JPH0885868A

JPH0885868A - 磁気記録媒体及びその製造方法

Info

Publication number: JPH0885868A
Application number: JP7062315A
Authority: JP
Inventors: Shinji Fukaya; 信二深谷; Yoshinori Honda; 好範本田; Akira Kato; 章加藤; Shuichi Kojima; 修一小島
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1994-07-20
Filing date: 1995-03-22
Publication date: 1996-04-02
Also published as: US6156405A; US5707706A; US5976661A

Abstract

(57)【要約】【目的】簡便な方法によりディスク基板の面内温度分布
を均一に制御できる基板の加熱方法を実現することによ
り、面内膜質特性の均一な磁気記録媒体を得る。さら
に、基板の反り又は割れが生じることを防止し、高温に
基板を加熱するすることにより、高保磁力を有する磁気
記録媒体及びその製造方法を提供する。【構成】ヒータ８によりディスク基板１０を加熱しなが
ら基板上に磁性膜等を形成する場合、ヒータ８の前に、
構造を工夫したマスク９を配置して基板に到達する熱量
を制御するようにした。即ちマスク９は、ディスクの中
心部に対応して、ヒータが発する熱放射線を遮蔽する部
分と、この遮蔽部分の周囲に熱放射線を透過する部分を
有するように構成される。ヒータ８の前に配置されたマ
スク９により、基板の加熱は制御される。これによりデ
ィスク基板の中央部は異常に加熱されず、基板の反り又
は割れの発生が防止できる。また、この結果、磁性膜の
保磁力が２０００エルステッド以上で、かつ面内保磁力
分布が±５％以内の、高密度記録に好適な磁気ディスク
媒体が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及びその
製法に係り、特にスパッタリングにより磁気ディスク媒
体を製造する場合の、ディスク基板の加熱処理する方法
に関するものである。さらに、本発明は、高密度記録が
可能で高品質な磁気ディスク媒体、及びそれを用いた磁
気ディスク装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスク媒体を製造するに場合、真
空中でディスク状基板を加熱し、スパッタ法もしくは蒸
着法によりこの基板上に磁性膜及び保護膜等の薄膜を形
成している。この場合、基板の温度が薄膜の性質を大き
く左右する。均一な膜質を得ようとすると、基板の面内
温度を均一化し、そして基板を均一に加熱することが重
要となる。また、基板の不均一な加熱は昇温速度が速い
場合、基板の反りまたは割れが発生し、真空装置内での
基板の落下及び不良の原因となる。

【０００３】このような問題に対して、特開平２−４３
３６０号及び特開平３−６３６７号の様にヒ−タ部を分
割し、基板の温度分布を調節する方法が知られている。
また、特開平２−１７９８７９号及び特開平５−１４４
５５７号に記載のように、ヒ−タと基板との間に基板加
熱用の熱板を配置することにより基板温度の均一化を図
っている。さらに、特開平５−３３１２８号では可動式
加熱体を用い、トレ−及びガラス基板との間隔を近づけ
て加熱することにより、ガラス基板の温度を均一化して
いる。

【０００４】上記固定式ヒ−タを用いて基板を加熱する
方法では、基板とヒ−タの間隔が遠いほど熱量分布が悪
くなるため、基板は不均一に加熱され、基板に温度分布
が生じる。このため、基板面内の膜質特性に分布が生じ
る。また、基板の不均一加熱は加熱時の昇温速度が速い
場合、基板の反りの原因となる。さらに、ガラス基板等
の熱伝導率の悪い基板においては割れの原因となる。

【０００５】また、ヒ−タ部を分割して制御する方法
(特開平２−４３３６０等)は、外部制御装置が複数にな
り、加熱プロセスが複雑化する。また、可動式ヒ−タを
用いて基板とヒ−タの間隔を狭める方法(特開平５−３
３１２８号)は、同一電力での基板温度の高温化が図れ
るなどの利点を有しているが、可動装置の導入によりヒ
−タチャンバ−が大型化、かつ、複雑化するという欠点
がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、基板
の反り又は割れが生じることを防止し、高温に基板を加
熱することができる基板の加熱方法を実現することにあ
る。

【０００７】本発明の他の目的は、簡便な方法によりデ
ィスク基板の面内温度分布を均一に加熱することによ
り、面内の膜質特性の優れた磁気記録媒体を提供するこ
とにある。

【０００８】更に本発明の他の目的は、高保磁力で面内
保磁力分布が均一な磁気ディスク媒体を提供することに
ある。

【０００９】更に本発明の他の目的は、この種の磁気デ
ィスク媒体を用いて高密度記録が可能な磁気ディスク装
置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、ヒータにより
ディスク基板を加熱しながらこの基板上に薄膜を形成す
る場合、ヒータの前に、構造を工夫したマスクを配置し
て基板に達する熱量を制御するようにしたものである。
ディスク基板は中央部がより高温に加熱される傾向があ
る。そこで好ましくは、マスクの中央部にはディスクの
中心部に対応して、ヒータが発する熱放射線を遮蔽する
部分を有し、この遮蔽部分の周囲に熱放射線を透過する
部分を有するように構成される。この様に、マスクの構
造を工夫して、ヒ−タからの熱量を制御することによ
り、ディスク基板の面内温度分布を均一にでき、基板の
反りや割れが生じることが防げる。本発明の一例によれ
ば、ディスク基板の面内温度分布が±３％以下になるよ
うに加熱することが好ましい。直径３．５インチのディ
スク基板を加熱する場合、ディスク基板の中心部に対す
る周辺部の反りが１０μｍ以下の範囲となるように加熱
するのが良い。

【００１１】ディスク基板は高温に加熱されるので、マ
スクも過剰に加熱される。このマスクの温度が異常に上
昇することを防止するため、マスクに連結させて冷却装
置を設けるのが好ましい。この冷却装置内には例えば冷
却媒体が循環される。また、ヒ−タ側のマスク面に鏡面
加工を施し、ヒ−タ波長に対し高い反射率を有する様に
してもよい。この様にすれば、熱放射線吸収率を低下さ
せることができるため、マスクの異常な温度上昇を防止
できる。

【００１２】本発明による加熱方法を用いてディスク基
板を高温で加熱しながら、基板上に磁性膜や保護膜等を
均一に形成できる。これにより高保磁力化が達成でき、
面内の膜質特性の優れた磁気ディスク媒体を得ることが
できる。本発明によれば、磁性膜の保磁力が２０００エ
ルステッド以上であり、かつ面内保磁力分布が±５％以
内となる磁気ディスク媒体を得ることができる。磁気デ
ィスク媒体の反りに着目すると、ディスクの中心部に対
する半径方向の反りは３μｍ／インチ以下である。例え
ば、直径３．５インチの磁気ディスク媒体の場合、ディ
スクの中心部に対する周辺部の反りが１０μｍ以下とな
る。

【００１３】この磁気ディスク媒体を用いた好適な磁気
ディスク装置としては、磁性膜の保磁力が２０００エル
ステッド以上であり、且つその面内保磁力分布が±５％
以内の磁気ディスク媒体を回転可能に支持し、この磁気
ディスク上に、磁気ヘッドを４０ｎｍ以下の間隔を保っ
て移動させながら磁気ディスク媒体に情報を記録再生す
る様に構成する。例えば、直径３．５インチの磁気ディ
スク装置の場合、ディスクの中心部に対する周辺部の反
りが１０μｍ以下のディスク媒体を用いることができ
る。

【００１４】

【作用】本発明によれば、ヒ−タと基板との間に上記の
ような構成のマスクを配置することにより、ヒ−タから
ある距離にある基板平面上の単位面積あたりの熱量を一
定にできる。つまり、基板上の熱量分布を一定にするこ
とができる。これにより、基板表面の温度分布が均一に
なるように加熱することができるため、基板の割れを生
じるが防止でき、反りも一定範囲内に抑えることができ
る。

【００１５】しかも、基板の割れや反りが生じることが
なく、高温で加熱することができるので、高保磁力で、
面内保磁力分布が均一な磁気記録媒体を得ることができ
る。

【００１６】

【実施例】磁気ディスク装置の分野においてはディスク
の径を問わず、高記録密度化の動きが年々著しい。記録
密度の向上に関し、一般的に重要な要素は保磁力の向
上、媒体ノイズの低減及びヘッドの低浮上化である。磁
気特性の一部である保磁力とディスク基板の加熱温度と
の間には相関があり、基板の加熱温度を高温すると高保
磁力化する傾向がある。しかしながら、基板の高温化に
ついては従来技術のような基板の反り等の問題が生じる
ため、単純に基板を加熱することにより高保磁力化を達
成することは難しい。また、基板の反りが大きくなる
と、出力波形に反りのうねり成分が生じたり、磁気ヘッ
ドとのクラッシュが発生するため、磁気ヘッドの低浮上
化が難しくなる。さらに、磁気ディスク装置において、
安定的に高密度で記録を行うためには磁気ディスク媒体
の面内特性を均一にすることが重要である。

【００１７】従来技術による基板の加熱方法によれば、
１５００〜１６００エルステッド程度の保磁力を持つ磁
気ディスク媒体しか達成できず、これでは今後の高記録
密度化の要請には応えられない。本発明による加熱方法
によれば、面内保磁力分布を±５％以内、或いは基板の
反りを一定以内、即ちディスク基板の面内特性を均一に
できる。更に、保磁力が２０００エルステッド以上の磁
気ディスク媒体、即ち６００Ｍｂ／ｉｎｃｈ²以上の磁
気記録媒体が得られ、高密度記録の要請に応えられる。

【００１８】以下、本発明の実施例について図面を用い
て説明する。

【００１９】図１は本発明で用いた枚葉式スパッタ成膜
装置の概略図である。この成膜装置は、ロ−ドロック室
１、加熱室２、基板温度モニタ−室３、下地膜形成室
４、磁性膜形成室５、保護膜形成室６、アンロ−ドロッ
ク室７により構成されている。ディスク基板１０はこれ
らの処理室を左から右に移動しながらいろいろな薄膜が
積層して形成され、最終的に磁気ディスク媒体が製造さ
れる。

【００２０】ディスク基板１０は基板支持部１１に搭載
され、ロ−ドロック室１に送られる。このロードロック
室１で真空排気された後、基板１０は加熱室２に搬送さ
れる。加熱室２には、基板１０の両面を加熱するために
一対のヒ−タ８が設けられ、その前には各々マスク９が
配置される。詳しくは後述するが、本発明においてはこ
のマスク９の構造が工夫される。

【００２１】基板１０は、その後、基板温度モニタ−室
３に搬送され、赤外線輻射温度計１２により基板の温度
が測定される。次に、基板１０は下地膜形成室４に搬送
され、そこで３Ｎの純度を有するＣｒから成るターゲッ
ト１３を用いて下地膜１８（図８）が成膜される。次い
で、基板１０は磁性膜形成室５に搬送され、そこでCo-C
r-Pt(18at%Cr,10at%Pt)合金から成るターゲット１３を
用いて磁性膜１９が成膜される。次に、基板１０は保護
膜形成室６に搬送され、5Nの純度を有するCから成るタ
ーゲット１３を用いて保護膜２０が成膜される。その
後、基板１０はアンロ−ドロック室７に搬送され、大気
中に開放される。そして、最終的には保護膜２０の上に
潤滑膜２１が形成されて、図８に示すような磁気ディス
ク媒体が出来上がる。

【００２２】図８に示すように、ディスク基板１０は例
えばＮｉ−Ｐ／Ａｌ−Ｍｇ基板であって、この基板１０
の上に、下地膜１８が750Å、磁性膜１９(Co-Cr-Ta)が3
50Å、保護膜２０が200Å、フッ素系の潤滑剤が50Åの
厚さで形成されて磁気ディスク媒体が構成される。尚、
後述ように、ディスク基板はガラス基板であってもよ
く、基板の上に形成される薄膜及びそれらの厚さ等は上
記のものに限定されない。

【００２３】次に、図２を参照してマスク９の構成につ
いて説明する。磁気ディスク基板の割れや、反りの原因
を調べたところ、ディスク基板１０の中心部が周辺部よ
りも異常に加熱されるためであることが分かった。

【００２４】そこで、一実施例としては、図２（ａ）に
示される（タイプＡと言う）様なものである。このマス
ク９は、内部に熱放射線遮蔽部９ａを有し、且つこの熱
放射線遮蔽部９ａの外側に熱放射線透過部９ｂを有する
ものであり、その材質は銅より成る。

【００２５】図２（ｂ）に別の実施例に係るマスクを示
す（タイプＢと言う）。このマスク９は中心部に熱放射
線を遮蔽する遮蔽部９ａを有し、且つこの外側に４つに
分割された熱放射線透過部９ｂを有し、さらにこの外側
に熱放射線遮蔽部９ａを有するものであり、その材質は
銅より成る。

【００２６】図１２は磁気ディスク装置の構成を示す図
である。本発明に従って製造された磁気ディスク媒体が
実装されて高密度記録が達成される。図において、本発
明による複数枚の磁気ディスク３０はスピンドルに固定
されており、図示されないモータによって駆動されて回
転される。各磁気ディスク３０の面には情報を記録再生
するために各々磁気ヘッド３１が配置される。磁気ヘッ
ドはそれぞれアーム３２の一端に固定され、アーム３２
の他端はアクチュエータ３３に取り付けられている。ア
ーム３２は軸に回転可能に支持されており、その後端に
はボイスコイルモータ３４が取り付けられる。そしてボ
イスコイルモータ３４に通電されると、アクチュエータ
３３が駆動され、アーム３３は軸を中心にスイングす
る。よって磁気ヘッドが目的とするトラックに位置付け
られ、記録再生される。

【００２７】本発明は、磁気ディスクの保磁力及び膜質
特性と、磁気ディスクに対する磁気ヘッドの間隔に着目
たものである。特徴的には、磁気ディスク媒体の磁性膜
の保磁力が２０００エルステッド以上で、且つその面内
保磁力分布が±５％以内の磁気ディスクが実装されてい
る。磁気ディスクに対し磁気ヘッドが４０ｎｍ以下の間
隔を保つように支持されて記録再生される。このように
して、高密度記録が達成される。磁気ディスクの反りに
着目すると、ディスクの中心部に対する半径方向の反り
が３μｍ／インチ以下、例えば直径３．５インチの磁気
ディスクの場合、その反りが１０μｍ以下、の磁気ディ
スクが実装される。

【００２８】次に、種々の条件を変えてディスク基板を
加熱したり、磁気ディスク媒体を製造する実験を行っ
た。以下、その検討結果について述べる。

【００２９】（例１）図１に示したスパッタ成膜装置に
より、ディスク基板１０をロ−ドロック室１で真空排気
した後、加熱室２に搬送し、加熱室２においてこのディ
スク基板１０の両面をマスク９を通しヒ−タ８により加
熱した。ここでディスク基板１０として直径３．５イン
チ、厚さ０．８ｍｍのＮｉ−Ｐメッキ層を設けたＡｌ−
Ｍｇ基板（（株）日本軽金属社製：以下Ｎｉ−Ｐ／Ａ
ｌ−Ｍｇ基板と記す）を用いた。マスク９としては、図
２（ａ）に示されるタイプＡのマスクを用いた。

【００３０】ディスク基板１０を加熱する際、加熱温度
は250℃、昇温速度は60℃/秒とした。加熱して3秒後
に、基板の面内温度を基板温度モニタ−室３で測定し
た。ここで基板の加熱時の基板温度は熱電対により測定
し、温度校正を行った。また、赤外線輻射温度計１２に
よる基板の温度測定は、始めに基板の輻射率を求めてか
ら行った。その結果によるディスク基板１０の面内温度
分布を図３−(b)に示す。比較のために、図３−(a)に
は、この種のマスクを使用せずにディスク基板を加熱し
た場合の面内温度分布の測定結果を示す。この結果、上
記したマスク９をヒ−タ８の前に配置することで、ディ
スク基板の上下方向、左右方向、及び内中外方向の温度
勾配を、従来に比べ均一になるように改善することがで
きた。

【００３１】（例２）ディスク基板１０としていずれも
直径３．５インチの、Ｎｉ−Ｐ／Ａｌ−Ｍｇ基板及びガ
ラス基板（コ−ニング（株）社製）を用いて加熱した。
マスク９としては図２（ｂ）に示されるタイプＢのもの
を用い、実験例１と同様の方法で基板１０を加熱した。

【００３２】Ni-P/Al-Mg基板の加熱温度は250℃、昇温
速度は60℃/秒とした。ガラス基板の加熱温度は225℃、
昇温速度は40℃/秒とした。各基板を加熱してから3秒後
の基板の面内温度を測定した。その結果を図４に示し、
(a)は、Ｎｉ−Ｐ／Ａｌ−Ｍｇ基板、(b)はガラス基板の
場合を示す。これによれば、ディスク基板の面内温度差
を±３％以下にすることができた。

【００３３】次に、上記の昇温速度でＮｉ−Ｐ／Ａｌ−
Ｍｇ基板及びガラス基板を150℃から280℃の範囲で加熱
した。各々の基板はマスクを使用した場合と使用しない
場合とでそれそれ加熱した。そして、干渉法を用いた基
板フラットネステスタ（富士写真光機（株）社製）で基
板１０の反りの測定を行なった。基板の反りは、各基板
のサイズにおいて、ある平板面に対する半径方向におけ
る内周と外周の差の最大値とした。

【００３４】各ディスク基板についての反りの測定結果
を図５に示す。これによれば、マスクを使用しない場
合、190℃以上で加熱すると基板の反りは１０μｍ／
３．５インチ以上となった。この様に反り量が大きい
と、ディスク基板の膜質特性も悪く面内保磁力分布も不
均一となるため、磁気ディスク装置に実装して使用する
のは好ましくなく、高密度記録には不向きとなる。

【００３５】一方、マスク９を用いて加熱した場合に
は、Ni-P/Al-Mg基板及びガラス基板のいずれも、ディス
ク基板の反り量を７μｍ／３．５インチ以下とすること
ができた。この様にディスク基板の反り量を大幅に少な
くできたのは、図４に示された様にディスク基板を均一
加熱することができたことと関係があると言える。

【００３６】（例３）ディスク基板１０として、Ｎｉ−
Ｐ／Ａｌ−Ｍｇ基板を用い、マスクを使用しないで実験
例１と同様の方法にて基板１０を150℃から280℃で加熱
した後、各基板の反りを測定した。

【００３７】図６に示すように、ヘッド１６とディスク
基板１０の接触開始の浮上量をスピンドル回転数を変化
させて、アコ−スティックエミッション（ＡＥセンサ−
１７）により測定した。その結果を図７に示す。これに
よれば、基板の反り量、即ちディスクの中心に対する外
周部の反り量が１０μｍ／３．５インチ以下でないと４
０ｎｍ以下の浮上を実現できないことが判った。このこ
とから、高密度記録を達成するためには、直径３．５イ
ンチで、保磁力が２０００エルステッド以上の磁気ディ
スク媒体の場合、中心に対する外周部の反り量が少なく
とも１０μｍ以下であって、磁気ヘッドと磁気ディスク
媒体の距離が４０ｎｍ以下が好ましいと言える。前述し
た磁気ディスク装置はこれらの条件を満足して構成され
る。

【００３８】（例４）Ｎｉ−Ｐ／Ａｌ−Ｍｇ基板１０に
ついて、マスクＢを用いて実験例２と同様の方法にて基
板１０を150℃から280℃の範囲で加熱した。その後、下
地膜１８を750Å、磁性膜１９(Co-Cr-Ta)を350Å、保護
膜２０を200Å、フッ素系の潤滑剤を50Å形成し、図８
に示すような磁気ディスク媒体を作成した。この時の各
膜の成膜速度は下地膜を200Å/sec、磁性膜を60Å/se
c、保護膜を40Å/secである。

【００３９】加熱温度を変えたときの各磁気ディスク媒
体の磁気特性の測定を振動試料型磁力計装置（理研電子
（株）社製 BHV-50）により、円周方向に磁場を印加し
測定した。印加磁場は5000エルステッドとし、R=30mmに
ついて測定した。図９に、基板加熱温度と保磁力との相
関を示す。マスクを使用しない場合、190℃以上で加熱
すると基板の反りが１０μｍ／３．５インチ以上とな
り、保磁力は1600エルステッドであった。この場合、磁
気ディスクの膜質特性は好ましいものでなく、高密度記
録が達成できない。

【００４０】一方、マスクを使用した場合、280℃で加
熱してもディスク基板の反りは６．２μｍ／３．５イン
チで、ディスクの円周方向の保磁力は2100エルステッド
であった。この磁気ディスクの膜質特性は良好あり、高
密度記録のために使用できる。

【００４１】さらに、直径３．５インチのガラス基板１
０（コ−ニング（株）社製）について、マスクＢを用い
て上記と同様の方法にて加熱温度250℃で加熱した。そ
の後、下地膜１８を1000Å、磁性膜１９(Co-Cr-Pt)を30
0Å、保護膜２０を200Å、フッ素系の潤滑剤を50Å形成
し、磁気ディスク媒体を作成した。

【００４２】この磁気ディスク媒体に対し、磁気特性の
測定をKerr効果を用いた磁気特性評価装置（日立ＤＥＣ
Ｏ（株）社製 RO-3000）により、円周方向に磁場を印加
し、半径位置がR=15,20,25,30,35,40,45mmについて30゜
ごとに測定した。図１０に、この磁気ディスクの面内保
磁力分布を示す。この結果から、面内保磁力分布は、デ
ィスクの半径方向に対しては２８３０〜２９４０エルス
テッド、ある半径位置におけるトラック(円周方向)、例
えばR=45mmのトラックにおいては２８３０〜２８７０エ
ルステッドの範囲になっている。このことからユーザデ
ータを記録する領域、即ちデ−タ保証領域における面内
保磁力分布は±５％以内である。このときの基板の反り
は4.7μｍ／３．５インチである。この磁気ディスク媒
体の膜質特性は良好であり、高密度記録に適している。

【００４３】（例５）この例は、図１１に示すように加
熱室２のマスク９を積極的に冷却しようとするものであ
る。図１に示されたスパッタ成膜装置の加熱室２におい
て、タイプＢのマスク９を用い、さらにこのマスク９に
冷却装置１７を設置したものである。冷却媒体としては
純水を用い、この水を矢印の方向に循環している。尚、
ヒータ８としてはランプヒータ２２を用いている。

【００４４】この装置を用いて、Ni-P/Al-Mg基板１０を
上記例１と同様の方法にてヒータ８で加熱した。ディス
ク基板の加熱温度は250℃とした。この結果、冷却装置
１７によりマスク温度を430℃から280℃まで下げること
ができた。この様に冷却装置１７を設置したことによ
り、過大な電力が必要となる場合においても、加熱によ
るマスク９の熱変形等の問題を防ぐことができる。ま
た、マスク９をヒ−タ８に近づけることができるため、
ヒ−タ８と基板１０の間隔が狭い場合においても、マス
クの使用が可能になる。

【００４５】以上、いくつかの例について説明してきた
が、本発明はこの他にも種々変形して実施できる。

【００４６】例えば、１つの変形例として、マスク９の
ヒ−タ側の遮蔽部面９ａをヒ−タ波長に対し高い反射率
を有する様に鏡面加工を施すことができる。この様にし
て、250℃の加熱条件においてNi-P/Al-Mg基板を加熱し
た。その結果、マスク９の温度を430℃から380℃まで下
げることができた。さらに、ヒ−タの背後にリフレクタ
−などの反射を有する場合は、加熱効率を向上すること
ができる。

【００４７】上記実施例ではマスク９の材質として耐熱
性に優れた銅を用いている。銅は熱伝導率が395 J/(m*s
*K)と高いため、効率良く冷却することができるが、そ
の他に、Ｔｉ、セラミックス等などを用いることも可能
である。

【００４８】また、同じ加熱装置を用いてサイズの異な
ったディスク基板を均一に加熱する場合において、ヒ−
タ８の形状の変更、ディスク基板とヒ−タ間との距離の
変更、ヒ−タの分割化及び制御バランスの変更等の複雑
な改良を行わなくとも、マスクをディスクのサイズに応
じて変更するだけで対処することができる。

【００４９】さらに、本発明は磁気ディスク基板に加熱
処理を施す以外にも適用が可能である。例えば、蒸着装
置等により真空中で薄膜を形成する場合、基板上に均一
な膜質を得ることが可能になる。

【００５０】

【発明の効果】本発明によれば、工夫されたマスクを用
いてディスク基板を加熱することにより、ディスク基板
に大きな反りや割れが生じることを防止して、基板を高
温に加熱できる。このため高保磁力の磁気ディスク媒体
が得られ、高密度記録が可能となる。

【００５１】さらに、簡便な加熱手段によってディスク
基板の面内温度分布を均一に加熱することができるの
で、この基板上に磁性膜等の薄膜を均一に形成すること
ができる。このため、高保磁力且つ保磁力分布の均一な
磁気記録媒体を得ることができる。従ってこの磁気ディ
スク媒体を用いた磁気ディスク装置により一層高密度記
録化が達成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に供するスパッタ成膜装置の
概略図。

【図２】本発明の一実施例よるマスクの平面図を示し、
(a)及び(b)は各々タイプＡ、タイプＢのマスクを示す。

【図３】ディスク基板の面内温度分布を示す図であり、
(a)はマスク未使用時、(b)はタイプＡのマスク使用時の
面内温度分布を示す。

【図４】ディスク基板の面内温度分布を示す図であり、
(a)はタイプＢのマスク使用時のNi-P/Al-Mg基板、(b)は
ガラス基板の場合を示す。

【図５】基板の加熱温度に対するディスク基板の反り量
を示す図。

【図６】磁気ディスク基板に対するヘッドの接触浮上量
測定時の概略を示す図。

【図７】ディスク基板の反り量に対するディスク基板の
接触浮上量の関係を示す図。

【図８】磁気ディスク媒体の断面図。

【図９】基板の加熱温度に対する保磁力の関係を示す
図。

【図１０】ガラス基板を用いた磁気ディスク媒体の保持
力の面内分布を示す図。

【図１１】本発明の他の実施例によるディスク基板の加
熱装置の概略を示す図。

【図１２】磁気ディスク装置の構成を概略的に示す図。

【符号の説明】

１…ロ−ドロック室２…加熱室３…基板温度モニタ
−室４…下地膜形成室５…磁性膜形成室６…保護膜形成
室７…アンロ−ドロック室８…ヒ−タ９…マスク９ａ…熱放射線遮蔽部９ｂ…熱放射線透過部１０…
基板１１…基板支持部１２…赤外線輻射温度計１３、１４、１５…タ−ゲット２２…ランプヒ−タ２３…冷却装置

フロントページの続き (72)発明者小島修一神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所ストレージシステム事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ヒータにより基板を加熱しながら該基板上
に薄膜を形成する基板の加熱方法において、該ヒータが
発する熱放射線を透過する部分と該熱放射線を遮蔽する
部分とを有するマスクを、前記ヒータの前に配置し、該
ヒータにより該基板を加熱することを特徴とする基板の
加熱方法。
【請求項２】ディスク基板を加熱する方法であって、中
心部に該遮蔽部分を備え、その周囲に該透過部分を有す
るマスクを、該遮蔽部分がディスクの中心部に対応する
ように配置されることを特徴とする請求項１記載のディ
スク基板の加熱方法。
【請求項３】上記マスクに連結して冷却装置を設け、該
冷却装置に冷却媒体を通してヒータにより加熱されるマ
スクを冷却することを特徴とする請求項１記載の基板の
加熱方法。
【請求項４】上記マスクのヒ−タ側の遮蔽部面に鏡面加
工を施したことを特徴とする請求項１記載の基板の加熱
方法。
【請求項５】上記基板の面内温度分布を±３％以下で加
熱することを特徴とする請求項１乃至３記載の基板の加
熱方法。
【請求項６】直径３．５インチのディスク基板を加熱す
る方法であって、該基板の中心部に対する周辺部の反り
が１０μｍ以下の範囲となるように加熱することを特徴
とする請求項１乃至５記載の基板の加熱方法。
【請求項７】ディスク基板の面内温度分布が±３％以
下、且つ該基板の中心部に対する外周部の反りが３μｍ
／インチ以下の範囲となるように加熱量を制御して加熱
することを特徴とする基板の加熱方法。
【請求項８】２５０℃以上で加熱されることを特徴とす
る請求項７記載の加熱方法。
【請求項９】面内温度分布が±３％以下で、かつ２５０
℃以上の条件でディスク基板を加熱しながら、スパッタ
リングにより該基板上に磁性膜を形成することを特徴と
する磁気ディスク媒体の製造方法。
【請求項１０】請求項９において、ディスクの中心部に
対する周辺部の反りが１０μｍ以下となるように加熱す
る３．５インチ磁気ディスク媒体の製造方法。
【請求項１１】基板上に磁性膜を有し、該磁性膜上に保
護膜を有する磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体
の保磁力が２０００エルステッド以上であり、かつ面内
保磁力分布が±５％以内であることを特徴とする磁気記
録媒体。
【請求項１２】Ｎｉ−Ｐ／Ａｌ−Ｍｇ基板に形成される
磁性膜の円周方向の保磁力が２０００エルステッド以上
である請求項１１記載の磁気ディスク媒体。
【請求項１３】基板はガラス製のディスク基板である請
求項１１記載の磁気ディスク媒体。
【請求項１４】直径３．５インチの磁気ディスク媒体で
あって、該ディスクの中心部に対する周辺部の反りが１
０μｍ以下であることを特徴とした請求項１１記載の磁
気記録媒体。
【請求項１５】直径が任意の磁気ディスク媒体であっ
て、該ディスクの中心部に対する半径方向の反りが３μ
ｍ／インチ以下であることを特徴とした請求項１１記載
の磁気記録媒体。
【請求項１６】ディスク状基板上に磁性膜を有し、該磁
性膜上に保護膜を有する磁気ディスク媒体において、前
記磁気記録媒体の保磁力が２０００エルステッド以上で
あり、かつ該ディスクの中心部に対する半径方向の反り
が３μｍ／インチ以下であることを特徴とする磁気記録
媒体。
【請求項１７】磁気ディスク媒体にはデータ記録用のト
ラックが規定されており、当該トラックのうち内周、中
周、外周に位置するトラックの任意の場所における面内
保磁力分布が±５％以内である請求項１１乃至１６記載
の磁気ディスク媒体。
【請求項１８】基板上に磁性膜を有する磁気ディスク媒
体を回転させながら磁気ヘッドにより情報を記録再生す
る磁気ディスク装置において、該磁気ディスク媒体の磁
性膜の保磁力が２０００エルステッド以上であり、且つ
その面内保磁力分布が±５％以内の磁気ディスク媒体の
上に、磁気ヘッドを４０ｎｍ以下の間隔を保って記録再
生することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１９】基板上に磁性膜を有する磁気ディスク媒
体を回転させながら磁気ヘッドにより情報を記録再生す
る磁気ディスク装置において、直径が任意の磁気ディス
ク媒体であって、その磁性膜の保磁力が２０００エルス
テッド以上であり、且つ該ディスクの中心部に対する半
径方向の反りが３μｍ／インチ以下である磁気ディスク
媒体の上に、磁気ヘッドを４０ｎｍ以下の間隔を保って
記録再生することを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項２０】該ディスク媒体は直径３．５インチの磁
気ディスク媒体であって、該ディスクの中心部に対する
周辺部の反りが１０μｍ以下の媒体であることを特徴と
する請求項１８または１９記載の磁気ディスク装置。