JPH07121853A

JPH07121853A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH07121853A
Application number: JP26226393A
Authority: JP
Inventors: Shoji Matsuda; 昌二松田; Hiroyuki Nagasawa; 弘幸長澤; Kenichi Nishimori; 賢一西森
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1993-10-20
Filing date: 1993-10-20
Publication date: 1995-05-12

Abstract

(57)【要約】【目的】スティクション問題の解決とヘッドクラッシ
ュ現象の十分な防止とを同時に達成することができる磁
気記録媒体を提供する。【構成】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と磁性
層との間に下地層を設けることによりヘッドスライダー
との吸着を防止するための凹凸を表面に形成した磁気記
録媒体であって、前記下地層が炭素およびケイ素を構成
元素とする化合物からなり、かつ前記表面に形成された
凸部の高さの標準偏差が０．５ｎｍ以下であることを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク、フレキ
シブルディスク、電子スチルカメラ、ビデオカメラ等に
適用することができる磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】ヘッドスライダーにより磁気記録媒体上
に情報の記録再生を行うハードディスク装置において
は、装置の起動・停止時にはヘッドスライダーと媒体と
を接触状態にし、装置の起動後はヘッドスライダーを浮
上状態に遷移させるコンタクト・スタート・ストップ方
式（以下ＣＳＳ方式と呼ぶ）が主に採用されている。近
年における高記録密度化に伴い、ヘッドスライダーの浮
上高さは０．２μｍ以下のより小さな値が要求されるよ
うになってきている。

【０００３】ところで、上記ＣＳＳ方式を用いた装置で
は、ヘッドクラッシュ現象（ヘッドスライダーと磁気記
録媒体とが動作状態において直接接触してヘッドスライ
ダーや磁気記録媒体が損傷を受ける現象）を防止するた
めには、ヘッドスライダーおよび磁気記録媒体の表面を
高精度に研磨加工してヘッドスライダーの浮上安定性を
高めることが好ましいが、あまりに高精度に研磨加工す
ると装置の起動・停止時においてヘッドスライダーと磁
気記録媒体とが吸着してしまい、その吸着力により、磁
気記録媒体が装着されているスピンドルの回転が不可能
となって装置自体を起動できなくなるという問題（以下
スティクション問題と記す）が生じる。そして、この問
題を解決することが磁気記録媒体の実用化・信頼性向上
において大きな課題となっていた。

【０００４】上記スティクション問題解決のため、従来
より次のような工夫が磁気記録媒体に施されていた。す
なわち、ヘッドスライダーと磁気記録媒体との接触面積
を低下させて両者の吸着を軽減するために、ラッピング
テープ方式で表面凹凸を創成するメカニカルテクスチャ
ー等が磁気記録媒体の基板に対して施されていた。

【０００５】しかしながら、磁気記録媒体に対する上述
のテクスチャリング方式では、ラッピングテープにより
基板表面に機械的加工を施すため、テクスチャリングの
際に形成されるバリ等の加工生成物が基板表面上に残留
する。そして、これらの残留物は、情報の記録再生時の
エラーとなるばかりでなく、高記録密度化のためにヘッ
ドスライダーを低浮上させた場合にヘッドスライダーの
浮上安定性を著しく損ね、さらには残留物の存在すると
ころを起点として磁気記録媒体の損傷が誘発されるとい
った大きな問題を提起する。特に、従来より用いられて
きたアルミニウム合金基板においては、上記した傾向は
一層顕著となる。また、テクスチャー部より腐食が発生
し易いため、たとえヘッドクラッシュ現象を起こさなく
とも磁性層に記録されている情報が破壊され易い。

【０００６】これらの問題を解決するため、メカニカル
テクスチャーは用いず、基板と磁性層との間に微細突起
を有する金属層を設けることにより、あるいは磁性層上
に所定の表面粗さを有する保護層を設けることにより、
磁気記録媒体の表面に凹凸を形成する試みがなされてい
る。

【０００７】例えば特開平４−２９５６１４号公報に
は、ガラス基板上に無電解メッキ層および多数の微細突
起を有する金属層を順次形成し、この金属層上に磁性層
を設けることにより表面粗度を所望の値とした磁気記録
媒体が開示されている。また、特公平１−１８５００号
公報には、所定の表面粗さを有する保護層を磁性層の上
に設けることにより表面粗さを所望の値とした磁気記録
媒体が開示されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気記
録媒体の表面粗さがスティクション問題を解決し得る値
であっても、磁気記録媒体表面の凸部の高さにバラツキ
があったのでは、このバラツキ、特に、他の凸部に比べ
て著しく高い凸部の存在に起因して、ヘッドクラッシュ
現象を十分に防止することが困難である。本発明の目的
は、スティクション問題の解決とヘッドクラッシュ現象
の十分な防止とを同時に達成することができる磁気記録
媒体を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の磁気記録媒体は、非磁性基板と磁性層との間に下地
層を設けることによりヘッドスライダーとの吸着を回避
することが可能な凹凸を表面に形成した磁気記録媒体で
あって、前記下地層が炭素およびケイ素を構成元素とす
る化合物からなり、かつ前記表面に形成された凸部の高
さの標準偏差が０．５ｎｍ以下であることを特徴とする
ものである。

【００１０】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
磁気記録媒体は、上述したように、非磁性基板と磁性層
との間に下地層を設けることによりヘッドスライダーと
の吸着を回避することが可能な凹凸を表面に形成した磁
気記録媒体である。ここで、「ヘッドスライダーとの吸
着を回避することが可能な凹凸」は、目的とする磁気記
録媒体がどのようなヘッドスライダーと組み合わされて
使用されるのかに応じて、また、目的とする磁気記録媒
体がどのような駆動機構により駆動されるのか等に応じ
て異なるため、一概に規定することはできないが、中心
線表面粗さＲａで表したときにその値が概ね２〜５０ｎ
ｍの範囲内のものである。

【００１１】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と磁
性層との間に炭素およびケイ素を構成元素とする化合物
からなる下地層を設けることで、上述の「ヘッドスライ
ダーとの吸着を回避することが可能な凹凸」を表面に形
成したものである。前記下地層の具体例としては化学量
論比の炭化ケイ素膜、炭素リッチの炭化ケイ素膜、およ
びケイ素リッチの炭化ケイ素膜が挙げられる。

【００１２】この下地層は、上述の凹凸を形成するため
のものであるので、当該下地層の表面（磁性層が設けら
れる側の表面）にも所定の凹凸が形成されていることが
必要であるが、その凹凸の程度は、目的とする磁気記録
媒体の表面に要求される凹凸の程度、目的とする磁気記
録媒体の層構成（下地層の上に設けられる層の構成）、
非磁性基板の表面粗さ等に応じて、ヘッドスライダーと
の吸着を回避することができるように適宜選択される。
ただし、この下地層の厚さが５ｎｍ未満では磁気記録媒
体の表面に所望の凹凸を形成することが困難になり、ス
ティクション問題が発生し易くなる。

【００１３】本発明の磁気記録媒体は、上述の下地層を
設けることによりヘッドスライダーとの吸着を回避する
ことが可能な凹凸を表面に形成したものであると同時
に、表面に形成された凸部の高さの標準偏差が０．５ｎ
ｍ以下のものである。ここで、前記標準偏差は次の方法
により算出したものを意味する。すなわち、図７に示す
ように、磁気記録媒体の表層上面の平均面に直角な平面
で該表層を切断したときに該表層上面の表面粗さによる
凹凸に対応してその切り口に現れる輪郭を断面曲線２０
とし、この断面曲線２０全体から任意に抜き取った基準
長さＬ（例えば２４０μｍ）の範囲において被測定平面
の称呼形状（平均面）をもつ直線または曲線でかつその
線から断面曲線２０までの偏差の二乗和が最小になるよ
うに設定した線を断面曲線２０の平均線２１とし、この
平均線２１に平行な直線または曲線線であって、前記断
面曲線２０を横切らずかつ前記平均線２１よりも下方に
位置する線を設定してこれを基準線２２とし、この基準
線２２から前記断面曲線２０に現れる各山部の頂部まで
の距離をＺｉとし、このＺｉが最大のものから順に第１
０番目のものまでをＺｉのｉがそれぞれｉ＝１〜１０で
あるとしたときに、前記Ｚｉ（ｉ＝１〜１０）について
下式

【００１４】

【式１】により算出した標準偏差σ_Ziを意味する。なお、上記式
中のＲｚは、Ｚｉ（ｉ＝１〜１０）の平均値を意味す
る。また、上記断面曲線は実際に磁気記録媒体の断面を
とることにより得てもよいが、実用上は、触針式粗さ計
（例えばランクテーラーホブソン社製のタリステップ）
を用いて非破壊的に得ることが好ましい。

【００１５】上述のようにして算出した凸部の高さの標
準偏差σ_Ziが０．５ｎｍを超えると、磁気記録媒体の使
用時にヘッドクラッシュ現象が生じ易くなる。したがっ
て、本発明の磁気記録媒体においては、表面に形成され
た凸部の高さの標準偏差σ_Ziは０．５ｎｍ以下に限定さ
れる。

【００１６】前記標準偏差σ_Ziが０．５ｎｍ以下である
磁気記録媒体は、上述の下地層をＣＶＤ法やスパッタ法
により形成することで得ることができる。熱ＣＶＤ法や
プラズマＣＶＤ法等のＣＶＤ法は、成膜条件を変更する
ことで前記下地層の表面形状を容易に制御できることか
ら実用上好適であり、これらの方法により下地層を形成
するにあたっては、基板温度を４００±２０℃の範囲内
とすることが特に好ましい。

【００１７】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と磁
性層との間に上述した下地層を設けることによりヘッド
スライダーとの吸着を回避することが可能な凹凸を表面
に形成した磁気記録媒体であって、かつ表面に形成され
た凸部の高さの標準偏差が０．５ｎｍ以下のものであれ
ばよく、他の層構成については特に限定されるものでは
ない。例えば、磁性層は前記下地層上に直接設けられて
いてもよいし、保磁力等の磁気特性を改善するための中
間層を介して前記下地層上に設けられていてもよい。ま
た、磁性層の表面には保護膜が設けられていてもよい。
さらに、保護層の表面には潤滑層が設けられていてもよ
い。これらの層の材質およびその形成方法も特に限定さ
れるものではなく、磁気記録媒体の磁性層、中間層、保
護層、潤滑層として従来より使用されている公知の物質
および公知の形成方法をそのまま利用することができ
る。

【００１８】例えば磁性層の材質の具体例としては、Ｃ
ｏ等の強磁性体にＣｒ，Ｎｉ，Ｐｔ，Ｔａ，Ｚｒ，Ｎ
ｂ，Ｍｏ，Ｓｉ，Ｐ，Ｂ等を添加したものが挙げられ
る。また、中間層の材質の具体例としては、Ｃｒ，Ｍ
ｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｔａ等やこれらの合金が挙げられる。保
護層の材質の具体例としては、カーボン、酸化ケイ素、
酸化ジルコニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、Ｃｒ、Ｍ
ｏ等が挙げられる。そして潤滑層の材質の具体例として
は、パーフルオロポリエーテル、フロロカーボン系潤滑
剤、ハイドロカーボン系潤滑剤等が挙げられる。

【００１９】また、前記下地層が設けられる非磁性基板
の種類も特に限定されるものではなく、各種ガラス基
板、アモルファスカーボン基板、シリコン基板等、磁気
記録媒体の基板として従来より使用されている公知の非
磁性基板をそのまま利用することができる。

【００２０】磁性層を形成するにあたっては、前記下地
層が金属に比べて低い値ではあるが導電性を有している
ことから、この下地層を介して基板にバイアス電圧を印
加することもできる。下地層の導電性はその組成により
変化させることができ、これによりバイアス電圧の印加
の程度も制御することができる。例えば下地層の組成を
炭素リッチの炭化ケイ素にすると電気抵抗が小さくなる
ので、バイアス電圧を下げたり印加時間を短くすること
ができる。基板にバイアス電圧を印加しつつ磁性層を形
成するこれにより、保磁力等の磁気特性を向上させるこ
とができる。

【００２１】前記下地層は、上述したように非磁性基板
にバイアス電圧を印加するための導電層としても機能し
得る他、前記非磁性基板からの成分の溶出・拡散を防止
する層としても機能する。例えば非磁性基板としてソー
ダライム系ガラスを用いた場合でも、当該ガラス基板か
らアルカリ成分が溶出・拡散することを前記下地層によ
り防止することができるため、前記成分の溶出・拡散が
磁気特性に及ぼす悪影響を抑制することができる。ま
た、この下地層は機械的強度に優れるために磁気記録媒
体全体の機械的強度を改善することができ、非磁性基板
をより薄いものとした場合でもクランプにより磁気記録
媒体に歪みが生じるのを低減させることができる。

【００２２】

【作用】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板と磁性層
との間に炭素およびケイ素を構成元素とする化合物から
な下地層を設けることにより、ヘッドスライダーとの吸
着を回避することが可能な凹凸を、凸部の高さの標準偏
差を０．５ｎｍ以下にしつつ磁気記録媒体表面に形成し
たものである。前記標準偏差が０．５ｎｍ以下であるこ
とから、表面の凸部の高さのバラツキは小さい。したが
って、本発明の磁気記録媒体ではスティクション問題の
解決とヘッドクラッシュ現象の十分な防止とを同時に達
成することができる。

【００２３】

【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明す
る。実施例１（１）下地層の形成非磁性基板として、表面が中心線平均粗さＲａで０．１
ｎｍに鏡面研磨された外径６５ｍｍ、厚さ０．８８９ｍ
ｍのＳｉ基板を用い、このＳｉ基板の一主表面に、以下
のようにしてＳｉＣ膜からなる下地層を形成した。ま
ず、前記Ｓｉ基板を洗浄した後に石英製の基板保持冶具
に保持させて、ホットウォール方式の減圧ＣＶＤ装置の
反応管内に配置した。次いで、反応管内を１×１０^-3ｔ
ｏｒｒ以下まで減圧し、この反応管内にソースガスとし
てＳｉＨ₂Ｃｌ₂ガスとＣ₂Ｈ₂ガスをそれぞれ１０Ｃ
ＣＭ、５ＣＣＭの割合で導入すると共に、キャリアガス
としてＨ₂を導入して、雰囲気温度１０００℃、雰囲気
圧力０．０６ｔｏｒｒの条件でＳｉＣ膜の成膜を行っ
た。これにより、図１にその断面を模式的に示すよう
に、前記Ｓｉ基板１上には膜厚１０００ｎｍの下地層
（ＳｉＣ膜）２が形成された。

【００２４】この下地層のＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）
による表面形状観察例を図２に示す。図２から明らかな
ように、この下地層には緩やかな島状突起が多数生成し
ていた。また、この下地層の中心線平均粗さＲａを触針
式粗さ計（ランクテーラーホブソン社製のタリステッ
プ）を用いて測定した。このとき、触針としては先端径
が０．１μｍのものを用い、測定圧力は１ｍｇｆとし
た。この結果を表１に示す。また、この下地層について
表面の凸部の高さの標準偏差σ_Ziを求めた。この結果も
表１に示す。さらに、ＥＳＣＡ（エレクトロン・スペク
トロスコピー・オブ・ケミカル・アナリシス）を用いて
下地層の組成についてその深さ方向分析を行った。この
ときの使用機種は島津製作所社製のＥＳＣＡ８５０、Ｘ
線源としてはＭｇｋα線を用いた。結果を図３に示す。
図３から明らかなように、この下地層でのＳｉとＣの原
子比はほぼ１：１であった。なお、ＳｉとＣ以外の元素
はこの装置では検出されなかった。

【００２５】（２）磁気記録媒体の製造上記（１）で形成した下地層の上に、以下の要領で中間
層、磁性層、保護層および潤滑層を形成した。まず、前
記下地層を形成したＳｉ基板をｒ．ｆ．マグネトロンス
パッタ装置に固定し、２×１０^-7ｔｏｒｒ以下まで減圧
した後にスパッタガスとしてアルゴンガスを導入して、
ガス圧１０ｍｔｏｒｒ、ｒ．ｆ．出力２００Ｗの条件
で、中間層、磁性層および保護層を連続的に順次形成し
た。このとき、中間層としては膜厚２００ｎｍのＣｒ層
を、磁性層としては組成がＣｏ₈₀Ｐｔ₇Ｃｒ₁₃の合金を
ターゲットとして用いて得た膜厚４０ｎｍの層を、保護
層としては膜厚３５ｎｍのカーボン層を形成した。次い
で、保護層上にパーフルオロポリエーテルを平均厚さ２
ｎｍに塗布して、潤滑層を形成した。

【００２６】このようにして下地層上に中間層、磁性
層、保護層および潤滑層を形成したことにより、目的と
する磁気記録媒体が得られた。この磁気記録媒体の断面
を模式的に図４に示す。図４に示したように、この磁気
記録媒体ではＳｉ基板１上にＳｉＣ膜からなる下地層
２、Ｃｒ層からなる中間層３、組成がＣｏ₈₀Ｐｔ₇Ｃｒ
₁₃の合金をターゲットとして用いて得た磁性層４、カー
ボン層からなる保護層５、およびパーフルオロポリエー
テルからなる潤滑層６が順次形成されている。この磁気
記録媒体について、中心線平均粗さＲａおよび表面の凸
部の高さの標準偏差σ_Ziをそれぞれ上記（１）と同様に
して測定した。これらの結果を表１に示す。

【００２７】実施例２（１）下地層の形成非磁性基板として、表面が中心線平均粗さＲａで０．１
ｎｍに鏡面研磨された外径６５ｍｍ、厚さ０．８８９ｍ
ｍのガラス基板を用い、このガラス基板の一主表面に、
以下のようにしてＳｉＣ膜からなる下地層を形成した。
まず、前記ガラス基板を洗浄した後にＥＣＲプラズマＣ
ＶＤ装置の試料台に固定し、チャンバー内を２×１０^-7
ｔｏｒｒ以下まで減圧した。次いで、チャンバー内にソ
ースガスとしてＳｉＨ₂Ｃｌ₂ガスとＣ₂Ｈ₂ガスをそ
れぞれ１０ＣＣＭ、５ＣＣＭの割合で導入すると共に、
キャリアガスとしてＨ₂を導入して、基板温度４００
℃、雰囲気圧力１ｍｔｏｒｒの条件でＳｉＣ膜の成膜を
行った。このときのＥＣＲ（電子サイクロトロン共鳴）
条件は、μ波出力４００Ｗ、マグネット電流１５Ａとし
た。これにより、前記ガラス基板上には膜厚５００ｎｍ
の下地層（ＳｉＣ膜）が形成された。

【００２８】この下地層について、中心線平均粗さＲａ
および表面の凸部の高さの標準偏差σ_Ziをそれぞれを実
施例１（１）と同様にして測定した。これらの結果を表
１に示す。また、実施例１（１）と同様にして下地層の
組成についてその深さ方向分析を行った。結果を図５に
示す。図５から明らかなように、この下地層はＳｉが僅
かに過剰な膜であった。なお、ＳｉとＣ以外の元素は検
出されなかった。

【００２９】（２）磁気記録媒体の製造上記（１）で形成した下地層の上に実施例１（２）と全
く同様にして中間層、磁性層、保護層および潤滑層を形
成して、目的とする磁気記録媒体を得た。この磁気記録
媒体について、中心線平均粗さＲａおよび表面の凸部の
高さの標準偏差σ_Ziをそれぞれを上記（１）と同様にし
て測定した。これらの結果を表１に示す。

【００３０】比較例１まず、表面が鏡面研磨された外径６５ｍｍ、厚さ０．８
８９ｍｍのガラス基板を非磁性基板として用い、このガ
ラス基板をｒ．ｆ．マグネトロンスパッタ装置に固定し
て所定圧力まで真空排気を行った後、スパッタガスとし
てアルゴンガスを導入し、ガス圧１０ｍｔｏｒｒ、ｒ．
ｆ．出力２００Ｗの条件でＡｌ膜の成膜を行って、前記
ガラス基板の一主表面に表面粗さ調節用の不連続なＡｌ
製微小突起（平均膜厚５０ｎｍ）を設けた。Ａｌ製微小
突起を設けた側のガラス基板面について、中心線平均粗
さＲａおよび表面の凸部の高さの標準偏差σ_Ziをそれぞ
れ実施例１（１）と同様にして測定した。これらの結果
を表１に示す。

【００３１】次に、Ａｌ製微小突起を設けた側のガラス
基板面上に実施例１（２）と同じ条件で中間層、磁性層
および保護層を連続的に順次形成し、さらに、保護層上
に実施例１（２）と同様にして潤滑層を形成して、磁気
記録媒体を得た。この磁気記録媒体の断面を模式的に図
６に示す。図６に示したように、この磁気記録媒体では
ガラス基板１１上にＡｌ金属層製微小突起１２が不連続
的に設けられており、この上にはＣｒ層からなる中間層
１３、組成がＣｏ₈₀Ｐｔ₇Ｃｒ₁₃の合金をターゲットと
して用いて得た磁性層１４、カーボン層からなる保護層
１５、およびパーフルオロポリエーテルからなる潤滑層
１６が順次形成されている。この磁気記録媒体につい
て、中心線平均粗さＲａおよび表面の凸部の高さの標準
偏差σ_Ziをそれぞれ実施例１（２）と同様にして測定し
た。これらの結果を表１に示す。

【００３２】

【表１】

【００３３】表１に示した中心線平均粗さＲａの値から
明らかなように、実施例１〜２で得られた各磁気記録媒
体の表面には、ヘッドスライダーとの吸着を回避するこ
とが可能な凹凸が形成されている。また、実施例１〜２
で得られた各磁気記録媒体では表面の凸部の高さの標準
偏差σ_Ziが０．３８または０．４５と小さいことから、
これらの磁気記録媒体はヘッドクラッシュ現象を十分に
防止することが可能である。

【００３４】一方、比較例１の磁気記録媒体の表面にも
ヘッドスライダーとの吸着を回避することが可能な凹凸
が形成されているが、表面の凸部の高さの標準偏差σ_Zi
が０．７１と大きいことから、この磁気記録媒体はヘッ
ドクラッシュ現象を十分に防止することが困難である。

【００３５】なお、実施例１で得られた磁気記録媒体に
ついて、更に２箇所の測定範囲を任意に設定し、これら
の測定範囲における表面の凸部の高さの標準偏差σ_Ziを
求めたところ、これらの箇所における標準偏差σ_Ziと上
記表１に示した標準偏差σ_Ziとの間には差が殆ど認めら
れなかった。同じことが、実施例２で得られた磁気記録
媒体においても確認された。

【００３６】実施例１〜２および比較例１の各磁気記録
媒体の摩擦係数を比較するため、それぞれの磁気記録媒
体の初期動摩擦係数を以下のようにして測定した。ま
ず、市販の摩擦・摩耗試験機の回転スピンドルに、１．
５ｋｇｆｃｍの締め付けトルクで磁気記録媒体を装着
し、ヘッドスライダーの内周側（磁気記録媒体に対して
の内周側）のエアベアリング面（ＡＢＳ）が磁気記録媒
体の中心から１７．５ｍｍの所にくるようにして、ヘッ
ドスライダーを磁気記録媒体上に設置した。次いで、ヘ
ッドスライダーを３０秒間磁気記録媒体上に保持した
後、磁気記録媒体を１ｒｐｍで３回転させ、その間、歪
みゲージ式センサーでヘッドスライダーと磁気記録媒体
との間の摩擦信号を検知した。そして、検知した摩擦信
号はパーソナルコンピュータに取り込んで１ｋＨｚのサ
ンプリング周波数で量子化し、各サンプリング周期にお
ける摩擦力をコンピュータの内部メモリーに記憶させ、
それらの摩擦力の算術平均を計算した。この後、ヘッド
荷重（サスペンションによりヘッドスライダーに負荷さ
れている荷重）で前記算術平均値を除し、この値を初期
動摩擦係数とした。この測定では、ヘッドスライダーと
してＩＢＭ社製３３７０タイプのインライン型ヘッドス
ライダーを用いた。このヘッドスライダーの荷重は６．
５ｇｆ、材質はＡｌ₂Ｏ₃−ＴｉＣである。また、測定
はクリーン度１００のクリーンルーム内で行い、その際
の室温は２４℃、湿度は４２％Ｒ．Ｈであった。測定結
果は比較例１の磁気記録媒体の初期動摩擦係数を基準と
して規格化した。この結果を表２に示す。

【００３７】

【表２】

【００３８】表２から明らかなように、実施例１〜２で
得られた各磁気記録媒体の初期動摩擦係数は、比較例１
の磁気記録媒体の初期動摩擦係数よりも小さい。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によればス
ティクション問題の解決とヘッドクラッシュ現象の十分
な防止とを同時に達成することができる磁気記録媒体を
提供することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１でＳｉ基板上に形成した下地層を模式
的に示す図である。

【図２】実施例１でＳｉ基板上に形成した下地層のＳＥ
Ｍによる表面形状観察例を示す写真である。

【図３】実施例１でＳｉ基板上に形成した下地層のＥＳ
ＣＡによる深さ方向分析結果を示すグラフである。

【図４】実施例１で得られた磁気記録媒体の断面を模式
的に示す図である。

【図５】実施例２でガラス基板上に形成した下地層のＥ
ＳＣＡによる深さ方向分析結果を示すグラフである。

【図６】比較例１で得られた磁気記録媒体の断面を模式
的に示す図である。

【図７】磁気記録媒体表面に形成された凸部の高さの標
準偏差の測定方法を説明するための図である。

【符号の説明】

１…Ｓｉ基板、２…ＳｉＣ膜からなる下地層、３，
１３…中間層、４，１４…磁性層、５，１５…保護
層、６，１６…潤滑層、１１…ガラス基板、１２
…Ａｌ製微小突起、２０…断面曲線、２１…平均
線、２２…基準線。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板と磁性層との間に下地層を設
けることによりヘッドスライダーとの吸着を回避するこ
とが可能な凹凸を表面に形成した磁気記録媒体であっ
て、前記下地層が炭素およびケイ素を構成元素とする化
合物からなり、かつ前記表面に形成された凸部の高さの
標準偏差が０．５ｎｍ以下であることを特徴とする磁気
記録媒体。
【請求項２】表層上面の平均面に直角な平面で該表層
を切断したときに該表層上面の表面粗さによる凹凸に対
応してその切り口に現れる輪郭を断面曲線とし、この断
面曲線全体から任意に抜き取った基準長さＬの範囲にお
いて被測定平面の称呼形状（平均面）をもつ直線または
曲線でかつその線から断面曲線までの偏差の二乗和が最
小になるように設定した線を断面曲線の平均線とし、こ
の平均線に平行な直線または曲線線であって、前記断面
曲線を横切らずかつ前記平均線よりも下方に位置する線
を設定してこれを基準線とし、この基準線から前記断面
曲線に現れる各山部の頂部までの距離をＺｉとし、この
Ｚｉが最大のものから順に第１０番目のものまでをＺｉ
のｉがそれぞれｉ＝１〜１０であるとしたとき、前記Ｚ
ｉ（ｉ＝１〜１０）の標準偏差が０．５ｎｍ以下であ
る、請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】下地層と磁性層との間に、クロム、モリ
ブデン、タングステン、チタンおよびタンタルからなる
群より選択される少なくとも１種の材料で形成された磁
気特性改善用の中間層を有する、請求項１または請求項
２に記載の磁気記録媒体。