JPH0785500A

JPH0785500A - 光ディスク用基板

Info

Publication number: JPH0785500A
Application number: JP5229230A
Authority: JP
Inventors: Tomoaki Hara; 智章原
Original assignee: NKK Corp; Nippon Kokan Ltd; Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp; JFE Engineering Corp
Priority date: 1993-09-14
Filing date: 1993-09-14
Publication date: 1995-03-31

Abstract

(57)【要約】【構成】側面に溝を有する光ディスク用基板。側面の
溝が直線状である前記光ディスク用基板。前記側面の溝
が円弧状である前記光ディスク用基板。側面の溝が、記
録層を有する面を上とした場合に左上がりの傾きを有す
る前記光ディスク用基板。【効果】基板側面の摩擦係数が増大することによりハ
ンドリング時に落下等の事故が起こりにくくなる。ま
た、保護層としての樹脂をスピンコート法で塗布する
際、側面の溝が案内溝として働き樹脂のハケを容易にす
る効果ならびにディスク回転時に側面の溝が周囲の空気
を攪拌することによって発生する下降気流がディスク外
周部の余分な樹脂を排除する効果によってディスク外周
部において保護層が厚くなりすぎるという問題を防止す
ることが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＣＤ、ＷＯ、光磁気デ
ィスク等の光ディスクの基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光ディスク用基板としてはポリカ
ーボネート、ＰＭＭＡ、ガラス等の材質を円盤状に成型
し、この面上に記録情報としての凹凸又は記録情報を書
き込むための案内溝を有するものが使用されており、こ
の加工が施された面上に記録膜、保護膜又は反射膜を成
膜することにより製品を得ていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の基板は、その側面に特に凹凸のない円滑な形状を
有し、側面の摩擦が小さいため、特にＣＤ、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ等ユーザーが直接触れる光ディスクでは手が滑って落
下等の事故を生じ易いという問題があった。一方、光デ
ィスクの記録膜上に樹脂からなる保護層をスピンコート
法にて塗布すると、ディスク外周部の樹脂層が厚くな
り、特に光磁気ディスクの場合、記録膜上に浮上磁気ヘ
ッドを配する磁界変調方式の光磁気ディスクドライブを
用いた記録の際に、浮上ヘッドがコーティング面と衝突
しやすく、かつ記録膜面における実効的な磁場がディス
ク内周部と外周部とで変化するという問題があった。

【０００４】本発明が解決しようとする課題は、安定し
た取扱いが可能で、情報の安定した記録が可能な光ディ
スクを提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、側面に溝を有することを特徴とする光ディ
スク用基板を提供する。

【０００６】本発明で使用する光ディスク用基板は、例
えば、基板の側面に対応する位置に所望の溝を形成し、
基板面に対応する位置に案内溝を形成した金型に、ポリ
カーボネート、ポリメチルメタクリレート、アモルファ
スポリオレフィンの如き成形性に優れた樹脂を用いて射
出成形する方法、或いは、フォトポリマー法により、ガ
ラス又は樹脂の平板上に案内溝を形成すると共に、側面
に所望の溝を形成する方法が挙げられる。

【０００７】光ディスクは、通常、案内溝を有する光デ
ィスク用基板上に、干渉膜、記録膜、反射膜を構成単位
とし、それらの組み合わせにより形成される記録層を有
する。

【０００８】干渉膜には透明性、屈折率の高い無機誘電
体膜が用いられる。材質としては、例えば、ＳｉＮ_x、
ＳｉＯ_x、ＡｌＳｉＯＮ、ＡｌＳｉＮ、ＡｌＮ、ＡｌＴ
ｉＮ、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｎＳ等が挙げられる。これら干渉膜
の屈折率は、１．８〜２．８の範囲が好ましく、吸収係
数は０〜０．１の範囲が好ましい。

【０００９】記録膜を構成する材質としては、例えば、
追記型光ディスクでは、Ｔｅ、ＳｎＳｅ等のカルコゲナ
イト系合金、或いはシアニン系等の有機色素、光磁気デ
ィスクでは、ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ等の遷移
金属と希土類金属の合金、相変化型光ディスクでは、Ｔ
ｅＯ_x、ＩｎＳｅ、ＳｎＳｂ等のカルコゲナイト系合金
等が挙げられる。

【００１０】反射膜には反射率の高い金属膜或いは合金
膜を使用する。材質は、例えば、金属膜としては、Ａ
ｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等、合金膜としてはＡｌ−Ｔｉ、
Ａｌ−Ｃｒ等が挙げられる。

【００１１】干渉膜、金属系記録膜、反射膜は、スパッ
タリング、イオンプレーディング等の物理蒸着法（ＰＶ
Ｄ）、プラズマＣＶＤ等の化学蒸着法（ＣＶＤ）等によ
って形成し、有機色素系記録膜は溶液をスピンコート
法、ロールコート法等により塗布した後、溶媒を除去し
て形成する。

【００１２】更に、反射膜の上に保護コート層を、基板
の光磁気記録層の反対側の面にハードコート層を各々設
けることもできる。

【００１３】保護コート層の材料には有機系、無機系の
双方が用いられている。有機系の保護コート層を形成す
る場合には、ディッピング法、スピンコート法、ロール
コーター法、蒸着法等の手法が用いられている。一方、
無機系の保護コート層を形成する場合には、スパッタリ
ング法や蒸着法、含浸法等の手法が用いられる。

【００１４】これらの保護コート層の形成方法のうち、
紫外線硬化樹脂を用いたスピンコート法は簡便で迅速な
方法であるので好ましい。この方法は、ディスペンサー
を用いて基板上に紫外線硬化樹脂を吐出し、光磁気記録
媒体を高速回転して遠心力により樹脂を広げて塗布を行
なう。塗布された樹脂は、その後、紫外線照射によって
硬化させる。また、スピンコート法は、紫外線硬化樹脂
以外の樹脂に対しても好適に用いることができる。いず
れの場合においても、保護コート層に用いる樹脂は、硬
化後に鉛筆硬度でＨ以上の硬度を有するものが好まし
い。

【００１５】プラスチック製基板は、耐擦傷性が不十分
であり、このような欠点を克服するために、記録層とは
反対側の面に硬度の高い透明材質を用いてハードコート
層を設けることが望ましい。ハードコートの手段として
はスピンコート法、２Ｐ法等により多官能ウレタンアク
リレート及び光重合開始剤を含有する紫外線硬化樹脂等
の有機高分子を塗布、硬化する方法、析出法やスパッタ
リング法等により二酸化珪素等のセラミックハードコー
ト層を設ける方法が挙げられるが、セラミック製のハー
ドコート層は、生産性が悪いため、大量生産には不向き
であるので、紫外線硬化樹脂を用いたハードコート層が
好ましい。

【００１６】このようにして製膜した光ディスクは、単
体で使用しても良く、２枚を貼り合わせて使用しても良
い。

【００１７】

【作用】本発明の光ディスク用基板によれば、光ディス
ク側面の摩擦係数が増大し、滑りにくくなるため、側面
を持って取り扱う際のハンドリングエラーを低減させる
ことが可能である。特に、請求項４に記載の光ディスク
用基板の場合、グルーブを有する面が上となる状態で時
計回りに回転させることにより、ディスク外周部に下降
気流が発生する。これは側面の溝が周囲の空気を攪拌す
る結果、気流が生じ、この気流がディスク側面の溝に沿
って周囲の空気が上から下に流れることによるものであ
る。このため、本発明の光ディスク用基板、特に請求項
４に記載の光ディスク用基板上に形成された記録層上
に、活性光線硬化型樹脂組成物を用いてスピンコート法
により保護層を形成する際、上述したディスク外周部に
発生する下降気流の効果と共に外周側面の溝が余分な樹
脂組成物を排出するための案内溝として働く効果とによ
り、ディスク外周部における保護コート層形成時の樹脂
のハケを改善し、保護コート層がディスク外周部におい
て内周部よりも厚くなることを防止することができる。

【００１８】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。

【００１９】〔実施例１〕図１に示したように、直径が
８６mmでありグルーブを有する面を上とした場合に左上
がりの傾きを有する幅０．９mm、深さ０．５mmの直線状
の溝を０．９mm間隔で基板の側面に設けた光ディスク用
ポリカーボネート基板を射出成型法により作成した。

【００２０】図１に示したように、光ディスク用基板を
直立させた状態で、側面をシリコンゴムからなる平板で
左右から挟み持ち上げ、基板を落下させることなく持ち
上げることができる最小押しつけ圧を測定した結果、１
８グラム重であった。

【００２１】次に、この光ディスク用基板のグルーブを
有する面にスパッタリング法により光磁気記録層が形成
した後、図２に示したように、この基板を光磁気記録層
を上にしてスピンコーターにセットし、ディスクを６０
ｒｐｍの速度で回転させながら、大日本インキ化学工業
(株)製の保護コート剤「ダイキュアクリアＥＸ−９１
１」をディスク中心から２０mmの位置に同心円状に塗布
した。このディスクを２，０００ｒｐｍの回転速度で３
秒間回転せしめることにより、保護コート剤を基板全面
に広げ、更に基板周囲を窒素雰囲気として紫外線を照射
することにより保護コート剤を硬化せしめて保護コート
層を形成した。

【００２２】得られた保護コート層の厚さを測定し、そ
の結果を図３に示した。図３に示した結果から、半径位
置２４mmの部分とディスク最外周部における保護コート
層の厚さの差は３μｍであった。

【００２３】〔実施例２〕図４に示したように、直径が
８６mmでありグルーブを有する面を上とした場合に左上
がりの傾きを有する幅１．４mm、深さ０．７mmの直線状
の溝を１．３mm間隔で基板の側面に設けた光ディスク用
ポリカーボネート基板を射出成型法により作成した。

【００２４】図４に示したように、光ディスク用基板を
直立させた状態で、側面をシリコンゴムからなる平板で
左右から挟み持ち上げ、基板を落下させることなく持ち
上げることができる最小押しつけ圧を測定した結果、２
０グラム重であった。

【００２５】次に、実施例１と同様にして、光磁気記録
層及び保護コート層を形成し、保護層の厚さを測定した
結果を図３に示した。図３に示した結果から、半径位置
２４mmの部分とディスク最外周部における保護コート層
の厚さの差は２μｍであった。

【００２６】〔比較例〕射出成型法により側面に溝を有
しない直径８６mmの光ディスク用ポリカーボネート基板
を作成した。

【００２７】この光ディスク用基板について、実施例１
と同様にして、シリコンゴムからなる平板で側面を支持
する形で持ち上げ、基板を落下させることなく持ち上げ
ることができる最小押しつけ圧を測定した結果、４１グ
ラム重であった。

【００２８】次に、実施例１と同様にして、光磁気記録
層及び保護コート層を形成し、保護層の厚さを測定した
結果を図３に示した。図３に示した結果から、半径位置
２４mmの部分とディスク最外周部における保護コート層
の厚さの差は１３μｍであった。

【００２９】

【発明の効果】本発明の光ディスク用基板によれば、ハ
ンドリングの安定性が向上する。更に、本発明の光ディ
スク用基板上に形成された記録層上に、活性光線硬化型
樹脂組成物を用いてスピンコート法により保護層を形成
する際、ディスク外周部の樹脂の盛り上がりを抑止でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１で使用した光ディスク用基板
の上面図及び側面図である。

【符号の説明】

１本発明による実施例１の基板の上面２本発明による実施例１の基板の側面３基板側面に設けられた溝の凹部４基板側面に設けられた溝の凸部

【図２】保護コート層を形成するスピンコート法に用い
る装置の断面図である。

【図３】実施例１、実施例２及び比較例で得た光ディス
クに関する光ディスクの半径方向位置と形成された保護
層の厚さとの関係を示す図表である。

【符号の説明】

１本発明による実施例１の基板２紫外線硬化樹脂３基板側面に設けられた溝の凹部４基板側面に設けられた溝の凸部５ネジ６回転支持台７紫外線

【図４】本発明の実施例２で使用した光ディスク用基板
の上面図及び側面図である。

【符号の説明】

１本発明による実施例２の基板の上面２本発明による実施例２の基板の側面３基板側面に設けられた溝の凹部４基板側面に設けられた溝の凸部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】側面に溝を有することを特徴とする光デ
ィスク用基板。
【請求項２】側面の溝が直線状であることを特徴とす
る請求項１記載の光ディスク用基板。
【請求項３】側面の溝が円弧状であることを特徴とす
る請求項１記載の光ディスク用基板。
【請求項４】側面の溝が、記録層を有する面を上とし
た場合に左上がりの傾きを有することを特徴とする請求
項１記載の光ディスク用基板。