JPH0652536A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH0652536A JPH0652536A JP22078192A JP22078192A JPH0652536A JP H0652536 A JPH0652536 A JP H0652536A JP 22078192 A JP22078192 A JP 22078192A JP 22078192 A JP22078192 A JP 22078192A JP H0652536 A JPH0652536 A JP H0652536A
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- Japan
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- film
- recording medium
- magnetic recording
- substrate
- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録媒体の基板にテクスチャ加工する代
わりに、スパッタにより凹凸膜を設けることにより、ス
ライダとの接触摩擦を良好にするとともに、スライダと
吸着するのを防止できるようにして、ＣＳＳ特性を向上
し、しかも作業性よく製造できるようにした。 【構成】 磁気記録媒体の下地膜あるいは保護膜が、金
属、半金属あるいはそれらの酸化物もしくは窒化物をス
パッタすることにより形成される凹凸膜から成ってい
る。また、基板にスパッタ凹凸膜を形成してテクスチャ
加工の代わりとしてもよい。
わりに、スパッタにより凹凸膜を設けることにより、ス
ライダとの接触摩擦を良好にするとともに、スライダと
吸着するのを防止できるようにして、ＣＳＳ特性を向上
し、しかも作業性よく製造できるようにした。 【構成】 磁気記録媒体の下地膜あるいは保護膜が、金
属、半金属あるいはそれらの酸化物もしくは窒化物をス
パッタすることにより形成される凹凸膜から成ってい
る。また、基板にスパッタ凹凸膜を形成してテクスチャ
加工の代わりとしてもよい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば磁気ヘッドとの
間において情報の記録および再生を行なうための磁気記
録媒体に関し、特に適切な表面粗さを持たせて、磁気ヘ
ッドのスライダとの接触摩擦を良好にするとともに、ス
ライダと吸着するのを防止したものである。
間において情報の記録および再生を行なうための磁気記
録媒体に関し、特に適切な表面粗さを持たせて、磁気ヘ
ッドのスライダとの接触摩擦を良好にするとともに、ス
ライダと吸着するのを防止したものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より磁気記録媒体上に情報を記録
し、若しくは、磁気記録媒体の表面に記録した情報を再
生出力するために磁気ディスク装置が使用されている。
磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間で記録、再生を行なう
場合には磁気ヘッドと磁気記録媒体と磁気ヘッドとを例
えば０．２〜０．３μｍの微小間隔に保持するのが通常
である。従って磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触によ
る摩擦、摩耗および／または両者の衝突に伴う損傷を防
止するため、浮上用スライダを使用する。すなわち磁気
ヘッドを装着したスライダが、磁気記録媒体の表面との
相対速度により、両者の間隔に発生する流体力学的浮上
力を利用して、両者の微少間隔を保持するように構成し
ている。
し、若しくは、磁気記録媒体の表面に記録した情報を再
生出力するために磁気ディスク装置が使用されている。
磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間で記録、再生を行なう
場合には磁気ヘッドと磁気記録媒体と磁気ヘッドとを例
えば０．２〜０．３μｍの微小間隔に保持するのが通常
である。従って磁気ヘッドと磁気記録媒体との接触によ
る摩擦、摩耗および／または両者の衝突に伴う損傷を防
止するため、浮上用スライダを使用する。すなわち磁気
ヘッドを装着したスライダが、磁気記録媒体の表面との
相対速度により、両者の間隔に発生する流体力学的浮上
力を利用して、両者の微少間隔を保持するように構成し
ている。
【０００３】しかしながら磁気記録媒体が静止している
場合には、上記流体力学的浮上力が存在しないため、ス
ライダは磁気記録媒体上に接触した状態で係止してい
る。一方、スライダおよび磁気記録媒体の表面は極めて
高い面精度で形成されているため、上記静止若しくは係
止した状態ではスライダが磁気記録媒体に吸着してしま
うことがある。このような吸着状態が発生すると、磁気
記録媒体の起動時および停止時において、極めて大きな
起動トルクを必要とし、起動不能となるか、若しくは両
者の接触摺動により摺動面を著しく損傷し、以後の使用
が不能となる等の問題がある。
場合には、上記流体力学的浮上力が存在しないため、ス
ライダは磁気記録媒体上に接触した状態で係止してい
る。一方、スライダおよび磁気記録媒体の表面は極めて
高い面精度で形成されているため、上記静止若しくは係
止した状態ではスライダが磁気記録媒体に吸着してしま
うことがある。このような吸着状態が発生すると、磁気
記録媒体の起動時および停止時において、極めて大きな
起動トルクを必要とし、起動不能となるか、若しくは両
者の接触摺動により摺動面を著しく損傷し、以後の使用
が不能となる等の問題がある。
【０００４】上記の問題点を解決する手段として、磁気
記録媒体の表面にテクスチャと称する微細な溝若しくは
凹凸を設け、スライダが磁気記録媒体上に係止した場合
においても平滑面同士が接触することに起因する吸着現
象の発生を防止しているのが通常である。上記のような
テクスチャを加工する方法としては、エッチングによっ
て方向性の無い凹凸を形成するテクスチャ加工も知られ
ているが、通常、磁気記録媒体用基板を回転させ、例え
ばゴム等の弾性材料からなる１対の加圧ロールにより、
研磨テープを前記基板の表面に押圧させるような加工方
法と、円盤状の回転研磨部材を押圧させる加工方法とが
行なわれている。
記録媒体の表面にテクスチャと称する微細な溝若しくは
凹凸を設け、スライダが磁気記録媒体上に係止した場合
においても平滑面同士が接触することに起因する吸着現
象の発生を防止しているのが通常である。上記のような
テクスチャを加工する方法としては、エッチングによっ
て方向性の無い凹凸を形成するテクスチャ加工も知られ
ているが、通常、磁気記録媒体用基板を回転させ、例え
ばゴム等の弾性材料からなる１対の加圧ロールにより、
研磨テープを前記基板の表面に押圧させるような加工方
法と、円盤状の回転研磨部材を押圧させる加工方法とが
行なわれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の磁気記録媒
体は適切な表面粗さを持ち、磁気ヘッドのスライダとの
接触摩擦を良好にするとともに、スライダが磁気記録媒
体に吸着するのを防止するためにテクスチャを設けてい
る。しかし、テクスチャを基板の表面に加工してもテク
スチャにバラツキが大きいため、実際の使用時において
磁気ヘッドとの間の摩擦係数の低減が期待できず、磁気
記録媒体としてのＣＳＳ（Contact Startand Stop）特
性やその他の特性が低いという欠点があった。またテク
スチャ加工では、研磨テープを基板に押圧させて行なう
ので、磁性膜等の成膜とは異なる作業が必要であり、作
業性が悪いという問題があった。そこで本発明は、磁気
記録媒体の基板にテクスチャ加工する代わりに、スパッ
タにより凹凸膜を設けることにより、スライダとの接触
摩擦を良好にするとともに、スライダと吸着するのを防
止できるようにして、ＣＳＳ特性を向上し、しかも作業
性良く製造できるようにすることを目的とする。
体は適切な表面粗さを持ち、磁気ヘッドのスライダとの
接触摩擦を良好にするとともに、スライダが磁気記録媒
体に吸着するのを防止するためにテクスチャを設けてい
る。しかし、テクスチャを基板の表面に加工してもテク
スチャにバラツキが大きいため、実際の使用時において
磁気ヘッドとの間の摩擦係数の低減が期待できず、磁気
記録媒体としてのＣＳＳ（Contact Startand Stop）特
性やその他の特性が低いという欠点があった。またテク
スチャ加工では、研磨テープを基板に押圧させて行なう
ので、磁性膜等の成膜とは異なる作業が必要であり、作
業性が悪いという問題があった。そこで本発明は、磁気
記録媒体の基板にテクスチャ加工する代わりに、スパッ
タにより凹凸膜を設けることにより、スライダとの接触
摩擦を良好にするとともに、スライダと吸着するのを防
止できるようにして、ＣＳＳ特性を向上し、しかも作業
性良く製造できるようにすることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁気記録媒体
の下地膜が、金属、半金属あるいはそれらの酸化物もし
くは窒化物をスパッタすることにより形成される凹凸膜
から成っている磁気記録媒体である。またスパッタ凹凸
膜を下地膜として形成する代わりに、基板の表面にスパ
ッタ凹凸膜を形成してもよく、あるいはスパッタ凹凸膜
を保護膜として形成してもよく、この場合、保護膜とし
てのスパッタ凹凸膜をカーボンで作成してもよい。さら
にＣＳＳ特性を良好にするためには、スパッタ凹凸膜の
表面平均粗さ（Ｒａ）を１〜６ｎｍにするのが望まし
い。
の下地膜が、金属、半金属あるいはそれらの酸化物もし
くは窒化物をスパッタすることにより形成される凹凸膜
から成っている磁気記録媒体である。またスパッタ凹凸
膜を下地膜として形成する代わりに、基板の表面にスパ
ッタ凹凸膜を形成してもよく、あるいはスパッタ凹凸膜
を保護膜として形成してもよく、この場合、保護膜とし
てのスパッタ凹凸膜をカーボンで作成してもよい。さら
にＣＳＳ特性を良好にするためには、スパッタ凹凸膜の
表面平均粗さ（Ｒａ）を１〜６ｎｍにするのが望まし
い。
【０００７】
【作用】上記の磁気記録媒体は、下地膜あるいは保護膜
をスパッタ凹凸膜で形成したり、基板にスパッタ凹凸膜
を形成しているので、その粗い表面がテクスチャの作用
をして、磁気ヘッドのスライダとの接触摩擦を良好にす
るとともに、スライダと吸着するのを防止できる。しか
もスパッタにより凹凸膜を形成するために、得られる凹
凸膜は従来のテクスチャに見られるような方向性が無
く、ほぼ等方性のものとなり、また凹凸膜の表面粗さに
均一性を持たせられるので、ＣＳＳ特性をバラツキなく
向上できる。
をスパッタ凹凸膜で形成したり、基板にスパッタ凹凸膜
を形成しているので、その粗い表面がテクスチャの作用
をして、磁気ヘッドのスライダとの接触摩擦を良好にす
るとともに、スライダと吸着するのを防止できる。しか
もスパッタにより凹凸膜を形成するために、得られる凹
凸膜は従来のテクスチャに見られるような方向性が無
く、ほぼ等方性のものとなり、また凹凸膜の表面粗さに
均一性を持たせられるので、ＣＳＳ特性をバラツキなく
向上できる。
【０００８】
（実施例１）マグネシウムを４重量％含有するアルミニ
ウム合金からなる基板の表面を旋削加工により平滑に形
成し、外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍ
の基板とした。次にこの基板の表面にＮｉ−Ｐ合金から
なるメッキ膜を５〜１５μｍの厚さに形成し、被着した
メッキ膜の表面を平滑に研磨した。次に基板を洗浄後、
例えばＤＣマグネトロンスパッタ装置により、Ｃｒから
なる下地膜を成膜した。この場合、下地膜の成膜には、
スパッタ室内を１×１０-5ｍＴｏｏｒ以下に排気後、基
板を室温に保ち、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を１
０ｍＴｏｏｒに保持し、投入電力２０００Ｗ、成膜速度
４０ｎｍ／分の条件により、膜厚１００ｎｍに成膜し
た。
ウム合金からなる基板の表面を旋削加工により平滑に形
成し、外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍ
の基板とした。次にこの基板の表面にＮｉ−Ｐ合金から
なるメッキ膜を５〜１５μｍの厚さに形成し、被着した
メッキ膜の表面を平滑に研磨した。次に基板を洗浄後、
例えばＤＣマグネトロンスパッタ装置により、Ｃｒから
なる下地膜を成膜した。この場合、下地膜の成膜には、
スパッタ室内を１×１０-5ｍＴｏｏｒ以下に排気後、基
板を室温に保ち、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を１
０ｍＴｏｏｒに保持し、投入電力２０００Ｗ、成膜速度
４０ｎｍ／分の条件により、膜厚１００ｎｍに成膜し
た。
【０００９】前記下地膜は通常の下地膜の作成より基板
温度が低いので、スパッタに被着した成分の表面突起部
がそのまま残って、スパッタ凹凸膜となり、表面粗さＲ
ａは約４．５ｎｍとなっていた。またスパッタ膜の表面
をＳＴＭで測定したところ図１に示すようになってい
た。なお比較のため、従来のテクスチャを設けた場合の
表面をＳＴＭで測定したところ、図２に示すようになっ
た。次に前記下地膜の上に、ＣｏＮｉＣｒ合金からなる
磁性膜をスパッタにより作成した。この場合、スパッタ
室内を１×１０-5ｍＴｏｏｒ以下に排気後、基板を２５
０℃に加熱し、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を１０
ｍＴｏｏｒに保持し、投入電力２０００Ｗ、成膜速度１
００ｎｍ／分の条件で６０ｎｍの膜厚に成膜した。この
磁性膜のスパッタではバイアス電圧−２００Ｖを印加し
た。またＣからなる保護膜は、スパッタ条件を投入電力
１０００Ｗ、成膜速度８ｎｍ／分として前記磁性膜上に
膜厚３０ｎｍに成膜した。
温度が低いので、スパッタに被着した成分の表面突起部
がそのまま残って、スパッタ凹凸膜となり、表面粗さＲ
ａは約４．５ｎｍとなっていた。またスパッタ膜の表面
をＳＴＭで測定したところ図１に示すようになってい
た。なお比較のため、従来のテクスチャを設けた場合の
表面をＳＴＭで測定したところ、図２に示すようになっ
た。次に前記下地膜の上に、ＣｏＮｉＣｒ合金からなる
磁性膜をスパッタにより作成した。この場合、スパッタ
室内を１×１０-5ｍＴｏｏｒ以下に排気後、基板を２５
０℃に加熱し、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を１０
ｍＴｏｏｒに保持し、投入電力２０００Ｗ、成膜速度１
００ｎｍ／分の条件で６０ｎｍの膜厚に成膜した。この
磁性膜のスパッタではバイアス電圧−２００Ｖを印加し
た。またＣからなる保護膜は、スパッタ条件を投入電力
１０００Ｗ、成膜速度８ｎｍ／分として前記磁性膜上に
膜厚３０ｎｍに成膜した。
【００１０】前記により得られた磁気記録媒体について
ＣＳＳテストを行なったところ図３に示す結果となっ
た。図３には比較のため、前記実施例と同様の材料を使
用して従来のテクスチャを有するように作成した磁気記
録媒体と、ガラス基板を使用した磁気記録媒体でテクス
チャを設けた磁気記録媒体についてのＣＳＳテストにつ
いても記載した。図２から、本実施例のものが最も摩擦
係数が小さく、また磁気ヘッドとの吸着もないことから
望ましいことが分かる。なお本実施例ではスパッタ下地
膜としてＣｒを使用したが、その他の金属、半金属の酸
化物や窒化物を使用しても同様にスパッタ凹凸膜を作成
でき、同様のＣＳＳ特性を得られることが容易に推測で
きる。
ＣＳＳテストを行なったところ図３に示す結果となっ
た。図３には比較のため、前記実施例と同様の材料を使
用して従来のテクスチャを有するように作成した磁気記
録媒体と、ガラス基板を使用した磁気記録媒体でテクス
チャを設けた磁気記録媒体についてのＣＳＳテストにつ
いても記載した。図２から、本実施例のものが最も摩擦
係数が小さく、また磁気ヘッドとの吸着もないことから
望ましいことが分かる。なお本実施例ではスパッタ下地
膜としてＣｒを使用したが、その他の金属、半金属の酸
化物や窒化物を使用しても同様にスパッタ凹凸膜を作成
でき、同様のＣＳＳ特性を得られることが容易に推測で
きる。
【００１１】（実施例２）第１実施例と同じ基板を使用
し、基板上にＣｒ下地膜を第１実施例とは異なり基板温
度を２５０℃に加熱してスパッタして下地膜を成膜し
た。この場合、下地膜表面は平滑であり、その上にさら
にＣｏＮｉＣｒ磁性膜を前記実施例と同様のスパッタ条
件により成膜した。次ぎに、磁性膜の上に保護膜として
Ｃからなるスパッタ凹凸膜を作成した。この場合のスパ
ッタ条件は、スパッタ室内を１×１０-5ｍＴｏｏｒ以下
に排気後、基板を室温とし、Ａｒガスを導入してスパッ
タ室内を１０ｍＴｏｏｒに保持し、投入電力１０００
Ｗ、成膜速度８ｎｍ／分の条件で３０ｎｍの膜厚に成膜
した。このようにして作成した磁気記録媒体の保護膜
は、表面平均粗さＲａ３．５ｎｍのスパッタ凹凸膜にな
っており、その表面をＳＴＭで測定したところ、図４に
示すようになっていた。また、前記により作成した磁気
記録媒体についてＣＳＳテストを行なったところ、第１
実施例とほぼ同様の結果であった。なお第２実施例では
保護膜としてＣを使用したが、Ｃ、金属、半金属の酸化
物や窒素化物を使用しても同様にスパッタ凹凸膜を作成
でき、同様のＣＳＳ特性を得られることが容易に推測で
きる。
し、基板上にＣｒ下地膜を第１実施例とは異なり基板温
度を２５０℃に加熱してスパッタして下地膜を成膜し
た。この場合、下地膜表面は平滑であり、その上にさら
にＣｏＮｉＣｒ磁性膜を前記実施例と同様のスパッタ条
件により成膜した。次ぎに、磁性膜の上に保護膜として
Ｃからなるスパッタ凹凸膜を作成した。この場合のスパ
ッタ条件は、スパッタ室内を１×１０-5ｍＴｏｏｒ以下
に排気後、基板を室温とし、Ａｒガスを導入してスパッ
タ室内を１０ｍＴｏｏｒに保持し、投入電力１０００
Ｗ、成膜速度８ｎｍ／分の条件で３０ｎｍの膜厚に成膜
した。このようにして作成した磁気記録媒体の保護膜
は、表面平均粗さＲａ３．５ｎｍのスパッタ凹凸膜にな
っており、その表面をＳＴＭで測定したところ、図４に
示すようになっていた。また、前記により作成した磁気
記録媒体についてＣＳＳテストを行なったところ、第１
実施例とほぼ同様の結果であった。なお第２実施例では
保護膜としてＣを使用したが、Ｃ、金属、半金属の酸化
物や窒素化物を使用しても同様にスパッタ凹凸膜を作成
でき、同様のＣＳＳ特性を得られることが容易に推測で
きる。
【００１２】（実施例３）第１実施例と同じ基板を使用
し、基板上にＺｒＳｉＯ4 をスパッタして、スパッタ凹
凸膜を作成した。その場合、スパッタ条件は、スパッタ
室内を１×１０-5ｍＴｏｏｒ以下に排気後、基板を室温
とし、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を１０ｍＴｏｏ
ｒに保持し、投入電力１０００Ｗ、成膜速度８ｎｍ／分
の条件で３０ｎｍの膜厚に成膜した。次ぎに、スパッタ
凹凸膜の上に、Ｃｒ下地膜をスパッタにより成膜した。
この場合のスパッタ条件は、スパッタ室内を１×１０-5
ｍＴｏｏｒ以下に排気後、基板を２５０℃に加熱し、Ａ
ｒガスを導入してスパッタ室内を１０ｍＴｏｏｒに保持
し、投入電力２０００Ｗ、成膜速度４０ｎｍ／分の条件
で１００ｎｍの膜厚に成膜した。さらにその上に、Ｃｏ
ＮｉＣｒ磁性膜を下地膜と同様のスパッタ条件であって
投入電力２０００Ｗ、成膜速度１００ｎｍ／分にして６
０ｎｍ膜厚に成膜した。また磁性膜の上にＣ保護膜を、
前記スパッタ条件であって投入電力１０００Ｗ、成膜速
度８ｎｍ／分で膜厚３０ｎｍに成膜した。
し、基板上にＺｒＳｉＯ4 をスパッタして、スパッタ凹
凸膜を作成した。その場合、スパッタ条件は、スパッタ
室内を１×１０-5ｍＴｏｏｒ以下に排気後、基板を室温
とし、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を１０ｍＴｏｏ
ｒに保持し、投入電力１０００Ｗ、成膜速度８ｎｍ／分
の条件で３０ｎｍの膜厚に成膜した。次ぎに、スパッタ
凹凸膜の上に、Ｃｒ下地膜をスパッタにより成膜した。
この場合のスパッタ条件は、スパッタ室内を１×１０-5
ｍＴｏｏｒ以下に排気後、基板を２５０℃に加熱し、Ａ
ｒガスを導入してスパッタ室内を１０ｍＴｏｏｒに保持
し、投入電力２０００Ｗ、成膜速度４０ｎｍ／分の条件
で１００ｎｍの膜厚に成膜した。さらにその上に、Ｃｏ
ＮｉＣｒ磁性膜を下地膜と同様のスパッタ条件であって
投入電力２０００Ｗ、成膜速度１００ｎｍ／分にして６
０ｎｍ膜厚に成膜した。また磁性膜の上にＣ保護膜を、
前記スパッタ条件であって投入電力１０００Ｗ、成膜速
度８ｎｍ／分で膜厚３０ｎｍに成膜した。
【００１３】このようにして作成した磁気記録媒体の基
板上のスパッタ凹凸膜の表面平均粗さＲａは、２．８ｎ
ｍであり、スパッタ凹凸膜をＳＴＭで測定したところ、
実施例２に示すものとほぼ同様になっていた。また、第
３実施例の磁気記録媒体についてＣＳＳテストを行なっ
たところ、第１実施例とほぼ同様の結果であった。なお
第３実施例ではスパッタ凹凸膜としてＺｒＳｉＯ4 を使
用したが、金属、半金属の酸化物や窒素化物を使用して
も同様にスパッタ凹凸膜を作成でき、同様のＣＳＳ特性
を得られることが容易に推測できる。
板上のスパッタ凹凸膜の表面平均粗さＲａは、２．８ｎ
ｍであり、スパッタ凹凸膜をＳＴＭで測定したところ、
実施例２に示すものとほぼ同様になっていた。また、第
３実施例の磁気記録媒体についてＣＳＳテストを行なっ
たところ、第１実施例とほぼ同様の結果であった。なお
第３実施例ではスパッタ凹凸膜としてＺｒＳｉＯ4 を使
用したが、金属、半金属の酸化物や窒素化物を使用して
も同様にスパッタ凹凸膜を作成でき、同様のＣＳＳ特性
を得られることが容易に推測できる。
【００１４】
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、下地膜あるい
は保護膜をスパッタ凹凸膜で形成したり、基板にスパッ
タ凹凸膜を形成しているので、その粗い表面がテクスチ
ャの作用をして、磁気ヘッドのスライダとの接触摩擦を
良好にするとともに、スライダと吸着するのを防止でき
る。しかもスパッタ凹凸膜の表面粗さに均一性を持たせ
られるので、ＣＳＳ特性をバラツキがなく、スパッタ凹
凸膜の作成は容易であるので生産性のよいものとなる。
は保護膜をスパッタ凹凸膜で形成したり、基板にスパッ
タ凹凸膜を形成しているので、その粗い表面がテクスチ
ャの作用をして、磁気ヘッドのスライダとの接触摩擦を
良好にするとともに、スライダと吸着するのを防止でき
る。しかもスパッタ凹凸膜の表面粗さに均一性を持たせ
られるので、ＣＳＳ特性をバラツキがなく、スパッタ凹
凸膜の作成は容易であるので生産性のよいものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の下地膜としてのスパッ
タ凹凸膜の表面を、ＳＴＭで測定した模写図である。
タ凹凸膜の表面を、ＳＴＭで測定した模写図である。
【図２】従来の磁気記録媒体のテクスチャをＳＴＭで測
定した模写図である。
定した模写図である。
【図３】磁気記録媒体のＣＳＳテスト結果を示す特性図
である。
である。
【図４】本発明の磁気記録媒体の保護膜としてのスパッ
タ凹凸膜の表面を、ＳＴＭで測定した模写図である。
タ凹凸膜の表面を、ＳＴＭで測定した模写図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 非磁性基板の表面に積層形成された下地
膜、磁性膜、保護膜を有する磁気記録媒体において、下
地膜が金属、半金属あるいはそれらの酸化物もしくは窒
化物をスパッタすることにより形成される凹凸膜から成
ることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 非磁性基板の表面に積層形成された下地
膜、磁性膜、保護膜を有する磁気記録媒体において、保
護膜がカーボン、金属、半金属あるいはそれらの酸化物
もしくは窒化物をスパッタすることにより形成される凹
凸膜から成ることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 非磁性基板の表面に、金属、半金属ある
いはそれらの酸化物もしくは窒化物をスパッタすること
により形成される凹凸膜が形成され、そのスパッタ凹凸
膜の上に下地膜、磁性膜、保護膜が積層されていること
を特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項４】 スパッタ凹凸膜の表面平均粗さ（Ｒａ）
は、１〜６ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至３
に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22078192A JPH0652536A (ja) | 1992-07-28 | 1992-07-28 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22078192A JPH0652536A (ja) | 1992-07-28 | 1992-07-28 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0652536A true JPH0652536A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=16756473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22078192A Pending JPH0652536A (ja) | 1992-07-28 | 1992-07-28 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0652536A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5705287A (en) * | 1994-09-20 | 1998-01-06 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk with metal nitride texturing layer |
| JP2002309366A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Nikko Materials Co Ltd | スパッタリング用ターゲット及びその製造方法 |
| WO2006001124A1 (ja) | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Ntn Corporation | 転がり軸受 |
-
1992
- 1992-07-28 JP JP22078192A patent/JPH0652536A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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