JPH03283016A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH03283016A JPH03283016A JP8194690A JP8194690A JPH03283016A JP H03283016 A JPH03283016 A JP H03283016A JP 8194690 A JP8194690 A JP 8194690A JP 8194690 A JP8194690 A JP 8194690A JP H03283016 A JPH03283016 A JP H03283016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- layers
- film
- nonmagnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 26
- 230000003993 interaction Effects 0.000 abstract description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 25
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020676 Co—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001200 Ferrotitanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003296 Ni-Mo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 ZrO3 may be used Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄膜磁気記録媒体に関し、特に低ノイズかつ高
記録密度特性に優れた薄膜磁気記録媒体に関する。
記録密度特性に優れた薄膜磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体の高密度化に伴い、従来の酸化鉄を用いた
塗布型記録媒体から金属磁性薄膜記録媒体に移行しつつ
ある。そのような磁性薄膜としては、純Cr1lij上
に00台金膜が形成されたものや、Co−Ni−Pt系
薄膜などが提案されており、一部既に実用化されている
。例えば、前者の媒体では、基体上に純Cr、Co−N
i Crおよびカーボン保護膜が連続的に形成された
構造を成している。そして、Crl[上の磁性膜として
は、近年、前記膜に比較し、より磁気特性に優れたC0
−Cr −T a光薄膜なども研究されており(IEE
E1’ransMag、vol、MAG−23,No、
l、1987.122)、高記録密度化が推進されてい
る。
塗布型記録媒体から金属磁性薄膜記録媒体に移行しつつ
ある。そのような磁性薄膜としては、純Cr1lij上
に00台金膜が形成されたものや、Co−Ni−Pt系
薄膜などが提案されており、一部既に実用化されている
。例えば、前者の媒体では、基体上に純Cr、Co−N
i Crおよびカーボン保護膜が連続的に形成された
構造を成している。そして、Crl[上の磁性膜として
は、近年、前記膜に比較し、より磁気特性に優れたC0
−Cr −T a光薄膜なども研究されており(IEE
E1’ransMag、vol、MAG−23,No、
l、1987.122)、高記録密度化が推進されてい
る。
また、磁性層が多層構造の薄膜媒体を用いて、再生出力
をさらに向上させ、それによって高記録密度化を達成し
ようとする動きもある(特開平1−217723号公報
)。確かに、多層構造とすることにより、Co−Ni、
Co−Ni−Cr。
をさらに向上させ、それによって高記録密度化を達成し
ようとする動きもある(特開平1−217723号公報
)。確かに、多層構造とすることにより、Co−Ni、
Co−Ni−Cr。
Co−Ni −Mo、 Co−N1−W、およびC。
−ptなとの磁性膜は出力向上に期待はできる。
しかしながら、本発明者らは、これら媒体では、記録時
の隣接ビット間の磁壁に由来すると考えられるノイズや
ビットシフトが従来の塗布型媒体に比べて大きいことを
知るとともに、より一層の高記録密度化を図るにはノイ
ズおよびビットシフトなどの特性を向上させることが必
要であることを知った。したがって、より一層の高記録
密度化をはかるためには、従来技術におけるこれらの不
具合事項の改善が急務である。
の隣接ビット間の磁壁に由来すると考えられるノイズや
ビットシフトが従来の塗布型媒体に比べて大きいことを
知るとともに、より一層の高記録密度化を図るにはノイ
ズおよびビットシフトなどの特性を向上させることが必
要であることを知った。したがって、より一層の高記録
密度化をはかるためには、従来技術におけるこれらの不
具合事項の改善が急務である。
本発明は上記不具合を改善するためになされたものであ
り、非磁性基体上にCr系薄膜から成る下地層、Co−
Cr−Ta系薄膜磁性層が順次形成され、更にその上に
Cr系薄膜非磁性層およびCo−Cr−Ta系薄膜磁性
層が連続的に交互に繰り返されてなることを特徴とする
磁気記録媒体である。
り、非磁性基体上にCr系薄膜から成る下地層、Co−
Cr−Ta系薄膜磁性層が順次形成され、更にその上に
Cr系薄膜非磁性層およびCo−Cr−Ta系薄膜磁性
層が連続的に交互に繰り返されてなることを特徴とする
磁気記録媒体である。
本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、ノイズおよびビッ
トシフトなどの記録再生特性を劣化させる原因が、磁性
層を構成する磁性結晶粒子間の磁気的相互作用にあるこ
とを見いだした。すなわち、薄膜が相互作用の強い粒子
から構成される場合、記録時における隣接ビット間の磁
壁は広くなり上記特性が劣化することを知った。
トシフトなどの記録再生特性を劣化させる原因が、磁性
層を構成する磁性結晶粒子間の磁気的相互作用にあるこ
とを見いだした。すなわち、薄膜が相互作用の強い粒子
から構成される場合、記録時における隣接ビット間の磁
壁は広くなり上記特性が劣化することを知った。
これらを向上させるには、磁性結晶粒子の粒界に非磁性
体を析出させ、粒間の磁気相互作用を弱めることが必要
である。そのためには、磁性層の面内方向だけでなく、
深さ方向での相互作用も制限することが有効である。C
o−Cr−Ta系薄膜は、Crが粒界に偏析した結晶粒
子となり易く、また、該磁性層を間に非磁性中間層を挟
んだ多層構造とすることにより、著しく隣接ビット間の
磁壁を狭くすることができる。
体を析出させ、粒間の磁気相互作用を弱めることが必要
である。そのためには、磁性層の面内方向だけでなく、
深さ方向での相互作用も制限することが有効である。C
o−Cr−Ta系薄膜は、Crが粒界に偏析した結晶粒
子となり易く、また、該磁性層を間に非磁性中間層を挟
んだ多層構造とすることにより、著しく隣接ビット間の
磁壁を狭くすることができる。
Cr系下地層および中間層(Cr系非磁性層)は磁気特
性発現のために用いられるものであり、他種の金属では
その上に形成された磁性膜の磁気特性を劣化させること
がある。ところで、Cr系下地層は膜厚により結晶配向
性が変化し、良好な磁気特性を得るためには100OA
以下の厚みが好適である。さらに、中間層として設けら
れるCr系薄膜は、厚すぎると磁気ヘッドによる情報記
録時にその下層の磁性層まで充分な磁界が到達しないた
め好ましくない、したがって、その厚みは200Å以下
であることが必要であり、かつ磁性層間の磁気特性に不
具合を生じさせないためには、下地層と同一の結晶配向
性を有することが望ましい。
性発現のために用いられるものであり、他種の金属では
その上に形成された磁性膜の磁気特性を劣化させること
がある。ところで、Cr系下地層は膜厚により結晶配向
性が変化し、良好な磁気特性を得るためには100OA
以下の厚みが好適である。さらに、中間層として設けら
れるCr系薄膜は、厚すぎると磁気ヘッドによる情報記
録時にその下層の磁性層まで充分な磁界が到達しないた
め好ましくない、したがって、その厚みは200Å以下
であることが必要であり、かつ磁性層間の磁気特性に不
具合を生じさせないためには、下地層と同一の結晶配向
性を有することが望ましい。
本発明において、Cr系薄膜とは、Crを主成分とする
ものであり、純Cr膜はもちろんのこと、Si、W、M
o、V、およびMnなどの元素を含むCr膜などであっ
てもよい。
ものであり、純Cr膜はもちろんのこと、Si、W、M
o、V、およびMnなどの元素を含むCr膜などであっ
てもよい。
また、本発明において使用される基板は、特に限定され
るものではなく、表面処理されたアルミ基板、ガラス基
板、チタンまたはステンレスから成る金属製基板なども
適用可能である。また、磁性膜保護のためには、炭素系
保W1膜あるいはZrO3などのセラミック膜が用いら
れ、さらに液体または固体の潤滑剤が塗布されていても
良い。
るものではなく、表面処理されたアルミ基板、ガラス基
板、チタンまたはステンレスから成る金属製基板なども
適用可能である。また、磁性膜保護のためには、炭素系
保W1膜あるいはZrO3などのセラミック膜が用いら
れ、さらに液体または固体の潤滑剤が塗布されていても
良い。
以下、実施例に従って本発明の作用・効果等をより詳し
く説明する。
く説明する。
(実施例1)
表面が鏡面に研磨された3、5インチN1−P被覆アル
ミ基板表面上に、研磨テープを用いて、溝入れ加工を行
う。次に、ターゲットが対向し、その間隙をディスク基
板が設置されたキャリアが移動する方式のインライン型
り、C,マグネトロン方式スパッタ装置を用いて、基板
を加熱後、同基板上にCr膜を200〜100OA形成
する。
ミ基板表面上に、研磨テープを用いて、溝入れ加工を行
う。次に、ターゲットが対向し、その間隙をディスク基
板が設置されたキャリアが移動する方式のインライン型
り、C,マグネトロン方式スパッタ装置を用いて、基板
を加熱後、同基板上にCr膜を200〜100OA形成
する。
その後すぐに87%Co−10%Cr−3%T a(a
t%)膜を約300人、さらに、迅速に再びCr膜を3
0〜180人、CoCr−Ta膜を2゜0人形成する。
t%)膜を約300人、さらに、迅速に再びCr膜を3
0〜180人、CoCr−Ta膜を2゜0人形成する。
最後に、同一装置内でカーボン保護膜を約300人成膜
して、真空装置内から取り出し、フロロカーボン系液体
潤滑剤を塗布する。
して、真空装置内から取り出し、フロロカーボン系液体
潤滑剤を塗布する。
得られたディスクを内周24mmの周上で、2360r
pm、22.8KPCI、浮上量0.2μmの条件のも
と、ギャップ長0.65μm、トラック幅13μmなる
諸元を有するヘッドを用いて測定を行った。このときの
媒体構成ならびに保磁力(He)、ビットシフト、S/
N比特性の測定結果を第1表に示す。なお、ビットシフ
トは最悪パターンであるB6D9書き込み時の値である
。
pm、22.8KPCI、浮上量0.2μmの条件のも
と、ギャップ長0.65μm、トラック幅13μmなる
諸元を有するヘッドを用いて測定を行った。このときの
媒体構成ならびに保磁力(He)、ビットシフト、S/
N比特性の測定結果を第1表に示す。なお、ビットシフ
トは最悪パターンであるB6D9書き込み時の値である
。
(比較例1)
初めに下地層として、Cr11(を200〜1000人
、次にCo−Cr−Tailを500人形成し、同一装
置内でカーボン保護膜を約300人成膜して、真空装置
内から取り出し、フロロカーボン系液体潤滑剤を塗布し
て単層構造の磁性層とした以外は実施例1と全く同様に
して磁気記録媒体を形成し、その特性を測定した。その
結果を第1表に示す。
、次にCo−Cr−Tailを500人形成し、同一装
置内でカーボン保護膜を約300人成膜して、真空装置
内から取り出し、フロロカーボン系液体潤滑剤を塗布し
て単層構造の磁性層とした以外は実施例1と全く同様に
して磁気記録媒体を形成し、その特性を測定した。その
結果を第1表に示す。
(比較例2)
初めに形成するCr膜下地層を1500Å以上、磁性層
間間のCr膜非磁性層の厚さを250Å以上としたこと
以外は、全〈実施例1と同じにして多層膜の記録媒体を
得、その特性を測定した。結果を第1表に示す。
間間のCr膜非磁性層の厚さを250Å以上としたこと
以外は、全〈実施例1と同じにして多層膜の記録媒体を
得、その特性を測定した。結果を第1表に示す。
(比較例3)
多層とする磁性膜を75%Co−25%Niとした以外
は、実施例1と全く同様にして成膜した。
は、実施例1と全く同様にして成膜した。
その測定結果を第1表に示す。
(比較例4)
初めに形成するCr膜を1500Å以上とした以外は比
較例3と全く同様にして記録媒体を得た。
較例3と全く同様にして記録媒体を得た。
その特性測定結果も第1表に示す。
第1表
電磁変換特性測定結果
第1表より明かなように、本発明による磁気記録媒体は
、比較例1の単層磁性層の記録媒体に比べ遥かにビット
シフトやS/N比に優れる。また、多層化しても磁気特
性の劣化を生じていないことがわかる。一方、前述した
公知例(特開平1−217723号公報)に準じて作成
した磁性層を有する記録媒体(比較例2乃至4)では、
本発明のような初期Cr層が100OA以下の厚みでは
充分な磁気特性が得られず、該公知発明の場合はかなり
厚いCr層が必要な事がわかる。また、磁気特性が良好
となっても本発明はどのビットシフトやS/N比は得ら
れていないことも明らかである。
、比較例1の単層磁性層の記録媒体に比べ遥かにビット
シフトやS/N比に優れる。また、多層化しても磁気特
性の劣化を生じていないことがわかる。一方、前述した
公知例(特開平1−217723号公報)に準じて作成
した磁性層を有する記録媒体(比較例2乃至4)では、
本発明のような初期Cr層が100OA以下の厚みでは
充分な磁気特性が得られず、該公知発明の場合はかなり
厚いCr層が必要な事がわかる。また、磁気特性が良好
となっても本発明はどのビットシフトやS/N比は得ら
れていないことも明らかである。
以上述べたように、本発明においては、Cr下地層の厚
さを1000Å以下とし、磁性層としてCo−Cr−T
a系S@を用い、かつCr非磁性層とCo−Cr−Ta
系磁性薄膜とを交互に積層して多層膜とすることにより
、低ノイズかつ高記録密度特性の薄膜磁気記録媒体を実
現できた。
さを1000Å以下とし、磁性層としてCo−Cr−T
a系S@を用い、かつCr非磁性層とCo−Cr−Ta
系磁性薄膜とを交互に積層して多層膜とすることにより
、低ノイズかつ高記録密度特性の薄膜磁気記録媒体を実
現できた。
Claims (3)
- (1)非磁性基体上に、Cr系薄膜からなる下地層、C
o−Cr−Ta系薄膜磁性層が順次形成され、更にその
上にCr系薄膜非磁性層とCo−Cr−Ta系薄膜磁性
層が交互に繰り返し積層されてなることを特徴とする磁
気記録媒体。 - (2)Cr系薄膜からなる下地層が1000Å以下の厚
みであることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体
。 - (3)Co−Cr−Ta系薄膜磁性層上に形成されたC
r系薄膜非磁性層が200Å以下の厚みであり、かつ下
地層と同一の結晶配向性を有することを特徴とする請求
項1記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8194690A JPH03283016A (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8194690A JPH03283016A (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03283016A true JPH03283016A (ja) | 1991-12-13 |
Family
ID=13760670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8194690A Pending JPH03283016A (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03283016A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5587235A (en) * | 1993-02-19 | 1996-12-24 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus |
-
1990
- 1990-03-29 JP JP8194690A patent/JPH03283016A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5587235A (en) * | 1993-02-19 | 1996-12-24 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3018762B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPH10228620A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JPH03283016A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP3564707B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS58166531A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JPS626425A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP3050305B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JPWO2004019322A1 (ja) | 裏打ち磁性膜 | |
JPH08329442A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2001250223A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 | |
JPH0737237A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録装置 | |
JP2909767B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH03142708A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH06215344A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0268712A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体 | |
Onishi et al. | Substrate effects on the magnetic characteristics of sputtered media | |
JPH0460916A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
JPH10162338A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
JPH0312813A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
JPH05189737A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH0793738A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH08273139A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH04281212A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
JPH04195818A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPH04117611A (ja) | 磁気記録媒体 |