JP2622017B2 - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
光磁気ディスクの製造方法Info
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- JP2622017B2 JP2622017B2 JP2193225A JP19322590A JP2622017B2 JP 2622017 B2 JP2622017 B2 JP 2622017B2 JP 2193225 A JP2193225 A JP 2193225A JP 19322590 A JP19322590 A JP 19322590A JP 2622017 B2 JP2622017 B2 JP 2622017B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は、浮上型ヘッドを利用した光磁気記録再生装
置において用いられる光磁気ディスクの製造方法に関す
るもので、さらにはその表面処理方法に関するものであ
る。
置において用いられる光磁気ディスクの製造方法に関す
るもので、さらにはその表面処理方法に関するものであ
る。
（ロ）従来の技術 光磁気記録方式とは、ガラス、プラスチック、セラミ
ックス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁化
膜を形成させたものを記録媒体とし、以下の方法で記
録、再生を行うものである。
ックス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁化
膜を形成させたものを記録媒体とし、以下の方法で記
録、再生を行うものである。
即ち、記録する際には、記録媒体をまず、強力な外部
磁場等によって初期化し、磁化の方向を一方向（上向
き、又は下向き）に揃えておく。その後、記録したいエ
リアにレーザビームを照射して、媒体部分の温度をキュ
ーリー点近傍以上、もしくは補償点近傍に加熱し、その
部分の保磁力（Hc）をゼロ、又はほとんどゼロとした上
で、初期化の磁化の方向と逆向きの外部磁場（バイアス
磁場）を印加して磁化の向きを反転させる。レーザビー
ムの照射を止めると、記録媒体は常温に戻るので反転し
た磁化は固定され、熱磁気的に情報が記録される。
磁場等によって初期化し、磁化の方向を一方向（上向
き、又は下向き）に揃えておく。その後、記録したいエ
リアにレーザビームを照射して、媒体部分の温度をキュ
ーリー点近傍以上、もしくは補償点近傍に加熱し、その
部分の保磁力（Hc）をゼロ、又はほとんどゼロとした上
で、初期化の磁化の方向と逆向きの外部磁場（バイアス
磁場）を印加して磁化の向きを反転させる。レーザビー
ムの照射を止めると、記録媒体は常温に戻るので反転し
た磁化は固定され、熱磁気的に情報が記録される。
再生の際は、別の直線偏光とされたレーザビームを記
録媒体に照射して、その反射光や透過光の偏光面の回転
が磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果、磁気
ファラデー効果）を利用し光学的に読み出しを行う。
録媒体に照射して、その反射光や透過光の偏光面の回転
が磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果、磁気
ファラデー効果）を利用し光学的に読み出しを行う。
上記のような光磁気記録方式は、書き換え可能な大容
量メモリ素子として注目されているが、その記録媒体の
情報を書き換える方法には、ｉ）記録媒体を再度初期化
することにより従前に記録された情報を一旦消去する方
法、ii）記録媒体または外部磁場発生装置に工夫を加え
てオーバーライト、つまり消去動作をせずに直接情報の
書き換えを行う方法の２通りある。
量メモリ素子として注目されているが、その記録媒体の
情報を書き換える方法には、ｉ）記録媒体を再度初期化
することにより従前に記録された情報を一旦消去する方
法、ii）記録媒体または外部磁場発生装置に工夫を加え
てオーバーライト、つまり消去動作をせずに直接情報の
書き換えを行う方法の２通りある。
その内ｉ）の方法では、初期化装置が必要となるか又
は２個のヘッドが必要になりコスト高を招くことにな
る。また、１個のみのヘッドを設けてこれを用いて消去
する場合は、消去のために記録時と同じ時間を要し、非
効率的である。
は２個のヘッドが必要になりコスト高を招くことにな
る。また、１個のみのヘッドを設けてこれを用いて消去
する場合は、消去のために記録時と同じ時間を要し、非
効率的である。
一方、ii）における記録媒体に工夫をする方法では、
記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。そ
のため、ii）における外部磁場発生装置を工夫する方
法、つまりレーザビームを一定にし外部磁場の向きを高
速スイッチングで反転させて記録する方法が最も有用と
なる。
記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。そ
のため、ii）における外部磁場発生装置を工夫する方
法、つまりレーザビームを一定にし外部磁場の向きを高
速スイッチングで反転させて記録する方法が最も有用と
なる。
ところで、外部磁場の向きを高速で反転させるために
は、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極
めて小さくする必要があり、その場合、磁場の発生領域
も小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接さ
せる必要があるので、一般には、第５図に示すように、
外部磁場発生装置を図示しない記録媒体上で滑走可能な
スライダー形式の浮上ヘッド11とし、この浮上ヘッド11
におけるスライダー部12に磁気ヘッド部13を設けるとと
もに、浮上ヘッド11をサスペンション10により支持して
記録媒体側に付勢し、記録媒体の介てに伴って浮上ヘッ
ド11を記録媒体の表面から浮上させるようにしている。
９はサスペンション10を支持するベースである。
は、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極
めて小さくする必要があり、その場合、磁場の発生領域
も小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接さ
せる必要があるので、一般には、第５図に示すように、
外部磁場発生装置を図示しない記録媒体上で滑走可能な
スライダー形式の浮上ヘッド11とし、この浮上ヘッド11
におけるスライダー部12に磁気ヘッド部13を設けるとと
もに、浮上ヘッド11をサスペンション10により支持して
記録媒体側に付勢し、記録媒体の介てに伴って浮上ヘッ
ド11を記録媒体の表面から浮上させるようにしている。
９はサスペンション10を支持するベースである。
この浮上ヘッド11は、スライダ部12と記録媒体間の空
気の流れによって生じる上向きの浮上力とサスペンショ
ン10による下向きの付勢力とを均衡させることにより、
一定の浮上量を保つものである。このような浮上型ヘッ
ドは既存のハードディスクにも採用されており、ハード
ディスクにおける浮上量はサブミクロンのオーダーであ
る。一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合には、
可搬性であるために、ディスクに塵が付着する割合が増
加し、また近接しすぎるとクラッシュ等が起こることが
考えられるため、ハードディスクの場合に比べ浮上量を
大きくする必要があり、この場合浮上量は５〜15μｍ必
要である。
気の流れによって生じる上向きの浮上力とサスペンショ
ン10による下向きの付勢力とを均衡させることにより、
一定の浮上量を保つものである。このような浮上型ヘッ
ドは既存のハードディスクにも採用されており、ハード
ディスクにおける浮上量はサブミクロンのオーダーであ
る。一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合には、
可搬性であるために、ディスクに塵が付着する割合が増
加し、また近接しすぎるとクラッシュ等が起こることが
考えられるため、ハードディスクの場合に比べ浮上量を
大きくする必要があり、この場合浮上量は５〜15μｍ必
要である。
また、この光磁気ディスクの浮上ヘッド側の表面上に
は、ディスク表面と浮上ヘッド11表面とが吸着しないよ
うに、微細な物理的凹凸（以下、テクスチャーと称す
る）が形成されている。このテクスチャーは、第６図の
（ａ）及び（ｂ）に示すように、表面に微細な凹凸を持
つテクスチャーテープ15をテープ押えロール16により光
磁気ディスク14上に押圧するとともに、テープ15を矢印
Ｃの方向へ移動させ、かつ光磁気ディスク14を回転させ
ることにより形成する。この場合、ディスク14の回転方
向とテープ15の送り方向とはほぼ平行であるので、得ら
れるテクスチャーは、第７図の２点鎖線で示すような方
向を持ち、光磁気ディスク14の浮上ヘッド側の表面に一
様に形成されている。
は、ディスク表面と浮上ヘッド11表面とが吸着しないよ
うに、微細な物理的凹凸（以下、テクスチャーと称す
る）が形成されている。このテクスチャーは、第６図の
（ａ）及び（ｂ）に示すように、表面に微細な凹凸を持
つテクスチャーテープ15をテープ押えロール16により光
磁気ディスク14上に押圧するとともに、テープ15を矢印
Ｃの方向へ移動させ、かつ光磁気ディスク14を回転させ
ることにより形成する。この場合、ディスク14の回転方
向とテープ15の送り方向とはほぼ平行であるので、得ら
れるテクスチャーは、第７図の２点鎖線で示すような方
向を持ち、光磁気ディスク14の浮上ヘッド側の表面に一
様に形成されている。
（ハ）発明が解決しようとする課題 ところで上述のように、テクスチャーを形成させるた
めには、テクスチャーテープを一枚一枚のディスクに押
しつけて加工する必要があり、コスト高となり、量産に
は不向きであった。さらには加工の際、光磁気ディスク
に不要な応力がかかったり、発生したゴミが付着したり
して品質を低下させる一因となっていた。
めには、テクスチャーテープを一枚一枚のディスクに押
しつけて加工する必要があり、コスト高となり、量産に
は不向きであった。さらには加工の際、光磁気ディスク
に不要な応力がかかったり、発生したゴミが付着したり
して品質を低下させる一因となっていた。
本発明は上記の事情を考慮してなされたもので、光硬
化樹脂を２段階に分けて硬化させることによりテクスチ
ャーを形成し、量産することが容易な光磁気ディスクの
製造方法を提供しようとするものである。
化樹脂を２段階に分けて硬化させることによりテクスチ
ャーを形成し、量産することが容易な光磁気ディスクの
製造方法を提供しようとするものである。
（ニ）課題を解決するための手段 本発明は、記録膜が形成された基板の表面に光硬化樹
脂を塗布した光磁気ディスクの製造方法において、前記
光硬化樹脂の表面側から光を照射して前記光硬化樹脂の
表面層のみを硬化させて第１と工程と、前記光硬化樹脂
に光を照射して前記光硬化樹脂の内部層まで硬化させ
て、前記光硬化樹脂の表面層に微細な物理的凹凸を形成
する第２の工程と、を含むことを特徴とする光磁気ディ
スクの製造方法である。
脂を塗布した光磁気ディスクの製造方法において、前記
光硬化樹脂の表面側から光を照射して前記光硬化樹脂の
表面層のみを硬化させて第１と工程と、前記光硬化樹脂
に光を照射して前記光硬化樹脂の内部層まで硬化させ
て、前記光硬化樹脂の表面層に微細な物理的凹凸を形成
する第２の工程と、を含むことを特徴とする光磁気ディ
スクの製造方法である。
なお、本発明において、光硬化樹脂としては、例え
ば、UV光硬化樹脂を使用する。このUV光硬化樹脂に300
〜400nmの波長の長いUV光を照射してその表面層のみを
硬化し、その後200〜300nmの波長の短いUV光を照射して
その内部層まで硬化し、先に硬化させた表面層とその後
に硬化させた内部層との間の硬化収縮の差により微細な
物理的凹凸（テクスチャー）を形成するよう構成されて
いる。
ば、UV光硬化樹脂を使用する。このUV光硬化樹脂に300
〜400nmの波長の長いUV光を照射してその表面層のみを
硬化し、その後200〜300nmの波長の短いUV光を照射して
その内部層まで硬化し、先に硬化させた表面層とその後
に硬化させた内部層との間の硬化収縮の差により微細な
物理的凹凸（テクスチャー）を形成するよう構成されて
いる。
また、別の発明によれば、記録膜が形成された基板の
表面に光硬化樹脂を塗布した光磁気ディスクの製造方法
において、前記光硬化樹脂の外周部にマスクを施した状
態で、前記光硬化樹脂の表面側から光を照射して前記光
硬化樹脂の表面層のみを硬化させる１の工程と、前記マ
スクを取り外して、前記光硬化樹脂に光を照射して前記
光硬化樹脂の内部層まで硬化させて、前記光硬化樹脂の
表面層に内周部で粗く外周部で細かい物理的凹凸を形成
する第２の工程と、を含むことを特徴とする光磁気ディ
スクの製造方法が提供される。
表面に光硬化樹脂を塗布した光磁気ディスクの製造方法
において、前記光硬化樹脂の外周部にマスクを施した状
態で、前記光硬化樹脂の表面側から光を照射して前記光
硬化樹脂の表面層のみを硬化させる１の工程と、前記マ
スクを取り外して、前記光硬化樹脂に光を照射して前記
光硬化樹脂の内部層まで硬化させて、前記光硬化樹脂の
表面層に内周部で粗く外周部で細かい物理的凹凸を形成
する第２の工程と、を含むことを特徴とする光磁気ディ
スクの製造方法が提供される。
前記マスクは光磁気ディスクの外周部を遮光するよう
に形成されている。前記２段階の工程により、内周部に
最大高さ100〜2500μｍの粗いテクスチャーを形成し、
外周部に最大高さ200μｍの細かいテクスチャーを形成
するよう構成されている。
に形成されている。前記２段階の工程により、内周部に
最大高さ100〜2500μｍの粗いテクスチャーを形成し、
外周部に最大高さ200μｍの細かいテクスチャーを形成
するよう構成されている。
（ホ）作用 本発明によれば、光磁気ディスクの光硬化樹脂の表面
層におけるテクスチャー処理を光形成することによっ
て、テクスチャー処理の生産性を向上させることでき、
コストダウンを図ることができる。
層におけるテクスチャー処理を光形成することによっ
て、テクスチャー処理の生産性を向上させることでき、
コストダウンを図ることができる。
また、光磁気ディスクの内周部で粗く外周部で細かい
テクスチャーを光形成したことにより、内周部と外周部
における磁気ヘッドの浮上量を一定にして、光磁気ディ
スクを回転させた際、浮上型磁気ヘッドの損傷または光
磁気ディスクの記録膜の破壊をより一層防止することが
できる。
テクスチャーを光形成したことにより、内周部と外周部
における磁気ヘッドの浮上量を一定にして、光磁気ディ
スクを回転させた際、浮上型磁気ヘッドの損傷または光
磁気ディスクの記録膜の破壊をより一層防止することが
できる。
（ヘ）実施例 以下、本発明の実施例を図面を用いて説明するが、本
発明は以下の実施例に限定されるものではない。
発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例１ 第１図に本発明のテクスチャー形状をもった光磁気デ
ィスクの断面図を示す。
ィスクの断面図を示す。
１はガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタアク
リレート又はアモルファスポリオレフィン等からなる透
明基板であり、その上に単層の記録膜もしくは誘電体
膜、記録膜、反射膜等からなる多層の記録膜２が蒸着や
スパッタリングにより形成され、さらにこれらの保護の
ためにUV硬化型樹脂からなる保護層３がコーティングさ
れる。４は、保護層３とは異なる材質からなるテクスチ
ャー形成用UV硬化型樹脂である。なお保護層３は必ずし
もコーティングされる必要はなく、テクスチャー形成用
UV硬化型樹脂４が保護層３を兼ねるものであってもよ
い。テクスチャー形成用UV硬化型樹脂４としては、アク
リレート系の樹脂例えばウレタンアクリレート、エポキ
シアクリレートやポリオールアクリレートなどを使用す
ることができる。
リレート又はアモルファスポリオレフィン等からなる透
明基板であり、その上に単層の記録膜もしくは誘電体
膜、記録膜、反射膜等からなる多層の記録膜２が蒸着や
スパッタリングにより形成され、さらにこれらの保護の
ためにUV硬化型樹脂からなる保護層３がコーティングさ
れる。４は、保護層３とは異なる材質からなるテクスチ
ャー形成用UV硬化型樹脂である。なお保護層３は必ずし
もコーティングされる必要はなく、テクスチャー形成用
UV硬化型樹脂４が保護層３を兼ねるものであってもよ
い。テクスチャー形成用UV硬化型樹脂４としては、アク
リレート系の樹脂例えばウレタンアクリレート、エポキ
シアクリレートやポリオールアクリレートなどを使用す
ることができる。
次に第２図を用いて本発明の光磁気ディスクの製造方
法を説明する。
法を説明する。
５は記録膜２が形成された光磁気ディスク本体であ
り、同図における上側が保護膜３が形成される側を示
す。第２図の（ａ）は樹脂塗布工程であり、例えば、RA
YVEX SC62F（商品名：大日本インキ化学工業（株））等
のスクリーン印刷用インキ等からなるテクスチャー形成
用UV硬化型樹脂４を塗布する。
り、同図における上側が保護膜３が形成される側を示
す。第２図の（ａ）は樹脂塗布工程であり、例えば、RA
YVEX SC62F（商品名：大日本インキ化学工業（株））等
のスクリーン印刷用インキ等からなるテクスチャー形成
用UV硬化型樹脂４を塗布する。
第２図の（ｂ）及び（ｃ）は、UV硬化工程であり、表
面の硬化と内部の硬化とを２段階に分けて行うことによ
りテクスチャー形状を形成させるものである（本発明の
光磁気ディスクにはユニオンカーバイト社のUCCフォト
キュアシステムを利用）。すなわち、まず波長の長いUV
光、例えば波長300〜400nmでのエネルギー出力の多いUV
光L1をテクスチャー形成用UV硬化型樹脂４に照射し、そ
の表面層のみを硬化させる。次にUV光L1より波長の短い
UV光、例えば波長200〜300nmでのエネルギー出力の多い
UV光L2を照射して内部層を含めてテクスチャー形成用UV
硬化型樹脂４全体を硬化させる。これによって、先に硬
化させた表面層とその後に硬化させる内部層との間の硬
化収縮の差により、表面層に物理的凹凸つまりテクスチ
ャーが形成される。
面の硬化と内部の硬化とを２段階に分けて行うことによ
りテクスチャー形状を形成させるものである（本発明の
光磁気ディスクにはユニオンカーバイト社のUCCフォト
キュアシステムを利用）。すなわち、まず波長の長いUV
光、例えば波長300〜400nmでのエネルギー出力の多いUV
光L1をテクスチャー形成用UV硬化型樹脂４に照射し、そ
の表面層のみを硬化させる。次にUV光L1より波長の短い
UV光、例えば波長200〜300nmでのエネルギー出力の多い
UV光L2を照射して内部層を含めてテクスチャー形成用UV
硬化型樹脂４全体を硬化させる。これによって、先に硬
化させた表面層とその後に硬化させる内部層との間の硬
化収縮の差により、表面層に物理的凹凸つまりテクスチ
ャーが形成される。
また、UV光L1を照射する際、表面層のみを硬化するの
を助けるために、N2ガスを例えば10.0m3/h程度流すとな
お良い。
を助けるために、N2ガスを例えば10.0m3/h程度流すとな
お良い。
実施例２ 本発明のその他の実施例を第3,4図を用いて以下に説
明する。
明する。
第３図において、テクスチャー形成用UV硬化型樹脂７
は、上記した実施例１のものとは異なり、その内周部に
は粗い物理的凹凸が、また外周部には内周部より細かい
物理的凹凸が、それぞれ形成されているものである。こ
れ以外の構成については実施例１と同じである。
は、上記した実施例１のものとは異なり、その内周部に
は粗い物理的凹凸が、また外周部には内周部より細かい
物理的凹凸が、それぞれ形成されているものである。こ
れ以外の構成については実施例１と同じである。
本実施例の処理方法も、表面の硬化と内部の硬化を２
段階に分けて行うことによりテクスチャー形状を形成さ
せるものである。まず、第４図の（ａ）に示すように、
光磁気記録媒体である光磁気ディスク本体５における保
護膜が形成されている側の表面上に、テクスチャー形成
用UV硬化型樹脂７を塗布する。次に、第４図の（ｂ）に
示すように、テクスチャー形成用UV硬化型樹脂７上にデ
ィスク外周部をほぼ遮光するように形成されたマスク８
を設置したのち、UV光L3を照射する。更に第図の（ｃ）
に示すように、マスク８を取り除き再びUV光L4をテクス
チャー形成用UV硬化型樹脂７上に照射する。
段階に分けて行うことによりテクスチャー形状を形成さ
せるものである。まず、第４図の（ａ）に示すように、
光磁気記録媒体である光磁気ディスク本体５における保
護膜が形成されている側の表面上に、テクスチャー形成
用UV硬化型樹脂７を塗布する。次に、第４図の（ｂ）に
示すように、テクスチャー形成用UV硬化型樹脂７上にデ
ィスク外周部をほぼ遮光するように形成されたマスク８
を設置したのち、UV光L3を照射する。更に第図の（ｃ）
に示すように、マスク８を取り除き再びUV光L4をテクス
チャー形成用UV硬化型樹脂７上に照射する。
上記の方法により、光磁気ディスクの内周部において
は、テクスチャー形成用UV硬化型樹脂７が２段階で硬化
するため凹凸が形成され、外周部では１段階で硬化する
ためほとんど凹凸が形成されず、その結果、内周部に最
大高さ100〜2500μｍの粗い物理的凹凸が、外周部に最
大高さ200μｍ以下の細かい物理的凹凸が形成された光
磁気ディスクとなる。
は、テクスチャー形成用UV硬化型樹脂７が２段階で硬化
するため凹凸が形成され、外周部では１段階で硬化する
ためほとんど凹凸が形成されず、その結果、内周部に最
大高さ100〜2500μｍの粗い物理的凹凸が、外周部に最
大高さ200μｍ以下の細かい物理的凹凸が形成された光
磁気ディスクとなる。
（ト）発明の効果 本発明によれば、光磁気ディスクの光硬化樹脂の表面
層におけるテクスチャー処理を光形成することによっ
て、テクスチャー処理の生産性を向上させることでき、
コストダウンを図ることができる。
層におけるテクスチャー処理を光形成することによっ
て、テクスチャー処理の生産性を向上させることでき、
コストダウンを図ることができる。
また、光磁気ディスクの内周部で粗く外周部で細かい
テクスチャーを光形成したことにより、内周部と外周部
における磁気ヘッドの浮上量を一定にして、光磁気ディ
スクを回転させた際、浮上型磁気ヘッドの損傷または光
磁気ディスクの記録膜の破壊をより一層防止することが
でき安定して書き込みができる。
テクスチャーを光形成したことにより、内周部と外周部
における磁気ヘッドの浮上量を一定にして、光磁気ディ
スクを回転させた際、浮上型磁気ヘッドの損傷または光
磁気ディスクの記録膜の破壊をより一層防止することが
でき安定して書き込みができる。
第１図は本発明の実施例１の構造を示す縦断面図、第２
図は実施例１に係る製造工程を示す工程図、第３図は本
発明の実施例２の構造を示す縦断面図、第４図は実施例
２に係る製造工程を示す工程図、第５図は浮上ヘッドの
構成を示す斜視図、第６図は従来例における製造工程を
示す工程図、第７図は従来例の光磁気ディスクにおける
凹凸の構成を示す平面図である。 １……透明基板、２……記録膜、 ３……保護層、 4,7……テクスチャー形成用UV硬化型樹脂、 ５……光磁気ディスク本体、８……マスク。
図は実施例１に係る製造工程を示す工程図、第３図は本
発明の実施例２の構造を示す縦断面図、第４図は実施例
２に係る製造工程を示す工程図、第５図は浮上ヘッドの
構成を示す斜視図、第６図は従来例における製造工程を
示す工程図、第７図は従来例の光磁気ディスクにおける
凹凸の構成を示す平面図である。 １……透明基板、２……記録膜、 ３……保護層、 4,7……テクスチャー形成用UV硬化型樹脂、 ５……光磁気ディスク本体、８……マスク。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−219649（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−219646（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−64936（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−201231（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−232836（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−157837（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】記録膜が形成された基板の表面に光硬化樹
脂を塗布した光磁気ディスクの製造方法において、 前記光硬化樹脂の表面側から光を照射して前記光硬化樹
脂の表面層のみを硬化させる第１の工程と、 前記光硬化樹脂に光を照射して前記光硬化樹脂の内部層
まで硬化させて、前記光硬化樹脂の表面層に微細な物理
的凹凸を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とす
る光磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項２】記録膜が形成された基板の方面に光硬化樹
脂を塗布した光磁気ディスクの製造方法において、 前記光硬化樹脂の外周部にマスクを施した状態で、前記
光硬化樹脂の表面側から光を照射して前記光硬化樹脂の
表面層のみを硬化させる第１の工程と、 前記マスクを取り外して、前記光硬化樹脂に光を照射し
て前記光硬化樹脂の内部層まで硬化させて、前記光硬化
樹脂の表面層に内周部で粗く外周部で細かい物理的凹凸
を形成する第２の工程と、を含むことを特徴とする光磁
気ディスクの製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2193225A JP2622017B2 (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 光磁気ディスクの製造方法 |
| CA002044427A CA2044427C (en) | 1990-06-13 | 1991-06-12 | Magneto-optical disk and manufacturing methods thereof |
| DE69117808T DE69117808T2 (de) | 1990-06-13 | 1991-06-13 | Magnetooptische Platte und Verfahren zur Herstellung |
| US07/714,933 US5233597A (en) | 1990-06-13 | 1991-06-13 | Magneto-optical disk having a layer of varying thickness |
| EP91305382A EP0461911B1 (en) | 1990-06-13 | 1991-06-13 | Magneto-optical disk and manufacturing methods thereof |
| US07/925,370 US5336531A (en) | 1990-02-06 | 1992-08-04 | Magneto-optical disk and manufacturing methods thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2193225A JP2622017B2 (ja) | 1990-07-20 | 1990-07-20 | 光磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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-
1990
- 1990-07-20 JP JP2193225A patent/JP2622017B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH0479045A (ja) | 1992-03-12 |
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