JPH05234140A - 光ディスク - Google Patents

光ディスク

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JPH05234140A
JPH05234140A JP4314331A JP31433192A JPH05234140A JP H05234140 A JPH05234140 A JP H05234140A JP 4314331 A JP4314331 A JP 4314331A JP 31433192 A JP31433192 A JP 31433192A JP H05234140 A JPH05234140 A JP H05234140A
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film
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magneto
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正樹 竹之内
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和浩 木村
Tomoyuki Takahashi
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 金属薄膜を機能膜として有する光ディスクに
おいて、外周端部における最大膜厚dおよびデータエリ
ア上の平坦部における平均膜厚d0 がd≧2d0であ
る、また機能膜が磁気光学効果を有する金属薄膜である
光磁気ディスクにおいて最大膜厚dと平均膜厚d0 の差
1 が40μm以下、保護膜が外周端部において曲率R
1 (R1 ≧12.48mm)の曲面を有するといった条
件を満足する保護膜を形成する、すなわち外周端部の膜
厚が厚い保護膜を形成する。さらに、磁気記録部と実摺
動部により構成される磁気ヘッド装置の形状を上記光デ
ィスクに適合させる。 【効果】 機能膜として希土類−遷移金属非晶質薄膜の
ような腐食性の高い金属薄膜を形成した場合でも、十分
な耐食性を示すとともに良好な記録特性を示す光ディス
クが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスクに関し、特に
保護膜の改良及び上記光ディスクに適合する磁気ヘッド
装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ光の照射により情報の記録・再生
を行う光ディスクとしては、デジタルオーディオディス
ク(いわゆるコンパクトディスク),光学式ビデオディ
スク(いわゆるレーザーディスク)等が既に広く普及し
ている。
【0003】デジタルオーディオディスク等の光ディス
クは、情報信号である凹凸パターンが形成された透明基
板上にAl膜等の金属薄膜よりなる反射膜が形成され、
さらにこの反射膜を大気中の水分,O2 から隔離するた
めの保護膜が上記反射膜上に形成された構成とされる。
上記保護膜としては、通常、紫外線硬化樹脂をスピンコ
ート法,ロールコート法等により、反射膜上の膜面全面
に亘り均一に塗布,硬化して形成される紫外線硬化樹脂
層が用いられる。
【0004】ところで、上記構成の光ディスクでは、使
用者は製造時に透明基板上に形成された凹凸パターンか
らの情報信号を読み取るだけであり、該光ディスクに対
して直接情報信号を書き込むことができない。そこで、
近年、使用者による情報の繰り返し記録,消去が可能な
光ディスクとして光磁気ディスクの開発が進められ、商
品化が実現されつつある。
【0005】上記光磁気ディスクでは、記録磁性層とし
て膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し且つ磁気光学効果
の大きな磁性薄膜を用いる。そして、記録に際しては、
レーザ光の照射によりこの磁性薄膜を部分的にキュリー
点または温度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力
を消滅させて外部から印加される記録磁界の方向に磁化
の向きを反転させる。一方、再生に際しては、該磁性薄
膜にレーザ光を照射し、磁気カー効果もしくはファラデ
ー効果を利用して記録情報を読み出す。
【0006】上述の記録磁性層として要求される特性を
有する磁性薄膜としては、たとえばTbFeCo系非晶
質薄膜等の希土類−遷移金属非晶質薄膜がある。光磁気
ディスクは、通常、このような希土類−遷移金属非晶質
薄膜とともに反射層,誘電体層を積層することにより記
録部を形成し、さらにこの記録部上に保護膜が設けられ
た構成とされる。また、さらにこの光磁気ディスクに
は、単板仕様のものと該光磁気ディスクの2枚を保護膜
が対向するように貼り合わせ、両面より記録,再生を行
うようにした両面仕様のものがあり、製造が容易である
こと、記録再生装置が簡易な構成で済むこと等から、単
板仕様のものが普及品として検討されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記光磁気
ディスクにおいては、記録磁性層として形成される希土
類−遷移金属非晶質薄膜が非常に腐食し易いため、保護
膜には、デジタルオーディオディスク等の光ディスク以
上に高い防水機能が要求される。特に単板仕様とする場
合には、保護膜面が大気と直接接触するために、保護膜
に対する要求はより厳しいものとなる。
【0008】このため、光磁気ディスクでは、保護膜と
して比較的膜厚の厚い紫外線硬化樹脂層や架橋度の高い
紫外線硬化樹脂層を記録部上に形成する等の試みがなさ
れているが、膜厚が厚かったり、架橋度の高い紫外線硬
化樹脂層を記録部上に形成しようとすると、硬化収縮に
より基板に反りが生じる等の不都合が生じる。このた
め、光磁気ディスクにおいても、現在のところはデジタ
ルオーディオディスクと同様の膜厚,架橋度の紫外線硬
化樹脂層を保護膜として形成しており、十分な耐食性が
得られないのが実情である。
【0009】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、希土類−遷移金属非晶質
薄膜等の腐食性の高い機能膜を形成した場合でも十分な
耐食性が得られる光ディスクを提供することを目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、希土類−遷
移金属非晶質薄膜等の金属薄膜を有する光ディスクの耐
食性は、保護膜の外周端部の膜厚を厚くすることによ
り、飛躍的に改善されるとの知見を得るに至った。
【0011】本発明の光ディスクは、このような知見に
基づいて提案されたものであり、透明基板上に金属薄膜
よりなる機能膜および保護膜が形成されてなる光ディス
クにおいて、上記保護膜の外周端部における最大膜厚を
d,データエリア上の平坦部における平均膜厚をdo
したときに、d≧2.0d0 であることを特徴とするも
のである。
【0012】本発明の光ディスクは、透明基板上に記録
層,反射層等の機能膜よりなる記録部と記録部上を覆う
如く形成された保護膜が形成されてなるものである。
【0013】上記透明基板の材料としては、通常、光デ
ィスクに使用されている基板材料であればいずれでもよ
く、たとえば、ポリカーボネート系樹脂,ポリメチルメ
タクリレート系樹脂あるいはアモルファスポリオレフィ
ン系樹脂等が挙げられる。
【0014】上記透明基板上に形成される記録層、反射
層等の機能膜は用途に応じて任意選択することができ
る。例えば、デジタルオーディオディスクや、いわゆる
CD−ROM等においては、凹凸パターンが転写された
ディスク基板上にAl等の金属反射膜が成膜される。一
方、光磁気ディスクでは、透明基板上に記録層である磁
気光学特性(磁気カー効果やファラデー効果)を有する
垂直磁化膜,たとえばTbFeCo系非晶質薄膜等の希
土類−遷移金属合金非晶質膜等が成膜される。
【0015】上記保護膜は、記録部を衝撃から保護する
とともに、空気中の酸素,水分から隔離し、記録部の腐
食,孔食を防止するためのものである。ここで、本発明
においては、上記機能膜として希土類−遷移金属合金非
晶質膜等の腐食性の高い金属薄膜を形成した場合でも、
保護膜によって該金属薄膜の腐食が確実に防止できるよ
うに、保護膜として外周端部における最大膜厚をd,デ
ータエリア上の平坦部における平均膜厚をd0 としたと
きにd≧2.0d0 なる条件を満たす保護膜、すなわち
外周端部の膜厚が厚い保護膜を形成する。
【0016】保護膜は、特に外周端部において腐食因子
である水分,O2 の侵入を逃し易いが、外周端部の膜厚
を厚くすることにより、このような腐食因子の侵入をも
効果的に防止できるようになり、防水効果の高いものと
なる。
【0017】上記保護膜は、たとえばアクリル系紫外線
硬化樹脂等の紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗
布,紫外線照射して形成される。すなわち、スピンコー
ト法により、紫外線硬化樹脂を塗布するには、上記記録
部中央部に所定量の紫外線硬化樹脂を滴下し、ディスク
を回転させる。すると、滴下した紫外線硬化樹脂は遠心
力により外周端部へ向かって振り切られ、記録部全面に
行き亘る。その後、ディスクの回転を停止させると、記
録部上には、紫外線硬化樹脂塗膜が、外周端部に盛り上
がりを有した形状で形成される。この紫外線硬化樹脂塗
膜において、盛り上がり部の紫外線硬化樹脂は放置によ
り徐々に中央部に向かって流動し、外周端部が平坦とな
るが、ディスクの回転停止直後に紫外線照射を行って外
周端部に盛り上がりを有した状態で硬化させるか、ある
いはディスクを回転させて盛り上がり部の中央部への流
動を遠心力により抑えた状態で紫外線照射を行うと、保
護膜の外周端部に盛り上がりを持たせることができる。
【0018】このとき、データエリア上の平坦部におけ
る平均膜厚d0 および外周端部における最大膜厚dは、
ディスクの振り切り回転数,振り切り時間,ディスクの
回転停止後から紫外線照射をするまでの放置時間および
紫外線照射時のディスク回転数等を制御することにより
所望の値とすることができ、これらの条件を調整するこ
とにより、d≧2.0d0 なる条件を満たす保護膜が形
成されることとなる。
【0019】なお、紫外線硬化樹脂層よりなる保護膜の
データエリア上の平坦部における平均膜厚d0 は、記録
部の保護を確実なものとする観点からはより厚い方が好
ましいが、あまり厚くすると硬化収縮により基板に反り
等が生じる虞れがあることから、通常は3〜10μmに
制御される。
【0020】ところで、上述のように機能膜として磁気
光学効果を有する金属薄膜が形成され記録層となされて
いる光磁気ディスクの記録再生装置としては、磁界発生
装置である磁気ヘッド装置を記録磁性層側に配し、レー
ザ光を照射する光学ピックアップ装置を基板を挟んだ記
録磁性層の対面に具備したものが挙げられる。上記のよ
うな磁気ヘッド装置においては、諸々の制約から非常に
小さな磁界しか発生できず、磁気ヘッド装置をなるべく
光磁気ディスクに近接させる必要があるため、該磁気ヘ
ッド装置として磁気記録部と実摺動部により構成される
磁気ヘッド装置が用いられている。上記磁気記録部は磁
気ヘッド素子を有し記録磁界を発生する部分であり、磁
気記録部よりも内周側に設けられた上記実摺動部はバネ
による負荷を受けながら光磁気ディスク上に接してお
り、磁気記録部をディスク表面から微小間隙を有して支
持する部分である。
【0021】このような磁気ヘッド装置により情報の記
録を行うに際しては、実摺動部が光磁気ディスクの保護
膜上を摺接することとなり、光磁気ディスクの保護膜の
膜厚や形状及び用いる磁気ヘッド装置の形状を互いに適
合したものとする必要がある。
【0022】そこで本発明の光ディスクにおいては、金
属薄膜よりなる機能膜が磁気光学効果を有する垂直磁化
膜である場合において、保護膜の外周端部における最大
膜厚dとデータエリア上の平坦部における平均膜厚do
の差L1 が40μm以下である、または保護膜の膜厚が
外周端部において次第に増加して曲面を構成しており、
前記曲面の曲率半径R1 が12.48mm以上であるこ
とを特徴とする。
【0023】さらに本発明においては、上記のような光
磁気ディスクが、磁気記録部と実摺動部を有する磁気ヘ
ッド装置により記録され、前記実摺動部が光ディスクの
摺接面に摺接したときの磁気記録部の前記摺接面からの
高さL2 が、保護膜の外周端部における最大膜厚dとデ
ータエリア上の平坦部における平均膜厚do の差L1
対してL2 >L1 とされている、または磁気記録部が光
ディスクの記録可能領域の最外周位置に位置するとき、
実摺動部がデータエリア上の保護膜の平坦部に摺接する
ことを特徴とする。
【0024】上記のような光磁気ディスクにおいて、光
磁気ディスクの記録可能領域の最外周位置での磁気ヘッ
ド素子と記録部間の距離があまり大きいとスペーシング
ロスによる記録不良が発生し易いことから、保護膜の外
周端部における最大膜厚dとデータエリア上の平坦部に
おける平均膜厚do の差L1 は40μm以下であること
が好ましく、該光磁気ディスクに適合する磁気ヘッド装
置としては、磁気記録部の光磁気ディスクの摺接面から
の高さL2 が、L1 に対してL2 >L1 であることが好
ましい。また、上記のような光磁気ディスクにおいて、
外周端部に形成される曲面の曲率半径R1 が12.48
mm未満であると、磁気ヘッド装置の実摺動部が該曲面
より滑り落ちてしまい光磁気ディスクの記録可能領域の
最外周位置への記録が不可能となるといった不都合が生
じる。さらに、上記のような光磁気ディスクに適合する
磁気ヘッド装置においては、磁気記録部が光ディスクの
記録可能領域の最外周位置に位置するとき、実摺動部が
データエリア上の保護膜の平坦部に摺接するため、記録
可能領域の最外周位置に記録を行う際にも磁気ヘッド素
子と記録部間の距離が変わらないため、スペーシングロ
スが発生しにくい。
【0025】なお、上述のような条件を満たす保護膜
も、スピンコート法により紫外線硬化樹脂を塗布する際
のディスクの振り切り回転数,振り切り時間,ディスク
の回転停止後から紫外線照射をするまでの放置時間およ
び紫外線照射時のディスク回転数等を制御することによ
って形成される。
【0026】
【作用】本発明の光ディスクでは、外周端部における最
大膜厚d,データエリア上の平坦部における平均膜厚d
o がd≧2.0d0 なる条件を満たす保護膜を設ける。
このような条件を満たす保護膜を設けた光ディスクは、
従来の光ディスクにおいて逃し易い外周端部からの水
分,O2 の侵入が上記保護膜によって効果的に防止され
る。したがって、たとえば希土類−遷移金属非晶質薄膜
等の腐食性の高い金属薄膜を機能膜として有する場合で
も、優れた耐食性を示し、信頼性の高い記録再生が達成
される。
【0027】また、本発明の光ディスクは、金属薄膜よ
りなる機能膜が磁気光学効果を有する垂直磁化膜である
場合において、保護膜の外周端部における最大膜厚dと
データエリア上の平坦部における平均膜厚do の差L1
が40μm以下である、または保護膜の膜厚が外周端部
において次第に増加して曲面を構成しており、前記曲面
の曲率半径R1 が12.48mm以上であるため、記録
可能領域の最外周位置においても良好な記録が実現さ
れ、かつ優れた耐食性を示し、信頼性の高い記録再生が
達成される。
【0028】さらに本発明においては、上記のような光
磁気ディスクが、磁気記録部と実摺動部を有する磁気ヘ
ッド装置により記録され、前記実摺動部が光ディスクの
摺接面に摺接したときの磁気記録部の前記摺接面からの
高さL2 が、保護膜の外周端部における最大膜厚dとデ
ータエリア上の平坦部における平均膜厚do の差L1
対してL2 >L1 とされている、または磁気記録部が光
ディスクの記録可能領域の最外周位置に位置するとき、
実摺動部がデータエリア上の保護膜の平坦部に摺接する
ため、記録可能領域の最外周位置においても良好な記録
が実現され、かつ優れた耐食性を示し、信頼性の高い記
録再生が達成される。
【0029】
【実施例】本発明の好適な実施例について説明する。
【0030】実験例 外径130mmのポリカーボネート基板上に、外周マス
クを使用せずに、第1の誘電体層,記録磁性層,第2の
誘電体層,反射層をスパッタリング法により順次成膜
し、記録部を形成した。次いで、この記録部上に粘度5
0cpsの紫外線硬化樹脂をスピンコートし、ディスク
回転停止後、1秒以内に高圧水銀ランプにて紫外線照射
して保護膜を形成し、光磁気ディスク(サンプルディス
ク1〜サンプルディスク8)を作成した。
【0031】なお、各光磁気ディスクの保護膜形成条件
(スピンコートの際の振り切り条件,紫外線照射時のデ
ィスク回転数)および保護膜の外周端部における最大膜
厚dおよびデータエリア上の平坦部における平均膜厚d
0 は表1に示す通りである。
【0032】
【表1】
【0033】また、参考のため、テンコール社製,P−
1にて測定したサンプルディスク1の表面形状プロファ
イルを図1に示す。
【0034】さらに、比較のために、保護膜を形成する
に際して、紫外線硬化樹脂をスピンコートし、ディスク
回転停止から5秒経過した後に紫外線照射して保護膜を
形成したこと以外は実施例1と同様にして光磁気ディス
ク(比較ディスク1〜比較ディスク4)を作成した。な
お、ディスク回転停止から紫外線照射までの時間を5秒
に設定したのは、通常のスピンコートにおいてハンドリ
ングにかかる時間に適合させるためである。
【0035】各光磁気ディスクの保護膜形成条件(スピ
ンコートの際の振り切り条件,紫外線照射時のディスク
回転数)および保護膜の外周端部における最大膜厚dお
よびデータエリア上の平坦部における平均膜厚d0 は表
2に示す通りである。
【0036】
【表2】
【0037】参考のため、比較ディスクの表面形状プロ
ファイルを図2に示す。
【0038】このようにして作成された各光磁気ディス
ク10枚を温度80℃,相対湿度85%の高温多湿条件
下で1000時間放置し、放置前後のバイトエラーレー
トを調べた。なお、バイトエラーレートは、ソニー社
製,商品名 SMO−D501のドライブ装置にて最外
周トラックから1000トラック目のトラックについて
測定した。その結果を表3に示す。また、各光磁気ディ
スクの基板の反り量についても表3に併せて示す。
【0039】
【表3】
【0040】表3からわかるように、d≧2d0 なる条
件を満たす保護膜を形成したサンプルディスク1〜サン
プルディスク8は、高温多湿条件下放置後においても、
バイトエラーが1×10-5以下と小さく、耐食性に優れ
ている。しかも、基板の反りも±1mrad以下と小さ
く良好な形状を有している。
【0041】これに対して、d≧2d0 なる条件を満た
さない保護膜,すなわち保護膜を記録部全面に亘り略均
一な膜厚で形成した光磁気ディスクは、保護膜の膜厚が
薄い場合には高温多湿条件下放置によるバイトエラーレ
ートの増大が著しく、保護膜の膜厚を厚くすると放置に
よるエラーレートの増大は抑えられるものの、基板の反
り量が大きくなり、機械的特性が劣化する。
【0042】したがって、以上の結果から、光ディスク
においてd≧2d0 なる条件を満たす保護膜を形成する
ことは、耐食性に優れ、しかも良好な形状を有する光デ
ィスクを得る上で有効であることがわかった。
【0043】磁気ヘッド装置の構成例 次に、本発明の光ディスクに適合する磁気ヘッド装置の
実施例を図面を参照しながら説明する。本発明の光ディ
スクのうち、機能膜が磁気光学効果を有する金属薄膜で
ある光磁気ディスクの記録再生装置としては、磁界発生
装置である磁気ヘッド装置を記録磁性層側に配し、レー
ザ光を照射する光学ピックアップ装置を基板を挟んだ記
録磁性層の対面に具備したものが挙げられ、このような
装置においては、光学ピックアップ装置より照射される
レーザ光によって記録磁性層を部分的に昇温し、磁気ヘ
ッド装置により記録磁界を印加して記録を行い、該記録
磁性層に光学ピックアップよりレーザ光を照射して磁気
光学効果を利用して再生を行う。しかし、上記のような
磁気ヘッド装置においては、諸々の制約から非常に小さ
な磁界しか発生できず、磁気ヘッド装置をなるべく光磁
気ディスクに近接させる必要がある。
【0044】そこで、磁気ヘッド装置として磁気記録部
と実摺動部により構成される磁気ヘッド装置を用いてい
る。該磁気ヘッド装置は、例えば図3に示すように、図
示しない磁気ヘッド素子を有する磁気記録部1とこれを
支持する実摺動部2より構成されている。上記実摺動部
2は、磁気記録部1よりも内周側に設けられており、図
示しないバネによる負荷を受けながら本発明の光ディス
クである光磁気ディスク3上に接しており、また磁気記
録部1は光磁気ディスクの摺接面3aから高さL2 を有
して実摺動部2により支持されている。なお、上記磁気
ヘッド装置においては、本発明の光ディスクに適合する
ようにL2 は光磁気ディスクの保護膜の外周端部におけ
る最大膜厚dとデータエリア上の平坦部における平均膜
厚d0 の差L1 に対してL2 >L1 となされている。
【0045】また、上記のような磁気記録部と実摺動部
により構成される磁気ヘッド装置は、その構造からシス
テムの小型化,機構の簡素化,低コスト化の点において
も好ましい。
【0046】上記磁気ヘッド装置を光磁気ディスク3方
向より見た図を図4に示す。この時、光磁気ディスク3
は図中矢印Mに示されるように回転し、磁気ヘッド装置
4の摺接方向前方側に磁気ヘッド素子5を有する磁気記
録部1,後方側に実摺動部2が設けられ、実摺動部2は
光磁気ディスク3に対する磁気記録部1の記録可能領域
を広げるために磁気記録部1よりも内周側に磁気ヘッド
装置4の光磁気ディスク3への摺接方向に沿うように設
けられている。また、上記磁気ヘッド装置においては、
該磁気ヘッド装置の磁気記録部が本発明の光ディスクの
記録可能領域の最外周位置に記録を行う際、実摺動部は
データエリア上の保護膜の平坦部を摺接するようになさ
れている。
【0047】例えば、直径64mmで記録可能な最外周
位置が半径30.5mmの位置であり、外周端部におけ
る最大膜厚dとデータエリア上の平坦部における平均膜
厚d0 との差L1 が40μmであり、半径31.0の位
置から曲率半径R1 12.48mmで立ち上がり、外周
端部に盛り上がりを形成する形状の本発明の光ディスク
に適合するためには、磁気ヘッド装置の磁気記録部が半
径30.5mmの位置に記録を行う際、実摺動部は半径
31.0mmの位置よりも内周側に位置するようにす
る。すなわち、図4に示すように磁気ヘッド装置4の磁
気記録部1に設けられる磁気ヘッド素子5の中心5aが
光磁気ディスク3の図中r1 で示される記録可能な最外
周位置(半径30.5mm)にトラッキングしている
際、実摺動部2が図中r2 で示される立ち上がり開始部
(半径31.0mm)よりも内周側を摺接するようにす
る。
【0048】また、上記磁気ヘッド装置においては、図
6に示すように実摺動部12に光磁気ディスク13の曲
面部16と接触しないように曲率半径R2 でR加工を施
し、実摺動部12のディスク摺接面12a内に実摺動箇
所17を設けることによって、図2のように実摺動部2
にR加工を施さない場合よりも磁気ヘッド素子5の中心
a付近で支持することができる。すなわち、図5に示す
ように実摺動部12の実摺動箇所17を磁気記録部11
の磁気ヘッド素子15の中心線15aの延長線上付近に
設けることにより、光磁気ディスク13との摺接時の磁
気ヘッド装置14の図中矢印M方向での姿勢の安定性を
向上させることができる。また、実摺動箇所17を設け
ることにより、実摺動部12を長くすることも可能とな
り、このことからも光磁気ディスク13との摺接時の磁
気ヘッド装置14の図中矢印M方向での姿勢の安定性を
向上させることができる。
【0049】この時の実摺動部12に施すR加工の曲率
半径R2 は、実摺動箇所17の摺接位置が半径31.0
mmの位置である場合においてはR2 <12.48とす
れば良いが、実摺動箇所17の摺接位置r5 が半径3
1.0mmよりも内周側である場合においては、次のよ
うに求められる。
【0050】 (32.0−r5 2 +(R2 −0.04)2 =R2 2 すなわち、 R2 =12.5r5 2−800r5 +12800.02(mm)
【0051】実摺動箇所17の摺接位置r5 を半径3
1.0mmよりも内周側とする場合においても、実摺動
部12のR加工の曲率半径R2 を上式で求められる曲率
半径よりも小さくすることによって光磁気ディスク13
の曲面部16との接触が防止される。
【0052】また、図6には実摺動部12の外周側及び
内周側にR加工を施した例を示したが、外周側のみにR
加工を施しても同様の効果を得ることができる。
【0053】さらに、本発明の光ディスクに適合する磁
気ヘッド装置の形状としては、上述のものの他に図7に
示すような磁気ヘッド装置24の磁気記録部21の内周
側の一部に実摺動部22を設けた形状も挙げられる。上
記実摺動部22のディスク対向面22aには光磁気ディ
スク23の曲面部に接触しないようにR加工が施されて
実摺動箇所25が設けられている。図7に示されるよう
に該磁気ヘッド装置24においても光磁気ディスク23
のの摺接面23aからの磁気記録部21の高さL2 は光
磁気ディスクの保護膜の外周端部における最大膜厚dと
データエリア上の平坦部における平均膜厚d0 の差L1
に対してL2 >L1 となされている。
【0054】図8に上記磁気ヘッド装置を光磁気ディス
ク側から見た図を示す。図8に示すように磁気ヘッド装
置24の磁気記録部21に設けられる磁気ヘッド素子2
6の中心26aが光磁気ディスク23の図中r6 で示さ
れる記録可能な最外周位置(半径30.5mm)にトラ
ッキングしている際、実摺動箇所7が図中r7 で示され
る立ち上がり開始部(半径31.0mm)よりも内周側
を摺接するようになされている。
【0055】
【発明の効果】上述の説明からも明らかなように、本発
明の光ディスクにおいては、外周端部における最大膜厚
d,データエリア上の平坦部における平均膜厚do がd
≧2.0d0 なる条件を満たす保護膜を設けているの
で、腐食性の高い金属薄膜を機能膜として形成した場合
でも、該機能膜の腐食,孔食が確実に防止され、優れた
耐食性を得ることが可能である。したがって、本発明に
よれば、光磁気ディスクにおいても実用的な寿命が得ら
れるようになり、光ディスクの記録方式,仕様の多様化
が可能となる。
【0056】また、本発明の光ディスクは、金属薄膜よ
りなる機能膜が磁気光学効果を有する垂直磁化膜である
場合において、保護膜の外周端部における最大膜厚dと
データエリア上の平坦部における平均膜厚do の差L1
が40μm以下である、または保護膜の膜厚が外周端部
において次第に増加して曲面を構成しており、前記曲面
の曲率半径R1 が12.48mm以上であるため、記録
可能領域の最外周位置においても良好な記録が実現さ
れ、かつ優れた耐食性を示し、信頼性の高い記録再生が
達成され、品質の良好な光ディスクを得ることができ
る。
【0057】さらに本発明においては、上記のような光
磁気ディスクが、磁気記録部と実摺動部を有する磁気ヘ
ッド装置により記録され、前記実摺動部が光ディスクの
摺接面に摺接したときの磁気記録部の前記摺接面からの
高さL2 が、保護膜の外周端部における最大膜厚dとデ
ータエリア上の平坦部における平均膜厚do の差L1
対してL2 >L1 とされている、または磁気記録部が光
ディスクの記録可能領域の最外周位置に位置するとき、
実摺動部がデータエリア上の保護膜の平坦部に摺接する
ため、記録可能領域の最外周位置においても良好な記録
が実現され、かつ優れた耐食性を示し、信頼性の高い記
録再生が達成され、品質の良好な光ディスクを得ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ディスクの表面形状プロファイルで
ある。
【図2】従来の光ディスクの表面形状プロファイルであ
る。
【図3】本発明の光ディスクに適合する磁気ヘッド装置
の一例を示す側面図である。
【図4】本発明の光ディスクに適合する磁気ヘッド装置
の一例を示す底面図である。
【図5】本発明の光ディスクに適合する磁気ヘッド装置
の他の例を示す底面図である。
【図6】本発明の光ディスクに適合する磁気ヘッド装置
を示す要部拡大図である。
【図7】本発明の光ディスクに適合する磁気ヘッド装置
のさらに他の例を示す正面図である。
【図8】本発明の光ディスクに適合する磁気ヘッド装置
を示す底面図である。
【符号の説明】
1,11,21・・・・・磁気記録部 2,12,22・・・・・実摺動部 3,13,23・・・・・光磁気ディスク 4,14,24・・・・・磁気ヘッド装置 5,15,26・・・・・磁気ヘッド素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 伴幸 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板上に金属薄膜よりなる機能膜お
    よび保護膜が形成されてなる光ディスクにおいて、 上記保護膜の外周端部における最大膜厚をd,データエ
    リア上の平坦部における平均膜厚をdo としたときに、 d≧2.0d0 であることを特徴とする光ディスク。
  2. 【請求項2】 金属薄膜よりなる機能膜が磁気光学効果
    を有する垂直磁化膜であり、 保護膜の外周端部における最大膜厚dとデータエリア上
    の平坦部における平均膜厚do の差L1 が40μm以下
    であることを特徴とする請求項1記載の光ディスク。
  3. 【請求項3】 保護膜の膜厚が外周端部において次第に
    増加して曲面を構成しており、前記曲面の曲率半径R1
    が12.48mm以上であることを特徴とする請求項2
    記載の光ディスク。
  4. 【請求項4】 磁気記録部と実摺動部を有する磁気ヘッ
    ド装置により記録が行われ、 前記実摺動部が光ディスクの摺接面に摺接したときの磁
    気記録部の前記摺接面からの高さL2 が、保護膜の外周
    端部における最大膜厚dとデータエリア上の平坦部にお
    ける平均膜厚do の差L1 に対してL2 >L1 とされて
    いることを特徴とする請求項2記載の光ディスク。
  5. 【請求項5】 磁気記録部が光ディスクの記録可能領域
    の最外周位置に位置するとき、実摺動部がデータエリア
    上の保護膜の平坦部に摺接することを特徴とする請求項
    4記載の光ディスク。
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