JPH03183015A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、コンピュータ外部補助記憶装置として用いら
れる、磁気ディスクなどの磁気記録媒体に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

従来より磁気記録媒体上に情報を記録し、もしくは媒体
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されているが、高記録密度化を計るため、従来
の塗布型媒体に代わり近年薄膜型媒体が使用されてきて
いる。このような磁気ディスクの基板としては一般にア
ルミニウム合金が使われており、アルミ合金の難加工性
を補うためＮ１−Ｐ無電解メツキ膜が形成された基板が
供されている。しかし、磁気ディスク基板表面の平坦性
はアルミ基板自体の平坦性を反映するため、基板表面の
平坦性には限界がある。また、アルミ基板は低融点金属
であるため磁性膜形成時の加熱により変形を被ることが
ある。

一方、磁気ディスク装置の記録密度を更に向上させるた
めには、ヘッドとディスクのスペーシングをより小さく
する必要があり、このためにはディスク基板のより一層
の平坦性が要求されている。

そのため近年、アルミ基板に代わるものとしてガラス、
セラミックス基板などが提案されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、ガラス基板上に形成された薄膜媒体では、ア
ルミ基板上に形成された場合に比べて充分な磁気特性が
得られないという問題を有していた。本発明の目的は、
ガラス基板を用いても、アルミ基板と同等もしくはそれ
以上の磁気特性を有する磁気記録媒体を提供することで
ある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明者らは鋭意研究を重
ねた結果、ガラス基板上の磁気特性の不具合が磁性ＶＩ
ｉ膜形成時の結晶成長に起因することを見いだした。す
なわち、ガラスは熱不導体であるため、成膜時の加熱に
際しても基板」二で温度分布が生じる。このため、結晶
成長が基板上で不均一となり結晶粒も不均一となり、磁
気特性の劣化を誘発することを見出した。

本発明では上記事由を鑑みることにより、ガラス基板に
磁性薄膜を形成する前に、あらかじめクロム金属薄膜か
らなる下地層を設けその表面を酸化させてなることを特
徴とするものである。

本発明において、前記表面が酸化されたクロム薄膜第一
層は金属であるため熱伝導性に優れディスク基板上の温
度分布を均一にする効果を有し、磁性ｓｉの基板面上で
の−様な結晶成長を促進する、また、このクロム第一層
はガラス基板と磁性薄膜層との剥離を防止し、膜の密着
性をも向上させる。さらに、磁性層としてクロム下地層
上に形成されたコバルト基合金を設けた場合には、クロ
ム第一層と第二層が共に同一構造でもあるため。

第二層のクロム層は良好な結晶性を示し、磁気特性をも
向上させる。本発明において、第一クロム層は磁性膜成
膜以前に形成されており、第ニクロム層が形成されるま
でに時間を要し、またその後加熱されることもあって、
例え同一真空槽内にあっても表面が薄い酸化層で覆われ
ているのが特徴である。

通常、クロム下地膜上にコバルト基合金膜が形成されて
なる磁性薄膜媒体においては、下地膜成膜後に合金膜が
形成されるまでの時間間隔を極めて短くする必要があり
、クロム膜表面の酸化は好ましくないとされている。こ
のため従来は１例えば、特開平１−１３０３２１号公報
などで明らかなように、磁性媒体に用いられる多層クロ
ム膜は複数個のターゲットを用い、同一真空槽内で連続
的に形成されるようにするため各クロム層界面には酸化
層が存在しないものが用いられている。よって、この点
において、明らかに本発明は従来公知の技術とは識別さ
れるものである。また、従来より、特開昭６２−２０９
７１９号公報に示されているような完全なりロム酸化物
層を形成した場合についても知られているが、本発明の
ものより熱伝導性に劣るため磁性膜の結晶成長が悪く、
良好な磁気特性が発現しない。また、この従来技術では
、Ｘ線回折法により明瞭な回折線が検出されるのに対し
、本発明の場合は膜表面に酸化層が存在するが、同手法
では酸化物層が確認されず、明らかに異なる発明である
。

一方、本発明の表面酸化層は、電子線を利用した解析手
段によって容易に確認することができる。

また本発明においては、クロム第二層は必ずしも必要と
しておらず、下地層を有しない例えばＧ。

−Ｎｉ−Ｐｔ系のような磁性層単層構造の記録媒体であ
っても磁気特性を劣化させることなく供することができ
る。

本発明における第一クロム層の厚みは特に限定されるも
のではないが、生産性を考慮すれば１０００Å以下の厚
みで充分である。また、磁性層の上にはカーボン系保護
膜が形成されるが、潤滑性を高めるためにフロロカーボ
ン系の液体潤滑層が設けられていて知よい。一方、ガラ
ス基板は膜形成に先立ち、表面に同心円または互いに交
差した円形状の溝入れ加工（所謂テクスチャー加工）、
あるいは表面に微小な凹凸を形成するプラズマエツチン
グ加工等が施されていてもよいのは勿論のことである。

（実施例） 以下実施例に基づき本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれら実施例の範囲に限定されるものでないこと
は勿論である。

〔実施例〕

ターゲットが対向し、その間隙をディスク基板が設置さ
れたキャリアが移動する方式のインライン型り、Ｃ，マ
グネトロン方式スパッタ装置を用い、３．５インチ径の
ガラス基板上に初めにＣｒ膜を約３００〜１５００人成
膜する。次に、キャリアを基板加熱室に移動し、約１０
０〜３００℃の範囲で約２分間加熱する。その後、スパ
ッタ室内を搬送し、適当な厚みのＣｒ第二膜および６０
０人のＧ　ｏ　−Ｃｒ　−１’　ａ磁性膜を形成し、さ
らに３００人のカーボン保護膜を連続的に形成した。

得られた膜の膜構成および膜の磁気特性を表１に示す。

〔比較例〕

あらかじめＣｒ下地膜を形成せずに基板を約１００〜３
００℃まで加熱し、Ｃｒ層、Ｃｏ−ＣｒＴ　ａ磁性膜、
およびカーボン保護膜を成膜した以外は実施例と同様に
行った。結果を表１に示す。

表１よりＣｒ第−層を設けた本発明の実施例の場合は、
それがない場合に比べ明らかに磁気特性が向上すること
がわかる。また、クロム単層の場合では、Ｈｅを向上さ
せるにはＣｒ層の膜厚を増加させる必要があるのに対し
、２層構造ではより薄いＣｒ膜で充分な効果が得られ生
産性向上にも有効である。とりわけ、高１−Ｆを得るべ
く基板温度を上昇させた場合はその効果が大きい。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラス基板上に表面が酸化されたクロム第一層を
   設け、その上にクロム第二層を介し若しくは直接に、コ
   バルト基合金磁性層およびカーボン保護層が順次形成さ
   れてなることを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）表面が酸化されたクロム第一層は１０００Å以下
   の厚みであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の磁気記録媒体。