JP2970466B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造方
法に関し、詳しくは磁気ディスク装置に使用されるハー
ドディスク、磁気テープなどの磁気記録媒体の製造方法
に関するものである。特に、磁気ディスク装置において
は、良好なＣＳＳ（コンタクトスタートアンドストッ
プ）特性およびヘッドの媒体表面へのスティッキング特
性とヘッドの低浮上化を同時に可能にする薄膜型の磁気
記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、ハードディスクはその使用に際
し、ディスクを高速で回転して磁気ヘッドを浮上させ、
ハードディスクへの書き込み／読み出し等をこの磁気ヘ
ッドを介して行っている。ハードディスクは、その磁気
特性の向上のため、ディスクの基板面あるいは基板面上
に設けられたＮｉＰメッキ等の非磁性体からなる下地層
上に、磁気ディスクの円周方向にほぼ同心円状に機械的
研磨を行って加工痕を残す加工（以下、機械的テキスチ
ャという）が行われている。また、表面性と硬度に優れ
るガラス基板を使う場合には、弗酸でガラスの表面をエ
ッチングして表面に凹凸を付ける方法や微小な粒子を基
板の表面に塗布する方法が用いられている。

【０００３】近年の情報量の増大と装置の小型軽量化の
要求により、線記録密度及びトラック密度が高くなり、
１ビット当りの面積が小さくなってくると、従来のよう
な機械的テキスチャによるスクラッチ傷は情報読み出し
の際にエラーとなる確率が高くなる。また、内周部にあ
るＣＳＳゾーンのみに機械的テキスチャを施しデータ記
録領域はそのままにする方法もあるが、データ記録領域
の面がＣＳＳゾーンの面の高さよりも高くなり、ヘッド
がシークする時にクラッシュするという問題があった。

【０００４】また、こうした機械的テキスチャに代え
て、レーザでテキスチャパターンを作る方法も提案され
ている。レーザによるテキスチャの方法の例は、米国特
許第５，０６２，０２１号、同５，１０８，７８１号に
開示されており、Ｎｄ−ＹＡＧの強パルスレーザ光によ
りＮｉＰ層を局所的に溶融し、溶融して形成された凹状
の穴部とその周囲に溶融したＮｉＰが表面張力で盛り上
がって固化した直径が２．５〜１００μｍのリム部から
なるクレータ状の凹凸を多数作り、円環状の凸状リムに
よってヘッドとのＣＳＳ特性を改善する試みが提案され
ている。しかし、これらの特許に記載の方法は、レーザ
ビームの照射範囲が広く、かつレーザの出力も大出力で
あるため、ＮｉＰの溶融範囲が広くなり、溶融した液面
の中心部が盛り上がらずにクレータ状となってしまうの
が特徴であり、この場合、凸部分先端とヘッド下面との
接触面積が飛躍的には下がらず、ヘッドとディスク間の
スティッキングの問題は、機械的テキスチャに較べて改
善されているとは言い難い。

【０００５】また、先に本発明者らは特願平６−１５２
１３１号において、パルスレーザで作成した凸状突起を
テキスチャパターンとして利用する方法を提案した。こ
の方法はＣＳＳ特性改善に極めて有効であるが、この場
合でも凸状突起の頂部の曲率が小さいと、高温、高湿等
の環境ではＣＳＳ特性が劣化するという問題が生じるこ
とがある。

【０００６】また、突起をフォトリソグラフィを使って
形成する方法も提案されており、日本潤滑学会トライボ
ロジー予稿集（１９９１−５，Ａ−１１），（１９９２
−１０，Ｂ−６）にはディスクの全表面に対する面積比
が０．１〜５％の同心円状の凸部、または突起をフォト
リソグラフィによって形成した磁気ディスクのＣＳＳの
テスト結果が開示されている。しかし、この方法では、
突起の頂部が平滑なため、ヘッドの摺動回数と共に摩擦
が増加するという欠点があり、また工業化も容易でない
という問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】磁気記録媒体の高密度
化、媒体の表面性の向上に伴い、ヘッドと媒体の摺動特
性の改善を工業的に有利な方法で行うことが望まれてい
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、こうした高密
度磁気記録媒体用の媒体の製造方法に対してなされたも
のであり、その要旨は、磁気記録媒体の基板または下地
層の表面に、エネルギー線を照射して基板または下地層
の表面に突起を形成した後、基板または下地層の表面に
研削量が０．１ｍｇ／ｃｍ ² 以下の機械的なテキスチャ
を施し、その後、必要とする下地層、磁気記録層または
保護層を成膜することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法、に存する。

【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいては、まず、磁気記録媒体の基板または下地層の表
面に、エネルギー線を照射して基板または下地層の表面
に突起を形成する。ついで、突起が形成された基板また
は下地層の表面に研削量が０．１ｍｇ／ｃｍ ² 以下の機
械的なテキスチャを施す。磁気記録媒体を製造するため
には、通常、非磁性基板上に膜厚が通常２０〜２００ｎ
ｍのＣｒ、あるいはＣｕ等の下地層を設ける。場合によ
っては基板と上記層との間に更に膜厚が通常１００〜２
０，０００ｎｍのＮｉｐからなる下地層を設けても良
い。

【００１０】磁気記録媒体の基板または下地層の表面
に、エネルギー線を照射して基板または下地層の表面に
突起を形成する好ましい方法としては、磁気記録媒体用
基板またはこの上に下地層を設けた基板を回転させなが
ら、その表面に円周方向に沿って、出力を精度良く制御
したエネルギー線を照射して表面に突起を形成する。レ
ーザ光としては、Ａｒ等のガスレーザ又は単一モードで
連続発振が可能なＹＡＧ等の固体レーザを変調器で適当
なパルス長にしたもの、あるいは、ＹＡＧ、ＹＬＦ等の
固体Ｑスイッチレーザ、あるいは半導体レーザ等が使わ
れる。パルス幅としては１００ｎｓ以上が好ましい。

【００１１】本発明において、エネルギー線の照射によ
り形成された溶融液体部中で、エネルギー線の走査方向
と直角の方向には殆んど温度勾配がつかず、走査方向の
みに温度勾配が発生するような状態をつくると、液体表
面は温度が低い方が表面張力が高いため、溶融液体部の
うち温度の低い部分で丸く凸部となり、最後に固化する
高温部分、つまりビームが走査された最後の部分は凹部
となり、急冷固化されることにより、後述するような好
ましい形状の突起を形成することができる。

【００１２】こうした条件を達成するためには、エネル
ギー線の照射による磁気記録媒体の基板または下地層の
表面の溶融範囲を５μｍ以下の範囲とするのが好まし
い。特には、エネルギビーム走査方向と直角な方向にお
ける溶融範囲を５μｍ以下、好ましくは２．５μｍ以
下、更に好ましくは２μｍ以下とするのが好ましい。溶
融範囲が５μｍを超えると、溶融部分の中心部分は凸状
とはならずに逆に凹状にへこみ、液体になった部分の周
囲の部分が凸状に盛り上がる。これは、溶融範囲が広い
と冷却時に溶融液体中に温度勾配が生じるためと思われ
る。通常、表面張力は温度が低い部分で大きいために周
囲から冷却された外周部分の表面張力が大きくなり、盛
り上がるものと思われる。

【００１３】好ましくは、照射するエネルギー線が、連
続状またはパルス状のレーザビーム、特にはパルス状の
レーザビームであり、被照射表面において、１回当りの
照射時間におけるパルス状レーザの走査距離がパルス状
レーザのスポット径の通常１／４以上、好ましくは１／
２以上とする。

【００１４】本発明において、エネルギー線の走査方向
とは、静止した被照射媒体上でエネルギー線が走査する
方向のみならず、エネルギー線は静止させておき、被照
射媒体を回転させた状態で照射する場合の被照射媒体の
回転方向、あるいはエネルギー線及び被照射媒体を移動
させた場合等をも示す相対的なものである。また、本発
明においてエネルギー線のスポット径とはエネルギーの
８４％が集中する１／ｅ² の径をいう。

【００１５】突起高さはレーザの強度とその平均照射時
間、及びディスクの線速度を調節することによって自由
に制御され、突起の密度は、１周当たりの突起の個数、
パルスレーザの半径方向の照射間隔、及び上記の突起の
高さを制御する条件を調節することにより自由に制御さ
れる。また、半径方向については連続的に移動させ、渦
巻状の走査を行なうようにすると時間的に効率がよい。
通常、レーザの強度は２０〜５００ｍＷ、平均照射時間
は０．０５〜５μｓｅｃ、レーザのスポット径は０．２
〜４μｍ、基板の線速度は１〜１５ｍ／ｓｅｃが好まし
い。ここで、レーザの平均照射時間とは、１つの突起を
形成させるのにレーザを下地層表面に照射した時間を示
す。

【００１６】レーザビームの照射面積を変えるには、通
常、用いるレーザの波長と対物レンズの開口率を変えれ
ばよく、開口率が０．１〜０．９５の対物レンズを用い
ることにより、ビームの照射径は０．３〜６μｍ程度ま
で制御できる。本発明に用いるビームの照射径は２μｍ
以下、更に望ましくは１μｍ以下が望ましい。レーザの
システムとしては連続発振ができるＡｒ等のガスレーザ
に変調器を用いたものや、固体レーザのＹＡＧ、あるい
は半導体レーザ等が利用できるが、いずれにしてもスポ
ット径が小さくできるシステムが望ましい。

【００１７】本発明の好ましい態様として、ハードディ
スク等においては、突起は磁気ヘッドがＣＳＳ（コンタ
クトスタートアンドストップ）を行なう領域に存在し、
データ記録領域には存在しないかあるいは低い密度で存
在する磁気記録媒体の作成方法が挙げられる。このよう
にすることにより、データ記録領域においては磁性層表
面を平滑にすることができるため、従来のようなスクラ
ッチ傷によるエラーを減少させることができる。

【００１８】また、さらに好ましい態様として、突起を
磁気ヘッドがＣＳＳを行なう領域に作成しデータ記録領
域には作成せず、あるいは低い密度で作成し、かつその
突起の高さをデータ記録領域に向かって減少するように
磁気記録媒体を作成することが挙げられる。突起高さを
データ記録領域に向かって減少させることにより、デー
タ記録領域からＣＳＳゾーンあるいは逆の方向にヘッド
を安定にシークすることができる。また、突起の密度を
データ記録領域に向かって減少させることにより突起高
さを低減させた場合と同様な効果を得ることができる。
また、該突起の高さおよび密度の両方をデータ記録領域
に向かって減少させることも好ましい。また、テープ等
に対しては、テープ両端の摺動特性が走行に影響を与え
るので、テープの両端部分に本発明による突起を作成す
ると、より効果的である。

【００１９】突起高さをデータ記録領域に向かって減少
させるためには、エネルギー線の出力をデータ記録領域
に向かって減少させる等の方法が挙げられる。また、突
起密度をデータ記録領域に向かって減少させるために
は、エネルギー線の照射間隔をデータ記録領域に向かっ
て大きくする等の方法が挙げられる。

【００２０】本発明において、エネルギー線被照射媒体
表面に作成される突起の高さは、ＪＩＳ表面粗さ（Ｂ０
６０１−１９８２）により規定される、粗さ曲線の中心
線を基準とした場合の突起の高さを表す。この突起の高
さは、好ましくは１〜６０ｎｍ、特に好ましくは１０〜
６０ｎｍであり、６０ｎｍを超えるとハードディスク等
ではＣＳＳ特性は良いがヘッドの安定浮上高さは下げら
れず、また、テープ等では媒体と磁気ヘッドのスペーシ
ングが大きくなって出力が低下する。また、１ｎｍ未満
では基板が元来有する細かな粗さに埋もれてしまい所望
の効果は得られない。

【００２１】また、前述の突起高さを有する突起は、１
ｍｍ² あたり１０〜１０⁸ 個存在するのが好ましい。１
０個未満では基板のうねり等によりヘッド下面を突起の
みで支えるのは難しくなり、また１０⁸ 個を超えて突起
を作ろうとすると互いに干渉しあって突起の高さをそろ
えるのが難しくなり、特に好ましい存在密度は１ｍｍ ²
あたり１０³ 〜１０⁶ 個である。ここで突起の存在密度
は媒体全体での平均密度ではなく、突起存在部での単位
面積当たりの密度をいう。また、該突起は、その頂点か
ら１ｎｍ下の高さにおける等高線で囲まれた図形の面積
の平均値（以下、等高線面積という）が２μｍ² 以下で
あるのが好ましく、さらには、１．０μｍ² 以下、更に
好ましくは０．５μｍ² 以下、特に好ましくは０．２μ
ｍ² 以下の範囲の値を有する。２μｍ² を超えるとヘッ
ドとの間にスティッキングが発生しやすくなる。なお、
この等高線面積は、レーザ干渉による表面形状測定装
置、例えば、米国ザイゴ社製ザイゴ（ＺＹＧＯ）で測定
が可能である。

【００２２】本発明においては、上述のようにして基板
または下地層の表面に表面に突起を生成した後、該表面
に機械的テキスチャを施す。機械的テキスチャの程度
は、研削量が０．１ｍｇ／ｃｍ² 以下、更に望ましくは
０．０５ｍｇ／ｃｍ² 以下、より更に好ましくは０．０
２ｍｇ／ｃｍ² 以下になるようなテキスチャが好まし
い。この機械的テキスチャの目的は基板が有するポリッ
シュ痕を消すことと、レーザによって作成した凸状突起
の頂部を機械的に研削して鋭い小さな突起を先端に作る
ことである。

【００２３】本発明においては、上述のようにして基板
または下地層の表面に表面に突起を生成し、さらに機械
的テキスチャを施した後、必要とする下地層、磁気記録
層または保護層を製膜する。本発明において、磁気記録
媒体の基板としては、通常アルミニウム合金板またはガ
ラス基板等の非磁性基板が用いられるが、銅、チタン等
の金属基板、セラミック基板、樹脂基板又はシリコン基
板等を用いることもできる。基板の熱伝導率は、エネル
ギー線照射による熱の冷却の関係から重要であり、好ま
しくは１００Ｗａｔｔ／ｍＫ以下である。

【００２４】非磁性基板上に膜厚が通常２０〜２００ｎ
ｍのＣｒ、あるいはＣｕ等の下地層を設け、場合によっ
ては基板と上記層との間に更に膜厚が通常１００〜２
０，０００ｎｍの例えばＮｉＰ合金等非磁性体からなる
下地層を設けてもよい。下地層は、通常無電解メッキ法
またはスパッタ法により形成される。また下地層の熱伝
導率、層の厚みもエネルギー線照射による熱の冷却の関
係から重要であり、熱伝導率は好ましくは１００Ｗａｔ
ｔ／ｍＫ以下、また、層厚さは好ましくは５０〜３０，
０００ｎｍ、特に好ましくは１００〜１５，０００ｎｍ
である。

【００２５】磁気記録層は、無電解メッキ、電気メッ
キ、スパッタ、蒸着等の方法によって形成され、Ｃｏ−
Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ−Ｐｔ系合金等の強磁性合金薄膜を形成し、そ
の膜厚は通常３０から７０ｎｍ程度である。

【００２６】磁気記録層上には、通常、更に保護層が設
けられるが、保護層としては蒸着、スパッタ、プラズマ
ＣＶＤ、イオンプレーティング、湿式法等の方法によ
り、炭素膜、水素化カーボン膜、ＴｉＣ、ＳｉＣ等の炭
化物膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜等、ＳｉＯ、Ａｌ
Ｏ、ＺｒＯ等の酸化物膜等が成膜される。これらのうち
特に好ましくは、炭素膜、水素化カーボン膜であり、さ
らには、炭素を主成分とし水素の存在比率（Ｈ／Ｃ、原
子数％）が０．１〜４０ａｔ％、なかでも１〜３０ａｔ
％である水素化カーボン膜が好ましい。

【００２７】また、保護層上には、通常、潤滑剤層が設
けられる。ただし、スライダー面にダイヤモンド状カー
ボンの層を有する磁気ヘッドを使う場合は、媒体とのト
ライボロジ的な性質が改善されるので、必ずしも保護層
を設ける必要はない。

【００２８】

【実施例】次に、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例によって限定されるものではない。 実施例１〜２および比較例１ 直径９５ｍｍのディスク状Ａｌ基板上に膜厚１０μｍの
ＮｉＰ（熱伝導率、約１０Ｗａｔｔ／ｍＫ）をメッキし
た後、表面粗さＲａが２ｎｍ以下になるように表面研磨
を行ってＮｉＰ下地層を有する基板を得た。次に、レー
ザの強度１６３ｍＷ、平均照射時間０．６μｓｅｃ、レ
ーザの集光に用いた対物レンズの開口率ＮＡとして、エ
ネルギーの８４％（１／ｅ2 ）が集中するスポット径
（１．２２×λ／ＮＡ）が１．０μｍ、基板の線速度１
７１４ｍ／ｓｅｃの範囲内の条件で、ディスクの内周部
の半径１８〜２１ｍｍのＣＳＳ領域にＡｒパルスレーザ
を照射してＮｉＰ下地表面にピッチ１０μｍの渦巻線状
に突起を作成した。なお、Ａｒレーザの波長は４８８ｎ
ｍを使用した。

【００２９】レーザによる突起生成の後、粒径が約１μ
ｍの遊離ダイヤモンド砥粒を用い、表−１に記載した研
磨量となるよう基板面に周方向の機械テキスチャを施し
た。図１および図３は、それぞれ実施例１及び比較例１
で得られたＮｉＰ下地層の表面形状をレーザ干渉による
表面形状測定装置（米国ザイゴ社製「ＺＹＧＯ」）で観
察した結果を表す図であり、図２および図４はその断面
図である。

【００３０】本発明による突起は図１に示すような形状
を示している。その頂部の形状は、機械的テキスチャに
より削られるため、テキスチャ方向と平行な断面（図２
のａ断面）では、レーザによって作成された突起先端形
状よりも滑らかなになっているが、機械的テキスチャ方
向に直角方向の断面（図２のｂ断面）においては、突起
先端はレーザによって作成された突起を更に細かく分割
されたような形状を有している。

【００３１】次いで，スパッタ法により，上記ＮｉＰ基
板上に、順次、Ｃｒ中間層（１００ｎｍ）、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｔａ合金磁性膜（５０ｎｍ）を製膜した。さらに、カ
ーボン保護膜を（２０ｎｍ）を形成し、その後、浸漬法
によりフッ素系液体潤滑剤（モンテエジソン社製「ＤＯ
Ｌ−２０００」）を２ｎｍ塗布して、磁気記録媒体を作
製した。

【００３２】表−１に実施例と比較例の基板へのレーザ
による突起作成条件、線速度、レーザの強度、レーザの
平均照射時間、平均突起密度（レーザ照射のインターバ
ルに相当）、平均突起高さ、レーザの集光に用いた対物
レンズの開口率ＮＡ、およびその後の機械テキスチャに
よる表面の単位面積当りの研削量を示す。

【００３３】

【表１】 表−１ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 基板 レーザ 平均 平均 平均 対物 研削量 線速度 強度 照射時間 突起密度 突起高さ レンズ (mm/sec) (mW) (μsec)（個／mm²) (nm) 開口率 (mg/cm²) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ 1714 163 0.6 9260 30 0.6 0.03 実施例２ 1714 163 0.6 9260 30 0.6 0.02 比較例１ 1714 163 0.6 9260 35 0.6 − −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００３４】表−２にこれらのディスクのＣＳＳテスト
前の静止摩擦係数（初期スティクション）及びＣＳＳ２
万回後の摩擦力を示した。ＣＳＳテストはヘッド浮上量
１．６μインチ、ロードグラム６ｇｆの薄膜ヘッド（ス
ライダ材質Ａｌ２Ｏ３ＴｉＣ）を用いた。ＣＳＳゾーン
の安定浮上高さは、全て１．２μインチであった。な
お、実験の条件としては、常温、常湿で行なった。表−
３は、表−２に示した実験を温度が３５°Ｃ、湿度が８
０％の条件で行なったものである。

【００３５】

【表２】 表−２ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 初期スティクション ＣＳＳ２万回後の （摩擦係数） 摩擦力 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ ０．１８ ７ｇｆ 実施例２ ０．２４ １０ｇｆ 比較例１ ０．１９ ８ｇｆ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００３６】

【表３】 表−３ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 初期スティクション ＣＳＳ２万回後の （摩擦係数） 摩擦力 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ ０．２０ ６ｇｆ 実施例２ ０．２７ ８ｇｆ 比較例１ ０．２５ ２１ｇｆ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、磁気記録媒体の基板ま
たは下地層の表面に先端形状および高さが制御された突
起を作成し、更にその突起先端に機械的にテキスチャを
施すため、形成した突起の先端の面積をさらに小さくす
ることができる、したがって、磁気ヘッド下面と磁気記
録媒体表面との接触面積が少なくなるため、ＣＳＳ時の
摩擦が極端に小さくなり、また、ヘッドの媒体表面への
スティキングも全く発生しなくなる。特に、高温、高湿
下等の環境テストにおいても安定なＣＳＳ特性を示す磁
気記録媒体を得ることができる。

【００３８】また、ヘッドのＣＳＳ領域のみにこうした
突起を作った場合でも、機械的なテキスチャはデータ記
録領域とＣＳＳ領域とを均一に行なうため、それぞれの
平均的な面の高さはほとんど変わらず、ヘッドをデータ
記録領域とＣＳＳ領域との間でシークした時にヘッドの
安定浮上高さの変動が少なく、ヘッドクラッシュやヘッ
ドの空間での不安定化が起こらない。

【００３９】更に、このレーザによる突起の高さや密度
をデータゾーンに近付くにしたがって制御することもで
きるため、ヘッドのデータ記録領域とＣＳＳ領域間での
シークは極めて滑らかに行なうことができ、ヘッドのフ
ライングハイトを小さくできる。したがって、高密度の
磁気記録媒体の製造が可能となり、工業的な意義は極め
て大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】表面形状装置により観察した本発明の実施例１
のＮｉＰ下地層表面の突起の形状を示す斜視図。

【図２】図１の突起の機械的テキスチャ方向と平行な断
面（ａ断面）および機械的テキスチャ方向に直角方向の
断面（ｂ断面）を示す図。

【図３】表面形状装置により観察した本発明の比較例１
のＮｉＰ下地層表面の突起の形状を示す斜視図。

【図４】図３の突起のディスクの周方向に平行な断面
（ａ断面）およびディスクの周方向に直角方向の断面
（ｂ断面）を示す図。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 神津 順一 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内 (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 5/84 G11B 5/82

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気記録媒体の基板または下地層の表面
   に、エネルギー線を照射して基板または下地層の表面に
   突起を形成した後、基板または下地層の表面に研削量が
   ０．１ｍｇ／ｃｍ ² 以下の機械的なテキスチャを施し、
   その後、必要とする下地層、磁気記録層または保護層を
   成膜することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。