JPH0752523B2 - 記録再生用のデイスク基板とその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光学式記録再生に用いるディスク基板とこれを
製造する方法に関するものである。

従来の技術 光ディスクは光磁気ディスクとしてガラス基板を用いる
ことが従来より知られている。このガラス基板の光入射
面は、その表面粗さが0.1μｍ未満（例えば0.02μｍ）
になるよう精密仕上げされている。

発明が解決しようとする問題点 ところで現在入手できるガラス板の表面粗さは、最良の
ものであってもサブミクロンオーダ（例えば0.2μｍ程
度）であって、これをそのまま光ディスクまたは光磁気
ディスクのガラス基板としては用いることができない。
そこでガラス板の表面を精密研磨仕上げによって0.1μ
ｍ未満の表面粗さを有するようにしているが、これに要
するコストが非常に高くつく。例えばガラス板の材料コ
ストと精密研磨仕上げに要するコストとの割合いは1:9
位になっている。

従って従来の純ガラス板製のものは非常に高価であると
いう問題点を有していた。

問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するため、 第１発明はガラス板の一方の面に、0.1μｍ未満の表面
粗さを有する透光性樹脂薄膜が被覆され、他方の面に記
録再生用凹凸部が転写された透光性樹脂膜が被覆されて
いることを特徴とする。

第２発明はガラス板の両面にカップリング膜を膜形成し
た後、ガラス板の一方の面に光硬化性又は／及び熱硬化
性の液状樹脂をスピン法によってコーティングし、次い
で紫外線照射又は／及び加熱を行って前記液状樹脂を硬
化させて0.1μｍ未満の表面粗さを有する透光性樹脂薄
膜を被覆形成し、これに相前後してガラス板の他方の面
に、スタンパー型を用いたフォトポリマー法によって、
記録再生用凹凸部が転写された透光性樹脂膜を被覆形成
することを特徴とする。

作用 第１発明によれば、ガラス板の光入射面を0.1μｍ未満
の表面粗さを有する透光性樹脂薄膜で被覆し、レーザ光
などの光の入射が正確に行なわれるようにしており、ガ
ラス板の記録再生面を記録再生用凹凸部が転写された透
光性樹脂膜で被覆し、光による記録、再生がとどこおり
ななく行なわれるようにしている。そして従来の精密研
磨仕上げによりディスク基板を製造する場合に比較し、
樹脂被覆に要するコストが格段に安いので、製造コスト
の大幅な低減が可能になる。

第２発明によれば、光硬化性又は／及び熱硬化性の液状
樹脂を、カップリング膜が膜形成されたガラス板の光入
射面にスピン法によってコーティングし、次いで紫外線
照射又は／及び加熱を行って前記液状樹脂を硬化させ、
ガラス板の光入射面に0.1μｍ未満の表面粗さを有する
透光性樹脂薄膜を被覆形成している。スピン法によるレ
ベリング作用によって、前記透光性樹脂薄膜の表面粗さ
を0.1μｍ未満とすることができ、紫外線照射又は／及
び加熱によってその状態に前記透光性樹脂薄膜を硬化形
成することができる。これによって、ガラス板の光入射
面を、レーザ光などの光の入射が正確に行なわれるよう
に形成することができる。

前記光入射面の仕上げと相前後して、カップリング膜が
膜形成されたガラス板の記録再生面に、スタンパー型を
用いたフォトポリマー法によって、記録再生用凹凸部が
転写された透光性樹脂膜を直接被覆形成するので、ガラ
ス板の記録再生面が精度良く、能率的に仕上げられる。

実施例 第１図ないし第９図は本発明の第１実施例を示してい
る。

第１図及び第２図に示す記録再生用のディスク基板Ａ
は、その本体を円盤状のガラス板１で形成され、中心部
に円孔２を有している。ガラス板１としては表面粗さが
サブミクロンオーダ（例えば0.2μｍ）に成形されたも
のが使用される。

このガラス板１の表面は、シランカップリング剤又はチ
タンカップリング剤によるカップリング膜３が形成され
ている。このカップリング膜３の形成は後述の浸漬法を
用いて行っているためガラス板１の円周端面４にも形成
されている。ガラス板１の光入射面５及び記録再生面６
には、前記円孔２の周囲を除いた全面にカップリング膜
３が形成されている。

カップリング膜３の表面上には、0.1μｍ未満の表面粗
さを有する透光性樹脂薄膜７が被覆形成されている。こ
の透光性樹脂薄膜７は光硬化性又は／及び熱硬化性の液
状樹脂7a（第７図参照）を紫外線照射又は／及び加熱を
行って硬化させたものである。具体的にはエポキシ系配
合組成物、メタアクリル（又はアクリル）系配合組成
物、チオール系配合組成物が上記に適する樹脂である。
前記透光性樹脂薄膜７は後述のスピン法を用いて形成し
ており、前記光入射面５及び前記記録再生面６に被覆さ
れる。

ガラス板１の光入射面５は以上のようにして、0.1μｍ
未満の表面粗さを有する透光性樹脂薄膜７が被覆形成さ
れる。

他方、ガラス板１の記録再生面６は、前記透光性樹脂薄
膜７をベース膜として、その上に記録再生用凹凸部（ト
ラック溝、信号用凹凸）８が転写された透光性樹脂膜９
が被覆形成されている。この透光性樹脂膜９はフォトポ
リマー法によって形成され、前記透光性樹脂薄膜７と同
様の樹脂を材料としている。

次に前記記録再生用のディスク基板Ａの製造方法を第３
図〜第９図に基き説明する。

第３図は表面がサブミクロンオーダに成形された円盤状
のガラス板１を示している。このガラス板１は中心部に
円孔２を有すると共にその外径は例えば120mmとなるよ
うに形成されている。

前記ガラス板１は洗浄された後、第４図及び第５図に示
す浸漬法を用いたカップリング処理が行われる。すなわ
ち、第４図に示すように、回転軸10にガラス板１が保持
されて、液状のカップリング剤3aが貯められたディプ槽
11に浸漬される。回転軸10は比較的低速で回転し（例え
ば10〜100rpm）、液状のカップリング剤3aがガラス板１
の両面5,6及び外周端面４に薄く塗布される。次いで、
第５図に示すようにガラス板１をディップ溝11から取出
した後、回転軸10を高速回転する（例えば1000rpm〜200
0rpm）。これにより均一で良好な薄膜を得ることができ
る。次いで焼成炉を用いてカップリング剤の薄膜を焼成
することによってカップリング膜３の膜形成が完了す
る。

カップリング膜３の形成後、光硬化性及び熱硬化性の両
性質を有する液状樹脂7a、例えばエポキシ系配合組成物
をスピン法によって、ガラス板１の両面５、６にコーテ
ィングする。第６図は、回転軸13に前記ガラス板１を水
平面上に保持し、回転軸13を比較的低速（例えば10〜10
0rpm）で回転させながら、滴下装置14によって前記液状
樹脂7aをガラス板１の一方の面５上に滴下している状態
を示している。これにより前記カップリング膜３上に前
記液状樹脂7aが略均一厚さに拡がって塗布される。次い
で第７図に示すように前記回転軸13を高速回転させ（例
えば1000rpm〜2000rpm）、そのレベリング作用によって
表面粗さが0.1μｍ未満の均一で良好な液状樹脂7aの薄
膜をコーティング形成する。

次いで第７図に仮想線で示すように前記薄膜にUV照射装
置を用いて紫外線14を照射し１次硬化させる。更に赤外
線ランプ（図示せず）を用いて加熱し、前記薄膜を２次
硬化させることによって透光性樹脂薄膜７を得る。

このようにしてガラス板１の一方の面５上に0.1μｍ未
満の表面粗さを有する透光性樹脂薄膜７を被覆形成する
が、同様の手順によってガラス板１の他方の面６上にも
同様の透光性樹脂薄膜７を被覆形成し、第８図に示す状
態とすることができる。

その後ガラス板１の記録再生面６の透光性樹脂薄膜７上
に、記録再生用凹凸部８が転写された透光性樹脂膜９を
被覆形成する。すなわち第９図に示すように、前記ガラ
ス板１の記録再生面６をスペーサ15を介してスタンパー
型16に対峙させ、両者の空間に光硬化性樹脂9aを充填さ
せた状態で、紫外線17を照射する。尚、スペーサ15を省
略して前記透光性樹脂膜９を被覆形成することも可能で
ある。これにより光硬化性樹脂9aは前記透光性樹脂薄膜
７に結合されると共に、スタンパー型16の凹凸形状が表
面に転写される結果、第１図及び第２図に示すように、
記録再生用凹凸部８を備えた透光性樹脂膜９が被覆形成
される。尚、前記光硬化性樹脂9aとしては、透光性樹脂
薄膜７に用いた樹脂と同種類のものを用いると結合強化
の上で好適である。又上記のスタンパー型16を用いたフ
ォトポリマー法は、特開昭59−98330号公報、特開昭59
−123617号公報などに例示されるように広く知られた方
法であるので、詳細な説明は省略する。

上記第１実施例では、透光性樹脂性薄膜７の被覆形成に
際して、紫外線による１次硬化、加熱による２次硬化を
行ったが、光硬化性の液状樹脂を用いて光硬化のみを行
ったり、熱硬化性の液状樹脂を用いて熱硬化のみを行っ
たりして透光性樹脂薄膜７を被覆形成してもよい。又前
記透光性樹脂薄膜７の被覆形成に際し、その液状樹脂7a
を浸漬法（第４図参照）でコーティングして、第10図に
示すような透光性樹脂薄膜７を被覆形成してもよく、こ
の場合には第11図に示すようなディスク基板Ｂを得るこ
とができる。

第12図は本発明の第２実施例に係るディスク基板Ｃを示
している。

このディスク基板Ｃはガラス板１の光入射面５を第１実
施例と同様の構造、すなわちカップリング膜３と透光性
樹脂薄膜７とを有する２層構造としているが、その記録
再生面６を第１実施例と異なり、カップリング膜３上に
記録再生用凹凸部８が転写された透光性樹脂膜９が直接
被覆形成された構造としている。

従ってその製造方法も第１実施例とは若干異なってい
る。すなわち、第１実施例と同様の方法でガラス板１の
両面５、６にカップリング膜３を膜形成した後、ガラス
板１の光入射面５にのみ、光硬化性又は／及び熱硬化性
の液状樹脂7aをスピン法によってコーティングし、次い
で紫外線照射又は／及び加熱を行って前記液状樹脂7aを
硬化させて透光性樹脂薄膜７を被覆形成している（第３
図〜第７図参照。）。この場合、ガラス板１の記録再生
面６には、前記透光性樹脂薄膜７は被覆されない。

前記透光性樹脂薄膜７の被覆形成と相前後して、ガラス
板１の記録再生面６には、スタンパー型16を用いたフォ
トポリマー法によって、記録再生用凹凸部８が転写され
た透光性樹脂膜９を被覆形成しており、この結果第12図
に示すディスク基板Ｃを得ることができる（第９図参
照）。このように第２実施例は、前記透光性樹脂膜９を
前記カップリング膜３上に直接被覆形成することを特徴
としている。

発明の効果 本発明によれば、従来の精密研磨仕上げを必要とするガ
ラス板製のディスク基板に比較し、その製造コストが格
段に低廉となる、ガラス板を主材料とする記録再生用の
ディスク基板とその製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例に係るディスク基板を示す
斜視図、第２図はその要部の断面図、第３図、第４図、
第５図、第６図及び第７図はその製造方法を示す概略断
面図、第８図は中間製品の要部を示す断面図、第９図は
その製造方法を示す概略断面図、第10図は第１実施例の
変形例における中間製品の要部を示す断面図、第11図は
その完成品の要部を示す断面図、第12図は本発明の第２
実施例に係るディスク基板の要部を示す断面図である。 １……ガラス板 ３……カップリング膜 ５……ガラス板の一方の面（光入射面） ６……ガラス板の他方の面（記録再生面） ７……透光性樹脂薄膜 ８……記録再生用凹凸部 ９……透光性樹脂膜。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ガラス板の一方の面に、0.1μｍ未満の表
   面粗さを有する透光性樹脂薄膜が被覆され、他方の面に
   記録再生用凹凸部が転写された透光性樹脂膜が被覆され
   ている記録再生用のディスク基板。
2. 【請求項２】ガラス板の両面にカップリング膜を膜形成
   した後、ガラス板の一方の面に光硬化性又は／及び熱硬
   化性の液状樹脂をスピン法によってコーティングし、次
   いで紫外線照射又は／及び加熱を行って前記液状樹脂を
   硬化させて0.1μｍ未満の表面粗さを有する透光性樹脂
   薄膜を被覆形成し、これに相前後してガラス板の他方の
   面に、スタンパー型を用いたフォトポリマー法によっ
   て、記録再生用凹凸部が転写された透光性樹脂膜を被覆
   形成することを特徴とする記録再生用のディスク基板の
   製造方法。