JP3407316B2 - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
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Description
し、特に金属薄膜よりなる機能膜を覆って形成される保
護膜を改良した光磁気ディスクに関する。
行う光ディスクとしては、デジタルオーディオディスク
や光学式ビデオディスクが用いられている。
クは、情報信号である凹凸パターンが形成された透明基
板上にAl膜等の金属薄膜よりなる反射膜が形成され、
更にこの反射膜を大気中の水分、O2から隔離するため
の保護膜が反射膜上に形成されている。保護膜として
は、通常、紫外線硬化樹脂をスピンコート法,ロールコ
ート法等により、反射膜上の膜面全面に亘り均一に塗
布、硬化して形成される紫外線硬化樹脂層が用いられ
る。
造時に透明基板上に予め情報信号に対応する凹凸パター
ンが記録され、情報信号の更なる記録を行うことができ
ない。このような再生専用型の光ディスクに対し、使用
者による情報の繰り返し記録、消去が可能な光ディスク
として光磁気ディスクが提案されている。
スクは、記録磁性層として膜面と垂直方向に磁化容易軸
を有し且つ磁気光学効果の大きな磁性薄膜を用いてる。
そして、記録に際しては、レーザ光の照射によりこの磁
性薄膜を部分的にキュリー点又は温度補償点を越えて昇
温し、この部分の保磁力を消滅させて外部から印加され
る記録磁界の方向に磁化の向きを反転させる。一方、再
生に際しては、磁性薄膜にレーザ光を照射し、磁気カー
効果若しくはファラデー効果を利用して記録情報を読み
出す。
有する磁性薄膜としては、例えばTbFeCo系非晶質
薄膜等の希土類−遷移金属非晶質薄膜がある。
類−遷移金属非晶質薄膜とともに反射層、誘電体層を積
層することにより記録層を形成し、更にこの記録層上に
保護膜が設けられた構成とされる。この種の光磁気ディ
スクには、単板仕様のものと、2枚の光磁気ディスクを
保護膜が対向するように貼り合わせ、両面より記録再生
を行うようにした両面仕様のものがあり、製造が容易で
あること、記録再生装置が簡易な構成で済むこと等か
ら、単板仕様のものが普及品として検討されている。
スクは、記録磁性層として形成される希土類−遷移金属
非晶質薄膜が非常に腐食し易いため、保護膜には、再生
専用型の光ディスク以上に高い防水機能が要求される。
特に、単板仕様とする場合には、保護膜面が大気と直接
接触するために、保護膜に対する要求はより厳しいもの
となる。
して比較的膜厚の厚い紫外線硬化樹脂層や架橋度の高い
紫外線硬化樹脂層を記録層上に形成する等の試みがなさ
れているが、膜厚が厚かったり、架橋度の高い紫外線硬
化樹脂層を記録層上に形成しようとすると、硬化収縮に
より基板に反りが生じる等の不都合が生じる。このた
め、光磁気ディスクにおいても、再生専用型の光ディス
クと同様の膜厚、架橋度の紫外線硬化樹脂層を保護膜と
して形成しており、十分な耐食性が得られないのが実情
である。
提案されたものであり、希土類−遷移金属非晶質薄膜等
の腐食性の高い膜を記録層に用いた場合でも十分な耐食
性が得られる光磁気ディスクを提供することを目的とす
る。
めに、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、希土類−遷
移金属非晶質薄膜等の金属薄膜を有する光磁気ディスク
の耐食性は、保護膜の外周端部の膜厚を厚くすることに
より、飛躍的に改善されるとの知見を得るに至った。
な知見に基づいて提案されたものであり、透明基板上に
少なくとも金属薄膜を含む記録層が形成されるととも
に、上記記録層を覆って保護膜が形成され、磁気ヘッド
素子を有する磁気記録部と上記保護膜上を摺接する実摺
動部とを有し、上記磁気記録部が当該光磁気ディスクの
外周側に位置し、上記実摺動部の当該光磁気ディスクへ
の摺接位置が上記磁気記録部より内周側に位置する磁気
ヘッド装置によりデータの記録が行われる光磁気ディス
クにおいて、上記記録層を覆う上記保護膜の外周側端部
に形成される膜厚部の最大膜厚をdとし、上記保護膜の
上記膜厚部より内周側に形成される平坦部の平均厚さを
doとしたときに、2d0≦d≦6d0となし、上記磁気
ヘッド装置の上記実摺動部が上記保護膜の上記平坦部上
に摺接したときに、上記実摺動部の摺接面から上記磁気
記録部に至る高さをL2とするとき、上記保護膜の最大
膜厚dと上記保護膜の平坦部の平均厚さdoの差L1がL
1<L2の関係としたものである。
明基板の材料としては、通常、光ディスクに使用されて
いる基板材料であればいずれでもよく、例えば、ポリカ
ーボネート系樹脂,ポリメチルメタクリレート系樹脂あ
るいはアモルファスポリオレフィン系樹脂等が挙げられ
る。
学特性(磁気カー効果やファラデー効果)を有する垂直
磁化膜、例えばTbFeCo系非晶質薄膜等の希土類−
遷移金属合金非晶質膜等を成膜して構成される。
もに、空気中の酸素、水分から隔離し、記録層の腐食、
孔食を防止するためのものである。
金属合金非晶質膜等の腐食性の高い金属薄膜により形成
した場合でも、保護膜によって金属薄膜の腐食が確実に
防止できるように、記録層を覆う上記保護膜の外周側端
部に形成される膜厚部の最大膜厚をdとし、保護膜の膜
厚部より内周側に形成される平坦部の平均厚さをdoと
したときにd≧2d0とした。
ある水分、O2の侵入をさせ易いが、外周側端部の膜厚
を厚くすることにより、このような腐食因子の侵入をも
効果的に防止でき防水効果の高いものとなる。
脂等の紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布、紫
外線照射して形成される。
硬化樹脂を塗布するには、透明基板上に形成された記録
層の中央部に所定量の紫外線硬化樹脂を滴下し、透明基
板を回転させる。すると、滴下した紫外線硬化樹脂は遠
心力により外周端部へ向かって振り切られ、記録層全面
に行き亘る。その後、透明基板の回転を停止させると、
記録層上には、紫外線硬化樹脂塗膜が、基板の外周側端
部に盛り上がりを有した形状で形成される。この紫外線
硬化樹脂塗膜において、盛り上がり部の紫外線硬化樹脂
は放置により徐々に透明基板の中央部に向かって流動
し、外周側の端部が平坦となるが、透明基板の回転停止
直後に紫外線照射を行って外周側端部に盛り上がりを有
した状態で硬化させるか、あるいは透明基板を回転させ
て盛り上がり部の中央部への流動を遠心力により抑えた
状態で紫外線照射を行うと、保護膜の外周端部に盛り上
がりを持たせることができる。
周側端部より内周側に形成される平坦部の平均膜厚d0
及び外周側端部に形成される膜厚部の最大膜厚dは、紫
外線硬化樹脂塗膜が塗布された透明基板の振り切り回転
数、振り切り時間、透明基板の回転停止後から紫外線照
射をするまでの放置時間及び紫外線照射時の透明基板の
回転数等を制御することにより所望の値とすることがで
き、これらの条件を調整することにより、d≧2d0な
る条件を満たす保護膜が形成される。
記録層を覆う平坦部における平均膜厚d0は、記録層の
保護を確実なものとする観点からはより厚い方が好まし
いが、あまり厚くすると硬化収縮により基板に反り等が
生じるおそれがあることから、通常は3〜10μmに制
御される。
膜を形成して構成された記録層を有する光磁気ディスク
の記録再生装置としては、磁界発生装置である磁気ヘッ
ド装置を記録磁性層側に配し、レーザ光を照射する光学
ピックアップ装置を基板を挟んだ記録磁性層の対面に配
置したものが挙げられる。
ッド装置は、諸々の制約から非常に小さな磁界しか発生
できず、磁気ヘッド装置をなるべく光磁気ディスクに近
接させる必要があるため、磁気ヘッド装置として磁気記
録部と実摺動部により構成される磁気ヘッド装置が用い
られている。この磁気ヘッド装置は、磁気記録部が光磁
気ディスクの外周側に位置し、実摺動部の当該光磁気デ
ィスクへの摺接位置が磁気記録部より内周側に位置して
保護膜上を摺接した状態でデータの記録を行う。
させて光磁気ディスク上を摺接する実摺動部は、バネに
よる負荷を受けながら光磁気ディスク上に接しており、
磁気記録部をディスク表面から微小間隙を有して支持す
る部分である。
記録を行うに際しては、実摺動部が光磁気ディスクの保
護膜上を摺接することになり、光磁気ディスクの保護膜
の膜厚や形状及び用いる磁気ヘッド装置の形状を互いに
適合したものとする必要がある。
いては、記録層を構成する金属薄膜よりなる機能膜が磁
気光学効果を有する垂直磁化膜である場合において、保
護膜の外周側端部に形成された膜厚部の最大膜厚dとそ
の内周側に形成される平坦部における平均膜厚doの差
L1が40μm以下であることが望ましい。更に、保護
膜の膜厚は、外周側端部において次第に増加して曲面を
構成しており、曲面の曲率半径R1が12.48mm以
上とされる。
ータの記録が可能とされた領域である記録可能領域の最
外周側の位置での磁気ヘッド素子と記録層間の距離があ
まり大きいとスペーシングロスによる記録不良が発生し
易いことから、保護膜の外周側端部に形成された膜厚部
の最大膜厚dとその内周側に形成される平坦部における
平均膜厚doの差L1は40μm以下であることが好まし
い。この光磁気ディスクに適合する磁気ヘッド装置は、
実摺動部の摺接面から磁気記録部に至る高さをL2とす
るとき、保護膜の最大膜厚dと平均膜厚doの差L1に対
してL2>L1の関係にあることが条件となる。
護膜の外周側端部に形成される曲面の曲率半径R1が1
2.48mm未満であると、磁気ヘッド装置の実摺動部
が曲面より滑り落ちてしまい光磁気ディスクの記録可能
領域の最外周側の位置への記録が不可能となるといった
不都合が生じる。更に、上述のような光磁気ディスクに
適合する磁気ヘッド装置においては、磁気記録部が記録
可能領域の最外周側の位置に位置するとき、実摺動部の
光磁気ディスクへの摺接位置が記録可能領域の内周側の
保護膜の平坦部に摺接するため、記録可能領域の最外周
側の位置に記録を行う際にも磁気ヘッド素子と記録層間
の距離が変わらないため、スペーシングロスが発生しに
くい。
厚部の最大膜厚dと平均膜厚doの差L1が、磁気ヘッド
装置の実摺動部の摺接面から磁気記録部に至る高さL2
より小さくされているので、膜厚部上に磁気記録部が位
置するようになっても、磁気ヘッド素子と記録層間の距
離を一定に維持できるので、データの記録を可能とする
記録可能領域を当該光磁気ディスクの外周側まで設ける
ことが可能となる。
記録層間のスペーシングロスを考慮し、保護膜の外周側
端部に形成される膜厚部の最大膜厚dは、平坦部の平均
厚さdoの6倍以下が望ましい。
ンコート法により紫外線硬化樹脂を塗布する際の透明基
板の振り切り回転数、振り切り時間、ディスクの回転停
止後から紫外線照射をするまでの放置時間及び紫外線照
射時のディスク回転数等を制御することによって形成さ
れる。
保護膜の外周側端部に形成される膜厚部の最大膜厚をd
とし、保護膜の膜厚部より内周側に形成される平坦部の
平均厚さをdoとしたときに、2d0≦d≦6d0となる
条件を満たすようにすることにより、従来の光ディスク
において、保護膜の外周側の端部から侵入しやすかった
水分、O2の侵入を効果的に防止できる。したがって、
例えば希土類−遷移金属非晶質薄膜等の腐食性の高い金
属薄膜を記録層に用いた場合でも、優れた耐食性を示
し、信頼性の高い記録再生が達成される。
気ヘッド素子を有する磁気記録部と保護膜上を摺接する
実摺動部とを有し、磁気記録部が当該光磁気ディスクの
外周側に位置し、実摺動部の光磁気ディスクへの摺接位
置が磁気記録部より内周側に位置する磁気ヘッド装置に
よりデータの記録が行われるにとき、保護膜の外周側端
部に形成される膜厚部の最大膜厚dと平均膜厚doの差
L1が、磁気ヘッド装置の実摺動部の摺接面から磁気記
録部に至る高さL2より小さくされているので、膜厚部
上に磁気記録部が位置するようになっても、磁気ヘッド
素子と記録層間の距離を一定に維持でき、データの記録
を可能とする記録可能領域を当該光磁気ディスクの外周
側まで設けることができる。
板を用意し、この基板上に、外周マスクを使用せずに、
第1の誘電体層、記録磁性層、第2の誘電体層、反射層
をスパッタリング法により順次成膜して記録層を形成し
た。次いで、この記録層上に粘度50cpsの紫外線硬
化樹脂をスピンコートし、ディスク回転停止後、1秒以
内に高圧水銀ランプにて紫外線照射して保護膜を形成
し、光磁気ディスク(サンプルディスク1〜サンプルデ
ィスク8)を作成した。
(スピンコートの際の振り切り条件、紫外線照射時のデ
ィスク回転数)及び記録層を覆う保護膜の外周側端部に
形成される膜厚部の最大膜厚d及びその内周側に形成さ
れ記録可能領域であるデータエリアを覆う平坦部におけ
る平均膜厚d0は表1に示す通りである。
1にて測定したサンプルディスク1の表面形状プロファ
イルを図1に示す。
際して、紫外線硬化樹脂をスピンコートし、ディスク回
転停止から5秒経過した後に紫外線照射して保護膜を形
成したこと以外は、本発明と同様にして光磁気ディスク
(比較ディスク1〜比較ディスク4)を作成した。
での時間を5秒に設定したのは、通常のスピンコートに
おいてハンドリングにかかる時間に適合させるためであ
る。
ンコートの際の振り切り条件,紫外線照射時のディスク
回転数)及び記録層を覆う保護膜の外周側の端部におけ
る最大膜厚d及びデータエリア上を覆う平坦部における
平均膜厚d0は表2に示す通りである。
ファイルを図2に示す。
ク10枚を温度80℃、相対湿度85%の高温多湿条件
下で1000時間放置し、放置前後のバイトエラーレー
トを調べた。なお、バイトエラーレートは、ソニー社
製、商品名 SMO−D501のドライブ装置にて最外
周トラックから1000トラック目のトラックについて
測定した。その結果を表3に示す。また、各光磁気ディ
スクの基板の反り量についても表3に併せて示す。
る条件を満たす保護膜を形成したサンプルディスク1〜
サンプルディスク8は、高温多湿条件下放置後において
も、バイトエラーが1×10-5以下と小さく、耐食性に
優れている。しかも、基板の反りも±1mrad以下と
小さく良好な形状を有している。
さない保護膜、すなわち保護膜を記録層全面に亘り略均
一な膜厚で形成した光磁気ディスクは、保護膜の膜厚が
薄い場合には高温多湿条件下放置によるバイトエラーレ
ートの増大が著しく、保護膜の膜厚を厚くすると放置に
よるエラーレートの増大は抑えられるものの、基板の反
り量が大きくなり機械的特性が劣化する。
スクにおいてd≧2d0なる条件を満たす保護膜を形成
することは、耐食性に優れ、しかも良好な形状を有する
光磁気ディスクを得る上で有効であることがわかった。
置の実施例を図面を参照しながら説明する。本発明に係
る記録層に磁気光学効果を有する金属薄膜を用いた光磁
気ディスクの記録再生装置としては、磁界発生装置であ
る磁気ヘッド装置を記録磁性層側に配し、レーザ光を照
射する光学ピックアップ装置を基板を挟んだ記録磁性層
の対面に具備したものが挙げられる。
ップ装置より照射されるレーザ光によって記録磁性層を
部分的に昇温し、磁気ヘッド装置により記録磁界を印加
してデータの記録を行い、該記録磁性層に光学ピックア
ップよりレーザ光を照射して磁気光学効果を利用して記
録されたデータの再生を行う。
諸々の制約から非常に小さな磁界しか発生できず、磁気
ヘッド装置をなるべく光磁気ディスクに近接させる必要
がある。そこで、磁気ヘッド装置として磁気記録部と実
摺動部により構成されたものが用いられる。この磁気ヘ
ッド装置は、例えば図3に示すように、図示しない磁気
ヘッド素子を有する磁気記録部1とこれを支持する実摺
動部2より構成されている。実摺動部2は、当該磁気ヘ
ッド装置が光磁気ディスク3を走査するとき、磁気記録
部1よりも内周側に位置するように設けられ、図示しな
いバネによる負荷を受けながら本発明が適用された光磁
気ディスク3上に接している。磁気記録部1は、光磁気
ディスク3の摺接面3aから高さL2を有するように実
摺動部2により支持されている。
る磁気ヘッド装置は、図3に示すように、実摺動部2が
保護膜の平坦部上に摺接したときに、実摺動部2の光磁
気ディスク3に対する摺接面3aから磁気記録部1に至
る高さをL2とするとき、保護膜の最大膜厚dと保護膜
の平坦部の平均厚さdoの差L1がL1<L2の関係になる
ように形成されている。
摺動部2により構成される磁気ヘッド装置は、その構造
からシステムの小型化、機構の簡素化、低コスト化の点
においても好ましい。
る磁気ヘッド装置4を、光磁気ディスク3側から見た図
を図4に示す。このとき、光磁気ディスク3は、図中矢
印M方向に回転し、磁気ヘッド装置4の摺接方向前方側
に磁気ヘッド素子5を有する磁気記録部1が位置し、後
方側に実摺動部2が位置する。このとき、実摺動部2
は、図4に示すように、光磁気ディスク3に対する磁気
記録部1によるデータの記録を可能とする記録可能領域
を広げるため、磁気記録部1よりも内周側に位置して光
磁気ディスク3に摺接するように設けられる。磁気ヘッ
ド装置は、磁気記録部1が光磁気ディスク3におけるデ
ータの記録可能領域の最外周位置にデータの記録を行う
際、実摺動部2は記録可能領域の内周側を覆う保護膜の
平坦部上を摺接するように構成されている。
示すデータの記録が可能な記録可能領域の最外周位置が
半径30.5mmの位置であり、保護膜の外周側端部に
おける最大膜厚dと記録可能領域の内周側を覆う保護膜
の平坦部における平均膜厚d0との差L1が40μmであ
り、図4中r2で示す半径31.0mmの位置から曲率
半径R112.48mmで立ち上がり、外周側端部に盛
り上がりとして膜厚部を形成した保護膜を有する本発明
に係る光磁気ディスクに適合するためには、磁気ヘッド
装置の磁気記録部1が図4中r1で示す半径30.5m
mの位置にデータの記録を行う際、実摺動部2は半径3
1.0mmの位置よりも内周側の平坦部上に位置するよ
うにする。すなわち、図4に示すように磁気ヘッド装置
4の磁気記録部1に設けられる磁気ヘッド素子5の中心
5aが光磁気ディスク3の図中r1で示される記録可能
領域の最外周位置(半径30.5mm)をトラッキング
している際、実摺動部2は摺接位置が図4中r2で示さ
れる保護膜の膜厚部の立ち上がり開始部(半径31.0
mm)よりも内周側の平坦部上に位置される。
うに実摺動部12に光磁気ディスク13の曲面部16と
接触しないような曲率半径R2でR加工を施し、実摺動
部12のディスク摺接面12a内に実摺動箇所17を設
けることによって、図3に示すように実摺動部2にR加
工を施さない場合よりも磁気ヘッド素子5の中心a付近
で支持することができる。すなわち、図5に示すように
実摺動部12の実摺動箇所17を磁気記録部11の磁気
ヘッド素子15の中心線15aの延長線上付近に設ける
ことにより、光磁気ディスク13との摺接時の磁気ヘッ
ド装置14の図中矢印M方向での姿勢の安定性を向上さ
せることができる。また、実摺動箇所17を設けること
により、実摺動部12を長くすることも可能となり、こ
のことからも光磁気ディスク13との摺接時の磁気ヘッ
ド装置14の図中矢印M方向での姿勢の安定性を向上さ
せることができる。このとき、実摺動部12の実摺動箇
所17は、図5に示すように、磁気ヘッド素子15の中
心線15aより内周側に位置されている。
半径R2は、実摺動箇所17の摺接位置が半径31.0
mmの位置である場合においてはR2<12.48とす
ればよいが、実摺動箇所17の摺接位置r5が半径3
1.0mmよりも内周側である場合においては、次のよ
うに求められる。
m) 実摺動箇所17の摺接位置r5を半径31.0mmより
も内周側とする場合においても、実摺動部12のR加工
の曲率半径R2を上式で求められる曲率半径よりも小さ
くすることによって光磁気ディスク13に形成される保
護膜の外周側端部に形成されるの曲面部16との接触が
防止される。
にR加工を施した例を示したが、外周側のみにR加工を
施しても同様の効果を得ることができる。
磁気ヘッド装置の形状としては、上述のものの他に図7
に示すような磁気ヘッド装置24の磁気記録部21の内
周側の一部に実摺動部22を設けた形状も挙げられる。
実摺動部22のディスク対向面22aには光磁気ディス
ク23の曲面部に接触しないようにR加工が施されて実
摺動箇所25が設けられている。図7に示されるような
磁気ヘッド装置24においても、光磁気ディスク23の
の摺接面23aからの磁気記録部21の高さL2は、光
磁気ディスクの保護膜の外周端部における最大膜厚dと
データエリア上の平坦部における平均膜厚d0の差L1に
対してL2>L1となされている。
から見た図を示す。図8に示すように、磁気ヘッド装置
24の磁気記録部21に設けられる磁気ヘッド素子26
の中心26aが光磁気ディスク23の図中r6で示され
るデータの記録可能な記録可能領域の最外周位置(半径
30.5mm)にトラッキングしている際、実摺動箇所
25が図中r7で示される立ち上がり開始部(半径3
1.0mm)よりも内周側であり、更に記録可能領域の
最外周位置より内周側の位置を摺接する。
明の光磁気ディスクは、記録層に腐食性の高い金属薄膜
を用いた場合でも、記録層の腐食、孔食を確実に防止で
き、優れた耐食性を得ることができ、しかも、磁気ヘッ
ド素子を有する磁気記録部と保護膜上を摺接する実摺動
部とを有し、磁気記録部が当該光磁気ディスクの外周側
に位置し、実摺動部の当該光磁気ディスクへの摺接位置
が磁気記録部より内周側に位置する磁気ヘッド装置によ
りデータの記録を行うとき、保護膜の外周側端部に形成
された膜厚部の近傍までデータの記録を可能とする記録
可能領域であるデータエリアの拡大を図ることができ
る。
プロファイルである。
る。
磁気ヘッド装置の一例を示す側面図である。
磁気ヘッド装置の一例を示す底面図である。
磁気ヘッド装置の他の例を示す底面図である。
磁気ヘッド装置を示す要部拡大図である。
磁気ヘッド装置の更に他の例を示す正面図である。
磁気ヘッド装置を示す底面図である。
動部、 3,13,23 光磁気ディスク、 4,1
4,24 磁気ヘッド装置、 5,15,26磁気ヘッ
ド素子
Claims (3)
- 【請求項1】 透明基板上に少なくとも金属薄膜を含む
記録層が形成されるとともに、上記記録層を覆って保護
膜が形成され、 磁気ヘッド素子を有する磁気記録部と上記保護膜上を摺
接する実摺動部とを有し、上記磁気記録部が当該光磁気
ディスクの外周側に位置し、上記実摺動部の当該光磁気
ディスクへの摺接位置が上記磁気記録部より内周側に位
置する磁気ヘッド装置によりデータの記録が行われる光
磁気ディスクにおいて、 上記記録層を覆う上記保護膜の外周側端部に形成される
膜厚部の最大膜厚をdとし、上記保護膜の上記膜厚部よ
り内周側に形成される平坦部の平均厚さをdoとしたと
きに、2d0≦d≦6d0となし、 上記磁気ヘッド装置の上記実摺動部が上記保護膜の上記
平坦部上に摺接したときに、上記実摺動部の摺接面から
上記磁気記録部に至る高さをL2とするとき、 上記保護膜の最大膜厚dと上記保護膜の平坦部の平均厚
さdoの差L1がL1<L2の関係にあることを特徴とする
光磁気ディスク。 - 【請求項2】 上記記録層を構成する金属薄膜が磁気光
学効果を有する垂直磁化膜であり、上記保護膜の最大膜
厚dと上記保護膜の平坦部の平均膜厚doの差L1が40
μm以下であることを特徴とする請求項1記載の光磁気
ディスク。 - 【請求項3】 上記保護膜の外周側端部に形成される膜
厚部は、内周側から外周側端部に向かって次第に膜厚を
増加して曲面を構成しており、上記曲面の曲率半径R1
が12.48mm以上であることを特徴とする請求項2
記載の光磁気ディスク。
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-
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