JPH10249264A - 保護膜形成装置及び保護膜形成方法 - Google Patents

保護膜形成装置及び保護膜形成方法

Info

Publication number
JPH10249264A
JPH10249264A JP9058034A JP5803497A JPH10249264A JP H10249264 A JPH10249264 A JP H10249264A JP 9058034 A JP9058034 A JP 9058034A JP 5803497 A JP5803497 A JP 5803497A JP H10249264 A JPH10249264 A JP H10249264A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
disk
protective film
recording medium
disc
magneto
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9058034A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3918221B2 (ja
Inventor
Minoru Kikuchi
稔 菊地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP05803497A priority Critical patent/JP3918221B2/ja
Priority to US09/038,944 priority patent/US5980985A/en
Publication of JPH10249264A publication Critical patent/JPH10249264A/ja
Priority to US09/404,582 priority patent/US6312781B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3918221B2 publication Critical patent/JP3918221B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • G11B23/0014—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form
    • G11B23/0021—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture record carriers not specifically of filamentary or web form discs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/90—Magnetic feature
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less

Landscapes

  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保護膜を所定の膜厚に形成するとともに、基
板の全体にわたって均一の膜厚で保護膜を形成する保護
膜形成装置及び保護膜形成方法を提案する。 【解決手段】 本発明にかかる保護膜形成装置６は、中
心穴を有する円盤状記録媒体２が載置され、円盤状記録
媒体２を回転させるターンテーブル７と、ターンテーブ
ル７の略中心に形成されている中心穴に挿入される中心
軸と、略中心部に上記中心軸が配設され、少なくとも円
盤状記録媒体の中心穴を被う円板部とからなる回転円板
８とを有する。また、保護膜形成方法は、円盤状記録媒
体２の中心穴よりも径の大きい円板部を有する回転円板
８によって、少なくとも円盤状記録媒体８の中心穴を覆
い、回転円板８の中心部に保護膜材料９を供給するとと
もに、当該保護膜材料９を円盤状記録媒体２及び回転円
板８を回転駆動して広げることにより、円盤状記録媒体
２上に保護膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、円盤状記録媒体上
に保護膜を形成する保護膜形成装置及び保護膜形成方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録方式は、磁性材料からなる記
録層を部分的にキュリー点または温度補償点以上に昇温
させることによって保磁力を小さくし、外部から記録磁
界を印加することによって記録層の磁化方向を変化させ
て情報信号の記録を行う方式である。この光磁気記録方
式は、光ファイリングシステムやコンピュータの外部記
憶装置、或いは音響情報、映像情報等の記録装置におい
て実用化が進められている。
【０００３】上記の光磁気記録方式によって記録が行わ
れる光磁気ディスクとしては、例えば、ポリカーボネー
トのようなプラスチックやガラス等からなる透明基板上
に磁性薄膜からなる記録層を形成した光磁気ディスクが
ある。この記録層は、情報信号が記録される磁性膜や、
誘電体膜、反射膜が積層されてなる。ここで、磁性膜と
しては、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有するととも
に、大きな磁気光学効果を有する、例えば希土類−遷移
金属合金非結晶薄膜等からなる磁性薄膜がある。記録層
の最上層に積層される反射膜上には、一般的に、記録層
の腐食防止や傷防止の目的で紫外線硬化樹脂等からなる
保護膜が形成されている。
【０００４】また、光磁気ディスクとしては、上述のよ
うな単板構成に限らず、２枚の光磁気ディスクの記録層
側或いは基板側を対向させて貼り合わせることにより一
体化した、両板構成の光磁気ディスクがある。この両板
構成の光磁気ディスクは、それぞれの光磁気ディスクの
記録層に対して独立の信号が記録されるので、単板構成
の光磁気ディスクと比較して記録容量が２倍になる。ま
た、この両板構成の光磁気ディスクは、貼り合わせ面に
対して対称の構造となっているので、単板構造の光磁気
ディスクと比較して、外部環境の温度や湿度等の変化に
対して基板の反り等の変形が生じにくいという利点があ
る。
【０００５】この光磁気ディスクに記録する光磁気記録
方式としては、大別して光を変調させて信号を記録する
光変調方式と、記録磁界を変調させて信号の記録を行う
磁界変調方式とがある。
【０００６】このうち、磁界変調方式は、信号を記録す
る際、光を照射した状態で記録磁界を高速で反転させる
ことにより磁性層に信号を記録する方式であり、オーバ
ーライトを容易に行うことが可能であるとともに、高記
録密度化、高速アクセス等が可能であるために、精力的
に研究が進められている。
【０００７】この磁界変調方式においては、信号の記録
再生時において、記録層に磁界を発生させる磁気ヘッド
によって磁界の印加を行う。この磁気ヘッドは、信号を
記録する際、高速で反転させる必要があるので、上記の
光変調方式のように強磁界を発生させることができな
い。
【０００８】ここで、磁気ヘッドによって光磁気ディス
クに印加される磁界の大きさは、光磁気ディスクと磁気
ヘッドとの距離に反比例する。すなわち、光磁気ディス
クに印加される磁界の大きさは、光磁気ディスクと磁気
ヘッドとの距離が大きくなるほど小さくなる。したがっ
て、このような磁気ヘッドにおいては、信号を記録する
際、光磁気ディスクとの距離を近接させる必要がある。
【０００９】そのため、単板構成の光磁気ディスクにお
いては、光磁気ディスクの一方面にレーザー光を照射す
る光学ピックアップ装置を配設し、光磁気ディスクの他
方面に磁気ヘッドを配設させて対処している。
【００１０】また、両板構成の光磁気ディスクを記録再
生する際には、光学ピックアップ装置と磁気ヘッドとを
一体化して、光磁気ディスクの両面から一体化した光学
ピックアップ装置及び磁気ヘッドを配設するようにして
いる。
【００１１】なお、この一体化した光学ピックアップ装
置及び磁気ヘッドは、レーザー光を基板を介さずに直接
記録層に照射させる。このため、光磁気ディスクを構成
する基板の材料は、透明材料に限定されず、不透明な基
板を使用することができる。したがって、この両板構造
の光磁気ディスクは、基板の材料として例えばＡｌを使
用することができ、基板の反りを防止することが可能で
あるという利点も備えている。
【００１２】上述のように、光磁気ディスクにおいて
は、単板構成、両板構成の光磁気ディスクがある。これ
らの光磁気ディスクには、記録層の腐食等を防止するた
めに保護膜が形成されている。この保護膜は、通常、ス
ピンコート法によって形成される。
【００１３】この保護膜を形成する際においては、図７
に示すように、先ず、保護膜が形成されるディスク基板
２０をターンテーブル上に載置し、スピンドルモータに
よって低速で回転させる。そして、紫外線硬化樹脂２１
をディスク基板２０の記録層の内周部２０ａに沿って円
環状に供給する。そして、ディスク基板２０を高速で回
転させることによる遠心力で紫外線硬化樹脂２１を外周
部にまで塗布し、ディスク基板２０の全面に紫外線硬化
樹脂２１を塗布する。なお、この保護膜の厚さは、後の
工程で紫外線が照射された後において十分な保護効果を
得るために、約１５μｍ程度に形成される。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ように、紫外線硬化樹脂２１がディスク基板２０の内周
部２０ａから供給されて形成される保護膜は、ディスク
基板２０の外周部になるほど膜厚が厚くなるという傾向
がある。
【００１５】このスピンコート法によって形成される保
護膜の膜厚は、紫外線硬化樹脂の粘度、光磁気ディスク
の回転速度、回転時間等の条件によって変化する。しか
し、保護膜は、上述のように、ディスク基板２０の内周
部２０ａから塗布して、回転速度、回転時間を変化させ
てディスク基板２０の全面に亘って均一の膜厚に塗布し
ようとしても、ディスク基板２０の外周部において内周
部２０ａより膜厚が大きくなってしまう。
【００１６】ここで、紫外線硬化樹脂の粘度を、５００
ｃｐｓ，１４０ｃｐｓ，３７ｃｐｓと変化させて保護膜
を形成したときの膜厚分布を図８に示す。ここで、図８
は、縦軸に保護膜の膜厚を示し、横軸にディスク基板２
０の半径位置を示した図である。また、図８中の特性Ａ
は、粘度が５００ｃｐｓの紫外線硬化樹脂により保護膜
を形成したときの保護膜の膜厚とディスク基板２０の半
径位置との関係を示し、図８中の特性Ｂは、粘度が１４
０ｃｐｓの紫外線硬化樹脂により保護膜を形成したとき
の保護膜の膜厚とディスク基板２０の半径位置との関係
を示し、図８中の特性Ｃは、粘度が３７ｃｐｓの紫外線
硬化樹脂により保護膜を形成したときの保護膜の膜厚と
光磁気ディスクの半径位置との関係を示した実測値であ
る。
【００１７】この図８に示した保護膜の膜厚とディスク
基板２０の半径位置との関係についての測定は、ディス
ク基板２０を低速で回転させた状態で、ディスク基板２
０の中心から半径約１７ｍｍの位置で紫外線硬化樹脂を
円環状に供給し、１秒間かけて約３０００ｒｐｍまで回
転数を上昇させ、約３０００ｒｐｍで回転させた状態で
約８秒間保持した後、紫外線を照射することによって形
成した保護膜を測定対象としている。また、図８中の実
線は、粘性抵抗力と遠心力との釣り合いの式から求めた
膜厚分布の計算値である。
【００１８】ここで、粘度が異なる紫外線硬化樹脂を同
一条件で塗布して形成される保護膜の膜厚は、粘度の平
方根に比例することが知られている。したがって、例え
ば、粘度が１４０ｃｐｓの紫外線硬化樹脂で形成した膜
厚と、粘度が５００ｃｐｓの紫外線硬化樹脂で形成した
保護膜の膜厚とを、同一条件で塗布した場合の膜厚比
は、理論上、（５００／１４０）1/2＝１．９となる。
また、例えば粘度が３７ｃｐｓの紫外線硬化樹脂で形成
した保護膜の膜厚と、粘度が５００ｃｐｓの紫外線硬化
樹脂で形成した保護膜の膜厚とを同一条件で塗布した場
合の膜厚比は、（５００／３７）1/2＝３．７となる。
【００１９】そして、上述の膜厚比に基づいて、粘度が
１４０ｃｐｓの紫外線硬化樹脂で形成した保護膜の膜厚
分布を１．９倍することによって算出される第１の規格
化膜厚分布と、粘度が３７ｃｐｓの紫外線硬化樹脂で形
成した保護膜の膜厚分布を３．７倍することによって算
出される第２の規格化膜厚分布と、粘度が５００ｃｐｓ
の紫外線硬化樹脂で形成した保護膜の膜厚分布とを示し
た図を図９に示す。なお、図９においては、粘度が５０
０ｃｐｓで保護膜を形成したときの膜厚分布を○で示
し、第１の規格化膜厚分布を△で示し、第２の規格化膜
厚分布を□で示した図である。
【００２０】この図９によれば、第１の規格化膜厚分
布、第２の規格化膜厚分布及び粘度が５００ｃｐｓの紫
外線硬化樹脂で形成した保護膜の膜厚分布は、ほぼ同一
曲線上にのっている。したがって、保護膜の膜厚は、同
一条件で形成することによって、粘度の平方根に比例す
ることがわかる。
【００２１】また、図９より、保護膜を形成する方法と
して通常行われているスピンコート法では、回転速度、
回転時間等の条件を変化させても、所定の膜厚で保護膜
を形成しようとすると、ディスク基板２０の内周部２０
ａに形成される膜厚と、外周部に形成される膜厚とで、
ある決まった値だけ膜厚誤差が生じてしまうということ
がわかる。
【００２２】ここで、保護膜のディスク基板の内周部と
外周部とにおける膜厚差は、粘度が低い紫外線硬化樹脂
を使用し、ディスク基板２０の回転時間を長くし、塗布
する紫外線硬化樹脂の膜厚をディスク基板２０の全面に
おいて薄くすることにより小さくすることができる。例
えば、保護膜は、粘度が３７ｃｐｓの紫外線硬化樹脂を
使用し、回転時間を長くし、保護膜全体の膜厚を薄くす
ることによって、光磁気ディスクの中心部から２４ｍｍ
の位置と、４０ｍｍの位置とにおいて、約１．５μｍ程
度の膜厚差とすることができる。
【００２３】しかし、保護膜は、膜厚を極端に薄くする
と、光磁気ディスクの記録層の腐食等を防止することが
できなくなるため、最低でも光磁気ディスクの全面にお
いて平均１５μｍ程度の膜厚が必要である。このように
保護膜の光磁気ディスクの全面における膜厚の平均を約
１５μｍとすると、上述の条件を変化させても、内周部
と外周部とで約５μｍの膜厚差が生じてしまう。
【００２４】ところで、保護膜側からレーザー光を照射
することによって記録再生を行う光学ピックアップ装置
において、保護膜は、ディスク基板２０の内周部と外周
部において膜厚差が生じていると、レーザー光の波面収
差が生ずるという問題を生ずる。このように、光学ピッ
クアップ装置においては、保護膜の膜厚差により波面収
差が生ずると、照射されるレーザー光が不安定になり、
記録再生特性が劣化するという問題を生ずる。ここで、
この波面収差Ｗ40dは、ｎを保護膜の屈折率とし、△ｄ
を保護膜の膜厚分布とし、ＮＡを光学系のレンズの開口
数とすると、次の数１に示すような式となる。
【００２５】
【数１】
【００２６】ここで、現行の光磁気ディスクの場合、保
護膜の屈折率ｎが１．５８であり、光学系のレーザー光
の波長λが７８０ｎｍ、レンズの開口数ＮＡが０．５で
ある。このような条件において、保護膜の膜厚誤差△ｄ
が５μｍであると、数１から波面収差Ｗ40dは、０．１
９λ（０．１４８μｍ）となる。
【００２７】ところで、光磁気ディスクの光学系におい
ては、近年の記録密度の向上に伴って、光学系のレーザ
ー光の波長λを短くするとともに、レンズの開口数ＮＡ
を大きくすることが行われている。このことは、光学レ
ンズで集光させたレーザー光のスポット径がレーザー光
の波長λに比例し、レンズの開口数ＮＡに反比例するこ
とによる。ここで、現在のレーザースポット径は、約
１．６μｍであるが、例えばレーザー光の波長を４８０
ｎｍ、レンズの開口数ＮＡを０．９とすると、レーザー
スポット径が０．５μｍとなり、結果として、現行の約
１／３のレーザースポット径とすることができる。した
がって、このような光学系によれば、現行の面記録密度
と比較して約９倍の面記録密度とすることができる。
【００２８】しかしながら、上述のように記録密度の向
上を図り光学系を変更した場合においては、上述した保
護膜形成装置により形成された保護膜に、約５μｍ程度
の膜厚誤差が生じていると、上記の数１から算出される
波面収差Ｗ40dが大きな値となってしまい、安定した記
録再生を行うことが困難となる。例えば、レーザー光の
波長λを４８０ｎｍとし、レンズの開口数ＮＡを０．９
としたときには、波面収差Ｗ40dが非常に大きくなり、
安定した記録再生を行うことができないという問題点を
生じる。このような光磁気ディスクの光学系において、
少なくとも現行と同じ０．１９λ程度に波面収差Ｗ40d
を抑制するためには、保護膜の内周部と外周部との膜厚
差△ｄを２．９μｍ以下に抑制する必要がある。
【００２９】また、上述したような保護膜の膜厚差は、
上述した光学系によるレーザー光の照射のみならず、磁
気ヘッドによる磁界の印加にも影響する。例えば上述し
た磁界変調方式において使用される磁気ヘッドには、光
磁気ディスクの保護膜から数μｍ〜数十μｍ程度の微小
な間隔を介して信号の記録を行う磁気ヘッドや、光磁気
ディスクの保護膜と摺動しながら信号の記録を行う磁気
ヘッドがある。このような磁気ヘッドが使用される磁界
変調方式においては、保護膜に膜厚差が生じていると、
磁気ヘッドと、光磁気ディスクとの間隔が変化すること
となる。これは、磁界変調方式において、保護膜に膜厚
誤差があると、記録層と磁気ヘッドとの距離がこの膜厚
差を反映して不均一となるということである。その結
果、図１０に示すように、記録層に印加される磁界の強
さにばらつきが生じてしまう。すなわち、保護膜に膜厚
誤差があると、情報信号の記録時において、記録層に印
加される磁界の大きさが変化してしまい、光磁気ディス
クの全面において印加される磁界が不均一となってしま
うということである。例えば信号の記録時においては、
磁気ヘッドの浮上量を５μｍとしたとき、保護膜が内周
部より外周部の膜厚が５μｍ厚くなっているとすると、
記録層に印加される磁界の大きさが内周部と外周部とで
約１５Ｏｅ程度異なってしまうという問題を生ずる。
【００３０】そこで、上述したような保護膜の膜厚差を
抑制する方法としては、光磁気ディスクを１０００ｒｐ
ｍ以上の回転数で回転させた状態で、紫外線を照射し、
保護膜を形成するという方法がある。しかし、このよう
な方法で形成した保護膜であっても、ディスク基板２０
の内周部２０ａと外周部とで膜厚差が生じてしまい、外
周部において膜厚が厚くなってしまうという問題点があ
る。この膜厚差を生じる原因としては、紫外線硬化樹脂
がスピンコート時において、ディスク基板２０が回転す
ることによる遠心力と粘性抵抗力とが加わることが挙げ
られる。そして、この紫外線硬化樹脂は、ディスク基板
２０の内周部２０ａに供給されると、外周部に移動す
る。ここで、紫外線をディスク基板２０の外周部から内
周部２０ａに向かって照射すると、外周部では硬化する
が、紫外線が照射されていない内周部２０ａでは、遠心
力により外周部へ移動し、徐々に薄くなる。そして、紫
外線が照射されて硬化した外周部は、硬化していない内
周部２０ａからの紫外線硬化樹脂２１が供給される為に
徐々に厚くなってしまう。つまり、光磁気ディスクを回
転させないで硬化させる場合よりも、内周部と外周部と
の膜厚の差は、増加してしまうこととなる。
【００３１】本発明は、上述したような実情に鑑みて提
案されたものであり、保護膜を所定の膜厚に形成すると
ともに、基板の全体にわたって均一の膜厚で保護膜を形
成する保護膜形成装置及び保護膜形成方法を提案するこ
とを目的とする。
【００３２】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決する本
発明にかかる保護膜形成装置は、円盤状記録媒体上に樹
脂を供給して、円盤状記録媒体を回転させることにより
樹脂を円盤状記録媒体の全面に塗布する保護膜形成装置
において、中心穴を有する円盤状記録媒体が載置され、
円盤状記録媒体を回転させるターンテーブルと、ターン
テーブルの略中心に形成されている中心穴に挿入される
中心軸と、略中心部に上記中心軸が配設され、少なくと
も円盤状記録媒体の中心穴を被う円板部とからなる回転
円板とを有することを特徴とするものである。
【００３３】なお、円板部には、外周縁部から内周側に
次第に厚さを大とするテーパーが形成されていることが
望ましい。
【００３４】また、円板部の円盤状記録媒体との接触面
には、円盤状記録媒体の保護膜用樹脂の表面張力よりも
表面張力が小さい材料が配されていることが望ましい。
【００３５】このように構成された保護膜形成装置は、
ターンテーブルの中心穴に挿入される中心軸と円盤状記
録媒体の内周部を被う円板部とからなる回転円板とを備
えるので、円盤状記録媒体の中心孔を塞ぐことができ、
円盤状記録媒体の回転中心から樹脂を供給できる。
【００３６】また、本発明に係る保護膜形成方法は、中
心穴を有する円盤状記録媒体をターンテーブル上に載置
し、円盤状記録媒体の中心穴よりも径の大きい円板部を
有する回転円板によって、少なくとも円盤状記録媒体の
中心穴を覆い、回転円板の中心部に保護膜材料を供給す
るとともに、当該保護膜材料を円盤状記録媒体及び回転
円板を回転駆動して広げることにより、円盤状記録媒体
上に保護膜を形成することを特徴とする。
【００３７】このような保護膜形成方法は、円盤状記録
媒体の中心穴よりも径の大きい円板部を有する回転円板
によって、少なくとも円盤状記録媒体の中心穴を覆い、
回転円板の中心部に保護膜材料を供給するので、円盤状
記録媒体の略中心部から樹脂を供給して保護膜を形成す
ることができる。
【００３８】
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかる保護膜形成
装置及び保護膜形成方法について図面を参照しながら詳
細に説明する。
【００３９】以下に述べる保護膜形成装置により保護膜
が形成される光磁気ディスク１は、いわゆる磁界変調方
式により記録再生が行われる光磁気ディスクであり、図
１に示すように、ディスク基板２上に記録層３が形成さ
れ、この記録層３上に保護膜４が形成されてなる。この
ような光磁気ディスク１は、記録再生時において、ディ
スク基板２側に光学ピックアップ装置が配設され、保護
膜４側に磁気ヘッド５が配設される。そして、記録時に
おいて、光磁気ディスク１は、光学ピックアップ装置に
よりディスク基板２側からレーザー光Ｌが照射されると
ともに、保護膜４側から磁気ヘッド５により高周波で磁
界が印加されることによって、情報信号が記録される。
【００４０】この光磁気ディスク１は、上述のように、
合成樹脂材料からなるディスク基板２と、このディスク
基板２上に積層されて、情報信号が記録される記録層３
と、この記録層３を保護する保護膜４とが積層されてな
る。
【００４１】ディスク基板２は、数ミリ程度の厚さを有
する円盤状の透明基板である。このディスク基板２の材
料としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポ
リオレフィン樹脂、エポキシ樹脂等のプラスチック材料
があり、さらにはガラス材料でもよい。
【００４２】記録層３は、ディスク基板２上に形成さ
れ、ディスク基板２の中心から半径約２４ｍｍ〜４０ｍ
ｍの範囲に円環状に形成されている。この記録層３は、
第１の誘電体膜と、情報信号が記録される記録磁性膜
と、第２の誘電体膜と、反射膜とが積層されてなる。
【００４３】記録磁性膜は、膜面に垂直な磁化容易軸を
有する非晶質の磁性薄膜で構成されている。また、この
記録磁性膜は、磁気光学特性に優れていることは勿論、
室温において大きな保磁力をもち、且つ、２００℃程度
にキュリー点を有している。なお、この記録磁性膜は、
希土類−遷移金属非晶質薄膜等で構成され、例えばＴｂ
ＦｅＣｏ系非晶質薄膜からなる。また、この記録磁性膜
には、耐食性を向上させる目的で、Ｃｒ等の元素を添加
してもよい。
【００４４】第１の誘電体膜及び第２の誘電体膜は、酸
化物や窒化物が使用可能であるが、誘電体膜中の酸素が
記録磁性膜に悪影響を及ぼす虞があることから、窒化物
が好ましく、酸素、水分子の透過を防止するのに有利で
あり、かつ、レーザー光を十分に透過しうる物質として
窒化珪素或いは窒化アルミニウム等が好適である。
【００４５】反射膜は、第２の誘電体膜との境界でレー
ザー光を７０％以上反射する高反射率の膜により構成す
ることが好ましく、非磁性金属の蒸着膜が好適である。
また、この反射膜は、熱的に良導体であることが望まし
く、入手のしやすさ等を考慮すると、アルミニウムが適
している。
【００４６】これら記録磁性膜、第１の誘電体膜、第２
の誘電体膜及び反射膜は、蒸着法やスパッタ法等、いわ
ゆる気相メッキ法により形成される。これら記録層３を
構成する各膜厚は、通常、数十〜数百ｎｍ程度に形成さ
れるが、各層単独の光学的性質のみならず、組み合わせ
による効果を考慮して定めることが望ましい。このこと
は、例えば記録磁性膜を透過して各層の界面で反射した
光と多重干渉し、それぞれの膜厚の組み合わせにより、
記録磁性膜の実効的な光学特性及び磁気光学特性が変動
することによる。
【００４７】保護膜４は、上述した記録層３上に形成さ
れ、例えば紫外線硬化樹脂からなる。この保護膜４は、
後述するスピンコート法によって形成される。また、こ
の保護膜４は、光磁気ディスク１の全面において平均膜
厚が約１５μｍ以上となるように形成され、光磁気ディ
スク１の内周部と外周部との膜厚差が約２μｍ以下とな
っている。また、この保護膜４は、光磁気ディスク１の
記録層３上に形成された状態において膜厚を約１５μｍ
以上とすることにより、記録層３の腐食を充分に防止す
るとともに、光磁気ディスク１の温度変化に起因する反
り等による変形を防止することが可能となる。
【００４８】このように構成された光磁気ディスク１の
保護膜４を形成する保護膜形成装置は、記録層３が形成
されたディスク基板２上に紫外線硬化樹脂を供給し、こ
のディスク基板２を回転させることにより全面に紫外線
硬化樹脂を塗布して保護膜４を形成する。
【００４９】この保護膜形成装置６は、図２、図３及び
図４に示すように、ディスク基板２を載置させるととも
に、この載置されたディスク基板２を回転させるターン
テーブル７と、このターンテーブル７で載置されている
ディスク基板２の中心孔２ａを塞ぐ回転円板８と、ディ
スク基板２上に紫外線硬化樹脂９を供給するノズル１０
とを有する。
【００５０】このノズル１０は、樹脂供給部１１に接続
された樹脂供給管１２の一方端に取り付けられている。
このノズル１０は、スピンコート時において、ディスク
基板２及び回転円板８が回転する略中心点である回転中
心の直上に配設され、紫外線硬化樹脂９をディスク基板
２及び回転円板８の回転中心に供給するように出射す
る。
【００５１】ターンテーブル７は、ディスク基板２が載
置されるとともに、スピンコート時において、ディスク
基板２をＡ方向に回転させるものである。このターンテ
ーブル７は、例えばスピンドルモータ等の回転駆動手段
によってディスク基板２を所定の回転数で回転駆動させ
る。また、このターンテーブル７は、回転円板８の中心
軸８ａが挿入される中心穴７ａを備えている。
【００５２】なお、本発明を適用した保護膜形成装置６
により保護膜４が形成されるディスク基板２は、厚みｔ
1が約１．２ｍｍ、外径が約８６ｍｍ、溝部２ｂの外径
ｔ2が約１５ｍｍ、中心孔２ａの直径ｔ3が約１５ｍｍで
形成されたディスク基板である。ここで溝部２ｂは、基
板成形時においてスタンパー等によって形成された溝で
あり、情報信号が記録されるデータ領域より内周側に形
成される。
【００５３】回転円板８は、例えばアルミニウムからな
り、ターンテーブル７に載置されたディスク基板２の中
心孔２ａを塞ぐとともにディスク基板２の内周部を覆う
円板部８ｂと、この円板部８ｂの略中心に形成された中
心軸８ａとからなる。ここで、円板部８ｂによって被わ
れるディスク基板２の内周部は、情報信号が記録された
データ領域より内周側を指す。
【００５４】この回転円板８は、ターンテーブル７の中
心穴７ａに対して脱着可能となっており、スピンコート
法により保護膜４を形成する際、ディスク基板２の保護
膜４が形成される面側から中心軸８ａをディスク基板２
の中心孔２ａ及びターンテーブル７の中心穴７ａに挿入
される。そして、この回転円板８は、スピンコート時に
おいて中心軸８ａがターンテーブル７の中心穴７ａに挿
入されて固定される。このように、回転円板８は、ター
ンテーブル７の中心穴７ａに固定されることによって、
円板部８ｂがディスク基板２の中心孔２ａ及び内周部を
被うように成形されている。なお、この回転円板８は、
例えば円板部８ｂの厚さｔ4が約０．３ｍｍ、円板部８
ｂの直径ｔ5が約３５ｍｍで形成されている。
【００５５】このように構成された保護膜形成装置６
は、ディスク基板２の中心孔２ａに挿入される回転円板
８を備えているので、ディスク基板２の中心孔２ａを塞
いで紫外線硬化樹脂９を形成することが可能である。し
たがって、この保護膜形成装置６は、スピンコート時に
おいて、ディスク基板２の回転中心から紫外線硬化樹脂
９を供給することが可能である。
【００５６】このような保護膜形成装置６は、スピンコ
ート時において、円板部８ｂのディスク基板２と接触す
る面と、ディスク基板２との間に紫外線硬化樹脂９が入
り込んでしまう虞がある。このように円板部８ｂとディ
スク基板２との間に紫外線硬化樹脂９が入り込み、回転
円板８のディスク基板２との接触面に紫外線硬化樹脂９
がついてしまう。そして、次のディスク基板２に対して
保護膜４を形成する際に、回転円板８をディスク基板２
上に配設させると、回転円板８のディスク基板２との接
触面についていた紫外線硬化樹脂９によりディスク基板
２の内周部を汚してしまう。このことは、回転円板８の
材料であるアルミニウムの表面張力が紫外線硬化樹脂９
の表面張力よりも大きいことに起因する。なお、アルミ
ニウムの表面張力は、約３７ｄｙｎ／ｃｍである。一
方、本発明を適用した保護膜形成装置６で使用される紫
外線硬化樹脂９は、表面張力が約３０ｄｙｎ／ｃｍであ
る。
【００５７】そこで、回転円板８のディスク基板２との
接触面には、紫外線硬化樹脂９の表面張力よりも表面張
力が小さい材料を配しておく。このような材料を回転円
板８のディスク基板２との接触面に配することにより、
紫外線硬化樹脂９が濡れにくくなっており、スピンコー
ト時においては、紫外線硬化樹脂９が回転円板８とディ
スク基板２との間に入り込んでも回転円板８に紫外線硬
化樹脂９がついてしまうようなことがない。
【００５８】なお、本発明を適用した保護膜形成装置６
においては、回転円板８のディスク基板２との接触面に
テフロン加工を施すことにより、回転円板８のディスク
基板２との接触面の表面張力を約２０ｄｙｎ／ｃｍと
し、ディスク基板２の表面張力よりも小さくしている。
【００５９】さらには、このようにテフロン加工を施す
ことにより、回転円板８のディスク基板２の接触面は、
表面張力が通常使用される紫外線硬化樹脂９の表面張力
よりも小さくされている。このように、回転円板８のデ
ィスク基板２との接触面は、紫外線硬化樹脂９よりも表
面張力が小さいので、表面張力が約２５ｄｙｎ／ｃｍ〜
４０ｄｙｎ／ｃｍの紫外線硬化樹脂９を完全にはじき、
回転円板８のディスク基板２の接触面とディスク基板２
との間に紫外線硬化樹脂９が入り込みにくくなる。
【００６０】また、上述した保護膜形成装置６により保
護膜４が形成されるディスク基板２は、内周部に溝部２
ｂを形成しても良い。この溝部２ｂは、ディスク基板２
の回転円板８の直径以内の位置に形成され、ディスク基
板２の内周部のうち、外周側に形成される。このよう
に、溝部２ｂは、ディスク基板２の内周部の外周側に形
成されることにより、スピンコート時において、紫外線
硬化樹脂９がディスク基板２と回転円板８との間に入り
込んでも紫外線硬化樹脂９を溜めることができる。した
がって、この溝部２ｂは、ディスク基板２の内周部を紫
外線硬化樹脂９で濡らしてしまうようなことがない。
【００６１】また、円板部８ｂの外周縁部には、図５に
示すように、テーパー部８ｃが形成されている。このテ
ーパー部８ｃは、円板部８の外周縁部から内周側へと次
第に厚さが大となるように、ディスク基板２の保護膜形
成面と所定の角度θで形成されている。このように円板
部８ｂの外周縁部にテーパー部８ｃが形成されることに
より、保護膜形成装置６は、スピンコート時において、
回転円板８の回転中心に供給された紫外線合成樹脂９が
ディスク基板２の半径方向に広がり、円板部８ｂの外周
縁部の近傍に形成される紫外線硬化樹脂９が円板部８ｂ
の外周縁部において段差が生じないように形成すること
が可能である。
【００６２】つぎに、上述した保護膜形成装置６によ
り、ディスク基板２上に保護膜４を形成する保護膜形成
方法について説明する。
【００６３】この保護膜形成方法は、先ず、図２に示す
ように、ノズル１０から紫外線硬化樹脂９を回転円板８
の回転中心に供給する。なお、本発明を適用した保護膜
形成方法においては、紫外線硬化樹脂９の粘度が約５０
０ｃｐｓ程度のものを使用している。そして、ターンテ
ーブル７上にディスク基板と回転円板８とを載置した状
態でターンテーブル７を約３０ｒｐｍ程度の回転数で回
転させる。これにより、このターンテーブル７上に載置
されたディスク基板２及び回転円板８もターンテーブル
７と同速度で回転される。このように、約３０ｒｐｍで
ディスク基板２及び回転円板８を回転させることによ
り、ディスク基板２上の全面に紫外線硬化樹脂９を塗布
する。
【００６４】次に、ターンテーブル７の回転数を１秒間
かけて約３０００ｒｐｍにまで上昇させ、約３０００ｒ
ｐｍの回転数で約８秒間保持する。このように、約３０
００ｒｐｍの回転数で約８秒間保持することにより、回
転円板８の回転中心に供給された紫外線硬化樹脂９を、
遠心力によりディスク基板２の外周側に広げ、ディスク
基板２の全面、すなわち、記録層３上に塗布し、回転円
板８上に紫外線硬化樹脂９の塗布膜を形成する。
【００６５】次に、この紫外線硬化樹脂９の塗布膜に対
して紫外線を照射することにより硬化させ、保護膜４を
形成する。
【００６６】このようなディスク基板２の保護膜形成方
法により形成した保護膜４は、図６に示すような膜厚と
なる。なお、図６は、横軸にディスク基板２の半径位置
［ｍｍ］を示し、縦軸にディスク基板２の半径位置にお
ける保護膜４の膜厚［μｍ］を示した図である。また、
この図６においては、上述の保護膜形成方法により形成
された保護膜４の膜厚を●で示し、比較例ｂとして従来
の方法でディスク基板を回転させて保護膜を形成したと
きの計算値を実線で示している。
【００６７】また、ディスク基板２に形成されている記
録層３の範囲Ｂは、図６に示すように、約２４ｍｍから
約４０ｍｍである。すなわち、範囲Ｂが、保護膜４を形
成すべき領域ということである。
【００６８】この図６によれば、保護膜４の膜厚は、デ
ィスク基板２の半径位置が約２４ｍｍ〜約４０ｍｍの範
囲内において、約１６μｍ程度となっている。また、こ
の保護膜４の膜厚は、半径位置が約２４ｍｍ〜約４０ｍ
ｍの範囲内において、約２μｍ以内の誤差となってい
る。
【００６９】一方、図６中の比較例ｂは、ディスク基板
の全域において、内周側から外周側に向かって膜厚が厚
くなる傾向にある。また、この比較例ｂによれば、ディ
スク基板の半径位置が約２４ｍｍ〜約４０ｍｍの範囲内
において、ディスク基板の外周側において、保護膜４の
膜厚が厚くなっている。
【００７０】したがって、上述した保護膜形成方法によ
れば、図６に示すように、記録層３が形成されている範
囲Ｂ内において、約１５μｍ以上の膜厚の保護膜４を形
成することができるとともに、ディスク基板２の内周側
と外周側との膜厚誤差を約２μｍ以下に抑制した保護膜
４を形成することが可能である。
【００７１】また、このような保護膜形成方法によれ
ば、ディスク基板２の全面において１５μｍ以上の膜厚
の保護膜４を形成するので、記録層３の腐食等を充分に
防止することが可能である。
【００７２】また、この保護膜形成方法は、ディスク基
板２の全面において保護膜４の膜厚誤差が２μｍ以下と
なるように形成されているので、レーザー光を保護膜４
側から入射させても、ディスク基板２の全面において波
面収差の誤差が大きくなってしまうような部分がない。
すなわち、保護膜４は、例えば、レーザー光を保護膜４
側から入射する光学装置を用いた場合、レーザー光の波
長λを４８０ｎｍとし、ディスク基板２上にレーザー光
を集光させるレンズの開口数ＮＡを０．９としたとき、
波面収差が０．１９λ以下となるような膜厚差の上限で
ある２．９μｍ以下に形成されている。したがって、こ
のような保護膜４が形成された光磁気ディスク１によれ
ば、高記録密度用に設計された光学系を使用して記録再
生を行っても、保護膜４の膜厚差による波面収差の誤差
が大きくなるようなことなく、レーザー光を記録層３に
安定して照射させることが可能である。
【００７３】また、この保護膜形成方法によれば、光磁
気ディスク１上に摺動しながら信号の記録を行う磁気ヘ
ッドを使用しても、保護膜４の膜厚差により、光磁気デ
ィスク１の表面に対して損傷を与えるようなことなく、
信号の記録を行うことが可能である。また、この保護膜
形成方法によれば、光磁気ディスク１の表面と微小間隔
を介して浮上する磁気ヘッドを使用して信号の記録を行
っても、磁気ヘッドが光磁気ディスク１の表面と接触す
るようなことなく、所定の間隔を保持して信号を記録す
ることができる。ここで、例えば光磁気ディスク１と磁
気ヘッドとの間隔を５μｍと設定された磁気ヘッドを使
用した場合、ディスク基板２の全面において保護膜４の
膜厚差が２μｍ以下であれば、磁気ヘッドにより印加さ
れる磁界の膜厚差に起因する変化量を±４Ｏｅ以内に抑
制することができる。したがって、このような保護膜形
成方法によれば、記録層３に対して安定して磁界を印加
することができ、光磁気ディスク１の全面において記録
ピットを安定して形成することができる。
【００７４】なお、上述した保護膜形成装置及び保護膜
形成方法においては、紫外線硬化樹脂９がアクリル系紫
外線硬化樹脂等、光磁気ディスクの保護膜材料として使
用されているものであれば適用可能である。また、この
紫外線硬化樹脂９の粘度は、上述した保護膜形成方法に
おいて、約５００ｃｐｓ程度のものを使用したが、例え
ば、重合度等を制御して変化させたものを使用しても良
い。
【００７５】また、保護膜４が形成されるディスク基板
２は、基板の片面のみに記録層３及び保護膜４を形成し
た、いわゆる単板構成のものに限られない。すなわち、
光磁気ディスクは、単板構成の光磁気ディスクの基板同
士を対向させて貼り合わせて一体とした、両板構成であ
ってもよい。
【００７６】この両板構成の光磁気ディスクでは、記録
再生時において、両面からレーザー光が照射されるとと
もに、磁気ヘッドにより磁界が印加される。すなわち、
保護膜４が形成された記録層３が両面に形成されること
となる。このような両板構成の光磁気ディスクにおいて
も、上述したように、光磁気ディスクの内周部と外周部
との膜厚差がなく保護膜４が形成されることによって、
レーザー光の照射及び記録磁界の印加を安定して行うこ
とが可能である。
【００７７】また、上述した保護膜形成装置及び保護膜
形成方法は、上述したような光磁気ディスクに限られ
ず、例えば表面に物理的な凹凸が形成されることによっ
て信号が記録されている、再生専用の光ディスク等にも
適用可能である。さらに、この保護膜形成装置及び保護
膜形成方法は、広く、磁気ディスクや、光ディスク、相
変化型ディスク等、保護膜材料をスピンコート法によっ
て塗布して保護膜が形成される記録媒体であれば適用可
能であることは勿論である。
【００７８】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明にか
かる保護膜形成装置は、ターンテーブルの略中心に形成
されている中心穴に挿入される中心軸と、略中心部に中
心軸が配設され、少なくとも円盤状記録媒体の中心穴を
覆う円板部とからなる回転円板とを有するので、保護膜
の形成時において円盤状記録媒体及び回転円板の回転中
心から樹脂を供給することができる。したがって、この
保護膜形成装置は、円盤状記録媒体の内周部と外周部と
の保護膜の膜厚差がない均一な保護膜を形成することが
できる。
【００７９】また、本発明にかかる保護膜形成方法によ
れば、円盤状記録媒体の中心穴よりも径の大きい円板部
を有する回転円板によって、少なくとも円盤状記録媒体
の中心穴を覆い、回転円板の中心部に保護膜材料を供給
するとともに、当該保護膜材料を円盤状記録媒体及び回
転円板を回転駆動して広げることにより、円盤状記録媒
体上に保護膜を形成するので、円盤状記録媒体の回転中
心から樹脂を供給することができる。したがって、この
保護膜形成方法によれば、円盤状記録媒体の内周部と外
周部との膜厚差を生じさせるようなことがなく、円盤状
記録媒体の全面において均一の膜厚で保護膜を形成する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】光磁気ディスクの記録再生装置の一例を示す断
面図である。
【図２】本発明を適用した保護膜形成装置の一例を示す
斜視図である。
【図３】ターンテーブル上にディスク基板及び回転円板
が載置された状態の一例を示す断面図である。
【図４】ターンテーブル、ディスク基板及び回転円板の
一例を示す分解断面図である。
【図５】円板部の外周縁部に形成されているテーパー部
の一例を示す図である。
【図６】ディスク基板の半径位置と、保護膜の膜厚との
関係を示す図である。
【図７】従来の保護膜形成装置により保護膜を形成する
様子を示す斜視図である。
【図８】従来の光磁気ディスクの保護膜形成装置を使用
し、粘度を変化させたときのディスク基板の半径位置
と、保護膜の膜厚との関係を示す図である。
【図９】従来の保護膜形成装置を使用し、ディスク基板
と保護膜の膜厚との関係を示す図である。
【図１０】磁気ヘッドと光磁気ディスクとの距離と、光
磁気ディスクに印加される磁界との関係を示す図であ
る。
【符号の説明】
１ 光磁気ディスク、２ ディスク基板、３ 記録層、
４ 保護膜、５ 磁気ヘッド

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 円盤状記録媒体上に樹脂を供給して、円
    盤状記録媒体を回転させることにより樹脂を円盤状記録
    媒体の全面に塗布する保護膜形成装置において、 中心穴を有する円盤状記録媒体が載置され、円盤状記録
    媒体を回転させるターンテーブルと、 上記ターンテーブルの略中心に形成されている中心穴に
    挿入される中心軸と、略中心部に上記中心軸が配設さ
    れ、少なくとも円盤状記録媒体の中心穴を覆う円板部と
    からなる回転円板とを有することを特徴とする保護膜形
    成装置。
  2. 【請求項２】 上記円板部には、外周縁部から内周側に
    次第に厚さを大とするテーパーが形成されていることを
    特徴とする請求項１記載の保護膜形成装置。
  3. 【請求項３】 上記円板部の円盤状記録媒体との接触面
    には、円盤状記録媒体の保護膜用樹脂の表面張力よりも
    表面張力が小さい材料が配されていることを特徴とする
    請求項１記載の保護膜形成装置。
  4. 【請求項４】 中心穴を有する円盤状記録媒体をターン
    テーブル上に載置し、 円盤状記録媒体の中心穴よりも径の大きい円板部を有す
    る回転円板によって、少なくとも円盤状記録媒体の中心
    穴を覆い、 回転円板の中心部に保護膜材料を供給するとともに、当
    該保護膜材料を円盤状記録媒体及び回転円板を回転駆動
    して広げることにより、円盤状記録媒体上に保護膜を形
    成することを特徴とする保護膜形成方法。
JP05803497A 1997-03-12 1997-03-12 保護膜形成装置及び保護膜形成方法 Expired - Fee Related JP3918221B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05803497A JP3918221B2 (ja) 1997-03-12 1997-03-12 保護膜形成装置及び保護膜形成方法
US09/038,944 US5980985A (en) 1997-03-12 1998-03-12 Method and apparatus for forming protective film
US09/404,582 US6312781B1 (en) 1997-03-12 1999-09-24 Disc-shaped recording medium with a protective film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05803497A JP3918221B2 (ja) 1997-03-12 1997-03-12 保護膜形成装置及び保護膜形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10249264A true JPH10249264A (ja) 1998-09-22
JP3918221B2 JP3918221B2 (ja) 2007-05-23

Family

ID=13072665

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP05803497A Expired - Fee Related JP3918221B2 (ja) 1997-03-12 1997-03-12 保護膜形成装置及び保護膜形成方法

Country Status (2)

Country Link
US (2) US5980985A (ja)
JP (1) JP3918221B2 (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6497540B1 (en) * 1998-02-05 2002-12-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Endmill and cutting method
US6576319B2 (en) 2000-06-09 2003-06-10 Tdk Corporation Optical information medium and making method
US6689415B2 (en) 2000-06-09 2004-02-10 Tdk Corporation Method and apparatus for preparing optical information medium
JP2004095108A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Global Mach Kk 光学記録媒体の製造方法
US6898796B2 (en) 2000-06-09 2005-05-24 Tdk Corporation Optical information medium and making method
US7096770B2 (en) 2003-01-23 2006-08-29 Tdk Corporation Optical recording medium-manufacturing apparatus
US7138165B2 (en) 2002-09-27 2006-11-21 Tdk Corporation Intermediate for optical recording medium, mold, molding apparatus, and method of manufacturing optical recording medium
US7147893B2 (en) 2001-08-14 2006-12-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of and apparatus for forming transparent layer on disc substrate, and disc therefrom
US7270527B2 (en) 2003-01-23 2007-09-18 Tdk Corporation Optical recording medium-manufacturing apparatus
US7820234B2 (en) 2001-06-07 2010-10-26 Panasonic Corporation Manufacturing method of optical information recording medium
US8206805B2 (en) 2008-10-16 2012-06-26 Panasonic Corporation Optical recording medium, and method for producing optical recording medium
US8313803B2 (en) 2008-11-06 2012-11-20 Fuji Electric Co., Ltd. Spin coating method
US8578877B2 (en) 2007-04-11 2013-11-12 Ricoh Company, Ltd. Spin coater, temperature controlling method of the same, optical disc production apparatus, and optical disc production method

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3918221B2 (ja) * 1997-03-12 2007-05-23 ソニー株式会社 保護膜形成装置及び保護膜形成方法
US6077349A (en) * 1997-08-20 2000-06-20 Sony Corporation Method and apparatus for manufacturing disc-shaped recording medium
JP2002162566A (ja) * 2000-11-27 2002-06-07 Nikon Corp 光学系の設計方法，光学系および投影露光装置
EP1215670A3 (en) * 2000-12-12 2003-05-28 Pioneer Corporation Film forming apparatus and film forming method
JP3559535B2 (ja) * 2001-05-16 2004-09-02 北野エンジニアリング株式会社 光ディスク接着剤硬化装置
KR100823245B1 (ko) * 2001-08-21 2008-04-17 삼성전자주식회사 디스크 제조장치 및 그 투과층 형성방법
JP2005085411A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Tdk Corp 多層記録タイプの光記録媒体の製造方法及び製造工程における中間体
WO2006028051A1 (ja) * 2004-09-08 2006-03-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 光情報記録媒体の製造方法及び光情報記録媒体
JP2011008837A (ja) * 2009-06-23 2011-01-13 Fuji Electric Device Technology Co Ltd 磁気記録媒体の製造方法
JP6512133B2 (ja) * 2016-02-25 2019-05-15 株式会社オートネットワーク技術研究所 電線保護部材及びその製造方法並びにワイヤーハーネス

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68920380T2 (de) * 1988-08-19 1995-05-11 Hitachi Maxell Aufzeichnungsmedium für optische Daten und Herstellungsgerät und -methode dafür.
US5939170A (en) * 1993-12-28 1999-08-17 Hoya Corporation Magnetic recording medium
JPH0885868A (ja) * 1994-07-20 1996-04-02 Hitachi Ltd 磁気記録媒体及びその製造方法
JP3918221B2 (ja) * 1997-03-12 2007-05-23 ソニー株式会社 保護膜形成装置及び保護膜形成方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6497540B1 (en) * 1998-02-05 2002-12-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Endmill and cutting method
US6576319B2 (en) 2000-06-09 2003-06-10 Tdk Corporation Optical information medium and making method
US6689415B2 (en) 2000-06-09 2004-02-10 Tdk Corporation Method and apparatus for preparing optical information medium
US6898796B2 (en) 2000-06-09 2005-05-24 Tdk Corporation Optical information medium and making method
US7055162B2 (en) 2000-06-09 2006-05-30 Tdk Corporation Optical information medium and making method
US7820234B2 (en) 2001-06-07 2010-10-26 Panasonic Corporation Manufacturing method of optical information recording medium
US7147893B2 (en) 2001-08-14 2006-12-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of and apparatus for forming transparent layer on disc substrate, and disc therefrom
JP2004095108A (ja) * 2002-09-03 2004-03-25 Global Mach Kk 光学記録媒体の製造方法
US7138165B2 (en) 2002-09-27 2006-11-21 Tdk Corporation Intermediate for optical recording medium, mold, molding apparatus, and method of manufacturing optical recording medium
US7096770B2 (en) 2003-01-23 2006-08-29 Tdk Corporation Optical recording medium-manufacturing apparatus
US7270527B2 (en) 2003-01-23 2007-09-18 Tdk Corporation Optical recording medium-manufacturing apparatus
US8578877B2 (en) 2007-04-11 2013-11-12 Ricoh Company, Ltd. Spin coater, temperature controlling method of the same, optical disc production apparatus, and optical disc production method
US8206805B2 (en) 2008-10-16 2012-06-26 Panasonic Corporation Optical recording medium, and method for producing optical recording medium
US8313803B2 (en) 2008-11-06 2012-11-20 Fuji Electric Co., Ltd. Spin coating method

Also Published As

Publication number Publication date
US5980985A (en) 1999-11-09
US6312781B1 (en) 2001-11-06
JP3918221B2 (ja) 2007-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3918221B2 (ja) 保護膜形成装置及び保護膜形成方法
US6077349A (en) Method and apparatus for manufacturing disc-shaped recording medium
EP0867873A2 (en) Optical recording medium and optical disk apparatus
JPH11203724A (ja) 光ディスク及びその製造方法
WO1999000794A1 (fr) Support d'enregistrement optique et dispositif de disque optique
JP2001209980A (ja) 光学的情報記録媒体の製造方法および製造装置
JP4281232B2 (ja) 光記録媒体とその製造方法
JP2000011454A (ja) 光記録媒体と、これを用いた光記録再生装置と、光記録媒体の製造方法
JP3557863B2 (ja) 保護膜形成装置及び保護膜形成方法
JP4002084B2 (ja) 光磁気ヘッド及びそれを用いた光磁気記録装置
JPH10199056A (ja) 保護膜形成装置及び保護膜形成方法
JP3557866B2 (ja) ディスク状記録媒体の製造装置
JP3104092B2 (ja) 光ディスクの製造方法
JP2569627Y2 (ja) 光ディスク用基板
JP4071956B2 (ja) 多層光記録媒体
JPH09161341A (ja) ディスク状記録媒体の製造方法
JPH117658A (ja) 光学記録媒体及び光学ディスク装置
JPH1125510A (ja) 光記録媒体
JPH08263886A (ja) ディスク状記録媒体及びその製造方法
JP2001307391A (ja) 光記録媒体の製造装置及び製造方法、並びに光記録媒体
JPH06162568A (ja) 光記録媒体
JP4067907B2 (ja) 樹脂基板を有する記録媒体
JP3511687B2 (ja) 光ディスク及びその製造方法
WO2001027919A1 (fr) Support d'enregistrement magnéto-optique et enregistreur magnéto-optique
JPH0917027A (ja) 光学的情報記録媒体

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050721

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050726

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050922

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060523

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060721

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060728

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070123

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070205

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100223

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110223

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120223

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130223

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees