JPH1166551A

JPH1166551A - 磁気記録媒体とその製造方法

Info

Publication number: JPH1166551A
Application number: JP22921097A
Authority: JP
Inventors: Mitsunori Mochida; 光範持田; Ryuichi Yoshiyama; 龍一芳山
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1997-08-26
Filing date: 1997-08-26
Publication date: 1999-03-09

Abstract

(57)【要約】【構成】非磁性基板上に、必要に応じて下地層とその上
の中間層を介し、少なくとも磁性層を有し、場合により
磁性層上に保護層を設けた磁気記録媒体であって、ＣＳ
Ｓゾーンにおける平均粗さ面がデータゾーンにおける平
均粗さ面より低く、かつ媒体表面上における一つの窪み
の面積Ｓが０．２５〜１００μｍ²である窪みをＣＳＳ
ゾーンに１ｍｍ²あたり１０〜１０⁸個備えており、該
窪みの平均深さが１〜３０ｎｍであることを特徴とする
磁気記録媒体。【効果】本発明により、磁気記録媒体の基板または下地
層の表面に深さが制御された窪みを作成することがで
き、ＣＳＳ時の摩擦が極端に小さくなり、また、ヘッド
の媒体表面へのスティキングも発生しなくなる。特に、
高温、高湿下等の環境テストにおいても安定なＣＳＳ特
性を示す磁気記録媒体を得ることができる。またヘッド
クラッシュやヘッドの空間での不安定化が起こらない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及びその
製造方法に関するものである。特に、磁気ディスク装置
においては、良好なＣＳＳ（コンタクトスタートアンド
ストップ）特性およびヘッドの媒体表面へのスティッキ
ング特性とヘッドの低浮上化を同時に可能にする薄膜型
の磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】通常、ハードディスクはその使用に際
し、ディスクを高速で回転して磁気ヘッドを浮上させ、
ハードディスクへの書き込み／読み出し等をこの磁気ヘ
ッドを介して行っている。ハードディスクは、その磁気
特性の向上のため、ディスクの基板面あるいは基板面上
に設けられたＮｉＰメッキ等の非磁性体からなる下地層
上に、磁気ディスクの円周方向にほぼ同心円状に機械的
研磨を行って加工痕を残す加工（以下、機械的テキスチ
ャという）が行われている。また、表面性と硬度に優れ
るガラス基板を使う場合には、弗酸でガラスの表面をエ
ッチングして表面に凹凸を付ける方法や微小な粒子を基
板の表面に塗布する方法が用いられている。

【０００３】近年の情報量の増大と装置の小型軽量化の
要求により、線記録密度及びトラック密度が高くなり、
１ビット当りの面積が小さくなってくると、従来のよう
な機械的テキスチャによるスクラッチ傷は情報読み出し
の際にエラーとなる確率が高くなる。また、内周部にあ
るＣＳＳゾーンのみに機械的テキスチャを施しデータ記
録領域はそのままにする方法もあるが、データ記録領域
の面がＣＳＳゾーンの面の高さよりも高くなり、ヘッド
がシークする時にクラッシュするという問題があった。

【０００４】また、こうした機械的テキスチャに代え
て、レーザでテキスチャパターンを作る方法も提案され
ている。先に本発明者らは特願平６−１５２１３１号に
おいて、パルスレーザで作成した凸状突起をテキスチャ
パターンとして利用する方法を提案した。この方法はＣ
ＳＳ特性改善に極めて有効であるが、突起部に十分な強
度がない場合、ＣＳＳ時のディスクの摩耗量が増加し、
特に高温、高湿等の環境ではＣＳＳ特性が劣化するとい
う問題が生じることがある。

【０００５】また、突起をフォトリソグラフィを使って
形成する方法も提案されており、日本潤滑学会トライボ
ロジー予稿集（１９９１−５，Ａ−１１），（１９９２
−１０，Ｂ−６）にはディスクの全表面に対する面積比
が０．１〜５％の同心円状の凸部、または突起をフォト
リソグラフィによって形成した磁気ディスクのＣＳＳの
テスト結果が開示されている。しかし、この方法は、工
業化が容易でないという問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】こうした問題に鑑み、
磁気記録媒体の高密度化、媒体の表面性の向上に伴い、
ヘッドと媒体の摺動特性の改善が望まれている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは鋭意
検討の結果、ディスク表面の突起により引き起こされる
ものであること、一方テキスチャの目的はディスク表面
があまりに平滑であると、ディスクとそれを読みとるた
めのヘッドが固着してしまうことを防ぐことであり、突
起は必ずしも必要ではないことを見出し本発明に到達し
た。すなわち本発明の目的は、ヘッドとの摺動特性に優
れ、かつクラッシュしにくい磁気記録媒体を提供するこ
とにあり、かかる目的は、磁気記録媒体のＣＳＳゾーン
における平均粗さ面がデータゾーンにおける平均粗さ面
より低く、かつＣＳＳゾーンに複数の窪みを有し、該窪
みの面積Ｓが０．２５〜１００μｍ²、個数が１ｍｍ²
あたり１０〜１０⁸個、平均深さが１〜３０ｎｍである
ことを特徴とする磁気記録媒体および、該磁気記録媒体
を製造する方法として、レーザ光照射により複数の突起
と窪みを形成した後に、突起を取り除くことにより窪み
を複数形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法、に存する。

【０００８】以下、本発明を主として製造方法を通して
詳細に説明する。本発明においては、通常まず、磁気記
録媒体の基板または下地層の表面に、レーザ光を照射し
て基板または下地層の表面に複数の突起及び窪みを形成
する。ついで、該基板または下地層の表面を機械的に研
磨することにより、突起を取り除き窪みを残す。

【０００９】磁気記録媒体を製造するためには、通常、
非磁性基板上に膜厚が通常２０〜２００ｎｍのＣｒ、あ
るいはＣｕ等の下地層を設ける。場合によっては基板と
上記層との間に更に膜厚が通常１００〜２０，０００ｎ
ｍのＮｉＰからなる下地層を設けてもよい。磁気記録媒
体の基板または下地層の表面に、レーザ光を照射して基
板または下地層の表面に窪みを形成する好ましい方法と
しては、磁気記録媒体用基板またはこの上に下地層を設
けた基板を回転させながら、その表面に円周方向に沿っ
て、出力を精度良く制御したレーザ光線を照射して表面
に窪みを形成する。レーザ光としては、Ａｒ等のガスレ
ーザ又は単一モードで連続発振が可能なＹＡＧ等の固体
レーザを変調器で適当なパルス長にしたもの、あるい
は、ＹＡＧ、ＹＬＦ等の固体Ｑスイッチレーザ、あるい
は半導体レーザ等が使われる。パルス幅としては１００
ｎｓ以上が好ましい。

【００１０】本発明において、レーザ光線の照射により
形成された溶融液体部中で、レーザ光線の走査方向と直
角の方向には殆んど温度勾配がつかず、走査方向のみに
温度勾配が発生するような状態をつくると、液体表面は
温度が低い方が表面張力が高いため、溶融液体部のうち
温度の低い部分で丸く凸部となり、最後に固化する高温
部分、つまりビームが走査された最後の部分は凹部とな
り、急冷固化されることにより、後述するような形状の
突起及び窪みを形成することができる。

【００１１】好ましくは、照射するレーザ光線が、パル
ス状のレーザビームであり、被照射表面において、１回
当りの照射時間におけるパルス状レーザの走査距離がパ
ルス状レーザのスポット径の通常１／４以上、好ましく
は１／２以上とする。本発明において、レーザ光線の走
査方向とは、静止した被照射媒体上でレーザ光線が走査
する方向のみならず、レーザ光線は静止させておき、被
照射媒体を回転させた状態で照射する場合の被照射媒体
の回転方向、あるいはレーザ光線及び被照射媒体を移動
させた場合等をも示す相対的なものである。また、本発
明においてレーザ光線のスポット径とはエネルギーの８
４％が集中する１／ｅ² の径をいう。

【００１２】窪み深さはレーザの強度とその平均照射時
間、及びディスクの線速度を調節することによって自由
に制御され、窪みの密度は、１周当たりの窪みの個数、
パルスレーザの半径方向の照射間隔、及び上記の窪みの
深さを制御する条件を調節することにより自由に制御さ
れる。また、半径方向については連続的に移動させ、渦
巻状の走査を行なうようにすると時間的に効率がよい。
通常、レーザの強度は２０〜５００ｍＷ、平均照射時間
は０．０５〜５μｓｅｃ、レーザのスポット径は０．２
〜４μｍ、基板の線速度は１〜１５ｍ／ｓｅｃが好まし
い。ここで、レーザの平均照射時間とは、１つの突起及
び窪みを形成させるのにレーザを下地層表面に照射した
時間を示す。

【００１３】レーザビームの照射面積を変えるには、通
常、用いるレーザの波長と対物レンズの開口率を変えれ
ばよく、開口率が０．１〜０．９５の対物レンズを用い
ることにより、ビームの照射径は０．３〜６μｍ程度ま
で制御できる。本発明に用いるビームの照射径は２μｍ
以下、更に望ましくは１μｍ以下が望ましい。レーザの
システムとしては連続発振ができるＡｒ等のガスレーザ
に変調器を用いたものや、固体レーザのＹＡＧ、あるい
は半導体レーザ等が利用できるが、いずれにしてもスポ
ット径が小さくできるシステムが望ましい。

【００１４】本発明の好ましい態様として、ハードディ
スク等においては、窪みは磁気ヘッドがＣＳＳ（コンタ
クトスタートアンドストップ）を行なう領域に存在し、
データ記録領域には存在しない磁気記録媒体の作成方法
が挙げられる。このようにすることにより、データ記録
領域においては磁性層表面を平滑にすることができるた
め、従来のようなスクラッチ傷によるエラーを減少させ
ることができる。

【００１５】また、さらに好ましい態様として、窪みを
磁気ヘッドがＣＳＳを行なう領域に作成しデータ記録領
域には作成せず、かつその窪みの深さをデータ記録領域
に向かって減少するように磁気記録媒体を作成すること
が挙げられる。窪み深さをデータ記録領域に向かって減
少させることにより、データ記録領域からＣＳＳゾーン
あるいは逆の方向にヘッドを安定にシークすることがで
きる。また、窪みの密度をデータ記録領域に向かって減
少させることにより窪み深さを低減させた場合と同様な
効果を得ることができる。また、該窪み深さおよび密度
の両方をデータ記録領域に向かって減少させることも好
ましい。

【００１６】上記の結果、ＣＳＳゾーンにおける平均粗
さ面が、データゾーンから離れるに従って低くなること
になるが、その度合いとしては、該平均粗さ面のデータ
ゾーンに最も近いＣＳＳゾーンの部分と遠いＣＳＳゾー
ンの部分との差が、０．５ｎｍから１０ｎｍの範囲にあ
ることが好ましい。なぜなら、０．５ｎｍより小さい
と、充分な窪みの効果が得られにくく、１０ｎｍより大
きいとデータ領域−ＣＳＳ領域間をヘッドが安定してシ
ークできない恐れがあるからである。ここで、平均粗さ
面とは、ＣＳＳ領域の高さデータを適当な領域に分割し
てそこでの平均値を求め、その値をその領域のほぼ中央
の位置における高さの値とし、それらの点を相互に結ん
でできた面のことを言う。分割する領域の面積は、その
結果できる平均粗さ面が大方滑らかになる範囲でできる
だけ小さくなるように選ばれ、通常２０μｍ角から１０
０μｍ角程度に選ばれる。そしてこの平均粗さ面を基準
として窪みの面積や深さを求める。

【００１７】窪み深さをデータ記録領域に向かって減少
させるためには、レーザ光線の出力をデータ記録領域に
向かって減少させる等の方法が挙げられる。また、窪み
密度をデータ記録領域に向かって減少させるためには、
レーザ光線の照射間隔をデータ記録領域に向かって大き
くする等の方法が挙げられる。本発明において、レーザ
光線により被照射媒体表面に作成される窪みの深さは、
ＡＦＭでディスク面の窪みを含む面を測定し、高さデー
タのヒストグラムの最大値を与える高さの値と、高さデ
ータの最小値との差として求めた。この窪み深さは、好
ましくは１〜３０ｎｍ、特に好ましくは１０〜３０ｎｍ
であり、窪み深さの平均が３０ｎｍを超えるとヘッドの
安定浮上に悪影響があり、また、１ｎｍ未満では基板が
元来有する細かな粗さに埋もれてしまい所望の効果は得
られない。

【００１８】そして窪みの面積としては、０．２５〜１
００μｍ²である。窪みの面積は平均粗さ面での窪みの
開孔面の面積をいうものとする。また、前述の窪み深さ
を有する窪みは、１ｍｍ²あたり１０〜１０⁸個存在す
るのが好ましい。１０個未満では十分な効果が得られ
ず、また１０⁸個を超えて窪みを作ろうとすると互いに
干渉しあって窪みの深さをそろえるのが難しくなり、特
に好ましい存在密度は１ｍｍ²あたり１０³〜１０⁶個
である。ここで窪みの存在密度は媒体全体での平均密度
ではなく、窪み存在部での単位面積当たりの密度をい
う。

【００１９】本発明においては、上述のようにして基板
または下地層の表面に突起及び窪みを生成した後、該表
面を機械的に研磨することにより、窪みを形成する。機
械的に研磨する方法としては、通常の機械的テキスチャ
ーを用いることができる。通常の機械的テキスチャーの
目的は基板が有するポリッシュ痕を消すことと、その後
に形成される磁性層の磁気特性を向上させることであ
る。窪みを形成する方法としては、基板に通常の機械的
テキスチャーを施した後に、レーザで複数の突起及び窪
みを作成し、その後に再び機械的テキスチャーで突起を
研磨して、窪みのみを残す方法もあるが、工程の簡素化
のためには、まず、レーザで突起及び窪みを作成したの
ちに、機械的テキスチャーでポリッシュ痕の除去、磁気
特性の向上のためのテキスチャーと同時に、突起除去の
研磨を行ってしまうのが好ましい。

【００２０】この結果としてＣＳＳゾーンにおける平均
粗さ面がデータゾーンにおける平均粗さ面より低くな
る。本発明において、磁気記録媒体の基板としては、通
常アルミニウム合金板またはガラス基板等の非磁性基板
が用いられるが、銅、チタン等の金属基板、セラミック
基板、樹脂基板又はシリコン基板等を用いることもでき
る。

【００２１】非磁性基板上に膜厚が通常２０〜２００ｎ
ｍのＣｒ、あるいはＣｕ等の下地層を設け、場合によっ
ては基板と上記層との間に更に膜厚が通常１００〜２
０，０００ｎｍの例えばＮｉＰ合金等非磁性体からなる
下地層を設けてもよい。下地層は、通常無電解メッキ法
またはスパッタ法により形成される。磁気記録層は、無
電解メッキ、電気メッキ、スパッタ、蒸着等の方法によ
って形成され、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ−Ｐｔ系合金等の強磁性
合金薄膜を形成し、その膜厚は通常３０から７０ｎｍ程
度である。

【００２２】磁気記録層上には、通常、更に保護層が設
けられるが、保護層としては蒸着、スパッタ、プラズマ
ＣＶＤ、イオンプレーティング、湿式法等の方法によ
り、炭素膜、水素化カーボン膜、ＴｉＣ、ＳｉＣ等の炭
化物膜、ＳｉＮ、ＴｉＮ等の窒化膜等、ＳｉＯ、Ａｌ
Ｏ、ＺｒＯ等の酸化物膜等が成膜される。これらのうち
特に好ましくは、炭素膜、水素化カーボン膜であり、さ
らには、炭素を主成分とし水素の存在比率（Ｈ／Ｃ、原
子数％）が０．１〜４０ａｔ％、なかでも１〜３０ａｔ
％である水素化カーボン膜が好ましい。また、保護層上
には、通常、潤滑剤層が設けられる。ただし、スライダ
ー面にダイヤモンド状カーボンの層を有する磁気ヘッド
を使う場合は、媒体とのトライボロジ的な性質が改善さ
れるので、必ずしも保護層を設ける必要はない。

【００２３】

【実施例】次に、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例によって限定されるものではない。（実施例１〜３）直径９５ｍｍのディスク状Ａｌ基板上
に膜厚１０μｍのＮｉＰをメッキした後、表面粗さＲａ
が２ｎｍ以下になるように表面研磨を行ってＮｉＰ下地
層を有する基板を得た。次に、レーザの強度１６３ｍ
Ｗ、平均照射時間０．６μｓｅｃ、レーザの集光に用い
た対物レンズの開口率ＮＡとして、エネルギーの８４％
（１／ｅ² ）が集中するスポット径（１．２２×λ／Ｎ
Ａ）が１．０μｍ、基板の線速度１７１４ｍ／ｓｅｃの
範囲内の条件で、ディスクの内周部の半径１８〜２１ｍ
ｍのＣＳＳ領域にＡｒパルスレーザを照射してＮｉＰ下
地表面にピッチ１０μｍの渦巻線状に突起及び窪みを作
成した。なお、Ａｒレーザの波長は４８８ｎｍを使用し
た。

【００２４】レーザによる突起及び窪みの形成の後、粒
径が約１μｍの遊離ダイヤモンド砥粒を用い、突起が平
坦になるまで、基板面を周方向に研磨した。図１は、実
施例１で得られたＮｉＰ下地層の表面形状をレーザ干渉
による表面形状測定装置（米国ザイゴ社製「ＺＹＧ
Ｏ」）で観察した結果を表す図であり、図２はその断面
図である。

【００２５】次いで，スパッタ法により，上記ＮｉＰ基
板上に、順次、Ｃｒ中間層（１００ｎｍ）、Ｃｏ−Ｃｒ
−Ｔａ合金磁性膜（５０ｎｍ）を製膜した。さらに、
カーボン保護膜を（２０ｎｍ）を形成し、その後、浸漬
法によりフッ素系液体潤滑剤（モンテエジソン社製「Ｄ
ＯＬ−２０００」）を２ｎｍ塗布して、磁気記録媒体を
作製した。

【００２６】（比較例１〜２）レーザによって突起及び
窪みを形成した後、突起を研磨にて除去することをしな
いこと以外は実施例１（比較例１の場合）、または実施
例２（比較例２の場合）と同様にして磁気記録媒体を製
作した。図３は、比較例１で得られたＮｉＰ下地層の表
面形状をレーザ干渉による表面形状測定装置（米国ザイ
ゴ社製「ＺＹＧＯ」）で観察した結果を表す図であり、
図４はその断面図である。

【００２７】表−１に実施例と比較例の基板へのレーザ
による突起／窪み作成条件、線速度、レーザの強度、レ
ーザの平均照射時間、平均突起密度（レーザ照射のイン
ターバルに相当）、平均窪み深さ( 比較例の場合は平均
突起高さ）、平均窪み面積、レーザの集光に用いた対物
レンズの開口率ＮＡを示す。

【００２８】

【表１】表−１ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 基板レー平均平均窪平均対物平均平均線ザ照射み／突窪みレン突起窪み速度強度時間起密度深さズ開高さ面積 (mm/sec) (mW) (μsec)（個／mm²) (nm) 口率 (nm) (μm²) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ 400 700 0.3 40000 10 0.3 -- 3 実施例２ 400 850 0.3 40000 16 0.3 -- 4 実施例３ 400 1000 0.3 40000 20 0.3 -- 5 比較例１ 400 700 0.3 40000 -- 0.3 17 -- 比較例２ 400 850 0.3 40000 -- 0.3 24 -- −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００２９】表−２にこれらのディスクのＣＳＳテスト
前の静止摩擦係数（初期スティクション）及びＣＳＳ２
万回後の摩擦力を示した。ＣＳＳテストはヘッド浮上量
１．６μインチ、ロードグラム６ｇｆの薄膜ヘッド（ス
ライダ材質Ａｌ２Ｏ３ＴｉＣ）を用いた。ＣＳＳゾーン
の安定浮上高さは、全て１．２μインチであった。な
お、実験の条件としては、常温、常湿で行なった。表
−３は、表−２に示した実験を温度が６５°Ｃ、湿度が
１０％の条件で行なったものである。

【００３０】

【表２】表−２ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 初期スティクションＣＳＳ２万回後の（摩擦係数）摩擦力 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１０．２４７ｇｆ実施例２０．１８１０ｇｆ実施例３０．１５１３ｇｆ比較例１０．２０１６ｇｆ比較例２０．１７２１ｇｆ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００３１】

【表３】表−３ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 初期スティクションＣＳＳ２万回後の（摩擦係数）摩擦力 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１０．２２１４ｇｆ実施例２０．１９１７ｇｆ実施例３０．１５１９ｇｆ比較例１０．２５３４ｇｆ比較例２０．２２４５ｇｆ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００３２】

【発明の効果】本発明によれば、磁気記録媒体の基板ま
たは下地層の表面に深さが制御された窪みを作成するこ
とができる、したがって、磁気ヘッド下面と磁気記録媒
体表面との接触面積が少なくなるため、ＣＳＳ時の摩擦
が極端に小さくなり、また、ヘッドの媒体表面へのステ
ィキングも全く発生しなくなる。特に、高温、高湿下等
の環境テストにおいても安定なＣＳＳ特性を示す磁気記
録媒体を得ることができる。

【００３３】また、ヘッドのＣＳＳ領域のみにこうした
窪みを作った場合でも、機械的なテキスチャはデータ記
録領域とＣＳＳ領域とを均一に行なうため、それぞれの
平均的な面の高さはほとんど変わらず、ヘッドをデータ
記録領域とＣＳＳ領域との間でシークした時にヘッドの
安定浮上高さの変動が少なく、ヘッドクラッシュやヘッ
ドの空間での不安定化が起こらない。

【００３４】更に、このレーザによる窪みの高さや密度
をデータゾーンに近付くにしたがって制御することもで
きるため、ヘッドのデータ記録領域とＣＳＳ領域間での
シークは極めて滑らかに行なうことができ、ヘッドのフ
ライングハイトを小さくできる。したがって、高密度の
磁気記録媒体の製造が可能となり、工業的な意義は極め
て大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、表面形状装置により観察した本発明の
実施例１のＮｉＰ下地層表面の突起の形状を示す斜視図
である。

【図２】図２は、図１に示した突起の断面図である。

【図３】図３は、表面形状装置により観察した本発明の
比較例１のＮｉＰ下地層表面の突起の形状を示す斜視図
である。

【図４】図４は、図３に示した突起の断面図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板上に、必要に応じて下地層とそ
の上の中間層を介し、少なくとも磁性層を有し、場合に
より磁性層上に保護層を設けた磁気記録媒体であって、
ＣＳＳゾーンにおける平均粗さ面がデータゾーンにおけ
る平均粗さ面より低く、かつ媒体表面上における一つの
窪みの面積Ｓが０．２５〜１００μｍ²である窪みをＣ
ＳＳゾーンに１ｍｍ²あたり１０〜１０⁸個備えてお
り、該窪みの平均深さが１〜３０ｎｍであることを特徴
とする磁気記録媒体。
【請求項２】ＣＳＳゾーンにおける窪みの平均深さが、
データゾーンから離れるにしたがって、単調増加してい
る請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】少なくともデータゾーンにおける面内粗さ
Raが３ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の磁気記録
媒体
【請求項４】ＣＳＳゾーンにおける平均粗さ面が、デー
タゾーンから離れるに従って低くなっており、該平均粗
さ面のデータゾーンに最も近い部分と遠い部分との差
が、０．５ｎｍから１０ｎｍの範囲にある請求項１に記
載の磁気記録媒体。
【請求項５】非磁性基板上に、必要に応じて下地層を介
し、少なくとも磁性層を有し、場合により磁性層上に保
護層を設けた磁気記録媒体の製造法において、非磁性基
板、または下地層の表面に、パルス状にレーザ光を集光
照射して突起と窪みを複数形成した後に、少なくとも突
起を取り除く事により窪みを複数形成することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】基板、または下地層の表面を機械的に研磨
することにより、レーザ光にて形成された突起を取り除
き、複数の窪みを残す請求項５に記載の磁気記録媒体の
製造方法。
【請求項７】レーザ光の集光照射条件を変化させること
により、媒体表面上における一つの窪みの面積Ｓの大き
さを制御する請求項５に記載の磁気記録媒体の製造方
法。
【請求項８】レーザ光にて形成された突起を取り除く際
に、基板、または下地層の表面を機械的に研磨する度合
いを制御することにより、媒体表面上における一つの窪
みの面積Ｓの大きさを制御する請求項５に記載の磁気記
録媒体の製造方法。