JPH03171426A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH03171426A JPH03171426A JP30896389A JP30896389A JPH03171426A JP H03171426 A JPH03171426 A JP H03171426A JP 30896389 A JP30896389 A JP 30896389A JP 30896389 A JP30896389 A JP 30896389A JP H03171426 A JPH03171426 A JP H03171426A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はコンピュータなどの外部記憶装置（磁気ディス
ク装置）において、記憶体などに用いられる磁気記録媒
体の製造方法に関するものである。
ク装置）において、記憶体などに用いられる磁気記録媒
体の製造方法に関するものである。
［従来の技術コ
近年コンピュータなどの記憶体としてランダムアクセス
が可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられており、
なかでも基板としてアルミニウム合金板やガラス板、プ
ラスチック板などの硬質材料を用いた磁気ディスク、い
わゆるハードディスクが使用されるようになっている。
が可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられており、
なかでも基板としてアルミニウム合金板やガラス板、プ
ラスチック板などの硬質材料を用いた磁気ディスク、い
わゆるハードディスクが使用されるようになっている。
一般にこの磁気ディスクは基板上に厚さ１μｍ以下の磁
気記録層及び該磁気記録層を有しており、磁気記録層と
してはコバルトあるいはコバルト系合金膜を真空蒸着、
スパッタリングなどの真空薄膜形成技術により成膜した
ものが使用され、高記録密度化や短波長記録化に適した
磁気記録媒体の開発が進められている。しかしながら、
上記の磁気記録媒体は、記録密度の増加とともに媒体ノ
イズが増加する傾向にある。そこで、このノイズを低減
させるために、磁気記録層の結晶粒間の磁気的分離を促
進し、交換相互作用を小さくせしめる方法が提案されて
いるが、この方法によって結晶粒間の分離を大きくし磁
気的分離を促進させた場合、飽和磁化、残留磁化が減少
し、再生出力は著しく低下してしまい、結果的にＳ／Ｎ
（ＳＮ比）が低下してしまうという問題が生じる。
気記録層及び該磁気記録層を有しており、磁気記録層と
してはコバルトあるいはコバルト系合金膜を真空蒸着、
スパッタリングなどの真空薄膜形成技術により成膜した
ものが使用され、高記録密度化や短波長記録化に適した
磁気記録媒体の開発が進められている。しかしながら、
上記の磁気記録媒体は、記録密度の増加とともに媒体ノ
イズが増加する傾向にある。そこで、このノイズを低減
させるために、磁気記録層の結晶粒間の磁気的分離を促
進し、交換相互作用を小さくせしめる方法が提案されて
いるが、この方法によって結晶粒間の分離を大きくし磁
気的分離を促進させた場合、飽和磁化、残留磁化が減少
し、再生出力は著しく低下してしまい、結果的にＳ／Ｎ
（ＳＮ比）が低下してしまうという問題が生じる。
？発明が解決しよ■うとする課題］
本発明の目的は媒体ノイズが低く、ＳＮ比の高い磁気記
録媒体の製造方法を提供することにある。
録媒体の製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行っ
た結果、磁気記録層としてアモルファス金属膜を用いる
ことより、媒体ノイズが低く、ＳＮ比の高い磁気記録媒
体が得られることを見出だし本発明を完成するに至った
。すなわち本発明は、基板上に磁気記録層及び該磁気記
録層を保護するための保護層を有する磁気記録媒体の製
造方法において、アモルファス金属膜を戊膜し、これを
熱処理することにより磁気記録層を形成することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法である。
た結果、磁気記録層としてアモルファス金属膜を用いる
ことより、媒体ノイズが低く、ＳＮ比の高い磁気記録媒
体が得られることを見出だし本発明を完成するに至った
。すなわち本発明は、基板上に磁気記録層及び該磁気記
録層を保護するための保護層を有する磁気記録媒体の製
造方法において、アモルファス金属膜を戊膜し、これを
熱処理することにより磁気記録層を形成することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法である。
なお、本発明において或膜するアモルファス金属膜の材
料としては、従来の磁気記録層の材料などを用いること
ができ、例えば鉄系合金、コノくルト系合金あるいは鉄
一コバルト系合金などが用いられる。また、アモルファ
ス金属膜の成膜方法としては種々の方法が知られており
、例えばスパッタリング法などにより成膜することがで
きる。さらに熱処理は或膜したアモルファス金属膜を改
質し、得られる磁気記録媒体の磁気特性、電磁変換特性
を向上せしめるために行なわれる。この処理は用いる金
属膜材料によっても異なるが、通常５００℃以上で２時
間以上行なうことにより、アモルファス金属膜の改質が
行なわれる。
料としては、従来の磁気記録層の材料などを用いること
ができ、例えば鉄系合金、コノくルト系合金あるいは鉄
一コバルト系合金などが用いられる。また、アモルファ
ス金属膜の成膜方法としては種々の方法が知られており
、例えばスパッタリング法などにより成膜することがで
きる。さらに熱処理は或膜したアモルファス金属膜を改
質し、得られる磁気記録媒体の磁気特性、電磁変換特性
を向上せしめるために行なわれる。この処理は用いる金
属膜材料によっても異なるが、通常５００℃以上で２時
間以上行なうことにより、アモルファス金属膜の改質が
行なわれる。
以上の方法により形成された磁気記録層を有する磁気記
録媒体は媒体ノイズを低減することができ、バランスの
良い電磁変換特性を有するものとなる。
録媒体は媒体ノイズを低減することができ、バランスの
良い電磁変換特性を有するものとなる。
［実施例］
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
らに限定されるものではない。
実施例
半径５．２５インチのガラス基板上にサマリウムを１０
原子％含むコバルト合金からなるアモルファス金属膜を
ＤＣスパッタリング法により、成膜速度３０人／秒の条
件で厚さ５００人に形成し、その上に保護層として厚さ
３００人のカーボン薄農をＤＣスパッタリング法により
形威した。その後、これをアルゴン雰囲気下で６００℃
に加熱し、２時間保持した後に５℃／分の速度で冷却し
、磁気記録媒体を製造した。なお、この磁気記録媒体の
トラック幅は２０μｍ５ギャップ幅は０．９μｍとした
。
原子％含むコバルト合金からなるアモルファス金属膜を
ＤＣスパッタリング法により、成膜速度３０人／秒の条
件で厚さ５００人に形成し、その上に保護層として厚さ
３００人のカーボン薄農をＤＣスパッタリング法により
形威した。その後、これをアルゴン雰囲気下で６００℃
に加熱し、２時間保持した後に５℃／分の速度で冷却し
、磁気記録媒体を製造した。なお、この磁気記録媒体の
トラック幅は２０μｍ５ギャップ幅は０．９μｍとした
。
以上の方法で得られた磁気記録媒体の磁気特性及び電磁
変換特性を厠定した。その結果を表１に示す。上記特性
の測定は、磁気記録媒体の回転数を３６０Ｏｒｐｍとし
、磁気記録媒体の半径３５ｍｍの位置で行ない、ＩＦ周
波数は１．２５ＭＨｚ，４Ｆ周波数は５．０’ＯＭＨｚ
とし、ヘッドと磁気記録媒体間の距離（フライング・ノ
＼イト）は０．２０μｍとした。また、薄膜法によるＸ
線回折の結果を５ 第１図に示す。
変換特性を厠定した。その結果を表１に示す。上記特性
の測定は、磁気記録媒体の回転数を３６０Ｏｒｐｍとし
、磁気記録媒体の半径３５ｍｍの位置で行ない、ＩＦ周
波数は１．２５ＭＨｚ，４Ｆ周波数は５．０’ＯＭＨｚ
とし、ヘッドと磁気記録媒体間の距離（フライング・ノ
＼イト）は０．２０μｍとした。また、薄膜法によるＸ
線回折の結果を５ 第１図に示す。
比較例１
実施例１と同様の方法で磁気記録媒体を製造した。ただ
し、このとき熱処理は行なわなかった。
し、このとき熱処理は行なわなかった。
得られた磁気記録媒体の磁気特性及び電磁変換特性を実
施例と同様に測定した。その結果を表１に示す。
施例と同様に測定した。その結果を表１に示す。
比較例２
半径５８ ２５インチのガラス基板を２００℃に加熱し
、この上にＤＣスパッタリング法により厚さ３０００人
のクロム膜を２人／秒の成膜速度で形戊し、さらにサマ
リウムを１０原子％含むコバルト合金からなる金属膜を
３人／秒の成膜速度で厚さ５００人に形威した。なお、
形成した金属膜はアモルファス金属膜ではない。次に保
護層として、厚さ３００人のカーボン薄膜をＤＣスパッ
タリング法により形成し、磁気記録媒体を製造した。
、この上にＤＣスパッタリング法により厚さ３０００人
のクロム膜を２人／秒の成膜速度で形戊し、さらにサマ
リウムを１０原子％含むコバルト合金からなる金属膜を
３人／秒の成膜速度で厚さ５００人に形威した。なお、
形成した金属膜はアモルファス金属膜ではない。次に保
護層として、厚さ３００人のカーボン薄膜をＤＣスパッ
タリング法により形成し、磁気記録媒体を製造した。
以上の方法で得られた磁気記録媒体の磁気特性６
及び電磁変換特性を実施例と同様に測定した。その結果
を表１に示す。また薄膜法によるＸ線回折の結果を第２
図に示す。第２図から形成された磁気記録層は結晶性を
示すことが確認された。
を表１に示す。また薄膜法によるＸ線回折の結果を第２
図に示す。第２図から形成された磁気記録層は結晶性を
示すことが確認された。
表１
［発明の効果］
以上述べたとおり、本発明の方法によれば媒体ノイズが
低く、ＳＮ比の高い磁気記録媒体が得られる。
低く、ＳＮ比の高い磁気記録媒体が得られる。
第１図は本発明の実施例において製造した磁気記録媒体
の磁気記録層のＸ線回折図を示す。 第２図は比較例２において製造した磁気記録媒体の磁気
記録層のＸ線回折図を示す。
の磁気記録層のＸ線回折図を示す。 第２図は比較例２において製造した磁気記録媒体の磁気
記録層のＸ線回折図を示す。
Claims (1)
- （１）基板上に磁気記録層及び該磁気記録層を保護する
ための保護層を有する磁気記録媒体の製造方法において
、アモルファス金属膜を成膜し、これを熱処理すること
により磁気記録層を形成することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30896389A JPH03171426A (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30896389A JPH03171426A (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03171426A true JPH03171426A (ja) | 1991-07-24 |
Family
ID=17987345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30896389A Pending JPH03171426A (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03171426A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7645349B2 (en) * | 2002-10-08 | 2010-01-12 | Hitachi Metals, Ltd. | Sintered R-Fe-B permanent magnet and its production method |
-
1989
- 1989-11-30 JP JP30896389A patent/JPH03171426A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7645349B2 (en) * | 2002-10-08 | 2010-01-12 | Hitachi Metals, Ltd. | Sintered R-Fe-B permanent magnet and its production method |
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