JP2000099942A - 磁気ディスクおよび磁気ディスク用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】磁気ヘッドとの摩擦力や吸着力が低く、低浮上
量においても磁気ヘッドの浮上安定性を保証し、長期に
亘って特性劣化の小さく、且つ耐食性を有する磁気記録
媒体を再現性良く提供する。 【解決手段】基板上に磁性層と保護層を有する磁気ディ
スクにおいて、保護層を、前記磁性層を覆う第一保護層
と該第一保護層上に設けられた第二保護層から構成し、
第二保護層により多数の凸部を形成し、第一保護層によ
り耐食性を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置及
びそれに用いられる磁気記録媒体と磁気記録媒体の製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピュータシステムの外部記憶
装置としての磁気ディスク装置の重要度は益々高まり、
その記録密度は年々著しい向上が図られている。

【０００３】磁気ディスク装置の記録密度を向上させる
ためには、記録再生時の磁気ヘッドの浮上量を小さくす
るのが良く、その際の磁気ヘッドの浮上安定性を確保す
るために、磁気記録媒体の表面はできるだけ平坦である
ことが要求される。

【０００４】ところで、磁気ディスク装置の起動時及び
停止時において磁気ヘッドと磁気記録媒体の間に生ずる
摩擦力は、両者の摩耗を引き起こし、書き込み特性或い
は読み出し特性等の特性劣化の原因となる。さらに、磁
気記録媒体が静止している状態で磁気ヘッドと磁気記録
媒体の間に水分等が介在すると、両者が強固に吸着し、
この状態で起動すると磁気ヘッドと磁気記録媒体の間に
大きな力が生じ、磁気ヘッドや磁気記録媒体の損傷を招
く恐れがある。この様な摩擦力や吸着力は、磁気記録媒
体の表面が平坦であるほど大きくなる傾向があり、前記
した記録密度の向上に伴う磁気ヘッドの浮上安定性に対
する要求と相反する。

【０００５】このような摩擦力や吸着力を低減するため
に、磁気記録媒体の表面に微小凹凸を形成することが知
られている。

【０００６】一例として、特開平１−134720号公報に
は、磁気記録媒体の表面に島状に突起を設けることが示
されている。

【０００７】特開平１−122028号公報には、磁気記録媒
体の磁性層表面に金属アルコキシド溶液を塗布し、急速
加熱して磁性層表面に凹凸を有する保護層を形成するこ
とが示されている。

【０００８】特開昭57−20925号公報には、磁性層又は
保護層の表面に直径が０．０３〜０．１ｍｍ、高さが約
０．０５μｍの円柱状の突起部を設けることが示されて
いる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、いず
れも磁気記録媒体に対する磁気ヘッドの浮上量を小さく
すること、およびその場合に磁気記録媒体に磁気ヘッド
を支持用スライダーが吸着するのを防止することを狙っ
ている。

【００１０】磁気ヘッドの浮上安定性を長期にわたって
持続することについては、配慮していない。

【００１１】本発明の目的は、磁気ヘッドの浮上安定性
を持続できるようにした磁気記録媒体を提供することに
ある。さらに、磁気記録媒体の耐食性を向上させること
にある。

【００１２】本発明の他の目的は、上記目的を達成する
磁気記録媒体を備えた磁気ディスク装置を提供すること
にある。

【００１３】本発明の更に他の目的は、磁気ヘッドの浮
上量を０．２μｍ以下にでき、なお且つ浮上安定性を長
期にわたって持続することができる磁気ディスク装置、
およびそのための磁気記録媒体を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ディスク装
置は、本質的には、基板上に磁性層と表面保護層を有す
る少なくとも一枚の磁気ディスク、回転中の前記磁気デ
ィスクと微小間隙をもって対向し、スライダーによって
支持されている磁気ヘッド、前記磁気ディスクを回転す
る回転手段、および前記磁気ヘッドを前記磁気ディスク
上の所定の位置に移動し位置決めする磁気ヘッド位置決
め手段、を具備する磁気ディスク装置において、前記磁
気ディスクの表面に下記（イ）と（ロ）を具備する多数
の表面平坦な凸部を有することを特徴とする。

【００１５】(イ) 該磁気ディスクの同一円周上および
同一半径上で凸部が分断されており該凸部間に凹部を有
し、該磁気ディスクの最も近接している該凸部間の間隔
が０．２〜５０μｍである。

【００１６】(ロ) 該磁気ディスク上の任意の位置に前
記スライダーを用いて該磁気ディスクを一回転したとき
に該スライダーの全面に前記凸部が接触するように該凸
部が配置されている。

【００１７】本発明は、磁気記録媒体の表面に表面平坦
な凸部を多数備えると共に、該凸部に前記（イ）、
（ロ）の要件を具備させることによって、磁気ヘッドの
浮上量を小さくし且つ浮上安定性を持続できるという事
実の究明に基づいている。

【００１８】前記（ロ）の要件を備えることによって、
磁気ヘッドおよびスライダーに付着する塵埃を凸部によ
ってかき落すことができる。

【００１９】前記（イ）の要件を備えることによって、
磁気ヘッドおよびスライダーからかき落とした塵埃を、
磁気記録媒体表面の凸部間の凹みを利用してスライダー
外部へ排出できるようになる。

【００２０】この（イ）と（ロ）に基づく効果により、
磁気ヘッドの浮上量を著しく小さく設定することが可能
となり、しかも磁気ヘッド浮上量をほぼ一定に保持する
ことができるようになる。

【００２１】なお、本明細書において、磁気ディスクと
磁気記録媒体とは、同一である。

【００２２】発明者らは磁気記録媒体に形成する種々の
凹凸形状について検討を行った結果、長期にわたる磁気
ヘッドの浮上安定性を確保するためには、基板上に磁性
層及び表面保護層を形成し、表面保護層の表面に凹凸形
状を与えるに際し、その凹凸の配置が磁気ヘッド又は磁
気記録媒体に付着した微小塵埃を速やかに除去しうるよ
うな作用を有することが極めて重要であることを見出し
た。

【００２３】従来技術の特開平１−134720号公報、特開
平１−122028号公報及び特開昭57−20925号公報のいず
れにも、磁気記録媒体表面の凹凸によって塵埃除去作用
を持たせることは記載されていない。又、塵埃除去作用
を有するような凹凸形状或いは凹凸配置になっていな
い。

【００２４】本発明において、磁気記録媒体表面の凸部
は、表面平坦であることが望ましく、特に全ての凸部が
ほぼ一定の高さに保たれていることが望ましい。

【００２５】凸部表面が鋭くとがっていたり或いは平坦
な凸部表面に部分的に鋭い突起があると、磁気ヘッドの
浮上安定性が悪くなり、最悪の場合には磁気ヘッドと磁
気記録媒体が接触することにより磁気記録媒体又は磁気
ヘッドの破損を引き起こす恐れがある。

【００２６】更に凹凸形状の不均一は、磁気ヘッドの浮
上安定性に影響し、たとえ磁気ヘッドと磁気記録媒体と
が接触しなくとも、浮上量が変化しやすくなるという問
題点がある。したがって、凸部は規則的に或いはほぼ規
則的に配置されていることが、望ましい。

【００２７】磁気ヘッドの浮上量の変動は、記録再生時
の出力変動を引き起こし、Ｓ／Ｎ比低下の一因となる。
さらに浮上量の変動によっては、磁気ヘッドの位置決め
のためのサーボ信号の出力も変動するため、磁気ヘッド
の位置決めの精度が低下するという問題点もある。この
ような磁気ヘッドの浮上量変動による問題点は、磁気デ
ィスク装置の高記録密度化のために浮上量を小さくする
ほど、例えば浮上量を０．２μｍ以下とした場合に特に
顕著になる。

【００２８】凸部表面が平坦であることの目安として、
触針式粗さ計で磁気ディスク表面の円周方向の任意長さ
例えば１００μｍの長さの凸部高さ（凸部上面の中心線
から隣接する凹部の中心線までの高さ）を測定したとき
に、最大凸部高さの３０％を超える高さの突出部を凸部
表面に有しないことが望ましい。

【００２９】又、凸部高さがほぼ一定であることを目安
として、触針式粗さ計で任意長さ例えば１００μｍの凸
部高さを測定したときに、最大凸部高さの５０％以上の
高さの凸部について、その高さの平均値に対して３０％
を超える高さ或いは３０％を下回る高さの凸部が存在し
ないことが望ましい。

【００３０】磁気ディスクすなわち磁気記録媒体の最も
近接している凸部間の間隔は０．２〜５０μｍであるこ
とが望ましい。

【００３１】凸部の個数は４００個／ｍｍ2以上であ
り、250,000個／ｍｍ2を超えないことが望ましい。

【００３２】凸部がまばらに存在すると空気流の乱れが
生じやすくなり、磁気ヘッドの浮上量変動が起こりやす
い。一方、凸部が密に存在しすぎると塵埃が排出されに
くくなる。

【００３３】凸部一個当りの大きさは、磁気ディスクの
半径方向の幅で０．１μｍ以上、１０μｍ以下、磁気デ
ィスクの円周方向の幅で０．５μｍ以上、１ｍｍ以下で
あることが望ましい。

【００３４】半径方向の幅で０．１μｍよりも小さいと
塵埃が凸部に衝突したときに、凸部が強度的に持たず破
損したりするおそれがある。半径方向の凸部の幅が１０
μｍよりも大きいと、塵埃が凸部の左右両側に移動しに
くくなり、塵埃をかみ込んでしまうおそれがある。

【００３５】円周方向の凸部の幅が０．５μｍよりも小
さいと塵埃が衝突したときに強度的に弱く、１ｍｍより
も大きいと塵埃が磁気ディスクの半径方向へ排出されに
くくなるおそれである。

【００３６】凸部の高さは５ｎｍよりも高く、４０ｎｍ
よりも低く、その範囲内でほぼ一定の高さを有すること
が望ましい。

【００３７】更に、凸部は磁気ディスク表面の凸部形成
領域内において、一平方ミリメートル当りの凸部総面積
の面積比率が０．１％以上、８０％以下になるように備
えられていることが望ましい。

【００３８】凸部は、磁気ディスク表面に同一円周上で
の前記凸部の面積比率の偏差が一平方ミリメートル当り
２０％以内になるように規則的に或いはほぼ規則的に配
置されていることが望ましい。

【００３９】凸部の分布が著しくばらつくと、磁気ヘッ
ドの浮上量の変動をきたすおそれがある。

【００４０】塵埃を磁気ディスク表面の凸部間の凹みを
利用して磁気ディスクの外部へ排出しやすくするため
に、凹部の底面もできるだけ平坦面とすることが望まし
い。

【００４１】凹部底面が平坦面であることの目安とし
て、触針式粗さ計で測定した任意長さ、例えば１００μ
ｍの長さにおける最大凸部高さの３０％を超える高さの
凸部を凹み部に有しないことが望ましい。

【００４２】更に、塵埃を磁気ディスクの外周に向けて
排出しやすくするために、磁気ディスクを回転したとき
に磁気ヘッドに対し凸部を順次外周側にずれて位置する
ように配置することが望ましい。

【００４３】本発明によれば、磁気ディスクと磁気ヘッ
ドとの間隔を０．０２〜０．２μｍという今までに例の
ない微小間隔に設定し、なお且つ浮上量を安定に維持す
ることができる。

【００４４】磁気ディスク表面の凸部は、例えば下記
、及びの方法によって形成することができる。

【００４５】基板表面に直接又は下地層を有する基板
表面に凸部を形成、磁性層表面に凸部を形成、保護
層表面に凸部を形成。

【００４６】磁気ヘッドの浮上量を０．０２〜０．２μ
ｍと著しく小さくする場合には、磁性層表面に凹凸があ
ると、それがＳ／Ｎ比の低下に影響しやすい。従って、
磁気ヘッドの浮上量をこのように著しく小さくする場合
には、磁性層を平坦面とし、その上の表面保護層に凸部
を形成することが望ましい。

【００４７】ただし、前記 および のように基板表面
あるいは磁性層表面に凸部を形成した場合でも、形成し
た凸部の形状が磁気ディスク表面まで実質的に維持され
ている場合には、浮上量の安定維持に対しては十分に効
果がある。

【００４８】一般の磁気記録媒体の基板はアルミニウム
合金円板と、その上に形成された硬質な下地層より成
る。アルミニウム合金の代りにガラス、セラミックス等
硬度の高い円板材料を用いた場合には下地層が省略され
ることもある。本発明ではこれらを含めて基板と総称す
る。基板の上には磁性層が形成されるが、この両者の間
には、密着性向上や磁性層の特性向上を目的として中間
層が形成される場合もある。磁性層の上には保護層さら
には必要に応じて潤滑層が形成されて、磁気記録媒体が
構成される。

【００４９】本発明では、保護層と潤滑層とを含めて表
面保護層と総称する。

【００５０】保護層は、一層だけに限らず、多層に形成
してもよい。

【００５１】磁気記録媒体の製造方法としては、下記
（イ）〜（ニ）の方法が好ましい。

【００５２】(イ) 表面保護層として潤滑層およびその
下層の保護層を備えた磁気記録媒体の製造方法におい
て、前記保護層表面にマスクパターンを形成し、該保護
層をその膜厚の範囲内で該マスクパターンに従ってエッ
チングしたのち、該マスクパターンを除去することによ
り、所望の形状、寸法の凸部を形成し、その後その上に
前記潤滑層を形成する。

【００５３】(ロ) 表面保護層として潤滑層およびその
下層の保護層を備えた磁気記録媒体の製造方法におい
て、前記保護層表面にリングラフィー技術によりマスク
パターンを形成し、該保護層をその膜厚の範囲内で該マ
スクパターンに従ってエッチングしたのち、該マスクパ
ターンを除去することにより、所望の寸法、形状の凸部
を形成し、その後その上に前記潤滑層を形成する。

【００５４】(ハ) 表面保護層として潤滑層およびその
下層の保護層を備えた磁気記録媒体の製造方法におい
て、前記保護層表面に光、レーザ、又は荷電粒子のビー
ム照射により硬化しうる物質を 状に形成し、該 面に
光、レーザ、又は荷電粒子のビームを選択的に照射して
部分的に硬化させたのち未硬化部を除去することによ
り、所望の寸法、形状の凸部を形成し、その後その上に
前記潤滑層を形成する。

【００５５】(ニ) 表面保護層として潤滑層と二層の保
護層を形成し磁気記録媒体を製造する方法において、前
記二層の保護層を形成したのち表面にマスクパターンを
形成し、上層に当たる第二層目の該保護層を該マスクパ
ターンに従ってエッチングしたのち、該マスクパターン
を除去することにより、第一層目の保護層の表面に所望
の寸法、形状の凸部を形成し、その後潤滑層を形成す
る。

【００５６】磁気記録媒体の表面に凹凸を形成した従来
技術としては、先に示した３件の公開特許公報のほかに
下記がある。

【００５７】特開昭55−84045号公報：鏡面基板上に表
面粗さ２０〜５０ｎｍの保護層を形成する。

【００５８】特開昭58−53026号公報：保護層表面に気
体イオンを照射して面粗度５０〜１００ｎ までエッチ
ングする。

【００５９】特開昭62−22241号公報：保護層にその膜
厚を超えない範囲の凹凸を形成する。 特開昭62−2314
27号公報：保護用表面に同心円状の溝を形成する。

【００６０】特開昭62−222435号公報：金属アルコキシ
ドの硬化膜保護層にレーザを部分照射して凹凸を形成す
る。

【００６１】特開昭63−188821号公報：保護層状にシリ
コンオイル膜を形成し、部分的にエキシマレーザーで硬
化してスパイラル状、同心円状或いはスポット状の凹凸
を形成する。

【００６２】特開平１−13227号公報：潤滑層の厚さよ
りも大きく保護層の厚さよりも小さい同心円状の保護層
を形成する。

【００６３】特開昭62−107427号公報：炭素を主とする
潤滑膜（保護層）を研磨により粗面化する。

【００６４】特開昭63−191312号公報：保護層表面を円
周方向に研磨し、凹凸を形成する。 特開昭61−120344号公報：磁気ヘッドよりも硬い物質を
含む保護層を形成後、一部をスパツタエッチングして微
小突起を形成する。

【００６５】特開昭63−29320号公報：磁性層上に島状
に硬い物質を固定する。

【００６６】特開昭61−216114号公報：有酸化合物のプ
ラズマ重合保護層に凹凸を形成する。 特開昭62−2442
3号公報：保護層にその膜厚を超えない範囲で凹凸を形
成する。 特開昭63−168830号公報：二層構造の保護層
表面をプラズマエッチングして凹凸を形成する。

【００６７】特開平１−109527号公報：磁気記録媒体表
面の低硬度保護層にスタンプで凹凸を形成する。

【００６８】これらの技術は、いずれも磁気ヘッド支持
用スライダーに付着した塵埃を磁気ディスクの外部へ排
出するように凹凸を形成することは開示していないし、
又、そのような機能を有していない。

【００６９】本発明によれば、第一に、表面保護層の表
面に凸部を備えることにより、凸部分のみが磁気ヘッド
と直接対向し、磁気記録媒体の磁気ヘッドと接触する面
積比率を小さくできるため、磁気ヘッドとの摩擦力や吸
着力を低くすることができる。第二に、表面保護層に形
成される凸部を規則的或いはほぼ規則的に配置すること
により、磁気ヘッドの浮上量変動が少なく、磁気記録媒
体の全面に有って磁気ヘッドの浮上安定性を確保でき、
浮上量変動による出力変動を防止できる。第三に、平坦
に加工された基板上に磁性層を形成した場合には、磁性
層もほぼ平坦となり、磁性層の凹凸による記録再生時の
出力変動を小さくすることができる。

【００７０】以上のように本発明によれば、磁気ヘッド
との摩擦力や吸着力を低くし、出力変動を防止し、磁気
ヘッドの安定浮上を確保できるため、高い記録再生精度
を有し、また高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量
化に対応できる磁気記録媒体及びそれを用いた磁気ディ
スク装置を得ることができる。

【００７１】さらに第四に、表面保護層に備えられる凸
部を、磁気ヘッド又は磁気記録媒体に付着した微小塵埃
を速やかに除去しうるように配置することにより、微小
塵埃による磁気ヘッドクラッシュを起こりにくくし、長
期にわたって磁気ヘッドの浮上安定性を確保することが
できる。

【００７２】以上のように本発明によれば、長期にわた
る磁気ヘッドの安定浮上を確保できるため、高い記録再
生精度を有し、また高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低
浮上量化に対応でき、かつ長期の耐久性を有する磁気記
録媒体及びそれを用いた磁気ディスク装置を得ることが
できる。

【００７３】

【発明の実施の形態】以下本発明を、具体的に説明す
る。

【００７４】表面保護層表面に備えられる凸部は、特許
請求の範囲に記載の（イ）、（ロ）の要件を具備し、且
つ規則的に配置されていることが望ましい。これによ
り、磁気記録媒体の全面において磁気ヘッドの浮上量を
安定に制御でき、浮上量変動による出力変動を押さえる
ことができる。特に、少なくとも磁気記録媒体の回転中
心に対する同一円周上の任意の点では、単位面積当た
り、例えば一平方ミリメートル当たりの凸部の面積比率
がほぼ一定となるようにすれば、磁気ヘッドをあるトラ
ック位置に静止して磁気記録媒体を回転された場合に、
磁気ヘッドはスライダーの大きさの範囲内で常にほぼ同
一の面積比率で凸部に対することになり、浮上量変動を
低く抑えることができる。また、凸形成部の全面にわた
り、単位面積当たり、例えば一平方ミリメートル当たり
の凸部の面積比率がほぼ一定となるようにすれば、磁気
記録媒体を回転させて磁気ヘッドを移動させた場合で
も、磁気ヘッドはスライダーの大きさの範囲内で常にほ
ぼ同一の面積比率で凸部に対することになり、全面に亘
って浮上量変動を低く抑えることができる。ただし、磁
気記録媒体の回転によっては、内周部と外周部では線速
度が異なるため、必要に応じて内周側から外周側にかけ
て凸部の面積比率を連続的に少しずつ変化させてもよ
い。

【００７５】表面保護層表面に備えられる凸部は、少な
くとも磁気記録媒体の同一円周上で不連続とする。これ
は、磁気ヘッドを静止して磁気記録媒体を回転させた場
合、磁気ヘッドのある一点からみると断続的に凸部に対
することになり、これにより磁気ヘッドに微小塵埃が付
着した場合でも容易に除去されるためである。

【００７６】また表面保護層表面に備えられる凸部は、
不連続な線状またはビット状であって、凸のない部分の
少なくとも一部が磁気ヘッドの移動領域内において、磁
気記録媒体の内周から外周にかけてなめらかに連続して
いることが望ましい。これは、磁気ヘッドと磁気記録媒
体の間に微小塵埃が侵入した場合でも、凸未形成部に沿
って遠心力により微小塵埃が外周側に除去されやすいた
めである。

【００７７】上記のような条件を全て満足する。最も好
適な凸部の配置は以下のようなものである。例えば、磁
気記録媒体の回転中心又は回転中心から意図的にずらし
たパターン中心に対して同心円又はらせん状の円弧の一
部よりなる線状またはビット状の凸部を全面に亘って規
則的に配置したものであって、凸部のない部分の少なく
とも一部が磁気ヘッドの移動領域内において、磁気記録
媒体の内周から外周にかけてなめらかに連続するように
凸部が配置されている。より具体的に例を述べれば、例
えば幅２μｍ、ピッチ６μｍで磁気記録媒体の回転中心
に対して同心円状の円弧上に、例えば中心角で０．０２
度分の円弧状の凸部を中心角で０．０３度おきに磁気デ
ィスクの回転方向に向かって順次内周側に２μｍずつず
らして全面に形成したものである。ここに示した凸部の
配置パターンの例を模式的に第４図に示す。この具体例
では、磁気ディスク上にスライダーを置いて磁気ディス
クを回転させた場合、凸部が順次外周側にずれながらス
ライダー全面に対するため、スライダーに付着した塵埃
を除去する効果が大きい。また凸部７の切り裂き部分が
磁気記録媒体（磁気ディスク）１４の内周から外周にか
けて直線的に連続するため、磁気ヘッドと磁気記録媒体
の間に微小塵埃が侵入した場合でも、遠心力により微小
塵埃が外周側に除去されやすい。なお、実際には第４図
のような円弧状の凸部が全面に多数配置された形状をと
る。磁気ディスクの半径５０ｍｍの位置における、実縮
尺での本具体例の凸部配置を２００μｍ四方の面積につ
いて示したものが第９図である。

【００７８】この例では、一平方ミリメートル当りの凸
部の面積比率は磁気ディスク全面に亘って約２２％であ
り、一平方ミリメートル当りの凸部の個数は、半径５０
ｍｍの位置で約６，５００個である。

【００７９】本具体例の変形例としては凸部の大きさや
ピッチを変えた第５図の配置や、凸部の配置をななめに
ずらした第１０図のような例がある。

【００８０】また他の例としては、規則的な格子模様の
頂点に対応する部分にビット状の凸部を全面に亘って規
則的に配置したものが好適である。より具体的に例を述
べれば、例えば４μｍピッチの四角格子の交点に対応す
る部分に、例えば直径２μのビット状の凸部を全面に配
置したものである。ここで示した凸部の配置パターンの
例を模式的に第６図に示す。なお、実際には第６図のよ
うなビット状の凸部７が全面に多数配置された形状をと
る。ここで用いられる格子模様としては、上記したよう
な四角格子の他に三角格子、六角格子等規則的に描かれ
るものであれば良い。このように凸部を配置した場合に
は、スライダーを静止して磁気記録媒体を回転させた場
合、凸部が断続的にスライダー全面に対するため、スラ
イダーに付着した微小塵埃を除去する効果が大きい。ま
たこの例の場合には、凸部間のすきまは、磁気記録媒体
の内周から外周にかけて直線的に連続するため、磁気ヘ
ッドと磁気記録媒体の間に微小塵埃が侵入した場合で
も、遠心力により微小塵埃が外周側に除去されやすい。
この例では、一平方ミリメートル当りの凸部の面積比率
は磁気ディスク全面に亘って約２０％であり、一平方ミ
リメートル当りの凸部の個数は磁気ディスク全面に亘っ
て62.500個である。

【００８１】なお、上記以外でも、磁気ヘッドに付着し
た微小塵埃を除去する作用及び磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドの間に介在する微小塵埃を磁気記録媒体の外周方向に
排除する作用を有するように配置された凸部であれば、
他の配置でもかまわない。

【００８２】表面保護層表面に具備される凸部の高さ
は、５ｎｍ以上、４０ｎｍ以下の範囲でほぼ一定である
ことが望ましい。凸部の高さが５ｎｍよりも低くなると
磁気ヘッドと磁気記録媒体の摩擦力及び吸着力低減の効
果が小さくなってくる。凸部の高さが４０ｎｍよりも高
くなると記録再生時に磁気ヘッドと凸部間の凹部の磁性
層との距離が大きくなるため出力が低下し、また磁気ヘ
ッドの浮上安定性が損なわれてくる。また、凸部の高さ
が不均一であると高い部分が突起となるため浮上安定性
に対して好ましくない。

【００８３】表面保護層表面に具備される凸部の半径方
向での幅は０．１μｍ以上、１０μｍ以下、好ましくは
０．３μｍ以上、３μｍ以下が望ましい。凸部の幅が
０．３μｍよりも小さくなると凸部形成時の精度が得ら
れにくくなるおそれがある。凸部の幅が３μｍよりもお
おきくなると、磁気ヘッドと磁気記録媒体の摩擦力及び
吸着力低減の効果が小さくなってくるおそれがある。

【００８４】表面保護層表面に具備される凸部の面積比
率は、０．１％以上、８０％以下、好ましくは０．５％
以上、７０％以下が望ましい。凸部の面積比率が０．５
％よりも小さいと、僅かな面積で磁気ヘッドを支えるこ
とになるため凸部の部分が摩耗しやすく、長期にわたる
振動耐久性が低下する。また凸部の面積比率が小さくな
るとヘッドの浮上安定性が損なわれる恐れがある。凸部
の面積比率が７０％よりも大になると、磁気ヘッドと磁
気記録媒体の摩擦力及び吸着力低減の効果が小さくなっ
てくる。

【００８５】表面保護層の凸部が形成される範囲は、磁
気記録媒体の全面としてもよいが、磁気記録媒体が組み
込まれる磁気ディスク装置の仕様により、コンタクト・
スタート・ストップ（ＣＳＳ）ゾーンが専用に設けられ
る場合には、その部分のみに形成してもよい。その理由
は、これまで述べてきたように磁気ヘッドとの摩擦力や
吸着力、微小塵埃の影響等は、主に磁気ディスク装置の
起動、停止時に問題となるもので、磁気ヘッドが安定に
浮上している状態では凸部を形成する効果が比較的少な
いためである。

【００８６】保護層の材料は、耐摩耗性の観点から硬度
の高いものが望ましい。このような材料としては、例え
ばＡｌ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｈ
ｆ，Ｔａ，Ｗ等の金属の酸化物，窒化物，炭化物、及び
Ｃ，ＢＮ等を単独又は二種以上複合にしたものが望まし
い。また磁気ディスク装置としてみた場合には、磁気記
録媒体の保護層材料の硬度は、組み合わされる磁気ヘッ
ドのスライダー材料の硬度に比べて同等以上であること
が望ましい。これは、摺動によって摩耗が発生した場
合、保護層が摩耗すると磁気記録媒体の特性劣化を起こ
しやすいが、スライダー側の微小な摩耗は磁気ヘッドの
特性には比較的影響しにくいためである。そのような組
み合せの具体例としては、例えば上記の保護層材料とＭ
ｎ−Ｚｎフェライトスライダーの組み合わせ等が考えら
れる。

【００８７】本発明による磁気記録媒体を形成する具体
的な方法は以下の通りである。鏡面加工された非磁性円
板状の基板に磁性層及び保護層を形成する。基板と磁性
層のあいだには中間層を形成する場合もある。保護層の
表面に凸部を形成する方法としては、保護層表面に所望
のマスクパターンを例えばリゾグラフィー技術により形
成した後、エッチングを行ない、マスクパターンで覆わ
れなかった部分のみを選択的に均一エッチングして保護
層の膜厚以下で一定深さまで除いた後、マスクパターン
を除去する方法が好ましい。ここで用いられるエッチン
グ方法は、イオンミリングや反応性プラズマ処理等のド
ライエッチングや湿式のエッチング等の中から保護層の
材料に応じて選択される。また、ここで用いられる保護
層は、均一な一層構造として上層のみがエッチングされ
る条件で上記のパターン形成を行えば、一定膜厚の下層
保護層上に一定高さの上層保護層材料よりなる凸部を形
成することができる。

【００８８】凸部を形成する他の方法としては、保護層
の表面に光，レーザ又は荷電粒子のビーム照射により硬
化しうる物質を膜状に形成し、この膜面に光，レーザ又
は荷電粒子のビームを所望の位置に規則的に照射して部
分的に硬化させた後、未硬化部を除去することによって
も同様に形成できる。

【００８９】なお、上記方法以外でも、最終的に得られ
る凸部の形状が所望のものであれば、他の方法を用いて
も構わない。例えば、鏡面加工された非磁性円板上に磁
性層及び保護層を形成した円板上に、光分解性の有機金
属ガスを導入して、レーザビームを円板上に周期的且つ
規則的に照射して、選択的に金属を折出させる方法（レ
ーザＣＶＤ法）等によっても同様な形状の凸部を形成す
ることができる。

【００９０】上記のように表面に凸部を形成した保護層
の上には、必要に応じて潤滑層が形成されて磁気記録媒
体となる。

【００９１】なお、上記製造方法では、保護層の表面に
凸部を形成する方法を示したが、同様な方法によって例
えば鏡面加工された基板上に凸部を形成した後、中間
層，磁性層，保護層および潤滑層を各々一定厚さで形成
すれば、基板上に形成した凸部形状は磁気ディスク表面
まで実質的に維持されるため、同様な表面形状を有する
磁気記録媒体を得ることができる。

【００９２】第８図は、本発明の一実施例による磁気デ
ィスク装置の構成を示す概略図である。

【００９３】磁気ディスク装置は、第８図に示す符号１
１〜１８の構成要素及びボイスコイルモータ制御回路を
含む。

【００９４】符号１１はベース、符号１２はスピンドル
である。

【００９５】一つのスピンドルに図のように複数枚の円
板状の磁気ディスク１４が取り付けられる。

【００９６】第８図では、１つのスピンドルに五枚の磁
気ディスク１４を設けた例が示されているが、五枚に限
るものではない。

【００９７】また、このように一つのスピンドル１２に
複数枚の磁気ディスク１４を設けたものを複数個設置し
てもよい。

【００９８】符号１３はスピンドル１２を駆動し、磁気
ディスクを回転するためのモータすなわち磁気ディスク
回転制御手段である。

【００９９】符号１５はデータ用磁気ヘッドを示し、符
号１５ａは位置決め用磁気ヘッドを示している。

【０１００】符号１６はキャリッジ、符号１７はボイス
コイル、符号１８はマグネットである。

【０１０１】ボイスコイル１７とマグネット１８により
ボイスコイルモータが構成される。そして符号１６，符
号１７、符号１８の要素によりヘッドの位置決めがなさ
れる。従って符号１６，１７，１８を含めて磁気ヘッド
位置決め機構と総称する。ボイスコイル１７と磁気ヘッ
ド１５及び１５ａとは、ボイスコイルモータ制御回路を
介して接続されている。

【０１０２】第８図において、上位装置とは例えばコン
ピュータシステムを示し、磁気ディスク装置に記録され
た情報を処理する機能を有するものである。その記録再
生方法は、操作開始前には磁気ヘッドと磁気記録媒体が
接触状態であるが、磁気記録媒体を回転させることによ
り磁気ヘッドと磁気記録媒体の間に空間を作り、この状
態で記録再生を行なう。操作終了時には磁気記録媒体の
回転が止まり、磁気ヘッドと磁気記録媒体は再び接触状
態となる。これをコンタクト・スタート・ストップ方
式、以下ＣＳＳ方式と称する。

【０１０３】第９図と第１０図および第１１図は、磁気
記録媒体表面の平面図であり、凸部の配置の例を示して
いる。第９図および第１０図は本発明であり、第１１図
は比較例である。

【０１０４】正方形の枠は磁気記録媒体表面の２００μ
ｍ四方の範囲を示している。

【０１０５】第１１図の比較例は、円周方向に連続した
凸部を形成した例を示している。

【０１０６】以下より具体的な実施例により、本発明を
さらに詳細に説明する。

【０１０７】〔実施例１〕外径５．２５インチのアルミ
ニウムに合金円板の表面に無電解めっき法によりＮｉ−
Ｐ下地膜を１５μｍ厚さに形成し、下地膜を１０μｍま
で研磨して、触針式表面粗さ計で測定した平均粗さ（Ｒ
ａ）３ｎｍ以下、最大粗さ（Ｐｍａｘ）７ｎｍ以下にな
るように鏡面加工した。

【０１０８】こうして得られた基板上に、スパッタ法に
よりＣｒ中間層を０．２μｍ厚さ、Ｃｏ−Ｎｉ磁性層を
４０ｎｍ厚さ、Ｃ保護層を２０ｎｍ厚さに形成した。Ｃ
保護層の表面にポジ型レジスト（東京応化、OFPR800）
を約０．５μｍ厚さに塗布し、第４図に示した形状で凸
部分のみ光が透過しないように形成したフォトマスクを
密着させて露光した後現像し、Ｃ保護層の表面に、図４
に示した形状で凸部分のみレジストが残っているマスク
パターンを形成した。

【０１０９】この円板を、イオンミリング装置を用いて
アルゴンイオンビームを３０秒間全面に照射して、マス
クパターンを形成していない部分を均一にエッチングし
た後、レジスト除去液によりマスクパターンを除去し
て、保護層表面に規則的に配置された凸部を形成した。

【０１１０】こうして得られた円板の表面に、潤滑層と
してパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を約５ｎｍ厚
さに塗布して磁気記録媒体を作製した。形成した凸部の
高さを、磁気記録媒体表面の任意の１０点で、走査型ト
ンネル顕微鏡（Scanning Tu-nneling Microscope，ＳＴ
Ｍ）及び触計式表面粗さ計により測定した結果、いずれ
の測定点でも凸部の高さは１０ｎｍであった。オージエ
電子分光法により得られた磁気記録媒体の表面を測定し
たところ、Ｃｏ及びＮｉは検出されず、磁性層の露出部
分のないことを確認した。凸部の大きさ及び凸部間の間
隔は、図４に示すとおりである。

【０１１１】本実施例の磁気記録媒体の、半径方向での
断面構造の模式図を図１に示す。図１において、符号１
はアルミニウム合金円板、２は下地層、３は巾間層、４
は磁性層、５は保護層、６は潤滑層を示す。円板１と下
地層２によって基板が構成される。なお本実施例では、
凸部の面積比率は全面にわたり約２２％である。

【０１１２】〔実施例２〕フォトマスクとして図５に示
した形状で凸部のみ光が透過しないように形成した物を
用い、Ｃ保護層の厚さを３０ｎｍとし、凸部を形成する
ためのイオンミリングによるエッチング時間を１分とし
たほかは、実施例１と同様な方法で磁気記録媒体を作製
した。走査型トンネル顕微鏡及び触針式表面粗さ計によ
り磁気記録媒体表面の任意の１０点で凸部の高さを測定
した結果、いずれの測定点でも凸部の高さは２０ｎｍで
あった。凸部の大きさ及び凸部間の間隔は図５に示すと
おりである。図７に本実施例による磁気記録媒体表面の
凸形成部を、半径方向で触針式表面粗さ計により測定し
た結果の一例を示す。なお本実施例では、凸部の面積比
率は全面にわたり約１９％である。

【０１１３】〔実施例３〕フォトマスクとして、図６に
示した形状で凸部のみが光が透過しないように形成した
物を用いた他は実施例１と同様な方法で磁気記録媒体を
作製した。ＳＴＭ及び触針計式表面粗さ計により磁気記
録媒体表面の任意の１０点で丘の高さを測定した結果、
いずれの測定点でも、凸部の高さは１０ｎｍであった。
凸部の大きさ及び凸部間の間隔は図６に示すとおりであ
る。

【０１１４】本実施例の磁気記録媒体の、半径方向での
断面構造の模式図を図２に示す。なお本実施例では、凸
部の面積比率は全面にわたり約２０％である。

【０１１５】〔実施例４〕保護層としてＳｉＣをスパッ
タ法で２０ｎｍ厚さに形成し、凸部を形成するためのイ
オンミリングによるエッチング時間を２０秒としたほか
は、実施例１と同様な方法で磁気記録媒体を作製した。
触針式表面粗さ計により磁気記録媒体表面の任意の１０
点で凸部の高さを測定した結果、いずれの測定点でも凸
部の高さは１０ｎｍであった。

【０１１６】〔実施例５〕保護層として、メタン−水素
混合ガスを原料としたプラズマＣＶＤ法で２０ｎｍ厚さ
は形成したＣ膜（いわゆるｉ−Ｃ）を用い、凸部を形成
するためのイオンミリングによるエッチング時間を１分
としたほかは、実施例１と同様な方法で磁気記録媒体を
作製した。触針式表面粗さ計により磁気記録媒体表面の
任意の１０点で凸部の高さを測定した結果、いずれの測
定点でも凸部の高さは１０ｎｍであった。

【０１１７】〔実施例６〕実施例１と同様に基板１上に
Ｎｉ−Ｐ下地層２を形成し、この上にスパッタ法により
Ｃｒ中間層３を０．２μｍ厚さ、Ｃｏ−Ｎｉ磁気層４を
４０ｎｍ厚さ、第一保護層５ａとしてＳｉＣを１０ｎｍ
厚さ、第二保護層５ｂとしてＣを１０ｎｍ厚さに形成し
た。Ｃ第二保護層５ｂの表面に実施例１と同様の方法で
マスクパターンを形成し、酸素アッシャー装置を用いて
酸素プラズマに１分間さらした後、レジスト除去液によ
りマスクパターンを除去した。得られた円板表面を分析
したところ、マスクパターンのなかった部分では、Ｃは
酸素プラズマのエッチングにより消失してＳｉＣが露出
し、マスクパターンの部分のみにＣが凸状に残存し凸部
７が形成されていることがわかった。触針式表面粗さ計
により円板表面の任意の１０点で凸部７の高さを測定し
た結果、いずれの測定点でも凸部７の高さは１０ｎｍで
あったことから、酸素プラズマによってＳｉＣはほとん
どエッチングされていないことがわかる。つまり、凸部
７は第二保護層５ｂに形成される。また、第一保護層５
ａとして用いたＳｉＣは耐食性を有するものである。

【０１１８】こうして得られた円板の表面に、潤滑層６
としてパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を約５ｎｍ
厚さに塗布して磁気記録媒体１４を作製した。

【０１１９】〔実施例７〕実施例１と同様の基板上に、
スパッタ法によりＣｒ中間層を０．２μｍ厚さ、Ｃｏ−
Ｎｉ磁性層を４０ｎｍ厚さ、保護層としてＳｉＣを１０
ｎｍ厚さに形成した。ＳｉＣ保護層の表面に、テトラヒ
ドロキシシランの溶液を約１５ｎｍ厚さにスピン塗布し
た後、スポット径２μｍに集光したＡｒレーザを、図４
に示したパターンで凸部分のみに選択的に照射して、照
射部のテトラヒドロキシシランをＳｉＯ2に変化させて
硬化した後、未硬化部のテトラヒドロキシシランを洗浄
除去して、図４に示すように保護層表面に規則的に配置
された凸部を形成した。

【０１２０】こうして得られた円板の表面に、潤滑層と
してパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を約５ｎｍ塗
布して磁気記録媒体を作製した。形成した凸部の高さ
を、磁気記録媒体表面の任意の１０点で、触針式表面粗
さ計により測定した結果、いずれの測定点でも凸部の高
さは１０ｎｍであった。

【０１２１】なお本実施例では、凸部の面積比率は全面
にわたり約２２％である。

【０１２２】〔実施例８〕基板として、触針式表面粗さ
計で測定した平均粗さ（Ｒａ）２ｎｍ以下、最大粗さ
（Ｒｍａｘ）５ｎｍ以下になるように鏡面加工した外径
５．２５インチの強化ガラス円板を用いたほかは、実施
例１と同様な方法で磁気記録媒体を作製した。触針式表
面粗さ計により磁気記録媒体表面の任意の１０点で凸部
の高さを測定した結果、いずれの測定点でも凸部の高さ
は１０ｎｍであった。

【０１２３】〔実施例９〕実施例１と同様の基板上に、
直接実施例１と同様の方法でマスクパターンを形成し、
イオンミリング装置によりアルゴンイオンビームを１０
秒間全面に照射した後マスクパターンを除去して、基板
表面に規則的に配置された凸部を形成した。触針式表面
粗さ計により基板表面の任意の１０点で凸部の高さを測
定した結果、いずれの測定点でも凸部の高さは１０ｎｍ
であった。

【０１２４】この基板上に実施例１と同様な方法で中間
層，磁性層，保護層をスパッタ法で形成し、保護層の上
にそのまま潤滑層としてパーフルオロポリエーテル系の
潤滑剤を約５ｎｍ厚さに塗布して磁気記録媒体を作製し
た。触針式表面粗さ計により磁気記録媒体表面の任意の
１０点で凸部の高さを測定した結果、いずれの測定点で
も凸部の高さは１０ｎｍであり、基板上に形成した凸部
形状が磁気記録媒体表面まで実質的に維持されているこ
とを確認した。

【０１２５】本実施例の磁気記録媒体の、半径方向での
断面構造の模式図を図３に示す。

【０１２６】〔比較例１〕実施例１と同様の基板上に、
実施例１と同様な方法で中間層，磁気性，保護層をスパ
ッタ法で形成し、保護層の上にそのまま潤滑層としてパ
ーフルオロポリエーテル系の潤滑剤を約５ｎｍ厚さに塗
布して磁気記録媒体を作製した。凸部は形成しなかっ
た。

【０１２７】〔比較例２〕実施例１と同様の基板を回転
させながら、研磨砥粒を含ませたバフを押しつけて研磨
し、ほぼ円周方向に沿った連続溝を形成した。こうして
得られた基板表面は、触針式表面粗さ計で測定して平均
粗さ（Ｒａ）１０ｎｍ、最大粗さ（Ｒｍａｘ）３５ｎｍ
であった。

【０１２８】この基板上に、実施例１と同様な方法で中
間層，磁性層，保護層をスパッタ法で形成し、保護層の
上にそのまま潤滑層としてパーフルオロポリエーテル系
の潤滑剤を約５ｎｍ厚さに塗布して磁気記録媒体を作製
した。

【０１２９】〔比較例３〕実施例１と同様に基板上に、
スパッタ法によりＣｒ中間層を０．２μｍ厚さ、Ｃｏ−
Ｎｉ磁性層を４０ｎｍ厚さ、保護層としてＣを４０ｎｍ
厚さ形成した。この円板を回転させながら、研磨砥粒を
含ませたバフを押しつけてＣ保護層を約１０ｎｍ厚さに
研磨し、ほぼ円周方向に沿った溝を形成した。そして円
板表面に、潤滑層としてパーフルオロポリエーテル系の
潤滑剤を約５ｎｍ厚さに塗布して磁気記録媒体を作製し
た。

【０１３０】こうして得られた磁気記録媒体表面は、触
針式表面粗さ計で測定して平均粗さ（Ｒａ）１０ｎｍ，
最大粗さ（Ｒｍａｘ）３０ｎｍであった。

【０１３１】〔比較例４〕実施例１と同様の基板上に、
スパッタ法によりＣｒ中間層を０．２μｍ厚さ、Ｃｏ−
Ｎｉ磁性層に４０ｎｍ厚さ、保護層としてＣを３０ｎｍ
厚さに形成した。この円板をスパッタ装置中で逆スパッ
タしてＣ保護層を約１０ｎｍ厚さまでエッチッグした。

【０１３２】得られた円板の表面に、潤滑層としてパー
フルオロポリエーテル系の潤滑剤を約５ｎｍ厚さに塗布
して磁気記録媒体を作製した。

【０１３３】こうして得られた磁気記録媒体表面は、触
針式表面粗さ計で測定して平均粗さ（Ｒａ）８ｎｍ、最
大粗さ（Ｒｍａｘ）１５ｎｍであった。

【０１３４】〔比較例５〕フォトマスクとして、幅２μ
ｍ、ピッチ１０μｍの同心円状の部分で光が透過しない
ように形成した物を用いた他は実施例１と同様な方法で
磁気記録媒体を作製した。磁気記録媒体表面を電子顕微
鏡により観察して、幅２μｍ，ピッチ１０μｍの同心円
状の凸部が全面に形成されていることを確認した。ＳＴ
Ｍ及び触針式表面粗さ計により磁気記録媒体表面の任意
の１０点で凸部の高さを測定した結果 、いずれの測定
点でも、凸部の高さは１０ｎｍであった。本比較例の凸
部の配置は図１１に示すとおりである。

【０１３５】なお本実施例では、凸部の面積比率は全面
にわたり２０％である。

【０１３６】以上の実施例及び比較例により得られた磁
気記録媒体について、Ｍｎ−Ｚｎフェライト磁気ヘッド
を用いて図８に示す磁気ディスク装置を構成し、ＣＳＳ
試験３０，０００回前後でＣＳＳ領域内での 外観検
査， 磁気ヘッドとの吸着力，摩擦力の測定， 磁気ヘ
ッドの最低浮上保証高さの測定， 記録再生試験を行っ
た。なお定常回転時の磁気ヘッドの浮上量は、０．１μ
ｍで行った。試験結果を図１２に示す。

【０１３７】図１２に示すように、凹凸を形成していな
い比較例１では初期の吸着力，摩擦力が大きく、ＣＳＳ
後の増加も大きい。このためＣＳＳ後に表面に線状の摺
動痕が発生しており、この損傷により浮上特性試験及び
記録再生試験での特性劣化が著しい。

【０１３８】基板上に研磨法で凹凸を形成した比較例２
では、比較例１に比べればＣＳＳ後の特性劣化は小さい
が依然として特性劣化がかなりあり、初期にも浮上特性
が悪く、記録再生試験でエラーが発生している。これ
は、比較例２においては研磨過程で局部的突起を生成し
やすいためと考えられ、この部分がＣＳＳ後のビット状
の剥離を引き起こしたと考えられる。また比較例２で
は、基板上に凹凸を形成しているため、上に形成される
磁性層も凹凸をもち、初期でもＳ／Ｎ比が低い。

【０１３９】保護層上に研磨法で凹凸を形成した比較例
３では、比較例２と同様に研磨過程での局部的突起によ
ると考えられる浮上特性の不良や、エラーが初期にも発
生している。比較例３では、磁性層はほぼ平坦ため、比
較例２に比べれば初期のＳ／Ｎ比が高いが、それでも不
十分である。これは保護層に形成した凹凸の形状が不均
一であるため、磁気ヘッドの浮上安定性が十分でないた
めである。またＣＳＳ後の特性劣化も大きく、これは剥
離部等の発生により磁気ヘッドの浮上安定性がさらに損
なわれたためと考えられる。

【０１４０】保護層上に逆スパッタで凹凸を形成した比
較例４では、初期にはエラーがみられないが、浮上特性
は依然として不十分であり、Ｓ／Ｎ比もやはり若干低く
なっている。これは比較例３と同様に保護層に形成した
凹凸の形状が不均一であるため、磁気ヘッドの浮上安定
性が十分でないためである。またＣＳＳ後の特性劣化が
かなりあるが、この原因を解明するためＣＳＳ後の剥離
部を分析したところ、微小塵埃が食い込んで剥離が発生
しいることがわかった。このため、比較例４では磁気ヘ
ッドと磁気記録媒体の間に微小塵埃が介在することによ
る剥離部の発生により、磁気ヘッドの浮上安定性がさら
に損なわれ特性が劣化したものと考えられる。なお比較
例２，３の場合もＣＳＳ後の剥離部を分析したところ、
同様に微小塵埃が食い込んで剥離が発生している部分が
見出された。

【０１４１】保護層上に同心円状の観測的な凸部を形成
した比較例５では、初期の特性は良好であるが、ＣＳＳ
後の特性劣化が大きい。この原因を解明するためＣＳＳ
後の剥離部を分析したところ、剥離部周辺に微小塵埃が
堆積しており、その一部が食い込んで剥離が発生してい
ることがわかった。このため比較例５では磁気ヘッドの
浮上安定性が損なわれ特性が劣化したものと考えられ
る。

【０１４２】これに対し本実施例による磁気記録媒体
は、ＣＳＳ前に良好な特性を示し、ＣＳＳ後の特性劣化
も小さい。これは、本実施例で形成した規則的な凹凸形
状が、局部的突起を持たないため、磁気ヘッドの浮上安
定性が良好なためである。

【０１４３】特に、実施例１から実施例８の場合のよう
に、平坦な基板上に中間層，磁性層及び保護層を形成
し、保護層の表面にヘッド又は磁気記録媒体に付着した
微小塵埃を速やかに除去しうるように規則的に配置され
た微小凹凸形状を与え、保護層上に潤滑層を形成した場
合には、磁気ヘッドとの摩擦力や吸着力が低く、記録再
生特性が良好であり、磁気ヘッドの浮上安定性を保証
し、長期に亘って特性劣化の小さい磁気記録媒体を得る
ことができる。

【０１４４】また実施例９のように基板上に上記作用を
有する微小凹凸形状を与え、その上に中間層，磁性層，
保護層及び潤滑層を形成した場合でも、磁性層が凹凸を
もつことにより実施例１から実施例８に比べてＳ／Ｎ比
の若干の低下が見られるものの、凹凸の大きさが小さい
ため、Ｓ／Ｎ比の低下量は小さく、またそれ以外の特性
は良好である。

【０１４５】上記した様に本実施例によれば、磁気記録
媒体の表面に磁気ヘッド又は磁気記録媒体に付着した微
小塵埃を速やかに除去しうるように規則的に配置された
微小凹凸形状を与えることにより、磁気ヘッドとの摩擦
力や吸着力が低く、記録再生特性が良好であり、磁気ヘ
ッドの浮上安定性を保証し、長期に亘って特性劣化の小
さい磁気記録媒体を得ることができる。

【０１４６】

【発明の効果】本発明によれば、磁気ヘッドとの摩擦力
や吸着力が低く、低浮上量においても磁気ヘッドの浮上
安定性を保証し、長期に亘って特性劣化の小さい磁気記
録媒体を再現性良く提供することができる。また、磁気
記録媒体を構成する保護層を第一保護層と第二保護層に
分け、凸部は第二保護層に形成し、この第二保護層の下
層に耐食性を有する第一保護層を形成することにより、
上記効果に加えて耐食性を有する磁気記録媒体を提供で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の一実施例による磁気記録媒体の、半
径方向での断面構造を示す斜視図

【図２】 本発明の一実施例による磁気記録媒体の、半
径方向での断面構造を示す斜視図

【図３】 本発明の一実施例による磁気記録媒体の、半
径方向での断面構造を示す斜視図

【図４】 本発明の一実施例の磁気記録媒体表面に形成
する凸部の配置を示す一部平面図

【図５】 本発明の一実施例の磁気記録媒体表面に形成
する凸部の配置を示す一部平面図

【図６】 本発明の一実施例の磁気記録媒体表面に形成
する凸部の配置を示す一部平面図

【図７】 本発明の一実施例による磁気記録媒体の凸形
成部を、半径方向で触針式表面粗さ計で測定し結果の一
例を示すグラフ

【図８】 本発明の磁気ディスク装置の一実施例を示す
概略構成図

【図９】 磁気記録媒体表面の凸部の形状、分布の一例
を示す平面図

【図１０】 磁気記録媒体表面の凸部の形状、分布の一
例を示す平面図

【図１１】 磁気記録媒体表面の凸部の形状、分布の一
例を示す平面図

【図１２】 本発明の一実施例による磁気記録媒体の、
半径方向での断面構造を示す斜視図。

【図１３】 ＣＳＳ試験の結果を表す図

【符号の説明】

１…アルミニウム合金円板、２…下地層、３…中間層、
４…磁性層、５…保護層、５ａ…第一保護層、５ｂ…第
二保護層、６…潤滑層、７…凸部、１３…磁気ディスク
回転制御手段、１４…磁気記録媒体（磁気ディスク）、
１５…磁気ヘッド。

フロントページの続き (72)発明者 沢畠 昇一 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 近藤 麻希 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 大浦 正樹 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原市工場内 (72)発明者 三宅 芳彦 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原市工場内 (72)発明者 加藤 義喜 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原市工場内 (72)発明者 奥脇 東洋治 東京都国分寺市東恋ヶ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 岡本 紀明 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 中川 宣雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に磁性層と保護層を有する磁気ディ
   スクにおいて、前記磁気ディスクの表面の少なくとも一
   部領域に該表面の表面粗さより大きい高さで該表面より
   突出した多数の凸部を有し、該凸部の高さは、5nm以上4
   0nm以下、かつその平均高さに対して30％以内の分布
   で、ほぼ一定の高さを有し、該凸部は前記磁気ディスク
   の中心に対してらせん状に配置され、該らせん状に配置
   された凸部の連続して隣接する凸部間の半径方向のずれ
   量が、該凸部の半径方向の幅以下であることを特徴とす
   る磁気ディスク。
2. 【請求項２】非磁性円板よりなる磁気ディスク用基板に
   おいて、前記基板の表面の少なくとも一部領域に該表面
   より突出した多数の凸部を有し、該凸部の高さは、5nm
   以上40nm以下、かつその平均高さに対して30％以内の分
   布で、ほぼ一定の高さを有し、該凸部は前記基板の中心
   に対してらせん状に配置され、該らせん状に配置された
   凸部の連続して隣接する凸部間の半径方向のずれ量が、
   該凸部の半径方向の幅以下であることを特徴とする磁気
   ディスク用基板。