JP2552016B2 - 光磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光磁気ディスク及びその製造方法Info
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- JP2552016B2 JP2552016B2 JP2119451A JP11945190A JP2552016B2 JP 2552016 B2 JP2552016 B2 JP 2552016B2 JP 2119451 A JP2119451 A JP 2119451A JP 11945190 A JP11945190 A JP 11945190A JP 2552016 B2 JP2552016 B2 JP 2552016B2
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- optical disk
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、浮上型磁気ヘッドを利用した光磁気記録再
生装置において用いられる光磁気ディスクに関するもの
で、さらにはその基板に関するものである。
生装置において用いられる光磁気ディスクに関するもの
で、さらにはその基板に関するものである。
光磁気記録方式とは、ガラス、プラスチック、セラミ
ックス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁化
膜を形成させたものを記録媒体とし、以下の方法で記
録、再生を行なうものである。
ックス等からなる基板上に金属磁性体からなる垂直磁化
膜を形成させたものを記録媒体とし、以下の方法で記
録、再生を行なうものである。
即ち、記録する際には、記録媒体をまず、強力な外部
磁場等によって初期化し、磁化の方向を一方向（上向
き、又は下向き）に揃えておく。その後、記録したいエ
リアにレーザビームを照射して、媒体部分の温度をキュ
リー点近傍以上、もしくは補償点近傍に加熱し、その部
分の保磁力（Hc）をゼロ、又はほとんどゼロとした上
で、初期化の磁化の方向と逆向きの外部磁場（バイアス
磁場）を印加して磁化の向きを反転させる。レーザビー
ムの照射を止めると、記録媒体は常温に戻るので反転し
た磁化は固定され、熱磁気的に情報が記録される。
磁場等によって初期化し、磁化の方向を一方向（上向
き、又は下向き）に揃えておく。その後、記録したいエ
リアにレーザビームを照射して、媒体部分の温度をキュ
リー点近傍以上、もしくは補償点近傍に加熱し、その部
分の保磁力（Hc）をゼロ、又はほとんどゼロとした上
で、初期化の磁化の方向と逆向きの外部磁場（バイアス
磁場）を印加して磁化の向きを反転させる。レーザビー
ムの照射を止めると、記録媒体は常温に戻るので反転し
た磁化は固定され、熱磁気的に情報が記録される。
再生の際は、別の直線偏光とされたレーザビームを記
録媒体に照射して、その反射光や透過光の偏光面の回転
が磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果、磁気
ファラデー効果）を利用し光学的に読み出しを行なう。
録媒体に照射して、その反射光や透過光の偏光面の回転
が磁化の向きによって異なる現象（磁気カー効果、磁気
ファラデー効果）を利用し光学的に読み出しを行なう。
上記のような光磁気記録方式は、書き変え可能な大容
量メモリ素子として注目されているが、その記録媒体の
情報を書き換える方法には、ｉ）記録媒体を再度初期化
することにより従前に記録された情報を一旦消去する方
法、ii）記録媒体または外部磁場発生装置に工夫を加え
てオーバーライト、つまり消去動作をせずに直接情報の
書き換えを行なう方法の２通りある。
量メモリ素子として注目されているが、その記録媒体の
情報を書き換える方法には、ｉ）記録媒体を再度初期化
することにより従前に記録された情報を一旦消去する方
法、ii）記録媒体または外部磁場発生装置に工夫を加え
てオーバーライト、つまり消去動作をせずに直接情報の
書き換えを行なう方法の２通りある。
その内ｉ）の方法では、初期化装置が必要となるか又
は２個のヘッドが必要になりコスト高を招くことにな
る。また、１個のみのヘッドを設けてこれを用いて消去
する場合は、消去のために記録時と同じ時間を要し、非
効率的である。
は２個のヘッドが必要になりコスト高を招くことにな
る。また、１個のみのヘッドを設けてこれを用いて消去
する場合は、消去のために記録時と同じ時間を要し、非
効率的である。
一方、ii）における記録媒体に工夫をする方法では、
記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。そ
のため、ii）における外部磁場発生装置を工夫する方
法、つまりレーザビームを一定にし外部磁場の向きを高
速スイッチングで反転させて記録する方法が最も有用と
なる。
記録媒体の組成、膜厚等の制御が困難なものである。そ
のため、ii）における外部磁場発生装置を工夫する方
法、つまりレーザビームを一定にし外部磁場の向きを高
速スイッチングで反転させて記録する方法が最も有用と
なる。
ところで、外部磁場の向きを高速で反転させるために
は、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極
めて小さくする必要があり、その場合、磁場の発生領域
も小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接さ
せる必要があるので、一般には、第３図（ａ）及び
（ｂ）に示すように外部磁場発生装置を図示しない記録
媒体上で滑走可能なスライダー形式の浮上ヘッド12と
し、この浮上ヘッド12におけるスライダ部14に磁気ヘッ
ド部15を設けるとともに、浮上ヘッド12をサスペンショ
ン13により支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体の回
転に伴って浮上ヘッド12を記録媒体の表面から浮上させ
るようにしている。
は、外部磁場発生装置におけるコイル及びコイル芯は極
めて小さくする必要があり、その場合、磁場の発生領域
も小さくなる。従って、磁気ヘッドと記録媒体を近接さ
せる必要があるので、一般には、第３図（ａ）及び
（ｂ）に示すように外部磁場発生装置を図示しない記録
媒体上で滑走可能なスライダー形式の浮上ヘッド12と
し、この浮上ヘッド12におけるスライダ部14に磁気ヘッ
ド部15を設けるとともに、浮上ヘッド12をサスペンショ
ン13により支持して記録媒体側に付勢し、記録媒体の回
転に伴って浮上ヘッド12を記録媒体の表面から浮上させ
るようにしている。
この浮上ヘッド12は、スライダ部14と記録媒体間の空
気の流れによって生じる上向きの浮上力とサスペンショ
ン13による下向きの付勢力とを均衡させることにより、
一定の浮上量を保つものである。このような浮上型ヘッ
ドは既存のハードディスクにも採用されており、ハード
ディスクにおける浮上量はサブミクロンのオーダーであ
る。一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合には、
可搬性であるために、ディスクに塵が付着する割合が増
加し、また接近しすぎるとクラッシュ等が起こることが
考えられるため、ハードディスクの場合に比べ浮上量を
大きくする必要があり、この場合浮上量は５〜15μｍ必
要である。
気の流れによって生じる上向きの浮上力とサスペンショ
ン13による下向きの付勢力とを均衡させることにより、
一定の浮上量を保つものである。このような浮上型ヘッ
ドは既存のハードディスクにも採用されており、ハード
ディスクにおける浮上量はサブミクロンのオーダーであ
る。一方、記録媒体が光磁気ディスクである場合には、
可搬性であるために、ディスクに塵が付着する割合が増
加し、また接近しすぎるとクラッシュ等が起こることが
考えられるため、ハードディスクの場合に比べ浮上量を
大きくする必要があり、この場合浮上量は５〜15μｍ必
要である。
また、この光磁気ディスクの浮上ヘッド側の表面上に
は、ディスク表面と浮上ヘッド12表面とが吸着しないよ
うに、浮上ヘッド12がいわゆるコンタクトスタートスト
ップ（ディスク回転をスタート及びストップさせる時
に、磁気ヘッドを光磁気ディスクに接触させる）を行う
内周側の領域に、微細な物理的凹凸（以下、テクスチャ
ーと称する）が形成されている。このテクスチャーは、
第４図（ａ）及び（ｂ）に示すように、表面に微細な凹
凸を持つテクスチャーテープ17をテープ押さえロール18
により光磁気ディスク16上に押圧するとともに、テープ
17を矢印Ｃの方向へ移動させ、かつ光磁気ディスク16を
回転させることにより形成する。この場合、ディスク16
の回転方向とテープ17の送り方向とほぼ平行であるの
で、得られるテクスチャーは、第５図の２点鎖線で示す
ような方向を持ち、光磁気ディスク16の浮上ヘッド側の
表面に一様に形成されている。
は、ディスク表面と浮上ヘッド12表面とが吸着しないよ
うに、浮上ヘッド12がいわゆるコンタクトスタートスト
ップ（ディスク回転をスタート及びストップさせる時
に、磁気ヘッドを光磁気ディスクに接触させる）を行う
内周側の領域に、微細な物理的凹凸（以下、テクスチャ
ーと称する）が形成されている。このテクスチャーは、
第４図（ａ）及び（ｂ）に示すように、表面に微細な凹
凸を持つテクスチャーテープ17をテープ押さえロール18
により光磁気ディスク16上に押圧するとともに、テープ
17を矢印Ｃの方向へ移動させ、かつ光磁気ディスク16を
回転させることにより形成する。この場合、ディスク16
の回転方向とテープ17の送り方向とほぼ平行であるの
で、得られるテクスチャーは、第５図の２点鎖線で示す
ような方向を持ち、光磁気ディスク16の浮上ヘッド側の
表面に一様に形成されている。
ところが、上述のようにテクスチャーを形成させるた
めには、テープ17を一枚一枚の光磁気ディスク16に押し
つけて加工する必要があり、コスト高となるため量産に
は不向きである。更には、加工の際、光磁気ディスク16
に不要な応力がかかったり、発生した塵埃が付着したり
して品質を低下させる一因となるという問題点を有して
いる。
めには、テープ17を一枚一枚の光磁気ディスク16に押し
つけて加工する必要があり、コスト高となるため量産に
は不向きである。更には、加工の際、光磁気ディスク16
に不要な応力がかかったり、発生した塵埃が付着したり
して品質を低下させる一因となるという問題点を有して
いる。
請求項第１項に係る光磁気ディスクは、上記の課題を
解決するために、基板上に記録層が形成された光磁気デ
ィスクにおいて、上記基板は、記録層が形成された第１
領域より大きい厚さに形成されてコンタクトスタートス
トップが行われる第２領域を該第１領域よりも内周側に
有し、該第２領域における、該第１領域に記録層が形成
される側の表面に微細な物理的凹凸が形成されているこ
とを特徴としている。
解決するために、基板上に記録層が形成された光磁気デ
ィスクにおいて、上記基板は、記録層が形成された第１
領域より大きい厚さに形成されてコンタクトスタートス
トップが行われる第２領域を該第１領域よりも内周側に
有し、該第２領域における、該第１領域に記録層が形成
される側の表面に微細な物理的凹凸が形成されているこ
とを特徴としている。
また、請求項第２項に係る光磁気ディスクの製造方法
は、請求項第１項に記載の光磁気ディスクを製造するた
めに、上記第１領域に案内溝を形成するための形状に形
成された案内溝部を有するとともに、上記第２領域に微
細な物理的凹凸を形成するための形状に形成された凹凸
部を該案内溝部より内周側の窪んだ領域に有するスタン
パを用いて、射出成形法により基板を作製することを特
徴としている。
は、請求項第１項に記載の光磁気ディスクを製造するた
めに、上記第１領域に案内溝を形成するための形状に形
成された案内溝部を有するとともに、上記第２領域に微
細な物理的凹凸を形成するための形状に形成された凹凸
部を該案内溝部より内周側の窪んだ領域に有するスタン
パを用いて、射出成形法により基板を作製することを特
徴としている。
請求項第１項の構成によれば、光磁気ディスクは、デ
ィスク表面と浮上ヘッド表面との吸着を防止する物理的
凹凸を、基板作製段階で設けることができる。
ィスク表面と浮上ヘッド表面との吸着を防止する物理的
凹凸を、基板作製段階で設けることができる。
従来の構成では、基板上に記録層及び保護層が形成さ
れた後、第４図（ａ）及び（ｂ）に示される方法によ
り、保護層上に凹凸加工を施し、これによって、記録層
が形成される領域よりも内周側のコンタクトスタートス
トップが行われる領域に物理的凹凸を形成せねばなら
ず、したがって、ディスクの製造コストを上昇させ、量
産性を低下させるとともに、品質を低下させるという問
題が生じていた。
れた後、第４図（ａ）及び（ｂ）に示される方法によ
り、保護層上に凹凸加工を施し、これによって、記録層
が形成される領域よりも内周側のコンタクトスタートス
トップが行われる領域に物理的凹凸を形成せねばなら
ず、したがって、ディスクの製造コストを上昇させ、量
産性を低下させるとともに、品質を低下させるという問
題が生じていた。
これに対して、本発明の光磁気ディスクは、第２領域
が第１領域より大きい厚さに形成された基板構造を有し
ているので、第２領域に保護層等を積層することなく、
第２領域と記録層等が形成された後の第１領域とで、デ
ィスクの厚さを一様に揃えることができる。換言すれ
ば、第２領域に保護層等を積層することなく、ディスク
表面が基板となる内周側の第２領域と、記録層及び保護
層が形成されディスク表面が保護層となる第１領域と
で、ディスク表面を面一とすることができる。したがっ
て、内周側のコンタクトスタートストップが行われる領
域のディスク表面を基板とすることができるため、基板
上に記録層等を形成する工程以前の、取り扱いの容易な
基板作製段階で、予め内周側のディスク表面に物理的凹
凸を設けることが可能になる。
が第１領域より大きい厚さに形成された基板構造を有し
ているので、第２領域に保護層等を積層することなく、
第２領域と記録層等が形成された後の第１領域とで、デ
ィスクの厚さを一様に揃えることができる。換言すれ
ば、第２領域に保護層等を積層することなく、ディスク
表面が基板となる内周側の第２領域と、記録層及び保護
層が形成されディスク表面が保護層となる第１領域と
で、ディスク表面を面一とすることができる。したがっ
て、内周側のコンタクトスタートストップが行われる領
域のディスク表面を基板とすることができるため、基板
上に記録層等を形成する工程以前の、取り扱いの容易な
基板作製段階で、予め内周側のディスク表面に物理的凹
凸を設けることが可能になる。
この結果、光磁気ディスクの製造にあたり、テクスチ
ャーテープを用いる従来のテクスチャー処理工程を不要
にすることができるので、コストダウンの実現と量産性
の向上とが可能になるとともに、ディスクに塵埃が付着
したり不要な応力がかかることもなくなり、品質を向上
させることができる。
ャーテープを用いる従来のテクスチャー処理工程を不要
にすることができるので、コストダウンの実現と量産性
の向上とが可能になるとともに、ディスクに塵埃が付着
したり不要な応力がかかることもなくなり、品質を向上
させることができる。
また、請求項第２項の製造方法によれば、記録層が形
成される領域よりも内周側の領域が大きい厚さに形成さ
れた光磁気ディスク用基板が得られるので、内周側のコ
ンタクトスタートストップが行われる領域のディスク表
面を基板とすることができる。また、基板の形状と一体
に、案内溝と物理的凹凸とをそれぞれ基板表面の記録層
が形成される第１領域と内周側の第２領域とに設けるこ
とができる。
成される領域よりも内周側の領域が大きい厚さに形成さ
れた光磁気ディスク用基板が得られるので、内周側のコ
ンタクトスタートストップが行われる領域のディスク表
面を基板とすることができる。また、基板の形状と一体
に、案内溝と物理的凹凸とをそれぞれ基板表面の記録層
が形成される第１領域と内周側の第２領域とに設けるこ
とができる。
したがって、基板作製段階で物理的凹凸を形成する工
程をあらたに増やすことなく、従来のテクスチャー処理
工程を不要にすることができるので、コストダウンの実
現と量産性の向上とが不要になるとともに、品質を向上
させることができる。
程をあらたに増やすことなく、従来のテクスチャー処理
工程を不要にすることができるので、コストダウンの実
現と量産性の向上とが不要になるとともに、品質を向上
させることができる。
本発明の一実施例を第１図及び第２図を用いて説明す
ると以下の通りである。
ると以下の通りである。
本発明に係る光磁気ディスクは、第１図に示すよう
に、ポリカーボネイト，ポリメチルメタクリレート，ア
モルファスポリオレフィン等からなる透明な基板１の一
方の面上における領域A1（第１領域）に、単層もしくは
誘電体膜，記録膜，反射膜等からなる多層の記録膜２
が、蒸着やスパッタリングにより形成されている。さら
にこの記録膜２の保護のために、UV硬化型樹脂からなる
保護膜３が形成されている。
に、ポリカーボネイト，ポリメチルメタクリレート，ア
モルファスポリオレフィン等からなる透明な基板１の一
方の面上における領域A1（第１領域）に、単層もしくは
誘電体膜，記録膜，反射膜等からなる多層の記録膜２
が、蒸着やスパッタリングにより形成されている。さら
にこの記録膜２の保護のために、UV硬化型樹脂からなる
保護膜３が形成されている。
また、基板１における記録層２が形成された面の、領
域A1よりも内周側の領域は基板の厚さt2が、領域A1にお
ける基板１の厚さt1より、記録層２及び保護層３の分だ
け大きくなっている。
域A1よりも内周側の領域は基板の厚さt2が、領域A1にお
ける基板１の厚さt1より、記録層２及び保護層３の分だ
け大きくなっている。
さらに上記基板１の、領域A1より内周側の領域におけ
る領域A2（第２領域）の表面上には、微細な物理的凹凸
５が形成されている。
る領域A2（第２領域）の表面上には、微細な物理的凹凸
５が形成されている。
基板１の内孔部にはハブ４が、光磁気ディスクを図示
しない光磁気記録再生装置に偏芯なく精度よく装着する
ために装着されている。
しない光磁気記録再生装置に偏芯なく精度よく装着する
ために装着されている。
上記の構成を持つ光磁気ディスクを光磁気記録再生装
置に装着し記録または再生を行なう際には、光磁気ディ
スクの凹凸５が形成された側の領域A2に、第３図に示す
ような浮上ヘッド12が接触した後、ディスクが回転し浮
上ヘッド12が浮上する。浮上した浮上ヘッド12は外周側
の領域A1へ移動して記録再生を行ない、停止時は再び領
域A2に戻る。この時、領域A2の基板１表面には凹凸５が
形成されているので、浮上ヘッド12は光磁気ディスクに
吸着することがない。
置に装着し記録または再生を行なう際には、光磁気ディ
スクの凹凸５が形成された側の領域A2に、第３図に示す
ような浮上ヘッド12が接触した後、ディスクが回転し浮
上ヘッド12が浮上する。浮上した浮上ヘッド12は外周側
の領域A1へ移動して記録再生を行ない、停止時は再び領
域A2に戻る。この時、領域A2の基板１表面には凹凸５が
形成されているので、浮上ヘッド12は光磁気ディスクに
吸着することがない。
次に光磁気ディスクの製造方法について説明する。
第２図に示すように、製造方法の一つである射出成形
に使われる金型11は、スタンパ部６と裏面部７とからな
っている。スタンパ部６は、同図に示すように、領域A1
の基板表面に案内溝を形成するための凹凸形の案内溝部
８を有するとともに、領域A2の基板表面に凹凸５を形成
するための凹凸部９を案内溝部８より内周側の窪んだ領
域に有している。
に使われる金型11は、スタンパ部６と裏面部７とからな
っている。スタンパ部６は、同図に示すように、領域A1
の基板表面に案内溝を形成するための凹凸形の案内溝部
８を有するとともに、領域A2の基板表面に凹凸５を形成
するための凹凸部９を案内溝部８より内周側の窪んだ領
域に有している。
先ず、このスタンパ部６と裏面部７とにはさまれた空
間に、例えばポリカーボネート、ポリメチルメタクリレ
ート，アモルファスオレフィン等の溶融された樹脂Ｂを
裏面部７のスプルー部10より流し込む。
間に、例えばポリカーボネート、ポリメチルメタクリレ
ート，アモルファスオレフィン等の溶融された樹脂Ｂを
裏面部７のスプルー部10より流し込む。
次に、流し込んだ樹脂Ｂを充分に冷却した後に取り出
し、内孔部を打ち抜いてスタンパ部６の案内溝部８及び
凹凸部９が転写され、かつ、領域A2が領域A1より大きい
厚さに形成された基板１を得る。
し、内孔部を打ち抜いてスタンパ部６の案内溝部８及び
凹凸部９が転写され、かつ、領域A2が領域A1より大きい
厚さに形成された基板１を得る。
更に上記の基板１に、記録膜２を形成しその上に保護
膜３を形成して光磁気ディスクを得る。
膜３を形成して光磁気ディスクを得る。
尚、本実施例においては、射出成形法により製造され
た樹脂製の基板１を示したが、これに限らず、フォトポ
リマー法（2P法）によりガラス基板上に光硬化樹脂で案
内溝及び物理的凹凸を形成させた基板、あるいはエッチ
ング法によりガラスに直接案内溝及び物理的凹凸を形成
させた基板であってもよい。上記製造方法のいずれを用
いる場合にも、取り扱いの容易な基板作製段階で案内溝
の形成と共に物理的凹凸の形成が可能になる。したがっ
て、基板作製段階で物理的凹凸を形成する工程をあらた
に増やすことなく、従来のテクスチャー処理工程を削減
することができるので、コストダウンの実現と量産性の
向上とが可能になるとともに、得られる光磁気ディスク
の品質を向上させることができる。
た樹脂製の基板１を示したが、これに限らず、フォトポ
リマー法（2P法）によりガラス基板上に光硬化樹脂で案
内溝及び物理的凹凸を形成させた基板、あるいはエッチ
ング法によりガラスに直接案内溝及び物理的凹凸を形成
させた基板であってもよい。上記製造方法のいずれを用
いる場合にも、取り扱いの容易な基板作製段階で案内溝
の形成と共に物理的凹凸の形成が可能になる。したがっ
て、基板作製段階で物理的凹凸を形成する工程をあらた
に増やすことなく、従来のテクスチャー処理工程を削減
することができるので、コストダウンの実現と量産性の
向上とが可能になるとともに、得られる光磁気ディスク
の品質を向上させることができる。
〔発明の効果〕 請求項第１項の発明に係る光磁気ディスクは、以上の
ように、上記基板は、記録層が形成された第１領域より
大きい厚さに形成されてコンタクトスタートストップが
行われる第２領域を該第１領域よりも内周側に有し、該
第２領域における、該第１領域に記録層が形成される側
の表面に微細な物理的凹凸が形成されている構成であ
る。
ように、上記基板は、記録層が形成された第１領域より
大きい厚さに形成されてコンタクトスタートストップが
行われる第２領域を該第１領域よりも内周側に有し、該
第２領域における、該第１領域に記録層が形成される側
の表面に微細な物理的凹凸が形成されている構成であ
る。
これにより、内周側のコンタクトスタートストップが
行われる領域のディスク表面を基板とすることができる
ため、基板上に記録層等を形成する工程以前の、取り扱
いの容易な基板作製段階で、予め内周側のディスク表面
に物理的凹凸を設けることが可能になる。
行われる領域のディスク表面を基板とすることができる
ため、基板上に記録層等を形成する工程以前の、取り扱
いの容易な基板作製段階で、予め内周側のディスク表面
に物理的凹凸を設けることが可能になる。
それゆえ、光磁気ディスクの製造にあたり、テクスチ
ャーテープを用いる従来のテクスチャー処理工程を不要
にすることができるので、コストダウンの実現と量産性
の向上とが可能になるとともに、ディスクに塵埃が付着
したり不要な応力がかかることもなくなり、品質を向上
させることができるという効果を奏する。
ャーテープを用いる従来のテクスチャー処理工程を不要
にすることができるので、コストダウンの実現と量産性
の向上とが可能になるとともに、ディスクに塵埃が付着
したり不要な応力がかかることもなくなり、品質を向上
させることができるという効果を奏する。
請求項第２項の発明に係る光磁気ディスクの製造方法
は、以上のように、請求項第１項に記載の光磁気ディス
クを製造するために、上記第１領域に案内溝を形成する
ための形状に形成された案内溝部を有するとともに、上
記第２領域に微細な物理的凹凸を形成するための形状に
形成された凹凸部を該案内溝部より内周側の窪んだ領域
に有するスタンパを用いて、射出成形法により基板を作
製する方法である。
は、以上のように、請求項第１項に記載の光磁気ディス
クを製造するために、上記第１領域に案内溝を形成する
ための形状に形成された案内溝部を有するとともに、上
記第２領域に微細な物理的凹凸を形成するための形状に
形成された凹凸部を該案内溝部より内周側の窪んだ領域
に有するスタンパを用いて、射出成形法により基板を作
製する方法である。
これにより、記録層が形成される領域よりも内周側の
領域が大きい厚さに形成された光磁気ディスク用基板が
得られるので、内周側のコンタクトスタートストップが
行われる領域のディスク表面を基板とすることができ
る。
領域が大きい厚さに形成された光磁気ディスク用基板が
得られるので、内周側のコンタクトスタートストップが
行われる領域のディスク表面を基板とすることができ
る。
また、基板の形成と一体に、案内溝と物理的凹凸とを
それぞれ基板表面の記録層が形成される第１領域と内周
側の第２領域とに設けることができる。
それぞれ基板表面の記録層が形成される第１領域と内周
側の第２領域とに設けることができる。
それゆえ、基板作製段階で物理的凹凸を形成する工程
をあらたに増やすことなく、従来のテクスチャー処理工
程を不要にすることができるので、コストダウンの実現
と量産性の向上とが可能になるとともに、品質を向上さ
せることができるという効果を奏する。
をあらたに増やすことなく、従来のテクスチャー処理工
程を不要にすることができるので、コストダウンの実現
と量産性の向上とが可能になるとともに、品質を向上さ
せることができるという効果を奏する。
第１図及び第２図は、本発明の一実施例を示すものであ
る。 第１図は、光磁気ディスクの構成を示す縦断面図であ
る。 第２図は、光磁気ディスクの製造工程を示す縦断面図で
ある。 第３図（ａ）は浮上ヘッド及びサスペンションを示す概
略斜視図である。 第３図（ｂ）は浮上ヘッドの斜視図である。 第４図及び第５図は従来例を示すものである。 第４図（ａ）（ｂ）は、テクスチャーテープにより光磁
気ディスクにテクスチャーを形成する方法を示す説明図
である。 第５図は、光磁気ディスクにおけるテクスチャーの方向
を示す正面図である。 １は基板、２は記録膜、３は保護膜、５は凹凸、６はス
タンパ部、12は浮上ヘッド、A1は領域（第１領域）、A2
は領域（第２領域）である。
る。 第１図は、光磁気ディスクの構成を示す縦断面図であ
る。 第２図は、光磁気ディスクの製造工程を示す縦断面図で
ある。 第３図（ａ）は浮上ヘッド及びサスペンションを示す概
略斜視図である。 第３図（ｂ）は浮上ヘッドの斜視図である。 第４図及び第５図は従来例を示すものである。 第４図（ａ）（ｂ）は、テクスチャーテープにより光磁
気ディスクにテクスチャーを形成する方法を示す説明図
である。 第５図は、光磁気ディスクにおけるテクスチャーの方向
を示す正面図である。 １は基板、２は記録膜、３は保護膜、５は凹凸、６はス
タンパ部、12は浮上ヘッド、A1は領域（第１領域）、A2
は領域（第２領域）である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 賢司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−239618（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−105343（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−162844（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−281131（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−276442（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−151424（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】基板上に記録層が形成された光磁気ディス
クにおいて、 上記基板は、記録層が形成された第１領域より大きい厚
さに形成されてコンタクトスタートストップが行われる
第２領域を該第１領域よりも内周側に有し、該第２領域
における、該第１領域に記録層が形成される側の表面に
微細な物理的凹凸が形成されていることを特徴とする光
磁気ディスク。 - 【請求項２】上記第１領域に案内溝を形成するための形
状に形成された案内溝部を有するとともに、上記第２領
域に微細な物理的凹凸を形成するための形状に形成され
た凹凸部を該案内溝部より内周側の窪んだ領域に有する
スタンパを用いて、射出成形法により基板を作製するこ
とを特徴とする請求項第１項に記載の光磁気ディスクの
製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2119451A JP2552016B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 光磁気ディスク及びその製造方法 |
| CA002041680A CA2041680C (en) | 1990-05-08 | 1991-05-02 | Magneto-optical disk and method of manufacturing the same |
| US07/694,990 US5353278A (en) | 1990-05-08 | 1991-05-02 | Magneto-optical disk and method of manufacturing the same |
| DE69127994T DE69127994T2 (de) | 1990-05-08 | 1991-05-07 | Magnetooptische Scheibe und Verfahren zur Herstellung dergleichen |
| EP91304086A EP0456452B1 (en) | 1990-05-08 | 1991-05-07 | Magneto-optical disk and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2119451A JP2552016B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 光磁気ディスク及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0414648A JPH0414648A (ja) | 1992-01-20 |
| JP2552016B2 true JP2552016B2 (ja) | 1996-11-06 |
Family
ID=14761715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2119451A Expired - Lifetime JP2552016B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 光磁気ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2552016B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07122940B2 (ja) * | 1985-01-14 | 1995-12-25 | 株式会社リコー | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0752523B2 (ja) * | 1986-05-30 | 1995-06-05 | 松下電器産業株式会社 | 記録再生用のデイスク基板とその製造方法 |
| JPS63239618A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気デイスク装置 |
| JPH01105343A (ja) * | 1987-10-19 | 1989-04-21 | Seiko Epson Corp | 光ディスク基板の製造方法 |
| JPH01151424U (ja) * | 1987-12-25 | 1989-10-19 | ||
| JPH01276442A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-07 | Canon Inc | 光情報記録媒体 |
-
1990
- 1990-05-08 JP JP2119451A patent/JP2552016B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0414648A (ja) | 1992-01-20 |
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