JPH06150302A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH06150302A JPH06150302A JP29414892A JP29414892A JPH06150302A JP H06150302 A JPH06150302 A JP H06150302A JP 29414892 A JP29414892 A JP 29414892A JP 29414892 A JP29414892 A JP 29414892A JP H06150302 A JPH06150302 A JP H06150302A
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- Japan
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- thin film
- magnetic
- magnetic recording
- recording medium
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高い平滑性が維持されつつ、微小な凹凸が均
一に、しかも簡単に形成され、記録再生特性に優れると
共に耐久性に富む磁気記録媒体を提供することにある。 【構成】 非磁性基板上に合金からなる磁性薄膜が構成
されてなる磁気記録媒体であって、該薄膜構成成分の結
晶粒の集合体による微小な凹凸が該薄膜表面に形成され
てなる磁気記録媒体。
一に、しかも簡単に形成され、記録再生特性に優れると
共に耐久性に富む磁気記録媒体を提供することにある。 【構成】 非磁性基板上に合金からなる磁性薄膜が構成
されてなる磁気記録媒体であって、該薄膜構成成分の結
晶粒の集合体による微小な凹凸が該薄膜表面に形成され
てなる磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＣｏＣｒ系の磁
性合金薄膜が設けられたタイプの磁気記録媒体及びその
製造方法に関するものである。
性合金薄膜が設けられたタイプの磁気記録媒体及びその
製造方法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】磁気記録再生システムにおいて、再生出
力などの特性を鑑みたならば、磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの間隔は狭いほうが良いのは周知の通りであり、こ
のようなことから磁気記録媒体の表面は平滑であること
が要請されている。一方、磁気記録媒体の表面が過度に
平滑すぎると、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間では吸
着状態が引き起こされ、磁気記録媒体に損傷を与える結
果となる。
力などの特性を鑑みたならば、磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの間隔は狭いほうが良いのは周知の通りであり、こ
のようなことから磁気記録媒体の表面は平滑であること
が要請されている。一方、磁気記録媒体の表面が過度に
平滑すぎると、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間では吸
着状態が引き起こされ、磁気記録媒体に損傷を与える結
果となる。
【０００３】そこで、このような損傷を防止する為、磁
気記録媒体の表面にはテクスチャーと呼ばれる微小な凹
凸が形成されている。この微小な凹凸を形成する方法と
しては、機械的テクスチャーと化学的テクスチャーの手
段がある。機械的テクスチャーは、例えば研磨テープを
用い、基板上に溝を形成する手法によって形成される。
気記録媒体の表面にはテクスチャーと呼ばれる微小な凹
凸が形成されている。この微小な凹凸を形成する方法と
しては、機械的テクスチャーと化学的テクスチャーの手
段がある。機械的テクスチャーは、例えば研磨テープを
用い、基板上に溝を形成する手法によって形成される。
【０００４】化学的テクスチャーは、例えばＡｌ合金板
の表面にアルマイト皮膜を成形し、このアルマイト皮膜
のポア中にＮｉＣｕ等を電析させ、その後アルマイト皮
膜を適度にエッチングすることによって形成される。斯
の如く、基板表面に微小な凹凸を形成した後、下地層
（例えば、Ｃｒ薄膜）、磁気記録層（例えば、ＣｏＣｒ
合金系薄膜）、保護膜（例えば、Ｃ薄膜）を順次形成す
ると、その表面は基板表面の微小な凹凸の影響を受けて
微小な凹凸が形成されることになる。
の表面にアルマイト皮膜を成形し、このアルマイト皮膜
のポア中にＮｉＣｕ等を電析させ、その後アルマイト皮
膜を適度にエッチングすることによって形成される。斯
の如く、基板表面に微小な凹凸を形成した後、下地層
（例えば、Ｃｒ薄膜）、磁気記録層（例えば、ＣｏＣｒ
合金系薄膜）、保護膜（例えば、Ｃ薄膜）を順次形成す
ると、その表面は基板表面の微小な凹凸の影響を受けて
微小な凹凸が形成されることになる。
【０００５】しかしながら、上述した機械的テクスチャ
ーにおいては、高い平滑性を維持しつつ、微小な凹凸形
状をバラツキなく形成することは困難である。さらに、
研磨によって発生した粒子の除去工程も必要となる。
又、化学的テクスチャーにおいては、機械的テクスチャ
ーに比べて微小な凹凸形状をバラツキ少なく形成できる
利点はあるが、工程が非常に複雑となり、工業的には実
用性が低い。
ーにおいては、高い平滑性を維持しつつ、微小な凹凸形
状をバラツキなく形成することは困難である。さらに、
研磨によって発生した粒子の除去工程も必要となる。
又、化学的テクスチャーにおいては、機械的テクスチャ
ーに比べて微小な凹凸形状をバラツキ少なく形成できる
利点はあるが、工程が非常に複雑となり、工業的には実
用性が低い。
【０００６】
【発明の開示】本発明の目的は、高い平滑性が維持され
つつ、微小な凹凸が均一に、しかも簡単に形成される技
術を提供することにある。この本発明の目的は、非磁性
基板上に合金からなる磁性薄膜が構成されてなる磁気記
録媒体であって、該薄膜構成成分の結晶粒の集合体によ
る微小な凹凸が該薄膜表面に形成されてなることを特徴
とする磁気記録媒体によって達成される。
つつ、微小な凹凸が均一に、しかも簡単に形成される技
術を提供することにある。この本発明の目的は、非磁性
基板上に合金からなる磁性薄膜が構成されてなる磁気記
録媒体であって、該薄膜構成成分の結晶粒の集合体によ
る微小な凹凸が該薄膜表面に形成されてなることを特徴
とする磁気記録媒体によって達成される。
【０００７】又、非磁性基板上に合金からなる磁性薄膜
を設ける薄膜形成工程と、磁性薄膜を熱処理して合金の
構成成分の幾つかの元素を薄膜表面層に濃縮させ、結晶
粒の集合体による微小な凹凸を薄膜表面に形成する工程
とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
によって達成される。以下、本発明について詳述する。
を設ける薄膜形成工程と、磁性薄膜を熱処理して合金の
構成成分の幾つかの元素を薄膜表面層に濃縮させ、結晶
粒の集合体による微小な凹凸を薄膜表面に形成する工程
とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
によって達成される。以下、本発明について詳述する。
【０００８】本発明の磁気記録媒体の基板としては、耐
熱性で非磁性のものである。３００℃以上の高温に耐え
られる基板であることが好ましい。従って、ガラス、炭
素、チタン合金あるいは各種のセラミックスなどが好ま
しい。そして、磁気記録媒体の基板として現在汎用され
ているアルミニウムは、耐熱性が乏しいことから好まし
くない。
熱性で非磁性のものである。３００℃以上の高温に耐え
られる基板であることが好ましい。従って、ガラス、炭
素、チタン合金あるいは各種のセラミックスなどが好ま
しい。そして、磁気記録媒体の基板として現在汎用され
ているアルミニウムは、耐熱性が乏しいことから好まし
くない。
【０００９】この基板上に、順次、下地層、ＣｏＣｒ
（Ｃｒは５〜３０原子％、Ｃｏが９５〜７０原子％、そ
の他Ｔａなどが含まれても良い）合金系といった合金系
の磁性薄膜層、保護層がスパッタリング等の薄膜形成手
段で成膜される。尚、これらの技術については良く知ら
れているから省略する。すなわち、従来からの技術をそ
のまま適用できる。尚、この薄膜形成時点における磁気
記録媒体表面の表面凹凸はテクスチャー処理がなされて
いない基板を用いて構成したものと同じである。
（Ｃｒは５〜３０原子％、Ｃｏが９５〜７０原子％、そ
の他Ｔａなどが含まれても良い）合金系といった合金系
の磁性薄膜層、保護層がスパッタリング等の薄膜形成手
段で成膜される。尚、これらの技術については良く知ら
れているから省略する。すなわち、従来からの技術をそ
のまま適用できる。尚、この薄膜形成時点における磁気
記録媒体表面の表面凹凸はテクスチャー処理がなされて
いない基板を用いて構成したものと同じである。
【００１０】この薄膜形成後（磁性薄膜層の形成後で
も、保護層の形成後でも良い）、不活性雰囲気または真
空雰囲気下において約３００〜７００℃、より望ましく
は約４００〜６００℃程度の温度で約１分〜数時間程度
かけて熱処理する。尚、熱処理温度が低すぎると、本発
明が目的としたテクスチャー形成が不充分となり、逆
に、熱処理温度が高すぎると、これまた本発明が目的と
したテクスチャー形成が不充分となる。
も、保護層の形成後でも良い）、不活性雰囲気または真
空雰囲気下において約３００〜７００℃、より望ましく
は約４００〜６００℃程度の温度で約１分〜数時間程度
かけて熱処理する。尚、熱処理温度が低すぎると、本発
明が目的としたテクスチャー形成が不充分となり、逆
に、熱処理温度が高すぎると、これまた本発明が目的と
したテクスチャー形成が不充分となる。
【００１１】そして、このような熱処理によって合金成
分における熱拡散性に富む元素が薄膜表面層に濃縮さ
れ、図１から図２に示される如くの構造のものに変換さ
れ、すなわち薄膜表面層の結晶粒径は磁気記録層である
ＣｏＣｒ合金系薄膜を構成するＣｏＣｒ合金の粒子の幾
つかの集合体の値と同等（例えば、ＣｏＣｒ合金の粒子
の結晶粒径が３０〜７０ｎｍであるのに対して、薄膜表
面層の結晶粒径が１２０〜２８０ｎｍ）となり、結晶粒
の集合体による微小な凹凸が薄膜表面に形成されるよう
になる。例えば、中心線平均粗さＲａが約１〜１０ｎｍ
程度のものとなる。
分における熱拡散性に富む元素が薄膜表面層に濃縮さ
れ、図１から図２に示される如くの構造のものに変換さ
れ、すなわち薄膜表面層の結晶粒径は磁気記録層である
ＣｏＣｒ合金系薄膜を構成するＣｏＣｒ合金の粒子の幾
つかの集合体の値と同等（例えば、ＣｏＣｒ合金の粒子
の結晶粒径が３０〜７０ｎｍであるのに対して、薄膜表
面層の結晶粒径が１２０〜２８０ｎｍ）となり、結晶粒
の集合体による微小な凹凸が薄膜表面に形成されるよう
になる。例えば、中心線平均粗さＲａが約１〜１０ｎｍ
程度のものとなる。
【００１２】尚、図１及び図２中、１は例えばガラス状
炭素に由来する保護層、２はＣｏＣｒ合金系薄膜からな
る磁気記録層、３が本発明の処理によって形成された結
晶粒径が大きな表面層である。このように、本発明によ
れば、従来の機械的テスクチャーや化学的テクスチャー
の工程を省くことが出来、後工程として加熱処理を加え
ることによって高い平滑性が維持されつつ、しかしなが
ら微小な凹凸が均一に、しかも簡単に形成されるように
なり、記録再生特性に優れると共に耐久性に富む磁気記
録媒体が得られるようになる。
炭素に由来する保護層、２はＣｏＣｒ合金系薄膜からな
る磁気記録層、３が本発明の処理によって形成された結
晶粒径が大きな表面層である。このように、本発明によ
れば、従来の機械的テスクチャーや化学的テクスチャー
の工程を省くことが出来、後工程として加熱処理を加え
ることによって高い平滑性が維持されつつ、しかしなが
ら微小な凹凸が均一に、しかも簡単に形成されるように
なり、記録再生特性に優れると共に耐久性に富む磁気記
録媒体が得られるようになる。
【００１３】
〔実施例１〕Ａｒガス圧２ｍＴｏｒｒ、基板温度２００
℃の条件下においてＤＣマグネトロンスパッタ装置を用
いて、２．５インチ径の結晶化ガラス基板上に下地Ｃｒ
層を５０ｎｍ、ＣｏＣｒＴａ磁気記録層７０ｎｍを順に
成膜した。
℃の条件下においてＤＣマグネトロンスパッタ装置を用
いて、２．５インチ径の結晶化ガラス基板上に下地Ｃｒ
層を５０ｎｍ、ＣｏＣｒＴａ磁気記録層７０ｎｍを順に
成膜した。
【００１４】成膜後、５×１０-6Ｔｏｒｒ以下の高真空
中で５００℃、１時間の加熱処理を施した。次に、炭素
保護層を２０ｎｍ成膜し、この後で潤滑剤を塗布し、磁
気ディスクを作製した。 〔実施例２〕実施例１において、結晶化ガラス基板上に
形成した下地Ｃｒ層を１００ｎｍとした他は全く同様に
行い、磁気ディスクを作製した。
中で５００℃、１時間の加熱処理を施した。次に、炭素
保護層を２０ｎｍ成膜し、この後で潤滑剤を塗布し、磁
気ディスクを作製した。 〔実施例２〕実施例１において、結晶化ガラス基板上に
形成した下地Ｃｒ層を１００ｎｍとした他は全く同様に
行い、磁気ディスクを作製した。
【００１５】〔実施例３〕実施例１において、高真空中
での加熱処理温度を４００℃とした他は全く同様に行
い、磁気ディスクを作製した。 〔実施例４〕実施例１において、高真空中での加熱処理
温度を６００℃とした他は全く同様に行い、磁気ディス
クを作製した。
での加熱処理温度を４００℃とした他は全く同様に行
い、磁気ディスクを作製した。 〔実施例４〕実施例１において、高真空中での加熱処理
温度を６００℃とした他は全く同様に行い、磁気ディス
クを作製した。
【００１６】〔実施例５〕実施例１において、高真空中
での加熱処理温度の時間を１０分間とした他は全く同様
に行い、磁気ディスクを作製した。 〔比較例１〕実施例１において、高真空中での加熱処理
を省略した他は全く同様に行い、磁気ディスクを作製し
た。
での加熱処理温度の時間を１０分間とした他は全く同様
に行い、磁気ディスクを作製した。 〔比較例１〕実施例１において、高真空中での加熱処理
を省略した他は全く同様に行い、磁気ディスクを作製し
た。
【００１７】〔比較例２〕ＮｉＰメッキしたＡｌ合金製
の基板を用い、この基板表面に研磨テープにより２段の
機械的テクスチャーを施した。そして、Ａｒガス圧２ｍ
Ｔｏｒｒ、基板温度２００℃の条件下においてＤＣマグ
ネトロンスパッタ装置を用いて、前記機械的テクスチャ
ーを施した２．５インチ径のＡｌ合金製の基板上に下地
Ｃｒ層を５０ｎｍ、ＣｏＣｒＴａ磁気記録層７０ｎｍを
順に成膜した。
の基板を用い、この基板表面に研磨テープにより２段の
機械的テクスチャーを施した。そして、Ａｒガス圧２ｍ
Ｔｏｒｒ、基板温度２００℃の条件下においてＤＣマグ
ネトロンスパッタ装置を用いて、前記機械的テクスチャ
ーを施した２．５インチ径のＡｌ合金製の基板上に下地
Ｃｒ層を５０ｎｍ、ＣｏＣｒＴａ磁気記録層７０ｎｍを
順に成膜した。
【００１８】次に、炭素保護層を２０ｎｍ成膜し、この
後で潤滑剤を塗布し、磁気ディスクを作製した。 〔特性〕上記の各例で得られた磁気ディスクについて、
磁気ディスク表面の結晶粒径Ｄ、中心線平均粗さＲａを
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価した。又、磁気デ
ィスク表面の突起の高さを測定するグライドハイト試
験、及び耐久性試験であるＣＳＳ（コンタクトスタート
ストップ）試験も併せて行ったので、これらの結果を表
１に示す。
後で潤滑剤を塗布し、磁気ディスクを作製した。 〔特性〕上記の各例で得られた磁気ディスクについて、
磁気ディスク表面の結晶粒径Ｄ、中心線平均粗さＲａを
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価した。又、磁気デ
ィスク表面の突起の高さを測定するグライドハイト試
験、及び耐久性試験であるＣＳＳ（コンタクトスタート
ストップ）試験も併せて行ったので、これらの結果を表
１に示す。
【００１９】 表 １ 平均結晶粒径 中心線平均粗さ グライドハイト特性 ＣＳＳ特性 実施例１ １６０ｎｍ ３．４ｎｍ ＜２ ＞３万回 実施例２ ２４０ｎｍ ４．７ｎｍ ＜２ ＞３万回 実施例３ １００ｎｍ ２．８ｎｍ ＜２ ＞３万回 実施例４ ３２０ｎｍ ５．８ｎｍ ＜２ ＞３万回 実施例５ １２０ｎｍ ３．０ｎｍ ＜２ ＞３万回 比較例１ ３５ｎｍ ２．６ｎｍ ＜２ ＜１万回 比較例２ ４０ｎｍ ５．６ｎｍ ３ ＜１万回 ＊ＣＳＳ特性は摩擦係数が０．６以下の条件が満足される回数で表示
【００２０】
【効果】高い平滑性が維持されつつ、微小な凹凸が均一
に、しかも簡単に形成され、記録再生特性に優れ、耐久
性に富む磁気記録媒体が得られる。
に、しかも簡単に形成され、記録再生特性に優れ、耐久
性に富む磁気記録媒体が得られる。
【図１】熱処理前の薄膜表面層の図である。
【図２】熱処理後の薄膜表面層の図である。
１ 保護層 ２ 磁気記録層 ３ 結晶粒径が大きな表面層
Claims (2)
- 【請求項１】 非磁性基板上に合金からなる磁性薄膜が
構成されてなる磁気記録媒体であって、該薄膜構成成分
の結晶粒の集合体による微小な凹凸が該薄膜表面に形成
されてなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 非磁性基板上に合金からなる磁性薄膜を
設ける薄膜形成工程と、磁性薄膜を熱処理して合金の構
成成分の幾つかの元素を薄膜表面層に濃縮させ、結晶粒
の集合体による微小な凹凸を薄膜表面に形成する工程と
を具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29414892A JPH06150302A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29414892A JPH06150302A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150302A true JPH06150302A (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=17803935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29414892A Pending JPH06150302A (ja) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06150302A (ja) |
-
1992
- 1992-11-02 JP JP29414892A patent/JPH06150302A/ja active Pending
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