JPH03187018A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は記憶装置等に用いられる磁気記録媒体及びその
製造方法並びにその製造に用いるスタンパ−の製造方法
に関する。

〔従来の技術〕

従来の磁気記録媒体、例えば磁気ディスクは、厚さ約２
■のアルミ基板の上に、磁気記録膜をスピン塗布、スパ
ッタリング等の方法で形成して作製していた。磁気記録
膜は垂直磁気異方性の大きい膜あるいは面内磁気異方性
を大きくした膜のいずれかであり、磁気記録媒体に記録
を行なうと。

垂直磁気異方性の大きい膜では垂直磁区が、面内磁気異
方性の大きい膜では面内方向の磁区が形成される。

しかし、この方式は記録密度の点からみると最良の方式
とはいえない、そのため特開昭５９−８１７２に記載の
ように、磁気記録層の上に設けられて反射率の変化をも
たらすサーボパターンを記録したサーボトラック層を有
する磁気ディスクが提案されている。この磁気ディスク
によれば、データ記録用の領域の一部をサーボ情報の記
録のために割く必要はないので、トラック密度が高く、
また、磁気ヘッドの位置決めを制御するのに適している
。

なお、磁気記録膜に関連する技術は５面内磁区記録膜の
例として特公昭５４−３３５２３．垂直磁区記録膜の例
として特公昭５７−１７２８２等がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記特開昭５９−８１７２に記載の技術は、サーボトラ
ックとして、例えば、磁気トラックを横切って左右に波
打つ連続溝や、磁気トラックの左右に設けられた連続穴
を有する磁気記録媒体に関するものである。このような
溝や穴を高精度で形成するには複雑な工程が必要である
という問題があった。

本発明の目的は、光学的なサーボトラックを容易に形成
できる磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。

本発明の他の目的は、容易に形成することのできる光学
的なサーボトラック（案内溝）を有する磁気記録媒体を
提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、光学的なサーボトラックを
有する磁気記録媒体を製造するためのスタンパ−を容易
に製造することのできるスタンパ−の製造方法を提供す
ることにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、（１）基板上に磁気記録膜を形成し、該磁
気記録膜上に直接又は所望の層を介してフォトレジスト
膜を形成し、開口部を有するマスクを配置し、該マスク
又は該基板を回転させながら該マスクを介して該フォト
レジスト膜を照射し。

現像して同心円状の凹凸のパターンを形成し、該パター
ンをマスクにして該磁気記録膜又は所望の層をエツチン
グして磁気ヘッドの案内溝を形成することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法により、（２）第１の基板上に
フォトレジスト膜を形成し、開口部を有するマスクを配
置し、該マスク又は該第１の基板を回転させながら該マ
スクを介して該フォトレジスト膜を照射し、現像して同
心円状の凹凸のパターンを形成して母型とする工程、該
母型の該パターン上に紫外線硬化樹脂層を設け、該紫外
線硬化樹脂層上に第２の基板を配置し、紫外線を照射し
て該紫外線硬化樹脂層を硬化し、該パターンを転写し、
母型から剥離してスタンパ−とする工程及び該スタンパ
−の該パターン上に第２の紫外線硬化樹脂層を設け、該
第２の紫外線硬化樹脂層上に磁気記録膜を有する第３の
基板を配置し、紫外線を照射して該第２の紫外線硬化樹
脂層を硬化し、該パターンが転写された案内溝を有する
磁気記録媒体とする工程を含むことを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法により、（３）上記第２の紫外線硬化
樹脂層の上記パターン上に光反射層を設け、上記磁気記
録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置決めを制御する
ために、該磁気記録媒体に照射する光が該案内溝の凹部
と凸部とにおいて反射する反射光の光路差が、眩光の波
長の２分の１又はこの値に該波長の整数倍を加えた値と
なるように、上記第１の基板上に形成される上記フォト
レジスト膜の厚みを制御することを特徴とする上記２記
載の磁気記録媒体の製造方法により、（４）上記磁気記
録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置決めを制御する
ために、該磁気記録媒体に照射する光が上記第２の紫外
線硬化樹脂層の凹部と凸部とをそれぞれ通過し、上記磁
気記録膜で反射する反射光の光路差が眩光の波長の２分
の１又はこの値に該波長の整数倍を加えた値となるよう
に、上記第１の基板上に形成される上記フォトレジスト
膜の厚みを制御することを特徴とする上記２記載の磁気
記録媒体の製造方法により、（５）第１の基板上にフォ
トレジスト膜を形成し、開口部を有するマスクを配置し
、該マスク又は該第１の基板を回転させながら該マスク
を介して該フォトレジスト膜を照射し、現像して同心円
状の凹凸のパターンを形成して母型とする工程、該母型
の該パターン上に紫外線硬化樹脂層を設け、該紫外線硬
化樹脂層上に第２の基板を配置し、紫外線を照射して該
紫外線硬化樹脂層を硬化し、該パターンを転写し、母型
から剥離してスタンパーとする工程、該スタンパーの該
パターン上に第２の紫外線硬化樹脂層を設け、該紫外線
硬化樹脂上に基板の芯材を配置し、紫外線を照射して該
紫外線硬化樹脂を硬化し、該パターンが転写された第３
の基板とする工程及び該第３の基板上に磁気記録膜を形
成し、案内溝を有する磁気記録媒体とする工程を含むこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法により、（６）
上記磁気記録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置決め
を制御するために、該磁気記録媒体に照射する光が該案
内溝の凹部と凸部とにおいて反射する反射光の光路差が
、眩光の波長の２分の１又はこの値に該波長の整数倍を
加えた値となるように、上記第１の基板上に形成される
上記フォトレジスト膜の厚みを制御することを特徴とす
る上記５記載の磁気記録媒体の製造方法により、（７）
第１の基板上にフォトレジスト膜を形成し、開口部を有
するマスクを配置し、該マスク又は該第１の基板を回転
させながら該マスクを介して該フォトレジスト膜を照射
し、現像して同心円状め凹凸のパターンを形成して母型
とする工程、該母型の該パターン上に金属層を形成し、
該パターンを転写し、母型から剥離してスタンパーとす
る工程、第２の基板を準備し、該第２の基板上に熱可塑
性樹脂層を設け、該スタンパ−を該熱可塑性樹脂層に押
し付け、上記パターンを有する基板とする工程及び上記
パターンを有する基板上に磁気記録膜を設け、該磁気記
録膜上に案内溝を有する磁気記録媒体とする工程を含む
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法により、（８
）上記磁気記録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置決
めを制御するために、該磁気記録媒体に照射する光が該
案内溝の凹部と凸部とにおいて反射する反射光の光路差
が、眩光の波長の２分の１又はこの値に該波長の整数倍
を加えた値となるように。

上記第１の基板上に形成される上記フォトレジスト膜の
厚みを制御することを特徴とする上記７記載の磁気記録
媒体の製造方法により達成される。

上記他の目的は、（９）磁気記録媒体上に配置される磁
気ヘッドの位置決めを制御するために。

該磁気記録媒体に照射する光の案内溝を、基板上の磁気
記録膜又は該磁気記録膜上の所望の層に設けた磁気記録
媒体において、該案内溝は、同心円状であり、上記光が
該案内溝の凹部と凸部とにおいて反射する反射光の光路
差が、眩光の波長の２分の１又はこの値に該波長の整数
倍を加えた値となるように、該案内溝の凹部と凸部との
深さを定めたことを特徴とする磁気記録媒体により、（
１０）磁気記録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置決
めを制御するために、該磁気記録媒体に照射する光の案
内溝を、基板上の磁気記録膜の上の所望の層に設けた磁
気記録媒体において、該案内溝は、同心円状であり、上
記所望の層は透明であり、上記所望の層の凹部と凸部と
をそれぞれ通過し、上記磁気記録膜で反射する反射光の
光路差が、眩光の波長の２分の１又はこの値に該波長の
整数倍を加えた値となるように、該案内溝の凹部と凸部
との深さを定めたことを特徴とする磁気記録媒体により
、（１１）基板の両面に、上記案内溝をそれぞれ配置し
た上記９又は１０記載の磁気記録媒体により達成される
。

上記さらに他の目的は、（１２）第１の基板上にフォト
レジスト膜を形成し、開口部を有するマスクを配置し、
該マスク又は該第１の基板を回転させながら該マスクを
介して該フォトレジスト膜を照射し、現像して同心円状
の凹凸のパターンを形成して母型とする工程及び該母型
の該パターン上に紫外線硬化樹脂層を設け、該紫外線硬
化樹脂層上に第２の基板を配置し、紫外線を照射して該
紫外線硬化樹脂層を硬化し、該パターンを転写し。

母型から剥離してスタンパ−とする工程を有することを
特徴とするスタンパ−の製造方法により。

（１３）第１の基板上にフォトレジスト膜を形成し、開
口部を有するマスクを配置し、該マスク又は該第１の基
板を回転させながら該マスクを介して該フォトレジスト
膜を照射し、現像して同心円状の凹凸のパターンを形成
して母型とする工程及び該母型の該パターン上に金属層
を形成し、該パターンを転写し、母型から剥離してスタ
ンパ−とする工程を有することを特徴とするスタンパ−
の製造方法により達成される。

〔作　　用〕

磁気記録媒体表面に凹凸形状を有することにより、磁気
情報記録再生検出手段を、高密度に形成された情報トラ
ックに正確に追従させることができる。すなわち、凹凸
形状より光が反射され、その反射光をモニターすること
で磁気情報記録再生検出手段と案内溝との相対的位置関
係を、容易に知ることができる。

また、同心円状の案内溝は、開口部を有するマスクを用
い、マスク又は基板を回転させることで容易に製造する
ことができる。

さらにまた、案内溝の凹凸の深さを、凹部と凸部のそれ
ぞれの表面からの反射光の光路差が、光の波長の２分の
１又はその値に光の波長の整数倍を加えた値となるよう
に定めることにより、位置検出のＳ／Ｎ比を上げ、高密
度記録に適した磁気記録媒体を構成することができる。

なお、案内溝の凹部と凸部をそれぞれ通過した光が、そ
の下の層によって反射する反射光の光路差を上記と同様
となるように凹凸の深さを定めても同様の作用がある。

〔実施例〕 以下１本発明の実施例を図を用いて説明する。

実施例　１ ここではディスク状の基板形態を例にとり説明する。第
１図は本発明の磁気ディスクの断面模式図である。本デ
ィスクは次のようにして作製した。

厚さ２ｍのアルミ基板１の上にＣｏＣｒからなる磁気記
録膜２をスパッタリングにより厚さ３００ｎｍ付着させ
、その上にフォトレジスト（図示せず）を１１０００ｒ
ｐで回転塗布し、厚さ５００ｎｍの塗膜とした。この後
、第２図に示すような開口部２２を有するマスク２１を
基板１の上部に配置し、マスク２１を回転させなからさ
きのフォトレジストの塗膜を露光し、ついで現像すると
、案内溝３に相当する領域のフォトレジストが除去され
、磁気記録膜２が露出される。この露出された磁気記録
膜２をイオンミリングでエツチングすると第１図に示し
た案内溝３を有する磁気記録媒体４を形成することがで
きた。

なお、マスク２１には丸い開口部２２が複数個配置され
ており、この開口部２２の大きさは、案内溝３の大きさ
とほぼ同じサイズの２μｍにしである。第３図はこの開
口部の配列を、前後にわずかずらし隣りあわせの開口部
の重なりをなくし、その配列ピッチを小さくできるマス
クの例である。

また、露光は、マスクを回転しても、基板を回転しても
よい。さらにまた、露光時に照射光の光路中に光を集光
する部材を配置し、フォトレジストの位置に結像するよ
うにすれば、より高精度の案内溝を形成できる。なおま
たマスクの開口を１個とし、基板を回転させて１個の円
のパターンの潜像を形成し、ついでマスクを半径方向に
移動して次のパターンの潜像を形成する方法によっても
同心円のパターンを形成できる。

本実施例のように磁気記録膜自体に凹凸形状が存在する
ことで、この部分に書き込まれた情報からの漏洩磁束が
多くなり、情報検知が非常に容易となる。

なお、説明の便宜上省略したが、基板上には磁気記録膜
の下には下地膜が、磁気記録膜の上には保護膜が形成さ
れている。これは以下の実施例においても同じである。

実施例　２ 第４図（ａ）は本発明の第２の実施例を示す図である。

基板１の上に磁気記録膜２を第１の実施例同様に形成し
、最後に磁気ヘッド案内溝を透明な紫外線硬化樹脂３４
′で形成している。この樹脂表面に凹凸形状を形成し、
その深さは反射光の光路差が２分のｌとなるように設定
しである。

凹凸形状の形成はスタンパを用いて行なう。光ディスク
においては、スタンパを製造するのに非常に精密な装置
からなるカッティングマシーンが必要であるが、ここで
は簡単に作る方法を述べる。

すなわち、実施例１で述べた手法を応用するものであり
、スタンパの元となる母型３１を構成する厚さ約１０−
のガラス基板３２の上にフォトレジスト３３を塗布し、
先の実施例同様に開口を有するマスクを回転させなから
露光、現像するとガラス基板３２上にフォトレジスト３
３の凹凸形状が形成される（第４図（ｂ））、これを母
型として光ディスクでいうスタンパを形成する。

つぎに第４図（ｃ）に示すように、母型３１に紫外線硬
化樹脂３４をのせ、ガラス基板３２′をこれに押し付け
、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂３４を硬化させてパ
ターンを転写し、いわゆるフォトポリメリゼーション法
でスタンパ３５を作ることができる。こうしてできたス
タンパ３５をもとに、これに磁気記録膜２を有する基板
１を用いて同じく紫外線硬化樹脂３４′を使用し、フォ
トポリメリゼーション法でパターンを転写すると、基板
表面に透明な樹脂からなる凹凸形状を形成することがで
きる（第４図（ｄ））。

ここで光路差について第５図を用いて説明する。

第５図（ａ）は最上層にさらに反射膜５１を設けた例で
ある。凸部分からの反射光Ａと凹部分からの反射光Ｂと
には、その波長の２分の１あるいはさらに波長の整数倍
を加えた光路差ができるように、凹凸の深さが設定しで
ある。使用する光の波長が８３０ｎｍの場合、４１５ｎ
ｍの光路差ができるように、凹凸の深さｄ＝４１５／２
　（ｎｍ）にしである、また、第５図（ｂ）は磁気記録
膜２の表面で光が反射する構成をとる例であり、凸部分
を通過して磁気記録膜２から反射した光Ａと、凹部分を
通過し磁気記録膜２から反射した光Ｂとには、その波長
の２分の１あるいはさらに波長の整数倍を加えた光路差
ができるように、凹凸の深さが設定しである。この時の
凹凸深さｄ＝４１５／２ｎ（ｎｍ）であり、ｎは紫外線
硬化樹脂３４′の屈折率である。本実施例においてはｎ
が１．５の紫外線硬化樹脂を用い、凹凸の深さを１４０
ｎｍとした。この高さは、母型作製時のフォトレジスト
の塗膜の厚みを調整することで決定できた。

実施例　３ 第６図は本発明の第３の実施例を示す図であり、凹凸形
状の案内溝３を持ち、しかもその内部に芯材６１を持つ
基板１の上に、磁気記録膜２を第１の実施例同様にスパ
ッタリングにより形成した例である。ここで使用する基
板の凹凸形状及び芯材の形成方法について述べる。

実施例２で述べたようにしてスタンパを作製し、芯材６
１の表裏両表面上に、フォトポリメリゼーション法で前
記凹凸形状を形成することにより、磁気記録媒体基板を
大量生産することができる。

実施例　４ 本実施例では、案内溝の凹凸を簡単に形成する手段につ
いて述べる。ここでは硬い金属スタンパを用いた。金属
スタンパの作製は、実施例２で作製した母型の上にＮｉ
等の金属を真空蒸着し、その上にＮｉメツキ工程で金属
を積層し、母型から剥離すると母型の凹凸形状を忠実に
転写したスタンパが完成する。この方法により作製した
スタンパは不透明である。

まず基板１の表面に熱可塑性樹脂７１を均一にキャステ
ィングにより形成する（第７図（ａ））。

その後、金属スタンパを押し付けると所望の凹凸パター
ンが得られる（第７図（ｂ））、その上に磁気記録膜２
を先の実施例と同様に積層すると、高密度磁気記録媒体
ができあがる（第７図（Ｃ））。

もちろんフォトポリメリゼーション法によってこの凹凸
形状を形成しても何ら問題はない。

以上の実施例説明においては磁気記録膜のみを付着させ
ることを述べたが、実際にはその下に接着性改善のため
に、下地層、また磁気記録膜の上には磁気ヘッドによる
摺動から膜の損傷がないように、保護膜を形成している
。

〔発明の効果〕

本発明によれば、磁気ヘッドの案内溝が予め高密度に形
成されており、ヘッドはこれをガイドとして、情報の記
録・再生をしていくために、記録媒体基板の半径方向の
記録ピッチを小さくでき、情報の大量記録が可能となる
。また、案内溝を容易に高精度で形成することができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例の磁気記録媒体の断面構
造模式図、第２図は本発明で用いる開口部を有するマス
クの模式図、第３図は本発明で用いる他のマスクの模式
図、第４図は本発明の第２の実施例の磁気記録媒体の断
面構造模式図及び製造工程図、第５図は磁気記録媒体か
らの反射光の光路差説明図、第６図は本発明の第３の実
施例の磁気記録媒体の断面構造模式図、第７図は本発明
の第４の実施例の磁気記録媒体の製造工程図である。 １・・・基板 ３・・・案内溝 ２１・・・マスク ３１・・・母型 ３２．３２’・・・ガラス基板 ３３・・・フォトレジスト ３４．３４′・・・紫外線硬化樹脂 ３５・・・スタンパ　　　　５工・・・反射膜６１・・
・芯材　　　　　　７１・・・熱可塑性樹脂２・・・磁
気記録膜 ４・・・磁気記録媒体 ２２・・・開口部

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に磁気記録膜を形成し、該磁気記録膜上に直
   接又は所望の層を介してフォトレジスト膜を形成し、開
   口部を有するマスクを配置し、該マスク又は該基板を回
   転させながら該マスクを介して該フォトレジスト膜を照
   射し、現像して同心円状の凹凸のパターンを形成し、該
   パターンをマスクにして該磁気記録膜又は所望の層をエ
   ッチングして磁気ヘッドの案内溝を形成することを特徴
   とする磁気記録媒体の製造方法。 ２、第１の基板上にフォトレジスト膜を形成し、開口部
   を有するマスクを配置し、該マスク又は該第１の基板を
   回転させながら該マスクを介して該フォトレジスト膜を
   照射し、現像して同心円状の凹凸のパターンを形成して
   母型とする工程、該母型の該パターン上に紫外線硬化樹
   脂層を設け、該紫外線硬化樹脂層上に第２の基板を配置
   し、紫外線を照射して該紫外線硬化樹脂層を硬化し、該
   パターンを転写し、母型から剥離してスタンパーとする
   工程及び該スタンパーの該パターン上に第２の紫外線硬
   化樹脂層を設け、該第２の紫外線硬化樹脂層上に磁気記
   録膜を有する第３の基板を配置し、紫外線を照射して該
   第２の紫外線硬化樹脂層を硬化し、該パターンが転写さ
   れた案内溝を有する磁気記録媒体とする工程を含むこと
   を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ３、上記第２の紫外線硬化樹脂層の上記パターン上に光
   反射層を設け、上記磁気記録媒体上に配置される磁気ヘ
   ッドの位置決めを制御するために、該磁気記録媒体に照
   射する光が該案内溝の凹部と凸部とにおいて反射する反
   射光の光路差が、該光の波長の２分の１又はこの値に該
   波長の整数倍を加えた値となるように、上記第１の基板
   上に形成される上記フォトレジスト膜の厚みを制御する
   ことを特徴とする請求項２記載の磁気記録媒体の製造方
   法。 ４、上記磁気記録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置
   決めを制御するために、該磁気記録媒体に照射する光が
   上記第２の紫外線硬化樹脂層の凹部と凸部とをそれぞれ
   通過し、上記磁気記録膜で反射する反射光の光路差が該
   光の波長の２分の１又はこの値に該波長の整数倍を加え
   た値となるように、上記第１の基板上に形成される上記
   フォトレジスト膜の厚みを制御することを特徴とする請
   求項２記載の磁気記録媒体の製造方法。 ５、第１の基板上にフォトレジスト膜を形成し、開口部
   を有するマスクを配置し、該マスク又は該第１の基板を
   回転させながら該マスクを介して該フォトレジスト膜を
   照射し、現像して同心円状の凹凸のパターンを形成して
   母型とする工程、該母型の該パターン上に紫外線硬化樹
   脂層を設け、該紫外線硬化樹脂層上に第２の基板を配置
   し、紫外線を照射して該紫外線硬化樹脂層を硬化し、該
   パターンを転写し、母型から剥離してスタンパーとする
   工程、該スタンパーの該パターン上に第２の紫外線硬化
   樹脂層を設け、該紫外線硬化樹脂上に基板の芯材を配置
   し、紫外線を照射して該紫外線硬化樹脂を硬化し、該パ
   ターンが転写された第３の基板とする工程及び該第３の
   基板上に磁気記録膜を形成し、案内溝を有する磁気記録
   媒体とする工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の
   製造方法。 ６、上記磁気記録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置
   決めを制御するために、該磁気記録媒体に照射する光が
   該案内溝の凹部と凸部とにおいて反射する反射光の光路
   差が、該光の波長の２分の１又はこの値に該波長の整数
   倍を加えた値となるように、上記第１の基板上に形成さ
   れる上記フォトレジスト膜の厚みを制御することを特徴
   とする請求項５記載の磁気記録媒体の製造方法。 ７、第１の基板上にフォトレジスト膜を形成し、開口部
   を有するマスクを配置し、該マスク又は該第１の基板を
   回転させながら該マスクを介して該フォトレジスト膜を
   照射し、現像して同心円状の凹凸のパターンを形成して
   母型とする工程、該母型の該パターン上に金属層を形成
   し、該パターンを転写し、母型から剥離してスタンパー
   とする工程、第２の基板を準備し、該第２の基板上に熱
   可塑性樹脂層を設け、該スタンパーを該熱可塑性樹脂層
   に押し付け、上記パターンを有する基板とする工程及び
   上記パターンを有する基板上に磁気記録膜を設け、該磁
   気記録膜上に案内溝を有する磁気記録媒体とする工程を
   含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ８、上記磁気記録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置
   決めを制御するために、該磁気記録媒体に照射する光が
   該案内溝の凹部と凸部とにおいて反射する反射光の光路
   差が、該光の波長の２分の１又はこの値に該波長の整数
   倍を加えた値となるように、上記第１の基板上に形成さ
   れる上記フォトレジスト膜の厚みを制御することを特徴
   とする請求項７記載の磁気記録媒体の製造方法。 ９、磁気記録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置決め
   を制御するために、該磁気記録媒体に照射する光の案内
   溝を、基板上の磁気記録膜又は該磁気記録膜上の所望の
   層に設けた磁気記録媒体において、該案内溝は、同心円
   状であり、上記光が該案内溝の凹部と凸部とにおいて反
   射する反射光の光路差が、該光の波長の２分の１又はこ
   の値に該波長の整数倍を加えた値となるように、該案内
   溝の凹部と凸部との深さを定めたことを特徴とする磁気
   記録媒体。 １０、磁気記録媒体上に配置される磁気ヘッドの位置決
   めを制御するために、該磁気記録媒体に照射する光の案
   内溝を、基板上の磁気記録膜の上の所望の層に設けた磁
   気記録媒体において、該案内溝は、同心円状であり、上
   記所望の層は透明であり、上記所望の層の凹部と凸部と
   をそれぞれ通過し、上記磁気記録膜で反射する反射光の
   光路差が、該光の波長の２分の１又はこの値に該波長の
   整数倍を加えた値となるように、該案内溝の凹部と凸部
   との深さを定めたことを特徴とする磁気記録媒体。 １１、基板の両面に、上記案内溝をそれぞれ配置した請
   求項９又は１０記載の磁気記録媒体。 １２、第１の基板上にフォトレジスト膜を形成し、開口
   部を有するマスクを配置し、該マスク又は該第１の基板
   を回転させながら該マスクを介して該フォトレジスト膜
   を照射し、現像して同心円状の凹凸のパターンを形成し
   て母型とする工程及び該母型の該パターン上に紫外線硬
   化樹脂層を設け、該紫外線硬化樹脂層上に第２の基板を
   配置し、紫外線を照射して該紫外線硬化樹脂層を硬化し
   、該パターンを転写し、母型から剥離してスタンパーと
   する工程を有することを特徴とするスタンパーの製造方
   法。 １３、第１の基板上にフォトレジスト膜を形成し、開口
   部を有するマスクを配置し、該マスク又は該第１の基板
   を回転させながら該マスクを介して該フォトレジスト膜
   を照射し、現像して同心円状の凹凸のパターンを形成し
   て母型とする工程及び該母型の該パターン上に金属層を
   形成し、該パターンを転写し、母型から剥離してスタン
   パーとする工程を有することを特徴とするスタンパーの
   製造方法。