JPH0981974A - 光記録媒体の製造方法および製造装置 - Google Patents
光記録媒体の製造方法および製造装置Info
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- JPH0981974A JPH0981974A JP26206495A JP26206495A JPH0981974A JP H0981974 A JPH0981974 A JP H0981974A JP 26206495 A JP26206495 A JP 26206495A JP 26206495 A JP26206495 A JP 26206495A JP H0981974 A JPH0981974 A JP H0981974A
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- optical recording
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- air suction
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の洗浄効果を高め、異物混入の少ない良
好な品質の光記録媒体を提供する。 【解決手段】 光記録媒体用の基板をエア吸引により洗
浄することを特徴とする、光記録媒体の製造方法および
製造装置。
好な品質の光記録媒体を提供する。 【解決手段】 光記録媒体用の基板をエア吸引により洗
浄することを特徴とする、光記録媒体の製造方法および
製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の製造
方法および製造装置に関し、スパッタ、樹脂塗布、貼合
せなどの工程で基板を洗浄する方法の改良、とくに基板
上に樹脂を塗布する前の基板洗浄の改良に関する。
方法および製造装置に関し、スパッタ、樹脂塗布、貼合
せなどの工程で基板を洗浄する方法の改良、とくに基板
上に樹脂を塗布する前の基板洗浄の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、基板上に光学的に記録再
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
生可能な情報記録部を設け、文書やデータ等のファイル
用ディスクとして用いられている。光記録媒体を高速で
回転させながら、１μｍ程度に絞り込んだレーザ光を照
射し、焦点調整および位置検出を行いながら、記録層か
らデータを読み出したり記録層にデータを記録したりし
ている。
【０００３】この記録層を、レーザ光により結晶とアモ
ルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成し、
オーバライト記録まで可能とした相変化型光記録媒体も
既に知られている。このような光記録媒体においては、
成形された基板上に、あるいは基板上に記録層等の所定
の層を形成した後それらの層の上に、基板自身やその上
に形成された層を保護するために、一般に樹脂層が設け
られる。たとえば紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照
射してハードコート層あるいはオーバーコート層を形成
している。
ルファスとの可逆変化が可能な特定の合金から構成し、
オーバライト記録まで可能とした相変化型光記録媒体も
既に知られている。このような光記録媒体においては、
成形された基板上に、あるいは基板上に記録層等の所定
の層を形成した後それらの層の上に、基板自身やその上
に形成された層を保護するために、一般に樹脂層が設け
られる。たとえば紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を照
射してハードコート層あるいはオーバーコート層を形成
している。
【０００４】また、このような樹脂の塗布に際しては、
塵埃等の異物が巻き込まれないように、通常、樹脂塗布
前に基板の少なくとも樹脂塗布面を洗浄している。スパ
ッタ、貼合せなどの工程でも必要に応じて同様の基板洗
浄が行われている。従来の洗浄は、基板に傷を付けない
ように、エアブローにより基板上の異物を吹き飛ばす方
法によっていた。
塵埃等の異物が巻き込まれないように、通常、樹脂塗布
前に基板の少なくとも樹脂塗布面を洗浄している。スパ
ッタ、貼合せなどの工程でも必要に応じて同様の基板洗
浄が行われている。従来の洗浄は、基板に傷を付けない
ように、エアブローにより基板上の異物を吹き飛ばす方
法によっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板洗浄方法は気体ブローによる方法であったため、舞
い上がった異物が基板に再付着したり、周囲に異物が付
着したり、またその異物が基板に再付着したりすること
があり、洗浄効果が必ずしも十分ではなかった。
基板洗浄方法は気体ブローによる方法であったため、舞
い上がった異物が基板に再付着したり、周囲に異物が付
着したり、またその異物が基板に再付着したりすること
があり、洗浄効果が必ずしも十分ではなかった。
【０００６】本発明の課題は、基板の洗浄効果を高め、
異物混入の少ない良好な品質の光記録媒体を提供するこ
とにある。
異物混入の少ない良好な品質の光記録媒体を提供するこ
とにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体の製造方法は、光記録媒体用の
基板をエア吸引により洗浄することを特徴とする方法か
らなる。
に、本発明の光記録媒体の製造方法は、光記録媒体用の
基板をエア吸引により洗浄することを特徴とする方法か
らなる。
【０００８】また、本発明に係る光記録媒体の製造方法
は、光記録媒体用の基板をイオン化エア吹出とエア吸引
とを同時に行いながら洗浄することを特徴とする方法か
らなる。
は、光記録媒体用の基板をイオン化エア吹出とエア吸引
とを同時に行いながら洗浄することを特徴とする方法か
らなる。
【０００９】また、本発明に係る光記録媒体の製造装置
は、光記録媒体用基板の洗浄すべき面に対向させて設け
られた、異物除去用のエア吸引手段を有することを特徴
とするものからなる。
は、光記録媒体用基板の洗浄すべき面に対向させて設け
られた、異物除去用のエア吸引手段を有することを特徴
とするものからなる。
【００１０】さらに、本発明に係る光記録媒体の製造装
置は、光記録媒体用基板の洗浄すべき面に対向させて設
けられた、異物除去用の互いに隣接するイオン化エア吹
出手段とエア吸引手段とを有することを特徴とするもの
からなる。
置は、光記録媒体用基板の洗浄すべき面に対向させて設
けられた、異物除去用の互いに隣接するイオン化エア吹
出手段とエア吸引手段とを有することを特徴とするもの
からなる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態について、図面を参照して説明する。図１は、本発
明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装置を示してお
り、とくにその基板洗浄装置を示している。図におい
て、１は基板を示している。この洗浄工程における基板
１は、例えば基板用樹脂の射出成形等により成形された
後の状態のもの、あるいは、基板の情報記録面に誘電体
層、記録層、反射冷却層等の層が形成された後の状態の
ものである。成形直後のものは、基板の反記録情報面側
にハードコート層を設けるので、少なくともこの面が樹
脂塗布前の洗浄対象面となる。情報記録面に各層を形成
した後の基板にあっては、これら各層を保護するための
オーバーコート層を設けるので、少なくともこの面が樹
脂塗布前の洗浄対象面となる。もちろん、スパッタ工程
や２枚の基板を貼り合わせる工程など、他の必要とされ
る箇所に用いてもよいことは言うまでもない。
形態について、図面を参照して説明する。図１は、本発
明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装置を示してお
り、とくにその基板洗浄装置を示している。図におい
て、１は基板を示している。この洗浄工程における基板
１は、例えば基板用樹脂の射出成形等により成形された
後の状態のもの、あるいは、基板の情報記録面に誘電体
層、記録層、反射冷却層等の層が形成された後の状態の
ものである。成形直後のものは、基板の反記録情報面側
にハードコート層を設けるので、少なくともこの面が樹
脂塗布前の洗浄対象面となる。情報記録面に各層を形成
した後の基板にあっては、これら各層を保護するための
オーバーコート層を設けるので、少なくともこの面が樹
脂塗布前の洗浄対象面となる。もちろん、スパッタ工程
や２枚の基板を貼り合わせる工程など、他の必要とされ
る箇所に用いてもよいことは言うまでもない。
【００１２】基板１の、ハードコート層やオーバーコー
ト層を形成するための樹脂を塗布すべき面１ａに対向さ
せて、異物除去用のエア吸引手段２が設けられる。この
エア吸収手段２は、基板洗浄時に基板１に近接させれば
よく、基板１に接触または非接触の状態で、図示を省略
した適当な吸引または減圧手段により、吸引口２ａから
エアを吸引する。このとき、基板１は回転されながらエ
ア吸引が行われるが、このエア吸引により、基板１の面
上に存在していた異物は、吹き飛ばされたり舞い上がっ
たりすることなく、吸引除去される。
ト層を形成するための樹脂を塗布すべき面１ａに対向さ
せて、異物除去用のエア吸引手段２が設けられる。この
エア吸収手段２は、基板洗浄時に基板１に近接させれば
よく、基板１に接触または非接触の状態で、図示を省略
した適当な吸引または減圧手段により、吸引口２ａから
エアを吸引する。このとき、基板１は回転されながらエ
ア吸引が行われるが、このエア吸引により、基板１の面
上に存在していた異物は、吹き飛ばされたり舞い上がっ
たりすることなく、吸引除去される。
【００１３】また、エア吸引手段２は、基板１の径方向
に移動され、回転中の基板１の必要な面積が隅なく洗浄
される。
に移動され、回転中の基板１の必要な面積が隅なく洗浄
される。
【００１４】吸引口２ａの形状としては特に限定され
ず、丸孔状、角孔状、スリット状もののいずれであって
もよい。また、エア吸引手段２は、基板１に対し非接触
の状態に保持することが好ましいが、接触させてもよ
い。接触させる場合には、接触部はディスク基板表面を
傷つけない程度の柔軟性を有する繊維状物質、または弾
性を有するゴム状物質、またはスポンジ状物質とするこ
とが好ましい。また、静電気等によって異物が付着しな
いように、上記物質は制電性を有するものが好ましい。
ず、丸孔状、角孔状、スリット状もののいずれであって
もよい。また、エア吸引手段２は、基板１に対し非接触
の状態に保持することが好ましいが、接触させてもよ
い。接触させる場合には、接触部はディスク基板表面を
傷つけない程度の柔軟性を有する繊維状物質、または弾
性を有するゴム状物質、またはスポンジ状物質とするこ
とが好ましい。また、静電気等によって異物が付着しな
いように、上記物質は制電性を有するものが好ましい。
【００１５】上記の如く洗浄された基板面上に、樹脂が
塗布される。樹脂の塗布方法は特に限定されないが、た
とえば図２に示すようなスピンコート法を使用できる。
すなわち、基板１を回転させながら、所定の樹脂塗布手
段３からの樹脂を塗布する方法である。樹脂の種類も特
に限定されないが、基板保護の目的からは硬化後の硬度
の高いものが望ましく、たとえば紫外線硬化樹脂を用い
ることができる。
塗布される。樹脂の塗布方法は特に限定されないが、た
とえば図２に示すようなスピンコート法を使用できる。
すなわち、基板１を回転させながら、所定の樹脂塗布手
段３からの樹脂を塗布する方法である。樹脂の種類も特
に限定されないが、基板保護の目的からは硬化後の硬度
の高いものが望ましく、たとえば紫外線硬化樹脂を用い
ることができる。
【００１６】紫外線硬化樹脂を用いた場合には、図３に
示すように、樹脂塗布後に紫外線光源５から所定強度の
紫外線を照射することにより、樹脂を硬化させることが
できる。
示すように、樹脂塗布後に紫外線光源５から所定強度の
紫外線を照射することにより、樹脂を硬化させることが
できる。
【００１７】前述のようなエア吸引手段２を用いる洗浄
方法においては、従来方法のようなエアブローがなく、
異物が吹き飛ばされたり舞い上がったりすることがない
ので、そのような異物が周囲に付着したり基板１に再付
着することがない。したがって、洗浄後の基板１は異物
の極めて少ない状態とされ、その上に塗布される樹脂中
に混入する異物も極めて少なく抑えられる。
方法においては、従来方法のようなエアブローがなく、
異物が吹き飛ばされたり舞い上がったりすることがない
ので、そのような異物が周囲に付着したり基板１に再付
着することがない。したがって、洗浄後の基板１は異物
の極めて少ない状態とされ、その上に塗布される樹脂中
に混入する異物も極めて少なく抑えられる。
【００１８】図４は、本発明の別の態様に係る基板洗浄
装置を示している。本実施態様においては、基板１の洗
浄すべき面１ａに対向させて、イオン化吹出手段１１と
エア吸引手段１２とが設けられている。これら両手段１
１、１２は互いに隣接させて対向配置されており、イオ
ン化エア吹出手段１１の吹出口１１ａから吹き出された
エアをその周辺のエアとともにエア吸引手段１２の吸引
口１２ａから吸引できるようになっている。
装置を示している。本実施態様においては、基板１の洗
浄すべき面１ａに対向させて、イオン化吹出手段１１と
エア吸引手段１２とが設けられている。これら両手段１
１、１２は互いに隣接させて対向配置されており、イオ
ン化エア吹出手段１１の吹出口１１ａから吹き出された
エアをその周辺のエアとともにエア吸引手段１２の吸引
口１２ａから吸引できるようになっている。
【００１９】本実施態様では、吹出口１１ａおよび吸引
口１２ａの形状をスリット状（とくにナイフスリット
状）に形成することが好ましく、それによって、異物除
去に対し、効果的なエア吹出および吸引を行うことがで
きる。
口１２ａの形状をスリット状（とくにナイフスリット
状）に形成することが好ましく、それによって、異物除
去に対し、効果的なエア吹出および吸引を行うことがで
きる。
【００２０】また、本実施態様においても、イオン化エ
ア吹出手段１１およびエア吸引手段１２を基板１に対し
て非接触状態に保つことが好ましいが、接触させてもよ
い。接触させる場合には、前述の実施態様と同様の材質
とすることが好ましい。
ア吹出手段１１およびエア吸引手段１２を基板１に対し
て非接触状態に保つことが好ましいが、接触させてもよ
い。接触させる場合には、前述の実施態様と同様の材質
とすることが好ましい。
【００２１】上記イオン化エア吹出手段１１とエア吸引
手段１２が、対向位置関係を保ちながら、基板１の径方
向に移動され、対象面全面にわたって洗浄が行われる。
なお、イオン化エア吹出手段１１とエア吸引手段１２の
基板回転方向における前後位置関係は、図４に示した配
置と逆であってもよい。
手段１２が、対向位置関係を保ちながら、基板１の径方
向に移動され、対象面全面にわたって洗浄が行われる。
なお、イオン化エア吹出手段１１とエア吸引手段１２の
基板回転方向における前後位置関係は、図４に示した配
置と逆であってもよい。
【００２２】上記のような方法では、イオン化エア吹出
手段１１からの吹出エアにより基板１上に存在していた
異物は吹き飛ばされることになるが、吹き飛ばされた異
物はエアとともにすぐにエア吸引手段１２によって吸引
されるので、舞い上がったりすることはなく、効率よく
除去される。また、吹き出されるのはイオン化されたエ
アであるから、基板１上に付着していた異物の基板１と
の付着力を弱めて異物を効果的に基板１から剥離できる
とともに、たとえ吸引されずに浮遊する異物が生じたと
しても、その異物は基板１に再付着しにくくなる。
手段１１からの吹出エアにより基板１上に存在していた
異物は吹き飛ばされることになるが、吹き飛ばされた異
物はエアとともにすぐにエア吸引手段１２によって吸引
されるので、舞い上がったりすることはなく、効率よく
除去される。また、吹き出されるのはイオン化されたエ
アであるから、基板１上に付着していた異物の基板１と
の付着力を弱めて異物を効果的に基板１から剥離できる
とともに、たとえ吸引されずに浮遊する異物が生じたと
しても、その異物は基板１に再付着しにくくなる。
【００２３】なおここで、具体的な実施例の説明に入る
前に、本発明に係る光記録媒体の構成について説明して
おく。本発明に係る光記録媒体の形式としては特に限定
されないが、たとえば相変化型光記録媒体を対象とする
ことができる。相変化型光記録媒体は、通常透明な基板
上に記録層を設けたものであり、記録層構成に、レーザ
光により結晶とアモルファスとの可逆変化が可能な特定
の金属が用いられている。基板上の層構成としては、た
とえば、透明な基板上に、少なくとも第１保護層／記録
層／第２保護層／反射層を有する層構成とすることがで
きる。これらの各層形成後に、前述のオーバーコート層
を設けることができる。また、各層形成前の基板の反記
録面側に、前述のハードコート層を設けることができ
る。
前に、本発明に係る光記録媒体の構成について説明して
おく。本発明に係る光記録媒体の形式としては特に限定
されないが、たとえば相変化型光記録媒体を対象とする
ことができる。相変化型光記録媒体は、通常透明な基板
上に記録層を設けたものであり、記録層構成に、レーザ
光により結晶とアモルファスとの可逆変化が可能な特定
の金属が用いられている。基板上の層構成としては、た
とえば、透明な基板上に、少なくとも第１保護層／記録
層／第２保護層／反射層を有する層構成とすることがで
きる。これらの各層形成後に、前述のオーバーコート層
を設けることができる。また、各層形成前の基板の反記
録面側に、前述のハードコート層を設けることができ
る。
【００２４】相変化型光記録媒体の記録層には、たとえ
ば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合金、およびこれら
を主成分とする合金が用いられる。とくにＴｅ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金
が、記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり難く、さ
らに熱安定性が優れているので好ましい。
ば、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−
Ｐｄ−Ｎｂ合金、Ｎｂ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｐｔ−
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｎｉ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｃｏ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、
Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ合金、Ｉｎ−Ｓｅ合金、およびこれら
を主成分とする合金が用いられる。とくにＴｅ−Ｇｅ−
Ｓｂ−Ｐｄ合金、Ｔｅ−Ｇｅ−Ｓｂ−Ｐｄ−Ｎｂ合金
が、記録消去再生を繰り返しても劣化が起こり難く、さ
らに熱安定性が優れているので好ましい。
【００２５】また、これらの組成は次式で表される範囲
にあることが熱安定性と繰返し安定性に優れている点か
ら好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-X) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）
y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また、
ｘ、ｙ、ｚ及び数字は各元素の原子数（各元素のモル
数）を表す。特にパラジウム、ニオブについては少なく
とも一種を含むことが好ましい。この場合ｚは０．００
０５以上であることが必要である。これら合金を、基板
上に設けられた第１保護層上に、たとえばスパッタリン
グで膜付けし、記録層が形成される。
にあることが熱安定性と繰返し安定性に優れている点か
ら好ましい。 Ｍz （Ｓｂx Ｔｅ(1-X) ）1-y-z （Ｇｅ0.5 Ｔｅ0.5 ）
y ０．３５≦ｘ≦０．５ ０．２０≦ｙ≦０．５ ０≦ｚ≦０．０５ ここでＭはパラジウム、ニオブ、白金、銀、金、コバル
トから選ばれる少なくとも一種の金属を表す。また、
ｘ、ｙ、ｚ及び数字は各元素の原子数（各元素のモル
数）を表す。特にパラジウム、ニオブについては少なく
とも一種を含むことが好ましい。この場合ｚは０．００
０５以上であることが必要である。これら合金を、基板
上に設けられた第１保護層上に、たとえばスパッタリン
グで膜付けし、記録層が形成される。
【００２６】第１保護層および第２保護層は、記録層を
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
機械的に保護するとともに、基板や記録層が記録による
熱によって変形したり記録消去再生特性が劣化したりす
るのを防止したり、記録層に耐湿熱性や耐酸化性を持た
せる役割を果たす。このような保護層としてはＺｎＳ、
ＳｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ5 、ＩＴＯ、ＺｒＣ、ＴｉＣ、Ｍｇ
Ｆ2 などの無機膜やそれらの混合膜が使用できる。とく
にＺｎＳとＳｉＯ2 およびＺｎＳとＭｇＦ2 の混合膜は
耐湿熱性に優れており、さらに記録消去再生時の記録層
の劣化を抑制するので好ましい。
【００２７】反射層としては、金属または、金属酸化
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
物、金属窒化物、金属炭化物などと金属との混合物、例
えばＺｒ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｄ、Ｈｆなどの金属やこれらの合金、これらとＺｒ酸化
物、Ｓｉ酸化物、Ｓｉ窒化物、Ａｌ酸化物などを混合し
たものを使用できる。特にＡｌ、Ａｕ、Ｔａやそれらの
合金やＡｌ、Ｈｆ、Ｐｄの合金などは膜の形成が容易で
あり好ましい。
【００２８】基板上に、第１保護層、記録層、第２保護
層、反射層を形成する方法としては、真空雰囲気中での
薄膜形成方法、たとえばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法などを用いることができ
る。特に組成、膜厚のコントロールが容易なことからス
パッタリング法が好ましい。
層、反射層を形成する方法としては、真空雰囲気中での
薄膜形成方法、たとえばスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法などを用いることができ
る。特に組成、膜厚のコントロールが容易なことからス
パッタリング法が好ましい。
【００２９】基板としては、基板側から記録再生を行う
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
ためにはレーザ光が良好に透過する材料を用いることが
好ましく、たとえばポリメチルメタアクリレート樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、エポキシ
樹脂などの有機高分子樹脂、それらの混合物、共重合体
物などやガラスなどを用いることができる。中でも、昨
今はポリカーボネート樹脂が主流となっている。
【００３０】基板は、円盤体に成形されるものである。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
成形方法は特に限定しないが、たとえば射出成形による
ことができ、金型内に、表面に所定のグルーブやピット
雄型が形成されたスタンパを装着し、スタンパからの転
写により、表面に所望のトラックが形成された基板を形
成できる。
【００３１】基板の大きさは、光記録媒体ドライブ装置
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍや１３０ｍｍの基板に成形するこ
となどが規定される。
からの要求規格に合わせる必要がある。たとえば、直径
９０ｍｍや１２０ｍｍや１３０ｍｍの基板に成形するこ
となどが規定される。
【００３２】
【実施例】以下に、本発明の具体的な実施例について説
明する。 実施例１〜３、比較例１ 図４に示した装置で直径１３０ｍｍの光ディスク基板を
用い、基板洗浄の方法として、エア吸引のみを非接触方
式で行う場合（実施例１）、接触方式で行う場合（実施
例２）、エア吹出とともにエア吸引（非接触方式）を行
う場合（実施例３）、および従来方法と同様エア吹出の
みを行う場合（比較例１）について試験した。
明する。 実施例１〜３、比較例１ 図４に示した装置で直径１３０ｍｍの光ディスク基板を
用い、基板洗浄の方法として、エア吸引のみを非接触方
式で行う場合（実施例１）、接触方式で行う場合（実施
例２）、エア吹出とともにエア吸引（非接触方式）を行
う場合（実施例３）、および従来方法と同様エア吹出の
みを行う場合（比較例１）について試験した。
【００３３】これらの洗浄効果を、洗浄後に紫外線硬化
樹脂をスピンコート法で塗布し、塗布後に硬化させて、
得られたディスク基板をシャドウグラフで観察し、基板
表面に混入した異物の数を測定した。結果を表１に示
す。
樹脂をスピンコート法で塗布し、塗布後に硬化させて、
得られたディスク基板をシャドウグラフで観察し、基板
表面に混入した異物の数を測定した。結果を表１に示
す。
【００３４】なお、試験条件は以下の通りである。 （１）エア吸引の風速 ： １９ｍ／秒 （２）エア吹出の風速 ： ２０ｍ／秒 （３）洗浄後の硬化膜の作成 紫外線硬化性保護膜の粘度： ２０ｃｐｓ（２５℃） 吐出量 ： ２．３ｇ 振り切り速度 ： ３０００ｒｐｍ 振り切り時間 ： ２秒 加速時間 ： ０．６秒 紫外線光量 ： ５００ｍｊ／ｃｍ2
【００３５】
【表１】
【００３６】表１から明らかなように、本発明方法（実
施例１〜３）によれば、従来法（比較例１）に比べ、基
板表面の混入異物を格段に減少させることができた。
施例１〜３）によれば、従来法（比較例１）に比べ、基
板表面の混入異物を格段に減少させることができた。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光記録媒
体の製造方法および製造装置によれば、基板の洗浄にお
いて、基板上の異物を極めて効率よく除去することがで
き、異物混入の少ない良好な品質の光記録媒体を得るこ
とができる。
体の製造方法および製造装置によれば、基板の洗浄にお
いて、基板上の異物を極めて効率よく除去することがで
き、異物混入の少ない良好な品質の光記録媒体を得るこ
とができる。
【図１】本発明の一実施態様に係る光記録媒体の製造装
置の概略構成図である。
置の概略構成図である。
【図２】基板洗浄後の樹脂塗布の様子を示す概略構成図
である。
である。
【図３】樹脂塗布後の樹脂硬化の様子を示す概略構成図
である。
である。
【図４】本発明の別の実施態様に係る光記録媒体の製造
装置の概略構成図である。
装置の概略構成図である。
１ 基板 １ａ 洗浄対象面 ２、１２ エア吸引手段 ２ａ、１２ａ 吸引口 ３ 樹脂塗布手段 ４ 樹脂 ５ 紫外線光源 １１ イオン化エア吹出手段 １１ａ 吹出口
Claims (6)
- 【請求項１】 光記録媒体用の基板をエア吸引により洗
浄することを特徴とする、光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 光記録媒体用の基板をイオン化エア吹出
とエア吸引とを同時に行いながら洗浄することを特徴と
する、光記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 前記基板を回転させながら洗浄する、請
求項１または２の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 光記録媒体用基板の洗浄すべき面に対向
させて設けられた、異物除去用のエア吸引手段を有する
ことを特徴とする、光記録媒体の製造装置。 - 【請求項５】 光記録媒体用基板の洗浄すべき面に対向
させて設けられた、異物除去用の互いに隣接するイオン
化エア吹出手段とエア吸引手段とを有することを特徴と
する、光記録媒体の製造装置。 - 【請求項６】 前記エア吸引手段または前記イオン化エ
ア吹出手段およびエア吸引手段が、前記基板の径方向に
移動可能に設けられている、請求項４または５の光記録
媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26206495A JPH0981974A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | 光記録媒体の製造方法および製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26206495A JPH0981974A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | 光記録媒体の製造方法および製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0981974A true JPH0981974A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=17370535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26206495A Pending JPH0981974A (ja) | 1995-09-18 | 1995-09-18 | 光記録媒体の製造方法および製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0981974A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012046364A1 (ja) * | 2010-10-07 | 2012-04-12 | パナソニック株式会社 | 光記録媒体の製造装置及び製造方法 |
-
1995
- 1995-09-18 JP JP26206495A patent/JPH0981974A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012046364A1 (ja) * | 2010-10-07 | 2012-04-12 | パナソニック株式会社 | 光記録媒体の製造装置及び製造方法 |
| US9324357B2 (en) | 2010-10-07 | 2016-04-26 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Optical recording medium production device and production method |
| US10049696B2 (en) | 2010-10-07 | 2018-08-14 | Panasonic Intellectual Property Management Co. Ltd. | Optical recording medium production device and production method |
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