JPH01276442A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
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- JPH01276442A JPH01276442A JP63103780A JP10378088A JPH01276442A JP H01276442 A JPH01276442 A JP H01276442A JP 63103780 A JP63103780 A JP 63103780A JP 10378088 A JP10378088 A JP 10378088A JP H01276442 A JPH01276442 A JP H01276442A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野］
本発明は、情報の記録・再生または消去を行うことがで
きる光情報記録媒体に関する。 〔従来の技術］ 情報、光情報記録媒体として、コンパクトディスクや光
磁気ディスク等が知られている。それらは、面積記録密
度が磁気ディスクやＶＴＲに比べて１桁以上大きく、ま
た、光を使うことにより、ヘッドとの直接的接触なしで
、情報の記録・再生または消去ができる。このことから
、コンピューターの処理能力の拡大等、利用範囲は増々
広がる傾向にある。 それらの光情報記録ディスクは、色素等を用いた記録膜
に情報をビットとして記録したり、あるいは希土類や遷
移金属層のアモルファス合金を用いた記録膜の磁化方向
を変え記録・再生または消去を行なうものである。 ディスクの構造は、第３図に示すように、情報がビット
として記録されたり、半導体レーザーのビームスポット
を案内する案内溝が設けられたりしたプラスチックやガ
ラスの基板上に、光反射膜としてのアルミニウムの蒸着
膜もしくは光エネルギーから得た熱によって孔があく金
属層や有機物の蒸着膜、または磁性体の蒸着膜が設けら
れ、さらにそれらの薄膜をＵＶ硬化樹脂や接着剤の塗布
膜で覆ったものとなっている。 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、光情報記録ディスクは記録感度を上げる
ために、プラスチックやガラス基板のほぼ全面が情報記
録領域となっているために次のような欠点があった。 １）長期使用による振動や温・湿度変化によって、基板
とＵＶ硬化樹脂あるいは接着剤との密着性が悪くなり、
その結果、微細なすき間が発生し、水分や空気が侵入す
る。反射膜あるいは記録膜は、ディスクの内・外周、特
に最外周端部から数ｍｍの位置にあるので、侵入した水
分等によって、それらの膜が腐食して、結果的に記録さ
れた情報が損なわれるという問題があった。 ２）射出成形により、基板を作る場合、その成・形にお
いてスタンバから基板を離型する際、基板の収縮速度が
スタンバのそれよりほぼ１桁大きいため、基板がスタン
バに張り付いた状態のまま基板が収縮し、基板のビット
や案内溝が破損することがある。これが半導体レーザー
光を照射したときの反射光量を乱したり、小さくしたり
するという問題があった。 〔課題を解決するための手段〕 本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので
、基板上に、光を利用して情報の記録、再生または消去
が行われる層を具備する光情報記録媒体において、該基
板の情報記録領域以外の領域に凹凸パターンを形成した
ことを特徴とする媒体である。 本発明では、基板の情報領域外の領域に凹凸パターンが
存在し、この上にＵＶ硬化樹脂、接着層等の保護膜層が
設けられることにより、基板とＵＶ硬化樹脂、接着層等
の保護膜層との密着力を高める。その結果、記録、再生
または消去が光を利用して行われる層（記録膜）や反射
膜等の腐食を防止することができる。それと共に、射出
成形でプラスチック基板を作製する場合にも、情報記録
領域以外の領域に凹凸パターンがあることにより基板を
離型する際、その凹凸パターンがアンカー効果を示し、
基板の収縮速度を抑制するため、凹凸パターンは破損し
ても情報記録領域のビットや案内溝の破損が防止できる
。 本発明において、基板の情報領域以外に設ける凹凸パタ
ーンのパターン幅は０．５〜２ｍｍの同心円状にあるの
が好ましい。そして、その中に同心円またはスパイラル
状の連続あるいは断続の断面が矩形状、幅が０．４〜１
μｍ１深さ０．１〜１０牌、ピッチ１．５〜２μの凹凸
パターンがあることが好ましく、あるいは目荒しされた
状態にあることが好ましい。 上記のような凹凸パターンの形成には次のような方法が
利用できる。 （ａ）フォトリソ技術を利用することによって、予めス
タンバ−に凹凸を形成し、その凹凸を成形基板に転写す
る方法、 （ｂ）ガラス板あるいはスタンバ−の、基板の情報領域
以外の領域に相当する位置に、エツチング、刻印等によ
り予め凹凸パターンを設けて、それを成形基板に転写す
る方法、 （Ｃ）ガラス板あるいはスタンバ−の、基板の情報領域
以外の領域に相当する位置に、ホーニング処理あるいは
砥石、刃物での目あらいを施し、その凹凸を成形基板に
転写する方法、 次に、第１図（ａ） 、（ｂ）と第２図（ａ） 、（ｂ
）とにそれぞれ本発明の一実施例を示す。 各々は、基板１上に、記録膜または反射膜３が設けられ
、更にその上にＵＶ硬化樹脂層または接着剤層４が形成
された光情報記録ディスクであり、第１図の例では、情
報記録領域２以外の領域に連続的な凹凸パターンが形成
されており、−方、第２図の例では、同様な領域に不連
続な凹凸パターンが形成されている。
きる光情報記録媒体に関する。 〔従来の技術］ 情報、光情報記録媒体として、コンパクトディスクや光
磁気ディスク等が知られている。それらは、面積記録密
度が磁気ディスクやＶＴＲに比べて１桁以上大きく、ま
た、光を使うことにより、ヘッドとの直接的接触なしで
、情報の記録・再生または消去ができる。このことから
、コンピューターの処理能力の拡大等、利用範囲は増々
広がる傾向にある。 それらの光情報記録ディスクは、色素等を用いた記録膜
に情報をビットとして記録したり、あるいは希土類や遷
移金属層のアモルファス合金を用いた記録膜の磁化方向
を変え記録・再生または消去を行なうものである。 ディスクの構造は、第３図に示すように、情報がビット
として記録されたり、半導体レーザーのビームスポット
を案内する案内溝が設けられたりしたプラスチックやガ
ラスの基板上に、光反射膜としてのアルミニウムの蒸着
膜もしくは光エネルギーから得た熱によって孔があく金
属層や有機物の蒸着膜、または磁性体の蒸着膜が設けら
れ、さらにそれらの薄膜をＵＶ硬化樹脂や接着剤の塗布
膜で覆ったものとなっている。 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、光情報記録ディスクは記録感度を上げる
ために、プラスチックやガラス基板のほぼ全面が情報記
録領域となっているために次のような欠点があった。 １）長期使用による振動や温・湿度変化によって、基板
とＵＶ硬化樹脂あるいは接着剤との密着性が悪くなり、
その結果、微細なすき間が発生し、水分や空気が侵入す
る。反射膜あるいは記録膜は、ディスクの内・外周、特
に最外周端部から数ｍｍの位置にあるので、侵入した水
分等によって、それらの膜が腐食して、結果的に記録さ
れた情報が損なわれるという問題があった。 ２）射出成形により、基板を作る場合、その成・形にお
いてスタンバから基板を離型する際、基板の収縮速度が
スタンバのそれよりほぼ１桁大きいため、基板がスタン
バに張り付いた状態のまま基板が収縮し、基板のビット
や案内溝が破損することがある。これが半導体レーザー
光を照射したときの反射光量を乱したり、小さくしたり
するという問題があった。 〔課題を解決するための手段〕 本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので
、基板上に、光を利用して情報の記録、再生または消去
が行われる層を具備する光情報記録媒体において、該基
板の情報記録領域以外の領域に凹凸パターンを形成した
ことを特徴とする媒体である。 本発明では、基板の情報領域外の領域に凹凸パターンが
存在し、この上にＵＶ硬化樹脂、接着層等の保護膜層が
設けられることにより、基板とＵＶ硬化樹脂、接着層等
の保護膜層との密着力を高める。その結果、記録、再生
または消去が光を利用して行われる層（記録膜）や反射
膜等の腐食を防止することができる。それと共に、射出
成形でプラスチック基板を作製する場合にも、情報記録
領域以外の領域に凹凸パターンがあることにより基板を
離型する際、その凹凸パターンがアンカー効果を示し、
基板の収縮速度を抑制するため、凹凸パターンは破損し
ても情報記録領域のビットや案内溝の破損が防止できる
。 本発明において、基板の情報領域以外に設ける凹凸パタ
ーンのパターン幅は０．５〜２ｍｍの同心円状にあるの
が好ましい。そして、その中に同心円またはスパイラル
状の連続あるいは断続の断面が矩形状、幅が０．４〜１
μｍ１深さ０．１〜１０牌、ピッチ１．５〜２μの凹凸
パターンがあることが好ましく、あるいは目荒しされた
状態にあることが好ましい。 上記のような凹凸パターンの形成には次のような方法が
利用できる。 （ａ）フォトリソ技術を利用することによって、予めス
タンバ−に凹凸を形成し、その凹凸を成形基板に転写す
る方法、 （ｂ）ガラス板あるいはスタンバ−の、基板の情報領域
以外の領域に相当する位置に、エツチング、刻印等によ
り予め凹凸パターンを設けて、それを成形基板に転写す
る方法、 （Ｃ）ガラス板あるいはスタンバ−の、基板の情報領域
以外の領域に相当する位置に、ホーニング処理あるいは
砥石、刃物での目あらいを施し、その凹凸を成形基板に
転写する方法、 次に、第１図（ａ） 、（ｂ）と第２図（ａ） 、（ｂ
）とにそれぞれ本発明の一実施例を示す。 各々は、基板１上に、記録膜または反射膜３が設けられ
、更にその上にＵＶ硬化樹脂層または接着剤層４が形成
された光情報記録ディスクであり、第１図の例では、情
報記録領域２以外の領域に連続的な凹凸パターンが形成
されており、−方、第２図の例では、同様な領域に不連
続な凹凸パターンが形成されている。
実施例１
高精度研磨仕上げを施したガラス板にスピンコードによ
り、ポジ型レジスト（商品名：Ａｚ１３５０ ヘキスト
社製）を１０００〜２０００人の厚さに塗布した。これ
をクリーンオーブンにて、９ｏ±５℃、３０〜６ｏ分ベ
ーク処理を行い、未露光原盤を作製した。次に、情報信
号パルス発生器に接続したアルゴンレーザーカッティン
グマシンによって、この原盤の情報記録領域を露光した
。続いて、情報領域以外の領域にアルゴンレーザービー
ムな連続に照射し、その範囲でピッチ１．６牌、断面が
ほぼ矩形のスパイラル溝になるように露光した。次に、
露光済み原盤を現像液（商品名：ＡＺデベロッパー、ヘ
キスト社製）に３０〜６０秒揺動しながら、浸漬してビ
ットやスパイラル溝のある原盤を作製した。更に、この
上に蒸着によってＮｉを１０００〜２００ＯＡ堆積させ
て、所定の電鋳工程を経てスタンパ−を作製した。 次に、射出成形により、そのスタンパから外形、φ１３
０ｍｍのポリカーボネート基板を得た。 そのポリカーボネート基板に蒸着により Ａｔを１００
０〜２０００Ａ堆積させ、次にスピンコードによりＵＶ
硬化樹脂を２０〜１００μｍ塗布し、１００〜２００Ｗ
（７）ＵＶランプで３０〜６０秒間照射して光情報記録
ディスクを得た。 比較例１ 情報領域以外の領域に凹凸パターンを形成しない以外は
実施例１と同様な光情報記録ディスクを得た。 （評価） 実施例１および比較例１で得た光情報記録ディスクを各
々３枚、温度６０℃、湿度９０％雰囲気中に２４０時間
慕露した結果および射出成形時のビットの破損を顕微鏡
で観測した結果を示す。 実施例２ スタンパ−原盤作製に際して、情報領域以外の凹凸パタ
ーン形成を、アルゴンレーザービームな連続的に照射し
てなす代わりに、レーザービーム光学系の調整によって
、アルゴンレーザービームな断続的に露光して、実施し
た以外は実施例１と同様な方法により、第２図に示した
ような凹凸パターンをもった光情報記録ディスクを作製
した。 （評価） 実施例１と同様に実施例２で得た光情報ディスク３枚を
比較例１と比べた時、６０℃、９０％、２４０時間では
３枚とも変化がなく、またビットの破損を見られなかっ
た。 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したように、光情報記録媒体において、
基板の情報領域以外の領域に連続あるいは不連続な凹凸
パターンを形成することにより、基板とＵＶ樹脂、接着
剤等との密着性が良好となり、微細なすき間の発生がな
くなることから、反対膜、記録膜等の腐食を防止できる
。また、かかる凹凸パターンの形成によって、射出成形
で作製されるプラスチック基板のビットや案内溝の破損
も実質的になくすことができる。
り、ポジ型レジスト（商品名：Ａｚ１３５０ ヘキスト
社製）を１０００〜２０００人の厚さに塗布した。これ
をクリーンオーブンにて、９ｏ±５℃、３０〜６ｏ分ベ
ーク処理を行い、未露光原盤を作製した。次に、情報信
号パルス発生器に接続したアルゴンレーザーカッティン
グマシンによって、この原盤の情報記録領域を露光した
。続いて、情報領域以外の領域にアルゴンレーザービー
ムな連続に照射し、その範囲でピッチ１．６牌、断面が
ほぼ矩形のスパイラル溝になるように露光した。次に、
露光済み原盤を現像液（商品名：ＡＺデベロッパー、ヘ
キスト社製）に３０〜６０秒揺動しながら、浸漬してビ
ットやスパイラル溝のある原盤を作製した。更に、この
上に蒸着によってＮｉを１０００〜２００ＯＡ堆積させ
て、所定の電鋳工程を経てスタンパ−を作製した。 次に、射出成形により、そのスタンパから外形、φ１３
０ｍｍのポリカーボネート基板を得た。 そのポリカーボネート基板に蒸着により Ａｔを１００
０〜２０００Ａ堆積させ、次にスピンコードによりＵＶ
硬化樹脂を２０〜１００μｍ塗布し、１００〜２００Ｗ
（７）ＵＶランプで３０〜６０秒間照射して光情報記録
ディスクを得た。 比較例１ 情報領域以外の領域に凹凸パターンを形成しない以外は
実施例１と同様な光情報記録ディスクを得た。 （評価） 実施例１および比較例１で得た光情報記録ディスクを各
々３枚、温度６０℃、湿度９０％雰囲気中に２４０時間
慕露した結果および射出成形時のビットの破損を顕微鏡
で観測した結果を示す。 実施例２ スタンパ−原盤作製に際して、情報領域以外の凹凸パタ
ーン形成を、アルゴンレーザービームな連続的に照射し
てなす代わりに、レーザービーム光学系の調整によって
、アルゴンレーザービームな断続的に露光して、実施し
た以外は実施例１と同様な方法により、第２図に示した
ような凹凸パターンをもった光情報記録ディスクを作製
した。 （評価） 実施例１と同様に実施例２で得た光情報ディスク３枚を
比較例１と比べた時、６０℃、９０％、２４０時間では
３枚とも変化がなく、またビットの破損を見られなかっ
た。 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したように、光情報記録媒体において、
基板の情報領域以外の領域に連続あるいは不連続な凹凸
パターンを形成することにより、基板とＵＶ樹脂、接着
剤等との密着性が良好となり、微細なすき間の発生がな
くなることから、反対膜、記録膜等の腐食を防止できる
。また、かかる凹凸パターンの形成によって、射出成形
で作製されるプラスチック基板のビットや案内溝の破損
も実質的になくすことができる。
第１図（ａ）は、基板の情報記録領域の内、外周に連続
的な凹凸パターンをもつ、本発明の光情報記録媒体の一
例の平面図、第１図（ｂ）はそのＡ−Ａ°断面図、第２
図（ａ）は、基板の情報記録領域の内、外周に不連続的
な凹凸パターンをもつ、本発明の光情報記録媒体の一例
の平面図、第２図（ｂ）はそのＢ−Ｂ’断面図、第３図
は従来方法による光情報記録媒体の一例の断面図である
。 １：基板 ２：情報記録領域 ３：反射膜または記録膜 ４：ＵＶ硬化樹脂または接着剤層 ５：光情報記録ディスクの中心 ６：外周の連続凹凸パターン ７：内周の連続凹凸パターン ８：外周の不連続凹凸パターン ９：内周の不連続凹凸パターン
的な凹凸パターンをもつ、本発明の光情報記録媒体の一
例の平面図、第１図（ｂ）はそのＡ−Ａ°断面図、第２
図（ａ）は、基板の情報記録領域の内、外周に不連続的
な凹凸パターンをもつ、本発明の光情報記録媒体の一例
の平面図、第２図（ｂ）はそのＢ−Ｂ’断面図、第３図
は従来方法による光情報記録媒体の一例の断面図である
。 １：基板 ２：情報記録領域 ３：反射膜または記録膜 ４：ＵＶ硬化樹脂または接着剤層 ５：光情報記録ディスクの中心 ６：外周の連続凹凸パターン ７：内周の連続凹凸パターン ８：外周の不連続凹凸パターン ９：内周の不連続凹凸パターン
Claims (1)
- １）基板上に、情報の記録、再生または消去が光を利用
して行われる層を具備する光情報記録媒体において、該
基板の情報記録領域以外の領域に凹凸パターンが形成さ
れていることを特徴とする光情報記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63103780A JPH01276442A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63103780A JPH01276442A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01276442A true JPH01276442A (ja) | 1989-11-07 |
Family
ID=14362932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63103780A Pending JPH01276442A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01276442A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346142A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | Ricoh Co Ltd | 光磁気ディスク |
| JPH0414648A (ja) * | 1990-05-08 | 1992-01-20 | Sharp Corp | 光磁気ディスク及びその製造方法 |
| JPH05205320A (ja) * | 1992-01-28 | 1993-08-13 | Victor Co Of Japan Ltd | ディスク製造方法及びディスク |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP63103780A patent/JPH01276442A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346142A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-27 | Ricoh Co Ltd | 光磁気ディスク |
| JPH0414648A (ja) * | 1990-05-08 | 1992-01-20 | Sharp Corp | 光磁気ディスク及びその製造方法 |
| JPH05205320A (ja) * | 1992-01-28 | 1993-08-13 | Victor Co Of Japan Ltd | ディスク製造方法及びディスク |
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