３に示すように、実摺動部２が
保護膜の平坦部上に摺接したときに、実摺動部２の光磁
気ディスク３に対する摺接面３ａから磁気記録部１に至
る高さをＬ2とするとき、保護膜の最大膜厚ｄと保護膜
の平坦部の平均厚さｄoの差Ｌ1がＬ1＜Ｌ2の関係になる
ように形成されている。
【００５２】上述のような関係にある磁気記録部１と実
摺動部２により構成される磁気ヘッド装置は、その構造
からシステムの小型化、機構の簡素化、低コスト化の点
においても好ましい。
摺動部２により構成される磁気ヘッド装置は、その構造
からシステムの小型化、機構の簡素化、低コスト化の点
においても好ましい。
【００５３】本発明に係る光磁気ディスク３に用いられ
る磁気ヘッド装置４を、光磁気ディスク３側から見た図
を図４に示す。このとき、光磁気ディスク３は、図中矢
印Ｍ方向に回転し、磁気ヘッド装置４の摺接方向前方側
に磁気ヘッド素子５を有する磁気記録部１が位置し、後
方側に実摺動部２が位置する。このとき、実摺動部２
は、図４に示すように、光磁気ディスク３に対する磁気
記録部１によるデータの記録を可能とする記録可能領域
を広げるため、磁気記録部１よりも内周側に位置して光
磁気ディスク３に摺接するように設けられる。磁気ヘッ
ド装置は、磁気記録部１が光磁気ディスク３におけるデ
ータの記録可能領域の最外周位置にデータの記録を行う
際、実摺動部２は記録可能領域の内周側を覆う保護膜の
平坦部上を摺接するように構成されている。
る磁気ヘッド装置４を、光磁気ディスク３側から見た図
を図４に示す。このとき、光磁気ディスク３は、図中矢
印Ｍ方向に回転し、磁気ヘッド装置４の摺接方向前方側
に磁気ヘッド素子５を有する磁気記録部１が位置し、後
方側に実摺動部２が位置する。このとき、実摺動部２
は、図４に示すように、光磁気ディスク３に対する磁気
記録部１によるデータの記録を可能とする記録可能領域
を広げるため、磁気記録部１よりも内周側に位置して光
磁気ディスク３に摺接するように設けられる。磁気ヘッ
ド装置は、磁気記録部１が光磁気ディスク３におけるデ
ータの記録可能領域の最外周位置にデータの記録を行う
際、実摺動部２は記録可能領域の内周側を覆う保護膜の
平坦部上を摺接するように構成されている。
【００５４】例えば、直径が６４ｍｍで、図４中ｒ１で
示すデータの記録が可能な記録可能領域の最外周位置が
半径３０．５ｍｍの位置であり、保護膜の外周側端部に
おける最大膜厚ｄと記録可能領域の内周側を覆う保護膜
の平坦部における平均膜厚ｄ0との差Ｌ1が４０μｍであ
り、図４中ｒ２で示す半径３１．０ｍｍの位置から曲率
半径Ｒ1１２．４８ｍｍで立ち上がり、外周側端部に盛
り上がりとして膜厚部を形成した保護膜を有する本発明
に係る光磁気ディスクに適合するためには、磁気ヘッド
装置の磁気記録部１が図４中ｒ１で示す半径３０．５ｍ
ｍの位置にデータの記録を行う際、実摺動部２は半径３
１．０ｍｍの位置よりも内周側の平坦部上に位置するよ
うにする。すなわち、図４に示すように磁気ヘッド装置
４の磁気記録部１に設けられる磁気ヘッド素子５の中心
５ａが光磁気ディスク３の図中ｒ1で示される記録可能
領域の最外周位置（半径３０．５ｍｍ）をトラッキング
している際、実摺動部２は摺接位置が図４中ｒ２で示さ
れる保護膜の膜厚部の立ち上がり開始部（半径３１．０
ｍｍ）よりも内周側の平坦部上に位置される。
示すデータの記録が可能な記録可能領域の最外周位置が
半径３０．５ｍｍの位置であり、保護膜の外周側端部に
おける最大膜厚ｄと記録可能領域の内周側を覆う保護膜
の平坦部における平均膜厚ｄ0との差Ｌ1が４０μｍであ
り、図４中ｒ２で示す半径３１．０ｍｍの位置から曲率
半径Ｒ1１２．４８ｍｍで立ち上がり、外周側端部に盛
り上がりとして膜厚部を形成した保護膜を有する本発明
に係る光磁気ディスクに適合するためには、磁気ヘッド
装置の磁気記録部１が図４中ｒ１で示す半径３０．５ｍ
ｍの位置にデータの記録を行う際、実摺動部２は半径３
１．０ｍｍの位置よりも内周側の平坦部上に位置するよ
うにする。すなわち、図４に示すように磁気ヘッド装置
４の磁気記録部１に設けられる磁気ヘッド素子５の中心
５ａが光磁気ディスク３の図中ｒ1で示される記録可能
領域の最外周位置（半径３０．５ｍｍ）をトラッキング
している際、実摺動部２は摺接位置が図４中ｒ２で示さ
れる保護膜の膜厚部の立ち上がり開始部（半径３１．０
ｍｍ）よりも内周側の平坦部上に位置される。
【００５５】上述した磁気ヘッド装置は、図６に示すよ
うに実摺動部１２に光磁気ディスク１３の曲面部１６と
接触しないような曲率半径Ｒ2でＲ加工を施し、実摺動
部１２のディスク摺接面１２ａ内に実摺動箇所１７を設
けることによって、図３に示すように実摺動部２にＲ加
工を施さない場合よりも磁気ヘッド素子５の中心ａ付近
で支持することができる。すなわち、図５に示すように
実摺動部１２の実摺動箇所１７を磁気記録部１１の磁気
ヘッド素子１５の中心線１５ａの延長線上付近に設ける
ことにより、光磁気ディスク１３との摺接時の磁気ヘッ
ド装置１４の図中矢印Ｍ方向での姿勢の安定性を向上さ
せることができる。また、実摺動箇所１７を設けること
により、実摺動部１２を長くすることも可能となり、こ
のことからも光磁気ディスク１３との摺接時の磁気ヘッ
ド装置１４の図中矢印Ｍ方向での姿勢の安定性を向上さ
せることができる。このとき、実摺動部１２の実摺動箇
所１７は、図５に示すように、磁気ヘッド素子１５の中
心線１５ａより内周側に位置されている。
うに実摺動部１２に光磁気ディスク１３の曲面部１６と
接触しないような曲率半径Ｒ2でＲ加工を施し、実摺動
部１２のディスク摺接面１２ａ内に実摺動箇所１７を設
けることによって、図３に示すように実摺動部２にＲ加
工を施さない場合よりも磁気ヘッド素子５の中心ａ付近
で支持することができる。すなわち、図５に示すように
実摺動部１２の実摺動箇所１７を磁気記録部１１の磁気
ヘッド素子１５の中心線１５ａの延長線上付近に設ける
ことにより、光磁気ディスク１３との摺接時の磁気ヘッ
ド装置１４の図中矢印Ｍ方向での姿勢の安定性を向上さ
せることができる。また、実摺動箇所１７を設けること
により、実摺動部１２を長くすることも可能となり、こ
のことからも光磁気ディスク１３との摺接時の磁気ヘッ
ド装置１４の図中矢印Ｍ方向での姿勢の安定性を向上さ
せることができる。このとき、実摺動部１２の実摺動箇
所１７は、図５に示すように、磁気ヘッド素子１５の中
心線１５ａより内周側に位置されている。
【００５６】この時の実摺動部１２に施すＲ加工の曲率
半径Ｒ2は、実摺動箇所１７の摺接位置が半径３１．０
ｍｍの位置である場合においてはＲ2＜１２．４８とす
ればよいが、実摺動箇所１７の摺接位置ｒ5が半径３
１．０ｍｍよりも内周側である場合においては、次のよ
うに求められる。
半径Ｒ2は、実摺動箇所１７の摺接位置が半径３１．０
ｍｍの位置である場合においてはＲ2＜１２．４８とす
ればよいが、実摺動箇所１７の摺接位置ｒ5が半径３
１．０ｍｍよりも内周側である場合においては、次のよ
うに求められる。
【００５７】
（３２．０−ｒ5）2＋（Ｒ2−０．０４）2＝Ｒ2 2
すなわち、
Ｒ2＝１２．５ｒ5 2−８００ｒ5＋１２８００．０２（ｍ
ｍ） 実摺動箇所１７の摺接位置ｒ5を半径３１．０ｍｍより
も内周側とする場合においても、実摺動部１２のＲ加工
の曲率半径Ｒ2を上式で求められる曲率半径よりも小さ
くすることによって光磁気ディスク１３に形成される保
護膜の外周側端部に形成されるの曲面部１６との接触が
防止される。
ｍ） 実摺動箇所１７の摺接位置ｒ5を半径３１．０ｍｍより
も内周側とする場合においても、実摺動部１２のＲ加工
の曲率半径Ｒ2を上式で求められる曲率半径よりも小さ
くすることによって光磁気ディスク１３に形成される保
護膜の外周側端部に形成されるの曲面部１６との接触が
防止される。
【００５８】図６には実摺動部１２の外周側及び内周側
にＲ加工を施した例を示したが、外周側のみにＲ加工を
施しても同様の効果を得ることができる。
にＲ加工を施した例を示したが、外周側のみにＲ加工を
施しても同様の効果を得ることができる。
【００５９】更に、本発明の光磁気ディスクに適合する
磁気ヘッド装置の形状としては、上述のものの他に図７
に示すような磁気ヘッド装置２４の磁気記録部２１の内
周側の一部に実摺動部２２を設けた形状も挙げられる。
実摺動部２２のディスク対向面２２ａには光磁気ディス
ク２３の曲面部に接触しないようにＲ加工が施されて実
摺動箇所２５が設けられている。図７に示されるような
磁気ヘッド装置２４においても、光磁気ディスク２３の
の摺接面２３ａからの磁気記録部２１の高さＬ2は、光
磁気ディスクの保護膜の外周端部における最大膜厚ｄと
データエリア上の平坦部における平均膜厚ｄ0の差Ｌ1に
対してＬ2＞Ｌ1となされている。
磁気ヘッド装置の形状としては、上述のものの他に図７
に示すような磁気ヘッド装置２４の磁気記録部２１の内
周側の一部に実摺動部２２を設けた形状も挙げられる。
実摺動部２２のディスク対向面２２ａには光磁気ディス
ク２３の曲面部に接触しないようにＲ加工が施されて実
摺動箇所２５が設けられている。図７に示されるような
磁気ヘッド装置２４においても、光磁気ディスク２３の
の摺接面２３ａからの磁気記録部２１の高さＬ2は、光
磁気ディスクの保護膜の外周端部における最大膜厚ｄと
データエリア上の平坦部における平均膜厚ｄ0の差Ｌ1に
対してＬ2＞Ｌ1となされている。
【００６０】図８に磁気ヘッド装置を光磁気ディスク側
から見た図を示す。図８に示すように、磁気ヘッド装置
２４の磁気記録部２１に設けられる磁気ヘッド素子２６
の中心２６ａが光磁気ディスク２３の図中ｒ6で示され
るデータの記録可能な記録可能領域の最外周位置（半径
３０．５ｍｍ）にトラッキングしている際、実摺動箇所
２５が図中ｒ7で示される立ち上がり開始部（半径３
１．０ｍｍ）よりも内周側であり、更に記録可能領域の
最外周位置より内周側の位置を摺接する。
から見た図を示す。図８に示すように、磁気ヘッド装置
２４の磁気記録部２１に設けられる磁気ヘッド素子２６
の中心２６ａが光磁気ディスク２３の図中ｒ6で示され
るデータの記録可能な記録可能領域の最外周位置（半径
３０．５ｍｍ）にトラッキングしている際、実摺動箇所
２５が図中ｒ7で示される立ち上がり開始部（半径３
１．０ｍｍ）よりも内周側であり、更に記録可能領域の
最外周位置より内周側の位置を摺接する。
【００６１】
【発明の効果】上述の説明からも明らかなように、本発
明の光磁気ディスクは、記録層に腐食性の高い金属薄膜
を用いた場合でも、記録層の腐食、孔食を確実に防止で
き、優れた耐食性を得ることができ、しかも、磁気ヘッ
ド素子を有する磁気記録部と保護膜上を摺接する実摺動
部とを有し、磁気記録部が当該光磁気ディスクの外周側
に位置し、実摺動部の当該光磁気ディスクへの摺接位置
が磁気記録部より内周側に位置する磁気ヘッド装置によ
りデータの記録を行うとき、保護膜の外周側端部に形成
された膜厚部の近傍までデータの記録を可能とする記録
可能領域であるデータエリアの拡大を図ることができ
る。
明の光磁気ディスクは、記録層に腐食性の高い金属薄膜
を用いた場合でも、記録層の腐食、孔食を確実に防止で
き、優れた耐食性を得ることができ、しかも、磁気ヘッ
ド素子を有する磁気記録部と保護膜上を摺接する実摺動
部とを有し、磁気記録部が当該光磁気ディスクの外周側
に位置し、実摺動部の当該光磁気ディスクへの摺接位置
が磁気記録部より内周側に位置する磁気ヘッド装置によ
りデータの記録を行うとき、保護膜の外周側端部に形成
された膜厚部の近傍までデータの記録を可能とする記録
可能領域であるデータエリアの拡大を図ることができ
る。
【図１】本発明が適用された光磁気ディスクの表面形状
プロファイルである。
プロファイルである。
【図２】従来の光ディスクの表面形状プロファイルであ
る。
る。
【図３】本発明が適用された光磁気ディスクに適合する
磁気ヘッド装置の一例を示す側面図である。
磁気ヘッド装置の一例を示す側面図である。
【図４】本発明が適用された光磁気ディスクに適合する
磁気ヘッド装置の一例を示す底面図である。
磁気ヘッド装置の一例を示す底面図である。
【図５】本発明が適用された光磁気ディスクに適合する
磁気ヘッド装置の他の例を示す底面図である。
磁気ヘッド装置の他の例を示す底面図である。
【図６】本発明が適用された光磁気ディスクに適合する
磁気ヘッド装置を示す要部拡大図である。
磁気ヘッド装置を示す要部拡大図である。
【図７】本発明が適用された光磁気ディスクに適合する
磁気ヘッド装置の更に他の例を示す正面図である。
磁気ヘッド装置の更に他の例を示す正面図である。
【図８】本発明が適用された光磁気ディスクに適合する
磁気ヘッド装置を示す底面図である。
磁気ヘッド装置を示す底面図である。
１，１１，２１ 磁気記録部、 ２，１２，２２ 実摺
動部、 ３，１３，２３ 光磁気ディスク、 ４，１
４，２４ 磁気ヘッド装置、 ５，１５，２６磁気ヘッ
ド素子
動部、 ３，１３，２３ 光磁気ディスク、 ４，１
４，２４ 磁気ヘッド装置、 ５，１５，２６磁気ヘッ
ド素子
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 高橋 伴幸
東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソ
ニー株式会社内
(56)参考文献 特開 平４−48447（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−134742（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−181129（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−256935（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−232836（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 7/24
Claims (3)
- 【請求項１】 透明基板上に少なくとも金属薄膜を含む
記録層が形成されるとともに、上記記録層を覆って保護
膜が形成され、 磁気ヘッド素子を有する磁気記録部と上記保護膜上を摺
接する実摺動部とを有し、上記磁気記録部が当該光磁気
ディスクの外周側に位置し、上記実摺動部の当該光磁気
ディスクへの摺接位置が上記磁気記録部より内周側に位
置する磁気ヘッド装置によりデータの記録が行われる光
磁気ディスクにおいて、 上記記録層を覆う上記保護膜の外周側端部に形成される
膜厚部の最大膜厚をｄとし、上記保護膜の上記膜厚部よ
り内周側に形成される平坦部の平均厚さをｄoとしたと
きに、２ｄ0≦ｄ≦６ｄ0となし、 上記磁気ヘッド装置の上記実摺動部が上記保護膜の上記
平坦部上に摺接したときに、上記実摺動部の摺接面から
上記磁気記録部に至る高さをＬ2とするとき、 上記保護膜の最大膜厚ｄと上記保護膜の平坦部の平均厚
さｄoの差Ｌ1がＬ1＜Ｌ2の関係にあることを特徴とする
光磁気ディスク。 - 【請求項２】 上記記録層を構成する金属薄膜が磁気光
学効果を有する垂直磁化膜であり、上記保護膜の最大膜
厚ｄと上記保護膜の平坦部の平均膜厚ｄoの差Ｌ1が４０
μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の光磁気
ディスク。 - 【請求項３】 上記保護膜の外周側端部に形成される膜
厚部は、内周側から外周側端部に向かって次第に膜厚を
増加して曲面を構成しており、上記曲面の曲率半径Ｒ1
が１２．４８ｍｍ以上であることを特徴とする請求項２
記載の光磁気ディスク。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31433192A JP3407316B2 (ja) | 1991-12-28 | 1992-10-30 | 光磁気ディスク |
| US08/908,739 US5930088A (en) | 1991-12-28 | 1997-08-07 | Optical disc having a protective layer which is thicker at its outer periphery |
| US09/007,139 US6016303A (en) | 1991-12-28 | 1998-01-14 | Optical disc having a protective layer which is thicker at its outer periphery |
| US09/368,656 US6091580A (en) | 1991-12-28 | 1999-08-05 | Optical disc having a protective layer which is thicker at its outer periphery |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-359087 | 1991-12-28 | ||
| JP35908791 | 1991-12-28 | ||
| JP31433192A JP3407316B2 (ja) | 1991-12-28 | 1992-10-30 | 光磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05234140A JPH05234140A (ja) | 1993-09-10 |
| JP3407316B2 true JP3407316B2 (ja) | 2003-05-19 |
Family
ID=26567906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31433192A Expired - Lifetime JP3407316B2 (ja) | 1991-12-28 | 1992-10-30 | 光磁気ディスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5930088A (ja) |
| JP (1) | JP3407316B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11203724A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Sony Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
| US6426850B1 (en) * | 1998-07-01 | 2002-07-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Converter support structure |
| JP3859444B2 (ja) * | 2000-11-15 | 2006-12-20 | シャープ株式会社 | 光情報記録媒体 |
| US7873363B1 (en) * | 2006-02-22 | 2011-01-18 | Hieb Mario K | Method for identifying unique FM transmitter locations with enhanced transmission coverage |
| JP6711341B2 (ja) * | 2017-10-30 | 2020-06-17 | カシオ計算機株式会社 | 出退勤登録装置、出退勤登録方法およびプログラム |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4584259A (en) * | 1982-12-17 | 1986-04-22 | Burroughs Corporation | Coated media for optical recording with acrylic overcoat |
| DE3503996A1 (de) * | 1984-02-06 | 1985-08-08 | Ricoh Co., Ltd., Tokio/Tokyo | Magnetische metalloxidsubstanz und eine daraus bestehende magnetschicht sowie deren verwendungen |
| JPS60101720A (ja) * | 1984-10-17 | 1985-06-05 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| JPH0721885B2 (ja) * | 1984-11-30 | 1995-03-08 | ティーディーケイ株式会社 | 光磁気記録媒体 |
| JPS62289946A (ja) * | 1986-06-09 | 1987-12-16 | Konica Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPH06101147B2 (ja) * | 1987-02-04 | 1994-12-12 | 株式会社日立製作所 | 光デイスクの製造方法 |
| US4957824A (en) * | 1987-03-24 | 1990-09-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Information storage medium and method of manufacturing the same |
| JPH01236440A (ja) * | 1987-10-31 | 1989-09-21 | Nec Home Electron Ltd | 光磁気ディスク |
| EP0624870B1 (en) * | 1989-03-27 | 1996-11-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus for making optical discs |
| US5102709A (en) * | 1989-04-27 | 1992-04-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and process for production thereof |
| US5202863A (en) * | 1990-09-11 | 1993-04-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magneto-optical disk unit compatible with different two types of magneto-optical disks and a magnetic-field generator suitable thereof |
| US5210673A (en) * | 1991-09-09 | 1993-05-11 | Hitachi Metals, Ltd. | Thin-film hard disk magnetic medium |
-
1992
- 1992-10-30 JP JP31433192A patent/JP3407316B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-08-07 US US08/908,739 patent/US5930088A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-01-14 US US09/007,139 patent/US6016303A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-08-05 US US09/368,656 patent/US6091580A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6016303A (en) | 2000-01-18 |
| JPH05234140A (ja) | 1993-09-10 |
| US5930088A (en) | 1999-07-27 |
| US6091580A (en) | 2000-07-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3918221B2 (ja) | 保護膜形成装置及び保護膜形成方法 | |
| JPH11203724A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JPH06101139B2 (ja) | 両面光学記録媒体 | |
| JP3407316B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP3104092B2 (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPS61144744A (ja) | 光磁気記録素子及びその製法 | |
| JPH0757297A (ja) | 光ディスク | |
| JPH06162568A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH09180254A (ja) | 光ディスク | |
| JP3421875B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP3577782B2 (ja) | 光ディスク | |
| JP3511687B2 (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JP2606729B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2943607B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3491340B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH05258349A (ja) | 光ディスクの基板 | |
| JP2889523B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP3156698B2 (ja) | 情報記録媒体の記録再生装置 | |
| JP2958015B2 (ja) | 光ディスク | |
| JP2940215B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2789837B2 (ja) | 光ディスク | |
| JP2984538B2 (ja) | 情報光記録媒体 | |
| JP2941514B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH02162547A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH076408A (ja) | 情報記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20021022 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030212 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080314 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090314 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100314 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100314 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110314 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130314 Year of fee payment: 10 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130314 Year of fee payment: 10 |