JPH08153325A

JPH08153325A - 磁気記録媒体及び基板

Info

Publication number: JPH08153325A
Application number: JP29507594A
Authority: JP
Inventors: Yoji Arita; 陽二有田; Yuzo Seo; 雄三瀬尾; Toshihiko Kuriyama; 俊彦栗山; Junichi Kozu; 順一神津
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1994-11-29
Filing date: 1994-11-29
Publication date: 1996-06-11

Abstract

(57)【要約】【構成】基板の磁性層側表面に、突起高さが１〜１０
０ｎｍであり、突起頂部から１ｎｍ低い高さにおける等
高線で囲まれた図形の面積の平均値が２μｍ²以下であ
り、突起高さの１／２の高さにおける等高線で囲まれた
図形の面積の平均値が１０μｍ²である突起を、該表面
１ｍｍ²当たり１０〜１０⁸個有する磁気記録媒体及び
基板。【効果】ＣＳＳ時の摩擦が極端に小さくなり、磁気ヘ
ッドの媒体表面へのスティキングも発生しなくなる。ま
た、磁気ヘッドをデータ記録領域とＣＳＳ領域との間で
シークした時に磁気ヘッドの安定浮上高さの変動が少な
く、ヘッドクラッシュや磁気ヘッドの空間での不安定化
が起こらず、更に、極めて滑らかに行なうことができ
る。さらに、磁気ヘッドの浮上高さを小さくでき、デー
タのエラーも減少する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体及び基板
に関し、詳しくは磁気ディスク装置に使用されるハード
ティスク等の磁気記録媒体及びそのための基板に関する
ものである。特に、良好なＣＳＳ（コンタクトスタート
アンドストップ）特性及び磁気ヘッドの媒体表面へのス
ティッキング特性向上と磁気ヘッドの低浮上化を同時に
可能にする薄膜型の磁気記録媒体及びその基板に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】通常、ハードディスクへの情報の書き込
み／読み出し等は磁気ヘッドを介して行っており、その
際にハードディスクは高速で回転して磁気ヘッドを浮上
させている。ハードディスクは、磁気特性の向上のた
め、非磁性基板面上あるいは非磁性基板上に設けられた
ＮｉＰメッキ等の非磁性体からなる下地層上に、ディス
クの円周方向にほぼ同心円状に機械的研磨を行って加工
痕を残す加工（以下、機械的テキスチャという）が行わ
れている。

【０００３】近年の情報量の増大と装置の小型軽量化の
要求により、線記録密度及びトラック密度が高くなり、
１ビット当りの面積が小さくなってくると、従来のよう
な機械的テキスチャによるスクラッチ傷は情報読み出し
の際にエラーとなる確率が高くなる。そのため、ディス
ク内周部にあるＣＳＳ領域のみに機械的テキスチャを施
しデータ記録領域はそのままにする方法も提案されてい
るが、この場合はデータ記録領域の面がＣＳＳ領域の面
の高さよりも高くなってしまい、磁気ヘッドがシークす
る時にクラッシュするという問題があった。

【０００４】また、こうした機械的テキスチャに代え
て、レーザでテキスチャパターンを作る方法も提案され
ている。レーザによるテキスチャの例は、米国特許第
５，０６２，０２１号、同５，１０８，７８１号等に開
示されており、Ｎｄ−ＹＡＧの強パルスレーザ光により
ＮｉＰ層を局所的に溶融することにより、図５に示すよ
うに、溶融して形成された凹状の穴部６とその周囲の溶
融したＮｉＰが表面張力により盛り上がって固化して形
成された直径が２．５〜１００μｍのリム部７からなる
クレータ状の凹凸を多数作り、円環状の凸状リムによっ
て磁気ヘッドとのＣＳＳ特性を改善する試みが提案され
ている。しかし、この方法では磁気ヘッド下面との接触
面積が飛躍的には下がらず、磁気ヘッドとディスク間の
スティッキングの問題は、機械的テキスチャに較べて改
善されているとは言い難い。

【０００５】また、突起をフォトリソグラフィを使って
形成する方法も提案されている。フォトリソグラフィに
よる例は、日本潤滑学会トライボロジー予稿集（１９９
１−５，Ａ−１１），（１９９２−１０，Ｂ−６）に開
示されており、ディスクの全表面に対する面積比が０．
１〜５％の同心円状の突起をフォトリソグラフィによっ
て形成した磁気ディスクのＣＳＳのテスト結果が示され
ている。しかし、この方法では、突起の頂部が平滑なた
め、磁気ヘッドの摺動回数と共に摩擦が増加するという
欠点があり、また工業化も容易でないという問題があっ
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように、磁気記録
媒体のＣＳＳ領域では、突起の先端の面積を小さくして
磁気ヘッドとのスティッキングをなくし、しかも平均的
な面の高さをデータ記録領域とほぼ同じ高さにして、磁
気ヘッドをデータ記録領域とＣＳＳ領域との間でシーク
した時に磁気ヘッドの安定浮上高さの変動が少なく、ヘ
ッドクラッシュや磁気ヘッドの空間での不安定化が起こ
らない磁気記録媒体が望まれている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、こうした高密
度記録用の磁気記録媒体に対してなされたもので、その
第１の要旨は、ケイ素基板上に磁性層を有する磁気記録
媒体であって、基板の磁性層側表面に、突起高さが１〜
１００ｎｍであり、突起頂部から１ｎｍ低い高さにおけ
る等高線で囲まれた図形の面積の平均値が２μｍ²以下
であり、突起高さの１／２の高さにおける等高線で囲ま
れた図形の面積の平均値が１０μｍ²である突起を、該
表面１ｍｍ²当たり１０〜１０⁸個有することを特徴と
する磁気記録媒体、に存する。

【０００８】また、本発明の第２の要旨は、ケイ素基板
上に磁性層を有する磁気記録媒体用基板であって、基板
の磁性層側表面に、突起高さが１〜１００ｎｍであり、
突起頂部から１ｎｍ低い高さにおける等高線で囲まれた
図形の面積の平均値が２μｍ ²以下であり、突起高さの
１／２の高さにおける等高線で囲まれた図形の面積の平
均値が１０μｍ²である突起を、該表面１ｍｍ²当たり
１０〜１０⁸個有することを特徴とする磁気記録媒体用
基板、に存する。

【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
磁気記録媒体及び基板は、基板の磁性層側表面に、突起
高さが１〜１００ｎｍであり、突起頂部から１ｎｍ低い
高さにおける等高線で囲まれた図形の面積の平均値が２
μｍ²以下であり、突起高さの１／２の高さにおける等
高線で囲まれた図形の面積の平均値が１０μｍ²である
突起を、該表面１ｍｍ²当たり１０〜１０⁸個有するこ
とを特徴とする。特に、突起の磁気記録媒体表面に平行
な断面の形状がほぼ円形であることが好ましい。

【００１０】突起の高さは、通常、１〜１００ｎｍ、好
ましくは１〜６０ｎｍ、更に好ましくは５〜４０ｎｍで
あり、１００ｎｍを超えると突起密度が低くてもＣＳＳ
特性は良いが磁気ヘッドの安定浮上高さはを下げること
が困難になることがあり、下１ｎｍ未満では基板が元来
有する細かな凹凸に埋もれてしまい所望の効果を得るこ
とが困難になることがある。本発明において、突起の高
さは、ＪＩＳ表面粗さ（Ｂ０６０１−１９８２）により
規定される、粗さ曲線の中心線を基準とした場合の突起
の高さを表す。

【００１１】また、本発明における突起は、通常、突起
頂部から１ｎｍ低い高さにおける等高線で囲まれた図形
の面積の平均値（以下、等高線面積という）が２μｍ²
以下であり、好ましくは、１．０μｍ²以下、より好ま
しくは０．５μｍ²以下、更に好ましくは０．２μｍ²
以下の値を有する。該等高線面積が、２μｍ²を超える
と磁気ヘッドとの間にスティッキングが発生しやすくな
り、ＣＳＳを作動することが不可能となる場合がある。
また、突起高さの１／２の高さの位置における等高線面
積の大きさも、用いる潤滑剤によってはＣＳＳ特性に影
響し、通常、好ましくは１０μｍ²以下、更に好ましく
は５μｍ²以下、より好ましくは２μｍ ²以下がよい。
なお、これらの等高線面積は、レーザ干渉による表面形
状測定装置、例えば、米国ザイゴ社製「ＺＹＧＯ」で測
定することが可能である。

【００１２】また、本発明においては、基板の磁性層側
表面に、上記のような突起を１ｍｍ ²当たり１０〜１０
⁸個有することを特徴とする。基板表面１ｍｍ²当たり
に存在する該突起の密度が１０個未満では、基板のうね
り等により磁気ヘッド下面を突起のみで支えるのは難し
くなることがあり、また１０⁸個を超えた突起を作ろう
とすると互いに干渉しあって突起の高さをそろえるのが
難しくなることがある。したがって、突起の好ましい存
在密度は基板表面１ｍｍ²当たり１０²〜１０ ⁶個、よ
り好ましくは１ｍｍ²当たり１０³〜１０⁵個である。
ここで、突起の存在密度とは媒体全体での平均密度では
なく、突起存在部での単位面積当たりの密度をいう。必
要な突起密度は媒体の表面性に依存し、ケイ素基板のよ
うなウネリが少なく表面粗さも小さい基板では、突起密
度が小さくても十分効果がある。

【００１３】本発明の好ましい態様として、突起は磁気
ヘッドがＣＳＳを行なう領域（ＣＳＳ領域）のみに存在
し、データ記録領域には存在しない磁気記録媒体が挙げ
られる。このような構成にすることにより、データ記録
領域においては磁性層の配向のみを目的とした周方向の
軽いテキスチャ等を採用することもでき、表面をより平
滑にすることができる。したがって、従来のようにＣＳ
Ｓの改善を目的とした機械的テキスチャによるスクラッ
チ傷によるエラーを減少させることができる。

【００１４】また、さらに好ましい態様として、突起
が、磁気ヘッドがＣＳＳを行なう領域のみに存在しデー
タ記録領域には存在せず、かつデータ記録領域に近い側
の突起、又は全ての突起の高さがデータ記録領域に向か
って減少している磁気記録媒体が挙げられる。突起高さ
をデータ記録領域に向かって減少させることにより、デ
ータ記録領域からＣＳＳ領域あるいは逆の方向に磁気ヘ
ッドを安定にシークすることができる。この場合、デー
タ記録領域では、基板あるいは下地層の表面加工は全く
行なわず、ケイ素基板の極めて平滑な面の性質をそのま
ま磁性層の表面性に反映させることにより、磁気ヘッド
の浮上高さを下げ高密度記録用の磁気記録媒体とするこ
ともできる。

【００１５】また、突起はＣＳＳ領域のみならず、デー
タ記録領域に存在していてもよい。これにより、データ
記録領域上に磁気ヘッドが停止してしまった場合等にお
いて、磁気ヘッドのスティッキングを防止することが可
能となる。この場合、データ記録領域の突起高さはＣＳ
Ｓ領域の突起高さより低いことが好ましく、データ記録
領域の突起密度がＣＳＳ領域の突起密度より小さいこと
が好ましい。

【００１６】本発明の磁気記録媒体を製造するための好
ましい方法としては、基板を回転させながら、その表面
に円周方向に沿って、ビーム径が小さく出力を精度良く
制御したエネルギー線を照射して表面に突起を形成する
方法等が挙げられる。エネルギー線としては、パルスレ
ーザ、電子線、Ｘ線等が挙げられ、中でもパルスレーザ
を用いることが好ましく、以下、パルスレーザを用いた
場合を例として本発明を説明する。

【００１７】本発明において、突起の生成機構について
は今だ解明されていないが、次のように考えられる。図
４は突起の予想される生成機構を示す概念図である。図
４に示すように、パルスレーザ３が照射され、局所的に
過熱された基板上のスポット部５は一部溶融し、基板の
回転（方向を矢印で示す）、又はレーザビームの走査に
よって溶融部分が僅かな距離だけ移動する。現象として
は、最初にレーザビームが照射され、始めに溶融する部
分が凹部となり、レーザビームが走査されて最後に固化
したと思われる部分に突起が生成する。ケイ素の密度
は、固体で２．３２、液体で２．５１であり、レーザビ
ームの照射によって溶解した部分の体積は小さくなる。
狭い範囲ではあるが、レーザビームが走査され、溶融し
ている部分に温度差があると、温度の高い部分に質量の
移動が起こり、固化するときに膨張、突起ができるもの
と思われるが、質量の移動の原因等は不明である。

【００１８】このようにしてできた突起の頂部は平坦で
はなく、適度な曲率を有している。本発明において、レ
ーザビームの走査方向とは、静止した基板上でレーザビ
ームが走査する方向のみならず、レーザビームは静止さ
せておき、基板を回転させた状態で照射する場合のディ
スクの回転方向をも示すこととする。レーザビームの走
査あるいは基板の回転が遅いか、あるいはレーザビーム
のパワーが大きい等の条件によっては、熱収縮により突
起底部の周囲に凹部ができる場合もあるが、この現象の
解明も十分ではない。

【００１９】前述の米国特許第５，０６２，０２１号、
同５，１０８，７８１号記載の方法においては、レーザ
ビームの照射範囲が広く、かつレーザの出力も１．５Ｗ
等の大出力であるため、ＮｉＰの溶融範囲が広く、溶融
した液面の中心部が盛り上がらずにクレータ状となって
しまう。これに対し、本発明においては、レーザビーム
を狭い範囲に絞り、出力も低い条件下で精度良く突起を
制御するため、溶融範囲が狭く、溶融した液面の中心部
の内、最後に固化する部分が凸状に盛り上がり突起とな
る点で前記米国特許とは大きく異なる。したがって、先
端の面積も非常に小さく、急峻なＣＳＳにとって好まし
い突起ができる。

【００２０】また、突起高さはレーザのスポット径、強
度とその平均照射時間、及びディスクの線速度を調節す
ることによって自由に制御することができ、突起の密度
は、１周当たりの突起の個数、パルスレーザの半径方向
の照射間隔、及び上記の突起の高さを制御する条件を調
節することにより自由に制御することができる。レーザ
の強度は、通常、２０〜１０００ｍＷ、特に好ましくは
２００〜７００ｍＷ、平均照射時間は、通常、０．０５
〜１０μｓｅｃ、好ましくは１〜１０μｓｅｃ、特に好
ましくは２〜５μｓｅｃ、スポット径は、通常、０．２
〜４μｍ、特に好ましくは０．８〜１．５μｍ、基板の
線速度は、通常、０．５〜１５ｍ／ｓｅｃ、特に好まし
くは３〜１０ｍ／ｓｅｃ、さらには５〜１０ｍ／ｓｅｃ
が好ましい。ここで、レーザの平均照射時間とは、１つ
の突起を形成させるのにレーザを基板に照射した時間を
示す。レーザビームの照射面積を変えるには、通常、対
物レンズの開口率を変えればよく、例えば、開口率が
０．１〜０．９５の対物レンズを用いることにより、ビ
ームの照射径は０．７〜６μｍ程度まで制御することが
できる。

【００２１】本発明において、ケイ素基板としては、純
ケイ素基板又はケイ素に強度を付加するために微量添加
元素を入れたケイ素合金基板が用いられる。磁気記録媒
体としては、基板上に直接、磁性層を製膜する場合もあ
るが、通常は、下地層として非磁性体からなる層、例え
ばＮｉＰ合金層を無電解メッキ法又はスパッタ法により
形成する。本発明のケイ素基板とは、このようにケイ素
基板上に下地層を形成したものも含む。

【００２２】ケイ素基板（基板上に下地層を形成したも
のも含む）の上にはＣｒ層、Ｃｕ層等からなる中間層を
磁性層との間に設けるのが好ましく、その膜厚は、通
常、２０〜２００ｎｍ、好ましくは５０〜１００ｎｍで
ある。ケイ素基板（基板上に下地層を形成したものも含
む）上又は中間層上に設ける磁性層は、通常、Ｃｏ−
Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃ
ｒ−Ｔａ−Ｐｔ系合金等の強磁性合金薄膜を無電解メッ
キ、電気メッキ、スパッタ、蒸着等の方法によって成膜
することにより形成され、その膜厚は、通常、３０〜７
０ｎｍ程度である。

【００２３】この磁性層上には保護層が設けられるが、
保護層としては蒸着、スパッタ、プラズマＣＶＤ、イオ
ンプレーティング、湿式法等の方法により、炭素膜、水
素化カーボン膜、ＴｉＣ、ＳｉＣ等の炭化物膜、Ｓｉ
Ｎ、ＴｉＮ等の窒化膜等、ＳｉＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、ＺｒＯ等
の酸化物膜等が成膜される。これらのうち，特に好まし
くは、炭素膜、水素化カーボン膜である。また、保護層
上には通常、潤滑剤層が設けられる。

【００２４】

【実施例】次に、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施
例によって限定されるものではない。実施例１〜３、比較例１〜４基板として直径６４ｍｍのディスク状基板であり、表面
粗さＲａが１ｎｍ以下のミラーウェハー状ケイ素基板を
用いた。次に、表−１に記載した強度に精度良く制御さ
れた波長λ＝４８８ｎｍのアルゴンパルスレーザーを、
表−１に記載した条件下でケイ素基板上に照射して突起
を形成させ、磁気ディスク用基板を得た。

【００２５】図１は、実施例１で得られたケイ素基板表
面形状を、レーザ干渉による表面形状測定装置（米国ザ
イゴ社製「ＺＹＧＯ」）で観察した結果を表す図であ
る。図２（ａ）は、図１の突起のレーザの走査方向に沿
った突起の頂部を通る垂直断面図であり、図２（ｂ）
は、突起の中心を通り、図２（ａ）に対して垂直な方向
の垂直断面図である。図３は図１に示した突起の凸部の
形状を上部から見た場合の形状を示したものであり、本
発明の突起は図１、図２（ａ）〜（ｂ）及び図３に示す
ような形状を示し、その孤立した突起の頂部は平坦では
なく適度な曲率を有しており、また、基板面に水平な断
面形状は、ほぼ円形で、等方的な形状をしている。

【００２６】次いで、スパッタ法により、順次、ＮｉＰ
層、Ｃｒ層（膜厚１００ｎｍ）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ合金
磁性膜（膜厚５０ｎｍ）及びカーボン保護膜（膜厚２０
ｎｍ）を形成し、その後、浸漬法によりフッ素系液体潤
滑剤（モンテエジソン社製商品名「ＤＯＬ−２００
０」）を２ｎｍの膜厚に塗布して、磁気記録媒体を製造
した。

【００２７】また、比較例４は従来の機械的テキスチャ
法により、ケイ素基板にＮｉＰをスパッタで製膜した
後、表面粗さＲａが約１ｎｍの粗さのテキスチャを施し
た基板を用いたこと以外は、実施例と同様のプロセスで
磁気ディスクを製造した。表−１に実施例１〜３及び比
較例２〜３において、突起を形成したときの条件及びそ
の測定結果（基板の線速度、レーザの強度、レーザの平
均照射時間、平均突起線密度（周方向／半径方向）、平
均突起高さ、突起先端から１ｎｍ低い部分での等高線面
積（１）、及び突起高さの１／２の部分での等高線面積
（２））を示した。なお、レーザの集光に用いた対物レ
ンズの開口率ＮＡは全て０．６のものを用いた。エネル
ギーの８４％が集中するスポット径は、１．２２×λ／
ＮＡで表される。

【００２８】

【表１】表−１ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 基板レーザ平均平均平均等高線等高線線速度強度照射時間突起密度突起高さ面積(1) 面積(2) (mm/sec) (mW) (μsec)（個／mm) (nm) (μm²) (μm²) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ 644 500 3.12 100/100 31 0.05 0.71 実施例２ 644 500 3.12 200/50 31 0.05 0.71 実施例３ 644 500 3.12 10/10 31 0.05 0.71 比較例１レーザ照射無し比較例２ 644 50 3.12 100/100 1以上比較例３ 644 750 3.12 100/100 108 0.05 2.68 比較例４機械的テキスチャ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００２９】表−２に、これらのディスクのＣＳＳテス
ト前の静止摩擦係数（初期スティクション）及びＣＳＳ
２万回後の摩擦力を示した。ＣＳＳテストは磁気ヘッド
浮上量２．０μインチ、ロードグラム６ｇｆの薄膜ヘッ
ド（スライダ材質Ａｌ₂Ｏ₃ＴｉＣ）を用いた。ＣＳＳ領
域の安定浮上高さは、比較例３を除きすべて１．０〜
１．２μインチであった。

【００３０】

【表２】表−２ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 初期スティクションＣＳＳ２万回後の（摩擦係数）摩擦力 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１０．１４２ｇｆ実施例２０．１７４ｇｆ実施例３０．４５１３ｇｆ比較例１測定不能（吸着によりヘッドクラッシュ）比較例２１０以上吸着ドライブ作動せず比較例３０．１５ヘッドクラッシュ（１００回）比較例４５．７２吸着（６００回） −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００３１】

【発明の効果】本発明によれば、基板の磁性層側の表面
上に突起の高さとその先端の形状、突起の存在領域及び
密度が制御された表面形状が形成するため、磁気ヘッド
下面と磁気記録媒体の表面との接触面積が少なく、ＣＳ
Ｓ時の摩擦が極端に小さくなり、また、磁気ヘッドの媒
体表面へのスティキングも全く発生しなくなる。また、
周方向の突起密度を高めにし、半径方向の突起密度を小
さくしてもＣＳＳ特性があまり劣化しない性質を利用す
ると、突起形成に要する時間が短縮できる利点がある。

【００３２】また、ＣＳＳ領域のみにこうした突起を作
った場合、平均的な面の高さはほとんど変わらないた
め、磁気ヘッドをデータ記録領域とＣＳＳ領域との間で
シークした時に磁気ヘッドの安定浮上高さの変動が少な
く、ヘッドクラッシュや磁気ヘッドの空間での不安定化
が起こらない。更に、この突起の高さや密度をデータ記
録領域に近づくにしたがって制御することもできるた
め、磁気ヘッドのデータ記録領域とＣＳＳ領域との間で
のシークは極めて滑らかに行なうことができる。

【００３３】この場合データ記録領域では、従来のよう
な機械的テキスチャによる表面の傷を作る必要がないの
で、磁気ヘッドの浮上高さを小さくでき、また、前記傷
によるデータのエラーも減少するため高密度の磁気記録
媒体の製造が可能となり、工業的な意義は極めて大き
い。

【図面の簡単な説明】

【図１】表面形状測定装置により観察した本発明のケイ
素基板表面の突起の形状を示す斜視図である。

【図２】図１の突起の、レーザの走査方向に沿った突起
の頂部を通る垂直断面図（ａ）及び突起の中心を通る図
２（ａ）に対して垂直な方向の垂直断面図（ｂ）であ
る。

【図３】図１の突起のの形状を上部から見た場合の形状
を示したものである。

【図４】本発明の突起の予想される生成機構を示す概念
図である。

【図５】従来の方法による磁気記録媒体表面の形状を示
す斜視図である。

【符号の説明】

１突起２凹部３パルスレーザ４非磁性基板５スポット部６凹状の穴部７リム部

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【手続補正書】

【提出日】平成７年３月２８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２５】図１は、実施例１で得られたケイ素基板表
面形状を、レーザ干渉による表面形状測定装置（米国ザ
イゴ社製「ＺＹＧＯ」）で観察した結果を表す図であ
る。図２（ａ）は、図１の突起のレーザの走査方向に沿
った突起の頂部を通る垂直断面図であり、図２（ｂ）
は、突起の中心を通り、図２（ａ）に対して垂直な方向
の垂直断面図である。図３は、図１に示した突起を上方
（図面に垂直な方向）から見た写真であり、従って、図
１に示した突起の基板面に水平な断面の形状を示すもの
である。具体的には、図３は、実施例１で得られたケイ
素基板表面形状を、レーザ干渉による表面形状測定装置
（米国ザイゴ社製「ＺＹＧＯ」）で観察し、その結果を
高さに応じて異なる色で表示したものである。本発明の
突起は図１、図２（ａ）〜（ｂ）及び図３に示すような
形状を示し、その孤立した突起の頂部は平坦ではなく適
度な曲率を有しており、また、基板面に水平な断面形状
は、ほぼ円形で、等方的な形状をしている。

【手続補正書】

【提出日】平成７年６月７日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図３

【補正方法】変更

【補正内容】

【図３】図１に示した突起を上方（図面に垂直な方向）
から、レーザ干渉による表面形状測定装置で観察した結
果をディスプレー上に表示した中間調画像の写真であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者神津順一神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地三菱化学株式会社横浜総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ケイ素基板上に磁性層を有する磁気記録
媒体であって、基板の磁性層側表面に、突起高さが１〜
１００ｎｍであり、突起頂部から１ｎｍ低い高さにおけ
る等高線で囲まれた図形の面積の平均値が２μｍ²以下
であり、突起高さの１／２の高さにおける等高線で囲ま
れた図形の面積の平均値が１０μｍ²である突起を、該
表面１ｍｍ²当たり１０〜１０⁸個有することを特徴と
する磁気記録媒体。
【請求項２】突起の磁気記録媒体表面に平行な断面の
形状がほぼ円形である請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】突起の底部周囲に凹部を有する請求項１
又は２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】突起が、磁気ヘッドがＣＳＳ（コンタク
トスタートアンドストップ）を行なう領域（ＣＳＳ領
域）のみに存在する請求項１ないし３のいずれか１項に
記載の磁気記録媒体。
【請求項５】突起が、磁気ヘッドがＣＳＳ領域及びデ
ータ記録領域に存在する請求項１ないし３のいずれか１
項に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】データ記録領域の突起高さがＣＳＳ領域
の突起高さより低い請求項５に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】データ記録領域の突起密度がＣＳＳ領域
の突起密度より小さい請求項５又は６に記載の磁気記録
媒体。
【請求項８】ＣＳＳ領域のデータ記録領域近傍の突起
高さが、ＣＳＳ領域の全突起高さの平均値より低い請求
項１ないし７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項９】ＣＳＳ領域の突起の高さがデータ記録領
域に向かって漸減している請求項１ないし８のいずれか
１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１０】ＣＳＳ領域の半径方向の突起密度が周
方向の突起密度よりも小さい請求項１ないし９のいずれ
か１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項１１】突起が、エネルギー線照射により形成
されてなる請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の
磁気記録媒体。
【請求項１２】突起の中心を通り、照射エネルギー線
の走査方向に平行な垂直断面形状が、突起底部の片側近
傍に凹部を有する請求項１１に記載の磁気記録媒体。
【請求項１３】ケイ素基板上に磁性層を有する磁気記
録媒体用基板であって、基板の磁性層側表面に、突起高
さが１〜１００ｎｍであり、突起頂部から１ｎｍ低い高
さにおける等高線で囲まれた図形の面積の平均値が２μ
ｍ²以下であり、突起高さの１／２の高さにおける等高
線で囲まれた図形の面積の平均値が１０μｍ²である突
起を、該表面１ｍｍ²当たり１０〜１０⁸個有すること
を特徴とする磁気記録媒体用基板。
【請求項１４】突起の磁気記録媒体用基板表面に平行
な断面の形状がほぼ円形である請求項１３に記載の磁気
記録媒体。