JPH09180176A - 磁気ディスク及び記録再生方法 - Google Patents

磁気ディスク及び記録再生方法

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Publication number
JPH09180176A
JPH09180176A JP29963096A JP29963096A JPH09180176A JP H09180176 A JPH09180176 A JP H09180176A JP 29963096 A JP29963096 A JP 29963096A JP 29963096 A JP29963096 A JP 29963096A JP H09180176 A JPH09180176 A JP H09180176A
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JP
Japan
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area
magnetic disk
magnetic head
height
protrusion
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Pending
Application number
JP29963096A
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English (en)
Inventor
Yoji Arita
陽二 有田
Yuzo Seo
雄三 瀬尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】高密度磁気記録用磁気ディスク及び当該磁気デ
ィスクの性能を十分引き出すことが出来る記録再生方法
を提供する。 【解決手段】(1)コンタクトスタートアンドストップ
(CSS)方式によって記録再生を行う磁気ディスクで
あって、磁気ヘッドの停止領域と離着陸領域(ランディ
ング領域)から成るCSS領域に複数の突起を有し、上
記の離着陸領域は、複数の突起にて形成され且つ磁気デ
ィスク中心からデータ記録領域に向かって低くなる傾斜
面であって、その勾配が1×10-6〜5×10-5の範囲
であり、そして、CSS領域に存在する最小突起の高さ
は、磁気ヘッドの浮上高さよりも低く、CSS領域に存
在する最大突起の高さは、磁気ヘッドの浮上高さよりも
高い磁気ディスク。(2)上記の磁気ディスクを使用
し、突起の最大突起高さよりも低い高さで磁気ヘッドを
飛行させて記録再生を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク及び
記録再生方法に関するものであり、詳しくは、コンタク
トスタートアンドストップ(CSS)方式で使用される
磁気ディスク及び記録再生方法に関するものである。
【0002】通常、ハードディスクへの情報の書き込み
/読み出し等は磁気ヘッドを介して行われ、その際、磁
気ディスクは高速で回転して磁気ヘッドを浮上させる。
ところで、磁気ディスクには、磁気特性の向上のため、
その円周方向にほぼ同心円状に機械的研磨を行って加工
痕を残す加工(以下、機械的テキスチャという)が施さ
れている。通常、機械的テキスチャは、非磁性基板面上
または当該基板上に設けられたNi−Pメッキ等の下地
層上に施される。
【0003】近年の情報量の増大と装置の小型軽量化の
要求により、線記録密度およびトラック密度が高くな
り、1ビット当りの面積が小さくなった場合、従来の様
な機械的テキスチャによるスクラッチ傷は、情報読み出
しの際にエラーとなる確率が高くなる。そのため、磁気
ディスク内周部にあるCSS領域のみに機械的テキスチ
ャを施しデータ記録領域はそのままにする方法も提案さ
れている。ところが、この場合は、データ記録領域の面
がCSS領域の面よりも高くなり、磁気ヘッドがシーク
する際にクラッシュすると言う問題がある。
【0004】また、機械的テキスチャに代えて、レーザ
ビームでテキスチャパターンを形成する方法も提案され
ている。例えば、米国特許第5,062,021号明細
書、同第5,108,781号明細書などには、パルス
幅が非常に狭く且つエネルギー密度が大きいNd−YA
GのQスイッチレーザビームにより、Ni−P層を局所
的に溶融してクレータ状の突起を形成し、その円環状リ
ムによって磁気ヘッドのCSS特性を改善する試みが提
案されている。
【0005】上記のレーザテキスチャはCSS領域のみ
に行うことが可能であるが、この場合も、突起高さは、
磁気ヘッドのスティッキングを防止するため、ある一定
値以上が必要であり、その突起の高さの分だけグライド
高さが高くなる。従って、磁気ディスクのグライド高さ
がCSS領域のグライド高さで規定される結果、データ
記録領域では過剰なヘッド浮上高さになるため、記録密
度を十分上げることが出来ないと言う問題がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、従来より、磁
気ディスクの記録再生方法においては、データ記録領域
における磁気ヘッドの安定浮上高さを如何に低くする
か、また、磁気ヘッドの停止領域では如何にしてスティ
ッキングが起こらない様にするかが重要な課題とされて
いる。本発明は、斯かる実情に鑑みなされたものであ
り、その目的は、高密度磁気記録用磁気ディスク及び当
該磁気ディスクの性能を十分引き出すことが出来る記録
再生方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】すなわち、本発明の第1の要旨は、コンタ
クトスタートアンドストップ(CSS)方式によって記
録再生を行う磁気ディスクであって、磁気ヘッドの停止
領域と離着陸領域(ランディング領域)から成るCSS
領域に複数の突起を有し、上記の離着陸領域は、複数の
突起にて形成され且つ磁気ディスク中心からデータ記録
領域に向かって低くなる傾斜面であって、その勾配が1
×10-6〜5×10-5の範囲であり、そして、CSS領
域に存在する最小突起の高さは、磁気ヘッドの浮上高さ
よりも低く、CSS領域に存在する最大突起の高さは、
磁気ヘッドの浮上高さよりも高いことを特徴とする磁気
ディスクに存する。
【0008】そして、本発明の第2の要旨は、磁気ヘッ
ドによる磁気ディスクに対するデータの読み出し及び/
又は書き込みをコンタクトスタートアンドストップ(C
SS)方式によって行う記録再生方法において、磁気ヘ
ッドの停止領域と離着陸領域(ランディング領域)から
成るCSS領域に複数の突起を有し、上記の離着陸領域
は、複数の突起にて形成され且つ磁気ディスク中心から
データ記録領域に向かって低くなる傾斜面であって、そ
の勾配が1×10-6〜5×10-5の範囲である磁気ディ
スクを使用し、そして、当該突起の最大突起高さよりも
低い高さで磁気ヘッドを飛行させて記録再生を行うこと
を特徴とする記録再生方法に存する。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
先ず、本発明の磁気ディスクについて説明する。本発明
の磁気ディスクは、コンタクトスタートアンドストップ
(CSS)方式によって行う記録再生を行う磁気ディス
クである。本発明の磁気ディスクは、CSS領域に特定
の条件を満たす複数の突起を有する。
【0010】磁気ディスクは、非磁性基板上に、必要に
応じて下地層とその上の中間層を介し、少なくとも磁性
層を有し、場合により磁性層上に保護層を設けて構成さ
れるが、上記の突起は、前記の基板、下地層、中間層、
磁性層、保護層の少なくとも何れかに存在すればよい。
【0011】非磁性基板としては、アルミニウム合金基
板、ガラス基板またはケイ素基板が好適に使用される
が、銅、チタン等のその他の金属基板、カーボン基板、
セラミック基板または樹脂基板を使用することも出来
る。上記のケイ素基板は、純ケイ素基板の他、ケイ素に
強度増加のための微量元素を添加したケイ素合金基板を
使用することが出来る。
【0012】基板の材質は、上記の突起の形成がレーザ
等のエネルギービームの照射による場合は、照射による
発熱と熱伝導による放熱の関係から、表面の反射率が小
さく、また、熱拡散率の小さなものが好適である。ま
た、基板としては、磁気ディスクのデータ記録領域での
安定浮上高さを小さくするため、ポリッシュして出来る
限り平らになされた基板を使用するのが好ましい。
【0013】磁気ディスクは、基板の表面に直接に磁性
層を形成して構成することも出来るが、一般的には、基
板の表面に下地層を形成し、当該下地層を介して磁性層
を形成する。下地層としては、Ni−P合金から成る非
磁性下地層が好適であり、斯かる下地層は、通常、無電
解メッキ法またはスパッタ法により形成される。下地層
の厚さは、通常50〜20,000nm、好ましくは1
00〜15,000nmである。
【0014】基板または下地層と磁性層との間には、C
r層、Cu層などの中間層を設けるのが好ましい。中間
層の厚さは、通常20〜200nm、好ましくは50〜
100nmである。磁性層(磁気記録層)は、Co−
P、Co−Ni−P、Co−Ni−Cr、Co−Ni−
Pt、Co−Cr−Ta、Co−Cr−Pt、Co−C
r−Ta−Pt系合金等の強磁性合金薄膜によって構成
され、無電解メッキ、電気メッキ、スパッタ、蒸着など
の方法によって形成される。磁気記録層の厚さは、通常
30〜70nm程度である。
【0015】通常、上記の磁気記録層の表面には保護層
が設けられる。保護層は、炭素膜、水素化カーボン膜、
TiC、SiC等の炭化物膜、SiN、TiN等の窒化
膜、SiO、Al2 3 、ZrO等の酸化物膜などで構
成され、蒸着、スパッタ、プラズマCVD、イオンプレ
ーティング、湿式法等の方法により形成される。保護層
としては、炭素質膜が好ましく、水素化炭素膜または窒
化炭素膜が特に好ましい。
【0016】また、通常、上記の保護層の表面には潤滑
剤層が設けられる。潤滑剤としては、例えば、フッ素系
液体潤滑剤が好適に使用され、潤滑剤層は、通常、浸漬
法などにより保護層の表面に形成される。ただし、スラ
イダー面にダイヤモンド状カーボンの層を有する磁気ヘ
ッドを使用する場合は、当該磁気ヘッドと磁気ディスク
とのトライボロジ的な性質が改善されるため、必ずしも
保護層や潤滑剤層を設ける必要はない。
【0017】磁気ヘッドがCSSを行うCSS領域に突
起を形成させる方法としては、レーザビーム照射装置を
使用したレーザテキスチャ加工が好適に採用される。図
1は、レーザビーム照射装置の一例の基本的構成の説明
図である。図1に例示したレーザビーム照射装置は、パ
ルス状レーザビーム発生手段(1)、集光手段(2)、
スポット移動手段(3)、基板移動手段(4)、基板回
転手段(5)、(5)から主として構成されている。
【0018】パルス状レーザビーム発生手段(1)は、
機能的には、固体レーザ光源を使用したレーザビーム発
生手段と当該レーザビームを変調してパルス状レーザビ
ームを生成する光学変調手段とから成る。なお、図中の
符号(6)は基板を表し、また、基板回転手段(5)は
2基備えられているが、その数は任意である。
【0019】集光手段(2)としては、所望の微小スポ
ットが得られる限り通常の集光手段(対物レンズ)を採
用することが出来る。集光手段(2)は、通常、オート
フォーカス(AF)システムと組み合わせて使用され
る。また、スポット移動手段(3)及び基板移動手段
(4)としては、例えば、リニアースライダーが好適に
使用される。スポット移動手段(3)は、パルス状レー
ザビーム発生手段(1)と集光手段(2)とを搭載して
これらを直線方向に一体的に移動させる。基板移動手段
(4)は、後述の基板回転手段(5)を搭載してこれを
直線方向に一体的に移動させる。
【0020】スポット移動手段(3)は、スポットの加
工面上における位置を連続的に変化せしめる機能を有す
るが、斯かる位置変化は、スポットと加工面との相対的
関係である。従って、図1に示すレーザビーム照射装置
においては、スポット移動手段(3)及び基板移動手段
(4)の何れ一方を備えていればよい。通常は、基板移
動手段(4)によってスポット自体を移動させるのが好
ましい。
【0021】基板回転手段(5)としては、例えば、ス
ピンドルモータが好適に使用され、基板(6)は、スピ
ンドルモータの回転軸に支持され、一定の回転数または
線速度で移動させられる。
【0022】図2は、レーザテキスチャによって形成さ
れた実施例1の突起の形状の説明図であり、(a)は斜
視図、(b)は突起の中心を通りレーザビームの走査方
向を含む垂直断面図である。レーザテキスチャによる突
起の生成機構は未だ十分解明されていないが、次の様に
考えられる。
【0023】すなわち、パルスレーザの照射による、突
起形成面上の局所的に過熱されたスポット部は、一部溶
融し、当該溶融部分は、基板の回転またはレーザビーム
の走査によって移動する。そして、最初にビームが当っ
た部分は、その後、温度が下がり温度勾配が生ずる。一
般に、溶融液体においては、低温側の方が表面張力が大
きく、この表面張力の差により、最初に溶融し、その
後、低温になった部分が後から溶融した部分の液体を取
り込み盛り上がり、図2に示す様な突起形状となる。従
って、最後に溶融した部分には凹部が出来る。そして、
この場合は、レーザビームの走査方向に対し、凸状突起
の後部に凹部を有することが多い。
【0024】また、レーザビームの走査あるいは基板の
回転が遅いか、または、レーザビームのパワーが大きい
等の条件によっては、熱収縮により突起の周囲には凹部
が出来る場合もある。この現象の解明は十分ではない
が、次の様に考えられる。すなわち、局所的に加熱され
たスポット部は膨張するが、その回りは冷えていて変形
し難いため、膨張した部分が外気で直ぐに冷やされて突
起として残る。そして、突起の周囲は熱収縮による凹み
が形成される。
【0025】突起高さは、レーザの強度とその平均照射
時間および基板の線速度を調節することによって自由に
制御することが出来る。突起の密度は、1周当たりの突
起の個数、パルスレーザの半径方向の照射間隔および上
記の突起の高さを制御する条件を調節することにより自
由に制御することが出来る。突起の高さは、JIS表面
粗さ(B0601−1982)により規定される、粗さ
曲線の中心線を基準とした場合の突起の高さを表す。ま
た、突起の密度は、磁気ディスク全体での平均密度では
なく、突起存在部での単位面積当たりの密度をいう。
【0026】通常、レーザの強度は20〜500mW、
平均照射時間は0.05〜100μsec、レーザのス
ポット径は0.2〜4μm、基板の線速度は0.8〜1
5m/secが好ましい。ただし、スパイラル状の山脈
状突起を形成する場合には、レーザビームを半径方向に
走査しながら連続的に発振する様にする。
【0027】本発明の磁気ディスクは、磁気ヘッドの停
止領域と離着陸領域(ランディング領域)から成るCS
S領域に複数の突起を有し、上記の離着陸領域は、複数
の突起にて形成され且つ磁気ディスク中心からデータ記
録領域に向かって低くなる傾斜面であって、その勾配が
1×10-6〜5×10-5の範囲であり、そして、CSS
領域に存在する最小突起の高さは、磁気ヘッドの浮上高
さよりも低く、CSS領域に存在する最大突起の高さ
は、磁気ヘッドの浮上高さよりも高いことを特徴とす
る。
【0028】本発明の磁気ディスクにおいては、通常、
磁気ヘッドの停止領域の外周に離着陸領域が配置され、
磁気ヘッドの離着陸領域の外周にデータ記録領域が配置
される。従って、データ記録領域を浮上して飛行した磁
気ヘッドは、離着陸領域を経由して停止領域に停止され
る。
【0029】磁気ヘッドの離着陸領域の傾斜面は、磁気
ディスク中心からデータ記録領域に向かって直線的に低
くなっているのが理想的であるが、斯かる理想的な傾斜
面の形成は実際上容易ではない。そのため、上記の傾斜
面は、通常、同一周方向(同一トラック内)に存在する
突起の平均突起高さをデータ記録領域に向かって段階的
に低くすることにより形成される。
【0030】従って、磁気ヘッドの離着陸領域の傾斜面
の勾配は、離着陸領域の半径方向の長さをAとし、磁気
ヘッドの離着陸領域の最内周における突起の平均突起高
さをB、磁気ヘッドの離着陸領域の最外周おける突起の
平均突起高さをCとした場合、(B−C)/Aで表すこ
とが出来る。磁気ヘッドの離着陸領域の傾斜面の好まし
い勾配は、5×10-6〜2×10-5の範囲である。
【0031】本発明の磁気ディスクにおいて、磁気ヘッ
ドの停止領域は、複数の突起にて形成され且つ磁気ヘッ
ドの離着陸領域の傾斜面と同一方向で同一勾配を備えた
連続する傾斜面か、または、複数の突起にて形成された
水平面であるのが好ましい。
【0032】本発明の磁気ディスクにおいて、CSS領
域の同一周方向(同一トラック内)に存在する突起の平
均突起高さは1〜60nm、CSS領域の突起密度(個
/mm2 )は10〜108 、各突起の頂点から1nm下
の高さにおける等高線で囲まれた図形の面積(以下「等
高線面積」と言う)の平均値は1μm2 以下であること
が好ましい。
【0033】上記の平均突起高さが60nmを超える場
合は、CSS特性は良いが磁気ヘッドの安定浮上高さを
下げられない。逆に、平均突起高さが1nm未満の場合
は、当該突起が基板固有の細かな凹凸に埋もれてしまい
所望の効果が得られない。また、上記の突起密度が10
(個/mm2 )未満の場合は、基板のうねり等により磁
気ヘッド下面を突起のみで支えるのが困難である。逆
に、突起密度が108 を超える場合は、突起高さを揃え
るのが困難となる。等高線面積が1μm2 を超える場合
は、磁気ヘッドとの間においてスティッキングが発生し
易くなり、CSS特性が低下する傾向にある。
【0034】本発明の磁気ディスクにおいて、CSS領
域の複数の突起は、エネルギービームの走査により形成
され、突起の中心を通り且つエネルギービームの走査方
向を含む垂直断面形状が突起底部の片側部分に凹部を有
することが好ましい。また、磁気ディスク上の半径方向
の任意の幅50μmの領域に存在する突起の高さの標準
偏差値をσとした際の2σの値は15%以内であること
が好ましい。すなわち、磁気ディスク表面の突起の高さ
は、ばらつきの少ないことが好ましく、上記の2σの好
ましい範囲は10%以内である。
【0035】本発明の磁気ディスクにおいて、磁気ヘッ
ドの離着陸領域の突起密度は、磁気ヘッド停止領域にお
ける突起密度に較べて高くなっているのが好ましい。斯
かる磁気ディスクによれば、CSS時の突起部分の摩耗
を少なくすることが出来る。通常、データ記録領域との
境界部から半径方向に幅1mmの領域の任意の地点の突
起密度がCSS領域最内周から半径方向に幅1mmの領
域の任意の地点の突起密度に対して1〜100、好まし
くは2〜20、更に好ましくは2〜10の範囲とされ
る。
【0036】本発明の磁気ディスクによれば、磁気記録
装置の停止時、磁気ヘッドは、CSS領域のスティッキ
ングが小さく且つ突起高さが高い部分に置かれる。そし
て、ドライブが起動されると、磁気ディスクの回転に伴
い、磁気ヘッドはCSS領域の突起高さが低い部分に移
動する。この部分は、磁気ヘッドが磁気ディスク表面で
停止するとスティックするが、摺動状態での摩擦力は十
分小さく設計されており、また、突起密度が高いため、
耐摩耗性に優れている。磁気ディスクの回転数が規定の
高速回転に達すると、磁気ヘッドは完全に磁気ディスク
から離れ、データ記録領域を自由に動くことが出来る様
になる。
【0037】次に、本発明の記録再生方法について説明
する。本発明の記録再生方法は、磁気ヘッドによる磁気
ディスクに対するデータの読み出し及び/又は書き込み
をコンタクトスタートアンドストップ(CSS)方式に
よって行う記録再生方法において、磁気ヘッドの停止領
域と離着陸領域(ランディング領域)から成るCSS領
域に複数の突起を有し、上記の離着陸領域は、複数の突
起にて形成され且つ磁気ディスク中心からデータ記録領
域に向かって低くなる傾斜面であって、その勾配が1×
10-6〜5×10-5の範囲である磁気ディスクを使用
し、そして、当該突起の最大突起高さよりも低い高さで
磁気ヘッドを飛行させて記録再生を行うことを特徴とす
る。そして、前述した本発明の磁気ディスクが好適に使
用される。
【0038】通常、CSS領域における磁気ヘッドの停
止領域の高さ(Hs)は、データ記録領域における磁気
ヘッドの飛行高さ(Hf)に対して1〜100、好まし
くは1〜50、更に好ましくは1〜10の範囲とされ
る。なお、Hs及びHfの値は、標準高さを有する標準
バンプディスクを使用したグライドテスターによる測定
で求めることが出来る。
【0039】そして、前述の通り、本発明においては、
磁気ヘッドがシークしながらCSSを行う様にするのが
好ましい。すなわち、磁気ヘッドがCSSを行う際は、
磁気ヘッドがシークしながら突起の傾斜部分で離着陸す
る様にする。具体的には、磁気ディスクの停止時には、
低速化に伴って突起高さの高い部分に磁気ヘッドがシー
クしながら移動し、磁気ヘッドの最終的な静止位置で磁
気ディスクの回転を停止する様にする。
【0040】磁気記録装置の駆動時において、データ記
録領域で磁気ヘッドのシークが行われていないときは、
電源異常などの緊急時に備え、磁気ヘッドは、突起高さ
が低いCSS領域で待機することが好ましい。従って、
突起高さが低いCSS領域はデータ記録領域とほぼ同等
のグライド高さを有することが好ましい。そして、駆動
している磁気記録装置が停止するときは、磁気ヘッド
は、先ず、CSS領域の突起高さが順次高くなっている
傾斜部分にシークしながら着陸し、次に、磁気ディスク
の回転数の低下に伴い、突起高さの高い部分に移動す
る。
【0041】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。
【0042】実施例1及び比較例1〜2 Ni−P下地層が被覆された直径90mmのAL基板に
周方向の機械的テキスチャによるポリッシュ加工を施
し、データ記録領域およびCSS領域での表面粗さ(R
a)を1nm以下にした。
【0043】次に、表1〜3に記載の強度に精度良く制
御されたアルゴンパルスレーザ(488nm)をNi−
P層のCSS領域に照射し、順次、データ記録領域に向
かって高さが減少する様に突起を形成した。また、磁気
ヘッドの飛行高さに相当するCSS領域での突起高さの
部分での突起密度を高くした。表1〜3に照射条件およ
び各半径での突起高さを示す。表中の対物レンズの開口
率(NA)を示す。エネルギーの84%が集中するスポ
ット径は、1.22×λ/NAで表される。また、突起
断面積は、突起先端から1nm低い部分の断面積を表
す。
【0044】次いで、スパッタ法により、上記基板上
に、順次、Cr中間層(100nm)、Co−Cr−T
a合金磁性膜(50nm)及びカーボン保護膜を(20
nm)を形成し、その後、浸漬法によりフッ素系液体潤
滑剤(モンテエジソン社製「DOL−2000」)を2
nmの厚さで塗布し、磁気ディスクを作製した。
【0045】上記の磁気ディスクについて、CSSテス
ト前の静止摩擦係数(初期スティクション)及びCSS
2万回後の摩擦力を測定し、その結果を表4に示す。C
SSテストは、ロードグラム6gfの薄膜ヘッド(スラ
イダ材質Al2 3 TiC)を使用し、ヘッド浮上量
0.8μインチの条件で測定した。また、磁気ヘッドの
浮上安定高さ(グライドハイト)は、データ記録領域に
おいて、グライドテスターを使用して評価した。CSS
領域でのグライドハイトは、比較例1の磁気ディスクが
1.5μインチ、比較例2の磁気ディスクが約0.7μ
インチであった。
【0046】表1〜3に磁気ディスクの特性値を示し、
表4にCSSテストの結果を示す。なお、表1中の
(r)は、磁気ディスクの中心からの距離を表し、r:
18〜21mmはCSS領域(3mm)である。表1中
の標準偏差値(2σ)は、標準偏差値をσとした際の2
σの値(%)を表す。また、表1〜3中の突起密度
(1)は、データ記録領域との境界部から1mmの領域
の任意の地点の突起密度、突起密度(2)は、CSS領
域最内周から半径方向に幅1mmの領域の任意の地点の
突起密度を表す。
【0047】
【表1】 ──────────────────────────────────── 実施例1 r=21〜20mm r=20 〜19mm r=19 〜18mm 基板線速度(mm/sec) 1714 1714 1714 レーザ強度(mw) 220 220 220 平均照射時間( μsec) 0.32〜0.64 0.64〜0.96 0.96〜1.28 突起密度(1) (個/mm2) 18520 9260 9260 平均突起高さ(nm) 6〜15 15〜25 25〜35 突起断面積( μm2) 0.48〜0.39 0.39〜0.23 0.23〜0.10 対物レンズ開口率 0.6 0.6 0.6 標準偏差値(2σ)(%) 9.5 10 6.7 ────────────────────────────────────
【0048】
【表2】 ─────────────────────────────── 実施例1 Hs(μインチ) 1.5 CSS 領域全体勾配 9.7×10-6 Hf(μインチ) 0.8 突起密度(2) (個/mm2) 9260 突起密度(1)/(2) 2 ───────────────────────────────
【0049】
【表3】 ─────────────────────────────── 比 較 例 1 2 基板線速度(mm/sec) 1714 1714 レーザ強度(mw) 220 220 平均照射時間( μsec) 1.28 0.32 突起密度(1) (個/mm2) 9260 9260 平均突起高さ(nm) 35 6 突起断面積( μm2) 0.10 0.48 対物レンズ開口率 0.6 0.6 Hs(μインチ) − − CSS 領域全体勾配 0 0 CSS 領域(最大/境界)勾配 0 0 Hf(μインチ) 1.5 0.7 突起密度(2) (個/mm2) 9260 9260 突起密度(1)/(2) 1 1 ───────────────────────────────
【0050】
【表4】 ──────────────────────────────────── 実施例1 比較例1 比較例2 初期スティクション(摩擦係数) 0.15 0.14 5.19 CSS2万回後の摩擦力(gf) 3 (注1) (注2) ──────────────────────────────────── (注1):ヘッドクラッシュ (注2):吸着によりドライブ停止(400回)
【0051】実施例1においては、磁気ヘッドがシーク
しながらCSSを行なうため、磁気ヘッド底面は、半径
21〜20mm、突起高さ6〜15nmの部分で突起の
斜面に接触してそのまま突起高さの高い部分に移動す
る。最初の着陸部分は、突起密度が高いため、磁気ヘッ
ドが高速で摺動しても十分な耐摩耗性を有し、また、突
起高さの勾配が十分小さいため、最初の磁気ヘッドの接
触時においても磁気ヘッドクラッシュを起こすことがな
い。
【0052】実施例1のスティックション及び2万回後
の摩擦力は、半径19〜18mmの最終的な磁気ヘッド
停止位置における値であり、CSS領域における磁気ヘ
ッドのシーク速度は、半径方向に対し1mm/sec.
とした。これに対し、比較例1におけるCSS領域は、
突起高さに勾配がなく、しかも、突起高さも磁気ヘッド
のデータ記録領域における飛行高さよりも高いため、数
回のCSSの後にヘッドクラッシュを起こした。また、
比較例2におけるCSS領域は、磁気ヘッドのシーク時
にヘッドクラッシュを起こさなかったが、突起高さが低
いためにCSSを繰り返す間に、または、磁気ヘッドの
停止時に、スティッキングを起こし、磁気ヘッドが動か
なくなった。
【0053】
【発明の効果】本発明の磁気ディスクによれば、磁気ヘ
ッドの離着陸領域が複数の突起にて形成され且つ磁気デ
ィスク中心からデータ記録領域に向かって低くなる小さ
な勾配の傾斜面であるため、磁気ヘッドがシークしなが
ら安定なCSSを行なうことが出来る。
【0054】また、本発明の記録再生方法によれば、磁
気ディスクの低速回転に伴って磁気ヘッドを動かし、磁
気ヘッドの最終的な静止位置が突起高さの高い部分であ
るため、磁気ヘッドの停止時にスティッキングを起こす
ことがない。従って、データ記録領域上をシークする際
の磁気ヘッドの浮上高さを極限まで低くすることが出
来、停止時には十分高い突起上に磁気ヘッドを置くこと
が出来るため、通常のCSSと全く同じ方法を採用して
高密度の磁気記録装置を開発することが可能である。
【0055】要するに、本発明によれば、良好なCSS
特性を保ちながら磁気ヘッドの磁気ディスク表面へのス
ティッキング特性と磁気ヘッドのデータ記録領域におけ
る極低浮上化を同時に可能にする記録再生方法が提供さ
れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザビーム照射装置の一例の基本的構成の説
明図である。
【図2】レーザテキスチャによって形成された実施例1
の突起の形状の説明図であり、(a)は斜視図、(b)
は突起の中心を通りレーザビームの走査方向を含む垂直
断面図である。

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コンタクトスタートアンドストップ(C
    SS)方式によって記録再生を行う磁気ディスクであっ
    て、磁気ヘッドの停止領域と離着陸領域(ランディング
    領域)から成るCSS領域に複数の突起を有し、上記の
    離着陸領域は、複数の突起にて形成され且つ磁気ディス
    ク中心からデータ記録領域に向かって低くなる傾斜面で
    あって、その勾配が1×10-6〜5×10-5の範囲であ
    り、そして、CSS領域に存在する最小突起の高さは、
    磁気ヘッドの浮上高さよりも低く、CSS領域に存在す
    る最大突起の高さは、磁気ヘッドの浮上高さよりも高い
    ことを特徴とする磁気ディスク。
  2. 【請求項2】 磁気ヘッドの停止領域が複数の突起にて
    形成され且つ磁気ヘッドの離着陸領域の傾斜面と同一方
    向で同一勾配を備えた連続する傾斜面である請求項1に
    記載の磁気ディスク。
  3. 【請求項3】 磁気ヘッドの停止領域が複数の突起にて
    形成された水平面である請求項1に記載の磁気ディス
    ク。
  4. 【請求項4】 CSS領域の同一周方向(同一トラック
    内)に存在する突起の平均突起高さが1〜60nm、C
    SS領域の突起密度(個/mm2 )が10〜108 、各
    突起の頂点から1nm下の高さにおける等高線で囲まれ
    た図形の面積の平均値が1μm2 以下である請求項1に
    記載の磁気ディスク。
  5. 【請求項5】 突起がエネルギービームの走査により形
    成され且つ突起の中心を通り且つエネルギービームの走
    査方向を含む垂直断面形状が突起底部の片側部分に凹部
    を有している請求項1に記載の磁気ディスク。
  6. 【請求項6】 磁気ディスク上の半径方向の任意の幅5
    0μmの領域に存在する突起の高さの標準偏差値をσと
    した際の2σの値が15%以内である請求項1に記載の
    磁気ディスク。
  7. 【請求項7】 磁気ヘッドの離着陸領域の突起密度が磁
    気ヘッド停止領域における突起密度に較べて高くなって
    いる請求項1に記載の磁気ディスク。
  8. 【請求項8】 CSS領域におけるデータ記録領域との
    境界部から半径方向に幅1mmの領域の任意の地点の突
    起密度が、CSS領域最内周から半径方向に幅1mmの
    領域の任意の地点の突起密度に対して1〜100の範囲
    である請求項1に記載の磁気ディスク。
  9. 【請求項9】 磁気ヘッドによる磁気ディスクに対する
    データの読み出し及び/又は書き込みをコンタクトスタ
    ートアンドストップ(CSS)方式によって行う記録再
    生方法において、磁気ヘッドの停止領域と離着陸領域
    (ランディング領域)から成るCSS領域に複数の突起
    を有し、上記の離着陸領域は、複数の突起にて形成され
    且つ磁気ディスク中心からデータ記録領域に向かって低
    くなる傾斜面であって、その勾配が1×10-6〜5×1
    -5の範囲である磁気ディスクを使用し、そして、当該
    突起の最大突起高さよりも低い高さで磁気ヘッドを飛行
    させて記録再生を行うことを特徴とする記録再生方法。
  10. 【請求項10】磁気ヘッドの停止領域が複数の突起にて
    形成され且つ磁気ヘッドの離着陸領域の傾斜面と同一方
    向で同一勾配を備えた連続する傾斜面である磁気ディス
    クを使用する請求項9に記載の記録再生方法。
  11. 【請求項11】磁気ヘッドの停止領域が複数の突起にて
    形成された水平面である磁気ディスクを使用する請求項
    9に記載の記録再生方法。
  12. 【請求項12】CSS領域の同一周方向(同一トラック
    内)に存在する突起の平均突起高さが1〜60nm、C
    SS領域の突起密度(個/mm2 )が10〜108 、各
    突起の頂点から1nm下の高さにおける等高線で囲まれ
    た図形の面積の平均値が1μm2 以下である磁気ディス
    クを使用する請求項9に記載の記録再生方法。
  13. 【請求項13】突起がエネルギービームの走査により形
    成され且つ突起の中心を通り且つエネルギービームの走
    査方向を含む垂直断面形状が突起底部の片側部分に凹部
    を有している磁気ディスクを使用する請求項9に記載の
    記録再生方法。
  14. 【請求項14】磁気ディスク上の半径方向の任意の幅5
    0μmの領域に存在する突起の高さの標準偏差値をσと
    した際の2σの値が15%以内である磁気ディスクを使
    用する請求項9に記載の記録再生方法。
  15. 【請求項15】磁気ヘッドの離着陸領域の突起密度が磁
    気ヘッド停止領域における突起密度に較べて高くなって
    いる磁気ディスクを使用する請求項9に記載の記録再生
    方法。
  16. 【請求項16】CSS領域におけるデータ記録領域との
    境界部から半径方向に幅1mmの領域の任意の地点の突
    起密度が、CSS領域最内周から半径方向に幅1mmの
    領域の任意の地点の突起密度に対して1〜100の範囲
    である磁気ディスクを使用する請求項9に記載の記録再
    生方法。
  17. 【請求項17】CSS領域における磁気ヘッドの停止領
    域の高さ(Hs)がデータ記録領域における磁気ヘッド
    の飛行高さ(Hf)に対して1〜100の範囲である請
    求項9に記載の記録再生方法。
  18. 【請求項18】磁気ディスクの停止時は、低速化に伴
    い、突起高さの高い部分に磁気ヘッドがシークしながら
    移動し、そして、磁気ヘッドの最終的な静止位置で磁気
    ディスクの回転を停止する請求項9に記載の記録再生方
    法。
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