JPH08263886A

JPH08263886A - ディスク状記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPH08263886A
Application number: JP6237895A
Authority: JP
Inventors: Minoru Kikuchi; 稔菊地
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1995-03-22
Filing date: 1995-03-22
Publication date: 1996-10-11

Abstract

(57)【要約】【構成】円板状の基板１上に少なくとも記録層が形成
され、この記録層上に保護膜３が形成されてなるディス
ク状記録媒体において、上記保護膜３のデータ記録エリ
ア上での平均膜厚を１５μｍ以上とし、内周側と外周側
での膜厚差を２μｍ以下に抑える。【効果】このように保護膜の膜厚が規制されたディス
ク状記録媒体では、保護膜の膜厚が比較的厚いので、こ
の保護膜によって十分な保護効果が得られる。また、保
護膜に膜厚誤差が少ないことから、記録層へのレーザ光
の照射や磁界の印加が安定に行える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はディスク状記録媒体及び
その製造方法に関し、特に保護層の形成方法の改良に関
する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的に
キュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方
向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもの
で、光ファイリングシステムやコンピュータの外部記憶
装置、あるいは音響、映像情報の記録装置等において実
用化されつつある。

【０００３】上記光磁気記録方式によって記録が行われ
る光磁気ディスクとしては、たとえばポリカーボネート
のようなプラスチックやガラス等からなる透明基板の一
主面上に、膜面と垂直方向に磁化容易軸を有し、かつ磁
気光学効果の大きな磁性薄膜（記録磁性膜：たとえば希
土類−遷移金属合金非結晶薄膜）や誘電体膜、反射膜を
積層することにより記録部を形成したものが知られてい
る。このような光磁気ディスクでは、以上のような構成
要素の他、記録部の最上層である反射膜上に、記録磁性
膜の腐食防止や傷つき防止等の目的で、紫外線硬化樹脂
等よりなる保護膜を覆う如く形成するのが一般的であ
る。

【０００４】さらに、この光磁気ディスクは単板構成で
あるが、この他、２枚の光磁気ディスクの記録部同士あ
るいは基板同士を対向させて貼り合わせ一体となした、
両板構成の光磁気ディスクも提案されている。この両板
構成の光磁気ディスクでは、２つの記録部に独立に記録
再生が行われるので、単板構成の光磁気ディスクに比べ
て少なくとも２倍の記録情報量が得られる。また、貼り
合わせ面を挟んで左右対称な構成であるため、単板構成
の光磁気ディスクに比べて、外部環境の温度湿度変化に
対してディスクが反り難いというメリットもある。

【０００５】ところで、光磁気記録方式には、大きく分
けて光変調方式と磁界変調方式とがあるが、このうち磁
界変調方式は、オーバーライトが可能であるとともに高
密度記録化や高アクセス化にも有利であることから精力
的に検討されている。

【０００６】この磁界変調方式は、印加磁界を高速で反
転することにより磁性薄膜に情報信号を書き込むもので
あって、磁界の印加は通常磁界発生手段を有する磁気ヘ
ッドによって行われる。

【０００７】ここで磁界を高速反転させる磁気ヘッドで
は、光変調方式で用いられているような磁界を反転させ
ない磁気ヘッドと比べて、あまり強い磁界を発生させる
ことができない。

【０００８】一方、磁気ヘッドによって印加される磁界
の強さは、当該磁気ヘッドからの距離にほぼ反比例し、
この距離が大きくなる程磁界が弱くなるので、上述のよ
うに比較的弱い磁界しか発生できない磁気ヘッドでは、
できるだけ記録磁性膜と近接させて配置する必要があ
る。

【０００９】そのため、単板構成の光磁気ディスクの場
合には、光磁気ディスクの基板側にレーザ光を照射する
光学ピックアップ装置を配置し、その反対側、すなわち
記録部側に磁気ヘッドを配置する。

【００１０】また両板構成の場合には、特開平２−３１
０８４１号公報や特開平３−２４１５５１号公報で報告
されているように、光磁気ディスクを、基板の両側に記
録部が向くような構成とする。そして、光学ピックアッ
プ装置と磁気ヘッドとを一体化し、その両方を、光磁気
ディスクの一方の記録部側に配置するようにしている。

【００１１】なお、このように一体型ヘッドを用いるシ
ステムでは、光学ピックアップ装置からのレーザ光は基
板を介さず直接記録磁性膜に照射される。このため、基
板の材料は透明材料に限定されず、不透明な種々の材料
が使用できる。したがって、特開平３−１７８０６２号
公報で示されているように、基板の材料にＡｌ等を用い
ることでディスクの反りの防止を図ることも可能であ
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】以上のように光磁気記
録方式では各種構成の光磁気ディスクが提案されている
が、いずれの構成の場合にも、保護膜は、通常、スピン
コート法によって形成される。この保護膜の形成に用い
るスピンコート装置を図６に示す。

【００１３】このスピンコート装置は、保護膜を形成す
べきディスク２４を載置し、回転させるためのターンテ
ーブルと、ディスク２４に紫外線硬化樹脂を供給するた
めのノズル２２を有してなっている。上記ノズル２２
は、樹脂供給部に接続された樹脂供給管２３の一端部に
取り付けられており、樹脂供給部に貯留された樹脂が樹
脂供給管を通過してノズル２２より吐出するようになっ
ている。

【００１４】このスピンコート装置によって、保護膜を
形成するには、まず、保護膜を形成すべきディスク２４
を、ターンテーブル上に載置して低速で回転させる。そ
して、ノズル２２より紫外線硬化樹脂を吐出させること
で、ディスク２４のデータ記録エリアＡの内周に沿って
円周状に紫外線硬化樹脂を供給する。続いてディスク２
４を高速で回転させ、その遠心力によって内周に供給し
た塗料を外周側に広げ、ディスク全面にわたって紫外線
硬化樹脂の塗膜を形成する。そして、この塗膜に紫外線
を照射し、硬化させることで、保護膜は形成されること
になる。なお、この保護膜の厚さは、十分な保護効果を
得る観点から、概ね１５μｍに設定される。

【００１５】しかしながら、以上のようにしてスピンコ
ート法で形成される保護膜は、外周側程膜厚が厚くなる
といった傾向がある。

【００１６】すなわち、スピンコート法で形成される塗
膜の膜厚は、樹脂の粘度、ディスクの回転数、回転時間
等の条件によって変化する。しかし、塗布開始位置を同
じにし、かつ同膜厚で塗膜を形成しようとした場合に
は、これら条件を変化させても、塗膜の膜厚は外周側に
いく程等しい割合で増加するといった性質がある。

【００１７】まず、図７に、３．５インチディスク上
に、スピンコート法で紫外線硬化樹脂膜を形成したとき
の膜厚分布を示す。横軸はディスク上の半径位置、縦軸
はその半径位置における紫外線硬化樹脂膜（保護膜）の
膜厚である。

【００１８】測定に際して、スピンコートは、ディスク
を３０ｒｐｍの回転速度で回転させながら、１７〜２１
ｍｍの半径位置に紫外線硬化樹脂を供給し、続いてディ
スクの回転速度を１秒間で３０００ｒｐｍまで上昇さ
せ、この回転速度を４秒間保持することで行った。

【００１９】紫外線硬化樹脂としては、粘度が５００ｃ
ｐｓ、１４０ｃｐｓ、３７ｃｐｓの３種類のものを使用
した。図中、○は５００ｃｐｓの紫外線硬化樹脂を塗布
したときの膜厚分布、△は１４０ｃｐｓの紫外線硬化樹
脂を塗布したときの膜厚分布、□は３７ｃｐｓの紫外線
硬化樹脂を塗布したときの膜厚分布のぞれぞれ実測値で
ある。また、実線は、粘性抵抗力と遠心力の釣り合いの
式から求めた膜厚分布の計算値である。

【００２０】次に、図７における、粘度１４０ｃｐｓの
紫外線硬化樹脂を用いた場合の膜厚分布を２．０倍する
ことで得られる規格化膜厚分布及び粘度３７ｃｐｓの紫
外線硬化樹脂を用いた場合の膜厚を３．８倍することで
得られる規格化膜厚分布を、粘度５００ｃｐｓの紫外線
硬化樹脂を用いた場合の膜厚分布に重ねた結果を図８に
示す。

【００２１】この図８を見ると、３つの膜厚分布は、同
一曲線上に載っていることがわかる。このことは、通常
のスピンコート法では、いくら条件を制御しても、ある
特定の膜厚で塗膜を形成しようとした場合には、必ず内
周と外周とである決まった値だけ膜厚誤差が生じてしま
うことを示している。

【００２２】たとえば、粘度３７ｃｐｓの紫外線硬化樹
脂を使用したり、スピンコートの回転時間を長くするこ
とで、保護膜の膜厚を全体に薄く設定すれば、２４ｍｍ
の半径位置（内周側）と４０ｍｍの半径位置（外周側）
での膜厚差は１．５μｍに抑えられる。しかし、記録磁
性膜の腐食を十分に防止するには、保護膜の膜厚を極端
に薄くすることはできず、現行通り平均１５μｍの膜厚
は必要である。しかし、条件を制御して保護膜の平均膜
厚を１５μｍにすると、内周側と外周側での膜厚は５μ
ｍに達することになる。

【００２３】ここで、このように保護膜の内周側と外周
側での膜厚誤差が大きくなると、光学ピックアップ装置
から保護膜を通過して照射されるレーザ光が、波面収差
によって不安定化することが問題になってくる。この波
面収差Ｗ４０ｄは、下記の式１に基づいて数値化され
る。

【００２４】Ｗ４０ｄ＝（ｎ²−１）／８ｎ³・（ＮＡ）⁴・Δｄ・・・式１ｎ：保護膜の屈折率 Δｄ：保護膜の膜厚誤差ＮＡ：光学系のレンズの開口数現行の光磁気ディスクの場合、保護膜の屈折率ｎが１．
５８であり、光学系のレーザ波長λが７８０ｎｍ、レン
ズの開口数ＮＡ（ＮｕｍｅｒｉｃａｌＡｐａｒｔｕｒ
ｅ）が０．５である。このような条件において、保護膜
の膜厚誤差Δｄが５０μｍであると、数１から波面収差
Ｗ４０ｄは０．１９λ（＝０．１４８μｍ）となる。

【００２５】しかし、最近では、記録密度の向上のた
め、光学系のレーザ波長λはより短く、またレンズの開
口数ＮＡはより大きくされる方向にある。

【００２６】これは、光学レンズで集光させたレーザ光
のスポットサイズは、レーザ波長λに比例し、レンズの
開口数ＮＡに反比例するからである。現行の光学系では
ビームスポット径が約１．６μｍであるが、例えば上述
のようにレーザ波長を４８０ｎｍ、レンズの開口数ＮＡ
を０．９とすると、ビームスポット径が現行の１／３で
ある０．５μｍにまで小さくなり、面積当たり記録密度
が約９倍に高められることになる。

【００２７】ところが、そのような方向で光学系のファ
クターを変化させた場合に、保護膜の内外周での膜厚誤
差Δｄが５μｍのままであると、上記数１で求められる
波面収差Ｗ４０ｄの値は非常に大きな値になり、安定し
た記録再生が困難になる。たとえば、レーザ波長を４８
０ｎｍ、レンズの開口数ＮＡを０．９とした場合に、波
面収差Ｗ４０ｄを少なくとも現行の０．１９λに抑える
ためには保護膜の内外周での膜厚誤差Δｄは２．９μｍ
以下に抑える必要がある。

【００２８】また、このような保護膜の膜厚誤差は、光
学系によるレーザ光の照射のみならず、磁気ヘッドによ
る磁界の印加にも影響する。磁界変調方式では、磁気ヘ
ッドとしては、ディスク面に対して数μｍ〜数１０μｍ
の微少な間隙を有して浮上走行しながら磁界を印加する
浮上型磁気ヘッドやディスク面を摺動しながら磁界を印
加する摺動型磁気ヘッドが用いられる場合があるが、こ
れらのタイプの磁気ヘッドを用いる場合に、保護膜に膜
厚誤差があると、記録磁性膜と磁気ヘッドとの距離がこ
の膜厚誤差を反映して不均一になる。その結果、記録磁
性膜に印加される磁界の強さにばらつきが生じてしま
う。例えば、浮上高さを５μｍとした浮上型磁気ヘッド
を用いるシステムにおいて、保護膜に内外周で５μｍの
膜厚差があると印加される磁界の強さは内外周で１５Ｏ
ｅも異なるものとなる。

【００２９】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、保護膜によって十分な保
護効果が得られ、また記録層へのレーザ光の照射や磁界
の印加が安定に行えるディスク状記録媒体の製造方法を
提供することを目的とする。

【００３０】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明のディスク状記録媒体は、円板状の基板上
に少なくとも記録層が形成され、この記録層上に紫外線
硬化樹脂よりなる保護膜が形成されてなり、上記保護膜
のデータ記録領域上での平均膜厚が１５μｍ以上であ
り、内周側と外周側での膜厚差が２μｍ以下であること
を特徴とするものである。

【００３１】このディスク状記録媒体は、基板の片面に
のみ記録層と保護膜が形成された単板構成、あるいは基
板の両面に記録層と保護膜が形成された両板構成とされ
る。いずれの場合にも、保護膜の膜厚は上記条件を満た
すように設定される。

【００３２】このような保護膜は、紫外線硬化樹脂をス
ピンコートすることで形成されるが、特に上述の膜厚条
件を満たす保護膜は、スピンコートに際して粘度の異な
る複数の紫外線硬化樹脂を用い、内周側に粘度の高い紫
外線硬化樹脂を供給し、それよりも外周側に粘度の低い
紫外線硬化樹脂を供給するようにすると形成される。

【００３３】一方、上記記録層には、例えば磁気記録シ
ステムや光磁気記録システムで記録が行われる磁性層が
形成される。本発明は、このうち光磁気記録システム、
特に磁界変調方式を採用する場合に効果が高い。

【００３４】

【作用】本発明では、円板状の基板上に少なくとも記録
層が形成され、この記録層上に紫外線硬化樹脂よりなる
保護膜が形成されてなるディスク状記録媒体において、
上記保護膜のデータ記録エリア上での平均膜厚を１５μ
ｍ以上とし、内周側と外周側での膜厚差を２μｍ以下に
抑える。

【００３５】保護膜の平均膜厚が１５μｍ以上である
と、この保護膜によって記録層の腐食が十分に防止さ
れ、温度変化による反りも確実に抑えられるようにな
る。

【００３６】また、内周側と外周側での保護膜の膜厚差
が２μｍ以下に抑えられていると、例えば波長４８０ｎ
ｍ，レンズの開口数０．９といったように、高密度記録
用に設計された光学系を用いた場合でも、保護膜による
波面収差が十分に小さい値に抑えられる。その結果、記
録再生光が安定に記録層に照射されるようになる。

【００３７】さらに、摺動型磁気ヘッドや浮上型磁気ヘ
ッドを用いる場合でも、保護膜の膜厚差が２μｍ以下で
あれば、記録層と磁気ヘッドとの距離がほぼ一定に保た
れ、記録層に均一な強さで磁界が印加される。したがっ
て、ディスク全面に、記録ピットが安定に形成されるこ
とになる。

【００３８】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら説明する。なお、本実施例は光
磁気ディスクの製造に本発明を適用した例である。

【００３９】本実施例で製造する光磁気ディスクは、磁
界変調方式に適用される光磁気ディスクであり、図１に
示すように、基板１上に記録部２が形成され、この記録
部２上と、基板１の記録部２が形成された側とは反対側
の面に保護膜３，４が形成されて構成される。このよう
な光磁気ディスクは、基板１側に光学ピックアップ装置
が配置され、その反対側、すなわち記録部２側に磁気ヘ
ッド５が配置される。そして、光学ピックアップ装置に
よって基板１側からレーザ光Ｌを照射し、また磁気ヘッ
ド４によって記録部２側から高速反転させながら磁界を
印加することで情報信号が書き込まれる。

【００４０】上記基板１は、厚さ数ｍｍ程度の円板状の
透明基板であって、その材質としては、アクリル樹脂，
ポリカーボネート樹脂，ポリオレフィン樹脂，エポキシ
樹脂等のプラスチック材料の他、ガラス等も使用され
る。

【００４１】上記記録部２は、上記基板１の内周領域を
除いた領域、すなわち半径位置が２４〜４０ｍｍの領域
に円環状に形成される。（以下、この記録部が形成され
た円環状の領域をデータ記録エリアと称する）この記録
部２は、記録磁性膜、第１の誘電体膜、第２の誘電体膜
及び反射膜の４層よりなり、第１の誘電体膜、記録磁性
膜、第２の誘電体膜、反射膜の順で積層されて構成され
ている。

【００４２】上記記録磁性膜は、膜面に垂直な方向に磁
化容易方向を有する非晶質の磁性薄膜であって、磁気光
学特性に優れることは勿論、室温にて大きな保磁力を持
ち、且つ２００℃近辺にキュリー点を持つことが望まし
い。このような条件に叶った記録材料としては、希土類
−遷移金属合金非晶質薄膜等が挙げられ、なかでもＴｂ
ＦｅＣｏ系非晶質薄膜が好適である。この記録磁性膜に
は、耐蝕性を向上させる目的で、Ｃｒ等の添加元素が添
加されていてもよい。

【００４３】上記誘電体膜としては、酸化物や窒化物等
が使用可能であるが、誘電体中の酸素が記録磁性膜に悪
影響を及ぼす虞れがあることから窒化物がより好まし
く、酸素および水分を透過せず且つ使用レーザ光を十分
に透過し得る物質として窒化珪素あるいは窒化アルミニ
ウム等が好適である。

【００４４】また、反射膜は、前記第２の誘電体膜との
境界でレーザ光を７０％以上反射する高反射率の膜によ
り構成することが好ましく、非磁性金属の蒸着膜が好適
である。また、この反射膜は、熱的良導体であることが
望ましく、入手の容易さや成膜の容易さ等を考慮する
と、アルミニウムが適している。

【００４５】上記保護膜３，４は、以上のような４層構
成の記録部２上と、基板１の記録部２を形成した側とは
反対側の面に、紫外線硬化樹脂のスピンコート膜として
形成されている。本実施例の光磁気ディスクでは、特に
この４層構成の記録部２上の保護膜３は、データ記録エ
リア上での平均膜厚が１５μｍ以上とされ、内周側と外
周側での膜厚差が２μｍ以下に抑えられている。

【００４６】まず、保護膜３の平均膜厚が１５μｍ以上
であると、この保護膜によって記録磁性膜の腐食が十分
に防止され、ディスクの温度変化による反りも確実に抑
えられる。

【００４７】また、この保護膜３の膜厚誤差として規制
した２μｍは、例えばレーザ波長λを４８０ｎｍ、レン
ズの開口数ＮＡを０．９としたときに、波面収差Ｗ４０
ｄが０．１９λ以下に抑えられる膜厚誤差Δｄの上限
（２．９μｍ）を、大きく下回る値である。したがっ
て、このような膜厚誤差の小さい保護膜が形成された光
磁気ディスクでは、高密度記録用に設計された光学系を
用いた場合でも、保護膜３による波面収差が十分小さい
値に抑えられ、記録再生光が安定に記録磁性膜に照射さ
れる。

【００４８】さらに、この程度の膜厚誤差であれば、摺
動型磁気ヘッドや浮上型磁気ヘッドを用いた場合でも、
記録磁性膜と磁気ヘッドの距離がほぼ一定に保たれる。
したがって、例えば、浮上量が５μｍに設定された浮上
型磁気ヘッドでは、記録磁性膜に印加される磁界の差が
内外周で４Ｏｅ程度に抑えられ、ディスク全面に記録ピ
ットが安定に形成されることになる。なお、ディスクの
磁気ヘッドからの距離と印加磁界の関係は、図２に示す
通りである。

【００４９】このように平均膜厚が比較的厚く且つ膜厚
誤差の小さい保護膜は、図３に示すようなスピンコート
装置によって形成される。

【００５０】このスピンコート装置は、保護膜を形成す
べきディスク３７を載置し、回転させるためのターンテ
ーブルと、このディスク３７に粘度の高い紫外線硬化樹
脂３１を供給する第１のノズル３２及び粘度の低い紫外
線硬化樹脂３４を供給する第２のノズル３５よりなって
いる。この２つのノズル３２，３５は、それぞれ図示し
ない樹脂供給部に接続された樹脂供給管３３，３６の一
端部に取り付けられている。このうち第１のノズル３２
は、その吐出口がディスクデータ記録エリアＡよりも内
周側に向けられている。一方、第２のノズル３５は、そ
の吐出口がデータ記録エリアＡの内周辺縁部近傍に向け
られている。

【００５１】本実施例では、以上のようスピンコート装
置によって保護膜３を形成する。

【００５２】なお、第１のノズル３２から供給する紫外
線硬化樹脂は粘度が５００ｃｐｓのものであり、第２の
ノズル３５から供給する紫外線硬化樹脂は粘度が３７ｃ
ｐｓのものである。

【００５３】上記スピンコート装置によって、保護膜３
を形成するには、上記記録部２が形成されたディスク３
７を、保護膜を形成すべき面を上側にしてターンテーブ
ル上に載置し、まず、３０ｒｐｍの低速でディスク３７
を回転させる。そして、第１のノズル３２，第２のノズ
ル３５より、それぞれ粘度の高い紫外線硬化樹脂３１，
粘度の低い紫外線硬化樹脂３４を同時に吐出させる。図
４に示すように、第１のノズル３２より吐出した粘度の
高い紫外線硬化樹脂３１は、ディスク３７のデータ記録
エリアＡよりも内周側、すなわち１７〜２１ｍｍの半径
位置に滴下し、ディスク３７の回転によって円周状に塗
布される。また、第２のノズル３５より吐出した粘度の
低い紫外線硬化樹脂３４は、ディスク３７のデータ記録
エリアＡの内周辺縁部近傍、すなわち２４〜３０ｍｍの
半径位置に滴下し、やはりディスク３７の回転によって
円周状に塗布される。

【００５４】続いて、ディスク３７の回転速度を１秒間
かけて３０００ｒｐｍまで上昇させ、この回転速度で４
秒間保持する。この回転の間に、ディスク３７上に円周
状に供給された各紫外線硬化樹脂３１，３４は遠心力に
よって外周側に広がり、ディスク３７全面に紫外線硬化
樹脂の塗膜が形成される。

【００５５】このようにしてディスク上に紫外線硬化樹
脂の塗膜を形成した後、この塗膜に、５００ｍＪ／ｃｍ
²の照射パワーで紫外線を照射する。その結果、樹脂が
硬化し、保護膜３が形成されることになる。

【００５６】ここで、この保護膜３の膜厚を接触式段差
計で測定した結果を図５に示す。なお、図５において、
横軸はディスク上の半径位置であり、縦軸はその半径位
置における保護膜３の膜厚である。また、比較のため、
粘度が５００ｃｐｓの紫外線硬化樹脂のみをスピンコー
トした場合の膜厚分布および粘度が３７ｃｐｓの粘度の
紫外線硬化樹脂のみをスピンコートした場合の膜厚分布
を図５に重ねて示す。なお、この２つの比較データはい
ずれも計算値である。

【００５７】図５からわかるように、粘度の高い紫外線
硬化樹脂と粘度の低い紫外線硬化樹脂の２種類を用いて
形成された保護膜３の膜厚分布は、半径位置が１７〜２
４ｍｍの領域では、粘度が５００ｃｐｓの紫外線硬化樹
脂のみをスピンコートした場合とほぼ同じ分布を示す。
しかし、この後の半径位置が２４ｍｍ〜４０ｍｍの領域
では、この膜厚分布に比べて半径方向における膜厚の増
加変化が小さくなる。その膜厚の増加変化は、むしろ粘
度が３７ｃｐｓの紫外線硬化樹脂のみをスピンコートし
た場合とほぼ同じ程度である。したがって、データ記録
エリア全体の平均膜厚は約１５μｍであるが、内外周側
での膜厚誤差は１．５μｍに抑えられる。

【００５８】このように粘度の異なる２種類の紫外線硬
化樹脂をスピンコートすると、内外周で膜厚誤差の小さ
い保護膜が比較的厚い膜厚で形成されることになる。

【００５９】また、このように２種類の紫外線硬化樹脂
を用いてスピンコート法によって保護膜を形成する場合
を、従来の１種類の紫外線硬化樹脂を用いてスピンコー
ト法によって保護膜を形成する場合と比較すると、紫外
線硬化樹脂とそれを供給するための供給システムが余分
に必要になるだけで、装置が複雑になることもなけれ
ば、タクトタイムも１種類の紫外線硬化樹脂を用いる場
合と同じである。したがって、光磁気ディスクの製造工
程に容易に導入することができる。

【００６０】なお、スピンコートに用いる２種類の紫外
線硬化樹脂としては、アクリル系紫外線硬化樹脂等、光
磁気ディスクの保護膜材料として通常用いられているも
のが使用可能である。この紫外線硬化樹脂の粘度は、た
とえば重合度等を制御することで所望の値とすることが
できる。

【００６１】光磁気ディスクとしては、以上のような基
板の片面にのみ記録層と保護膜が形成され、基板の記録
層が形成されている側とは反対側の面に保護膜が形成さ
れた単板構成の他、単板構成の光磁気ディスクの基板同
士を貼り合わせ一体となした両板構成であっても良い。
両板構成の光磁気ディスクでは、保護膜で覆われた記録
部が両側に向き、この一方の記録部側から一体型ヘッド
によってレーザ光が照射されるとともに磁界が印加され
る。この場合にも、内外周での膜厚誤差の小さい保護膜
が比較厚い膜厚で形成されていると、この保護膜が十分
な保護効果を発揮するとともに、記録磁性膜への記録再
生光の照射及び磁界の印加が安定に行われ、耐久性に優
れ良好な記録再生特性が得られるものとなる。

【００６２】また、本実施例では光磁気ディスクを例に
して説明したが、本発明が適用される媒体は光磁気ディ
スクに限らない。ハードディスク等、他のディスク状記
録媒体に適用した場合にも同様の効果を得ることができ
る。

【００６３】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明では、円板状の基板上に少なくとも記録層が形成さ
れ、この記録層上に保護膜が形成されてなるディスク状
記録媒体において、上記保護膜のデータ記録エリア上で
の平均膜厚を１５μｍ以上とし、内周側と外周側での膜
厚差を２μｍ以下に抑える。このように保護膜の膜厚が
規制されたディスク状記録媒体では、保護膜の膜厚が比
較的厚いので、この保護膜によって十分な保護効果が得
られる。また、保護膜に膜厚誤差が少ないことから、記
録層へのレーザ光の照射や磁界の印加が安定に行える。
したがって、耐久性に優れるとともに良好な記録再生特
性を得ることが可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明で製造されるディスク状記録媒体の１例
を示す模式図である。

【図２】ディスクの磁気ヘッドからの距離と印加磁界を
関係を示す特性図である。

【図３】本発明の製造方法で用いられるスピンコート装
置の構成を示す模式図である。

【図４】ディスク上に２種類の紫外線硬化樹脂が滴下し
た様子を示す模式図である。

【図５】本発明の製造方法で形成された保護膜の膜厚分
布を示す特性図である。

【図６】従来のスピンコート装置を示す模式図である。

【図７】１種類の紫外線硬化樹脂を用いて形成された保
護膜の膜厚分布を示す特性図である。

【図８】上記特性図について膜厚を規格化した特性図で
ある。

【符号の説明】

１基板２記録部３，４保護膜３１粘度の高い紫外線硬化樹脂３４粘度の低い紫外線硬化樹脂３７ディスク

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【手続補正書】

【提出日】平成７年１１月８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１６】すなわち、スピンコート法で形成される塗
膜の膜厚は、樹脂の粘度、ディスクの回転数、回転時間
等の条件によって変化する。しかし、塗布開始位置を同
じにし、かつ同膜厚で塗膜を形成しようとした場合に
は、これら条件を変化させても、塗膜の膜厚は外周側に
いく程小さい割合で増加するといった性質がある。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２８】また、このような保護膜の膜厚誤差は、光
学系によるレーザ光の照射のみならず、磁気ヘッドによ
る磁界の印加にも影響する。磁界変調方式では、磁気ヘ
ッドとしては、ディスク面に対して数μｍ〜数１０μｍ
の微小な間隙を有して浮上走行しながら磁界を印加する
浮上型磁気ヘッドやディスク面を摺動しながら磁界を印
加する摺動型磁気ヘッドが用いられる場合があるが、こ
れらのタイプの磁気ヘッドを用いる場合に、保護膜に膜
厚誤差があると、記録磁性膜と磁気ヘッドとの距離がこ
の膜厚誤差を反映して不均一になる。その結果、記録磁
性膜に印加される磁界の強さにばらつきが生じてしま
う。例えば、浮上高さを５μｍとした浮上型磁気ヘッド
を用いるシステムにおいて、保護膜に内外周で５μｍの
膜厚差があると印加される磁界の強さは内外周で１５Ｏ
ｅも異なるものとなる。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３９

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３９】本実施例で製造する光磁気ディスクは、磁
界変調方式に適用される光磁気ディスクであり、図１に
示すように、基板１上に記録部２が形成され、この記録
部２上と、基板１の記録部２が形成された側とは反対側
の面に保護膜３，４が形成されて構成される。このよう
な光磁気ディスクは、基板１側に光学ピックアップ装置
が配置され、その反対側、すなわち記録部２側に磁気ヘ
ッド５が配置される。そして、光学ピックアップ装置に
よって基板１側からレーザ光Ｌを照射し、また磁気ヘッ
ド５によって記録部２側から高速反転させながら磁界を
印加することで情報信号が書き込まれる。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５１】本実施例では、以上のようなスピンコート
装置によって保護膜３を形成する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円板状の基板上に少なくとも記録層が形
成され、この記録層上に保護膜が形成されてなるディス
ク状記録媒体において、上記保護膜のデータ記録エリア上での平均膜厚が１５μ
ｍ以上であり、内周側と外周側での膜厚差が２μｍ以下
であることを特徴とするディスク状記録媒体。
【請求項２】記録層が磁気光学効果を有する磁性薄膜
であり、この磁性薄膜に対して磁界変調記録方式によっ
て記録が行われることを特徴とする請求項１記載のディ
スク状記録媒体。
【請求項３】基板の両面に記録層及び保護層が形成さ
れていることを特徴とする請求項１記載のディスク状記
録媒体。
【請求項４】円板状の基板上に少なくとも記録層を形
成した後、この記録層上に、紫外線硬化樹脂をスピンコ
ートして保護膜を形成するに際し、粘度の異なる複数の紫外線硬化樹脂を用い、内周側に粘
度の高い紫外線硬化樹脂を供給し、それよりも外周側に
粘度の低い紫外線硬化樹脂を供給することを特徴とする
ディスク状記録媒体の製造方法。