JPH0291833A - 光学的記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く喧業上の利用分野〉 本発明は、追加書き込みや消去書き込み等の可能なトラ
ッキングマーク付光学的記録媒体及びその製造方法に関
する。

〈従来技術〉 近年、高度情報化時代に伴い、光学的記録媒体が注目さ
れている。光学的記録には、磁気記録と比較して記録媒
体と再生ヘッドが非接触であり、且つ高密度な記録が可
能であるなどの利点がある。

この光学的記録媒体としては、読み出し専用のもの、追
加書き込み可能なもの、消去再書き込み可能なのが知ら
れており、追加書き込み可能なもの及び消去再書き込み
可能な光学的記録媒体としては追加型光ディスク及び光
磁気ディスクなどが現在、開発、実用化されている。−
船釣な違加型光ディスクは記録層にレーザ光を照射しレ
ーザー光の熱によって、穴を形成させるかバブルを形成
させるか、相変化を起こさせることにより情報を記録さ
せる。そしてこの記録の再生は記録時と同一のレーザ光
源を用い約１／１０程度に照射光量を弱めて記録層に照
射し、反対率の変化あるいは干渉光の変化あるいは屈折
率の変化を再生出力として読み取る。なお、穴（ピット
）を形成する方式の場合、穴の有無が記録状態で再生は
その反射光量の変化を検出することで読み取ることにな
る。また、記録再生時に用いたレーザ光は７８０ｎ＊付
近の発振波長をもった高出力半導体レーザを用いる。そ
して対物レンズとして開口数（ＮＡ）が０．６〜０．９
程度のものを用いることで透明基板を通して記録上で約
１μｍφに絞り込まれる。

このようにレーザスポット径が小さいので、大容量の記
録が可能となるわけであるが、ミクロン単位の記録再生
位置をサブミクロンからコントロールする方法が一方で
問題となる。この位置制御に機械的なサーボ方式採用す
るには、精度的にかなり難しい点が多いため、現在この
高密度記録再生は、プリグループ法と称される方法が採
用されている。この方法は透明基板上にあらかじめレー
ザヘッドを案内する溝を作っておき、その溝端部で生ず
る光の干渉回折を利用してレーザビームが溝中央部に照
射されるようにサーボをかける方法である。このような
プリグループ（案内溝）付透明基板を用いた光ディスク
を使えば安価な装置で記録再生を行っても機械精度の高
い高価な装置を使ったのと同じ程度かそれ以上の密度の
記録再生ができるという利点がある。従って、光ディス
クによる高密度記録が実用化となったのは、この方式の
採用を指摘する人が多い。

しかし、この方法にも問題はあり、その一つに案内溝の
加工精度が挙げられる。案内溝を形成する方法は、通常
、透明基板上に案内溝の金型（スタンパ）に光学特性の
良い透明樹脂、例えばポリカーボネート樹脂を用いて射
出成形法によりポリカーボネート基板上に案内溝を複製
する方法が採用されている。具体的には案内溝の幅精度
は±０゜ｌ　ｐｍ、深さ精度は±０．０１μｍが現在−
船釣に求められている精度であり、更には溝断面形状の
対称性及び溝形状の最適化なども求められている。

従って、案内溝の金型及び形成の精度が光デイスク機能
に直接的に影響を及ぼすといえる。

その中で案内溝の金型製作工程について説明を加えると
、ガラス板製作工程、レジスト膜塗布工程、カッティン
グ工程、現像工程、電鋳工程と煩雑な工程を経て製作す
る。そして各工程とも詳細は省くが、前述のような精度
を確保するには、あまりにも不安定な因子が多く、適正
な金型を製作するには、並大抵のことではない、たとえ
、適正な金型が製作でき、成型も精度よく複製されたと
しても、案内溝付透明基板の経時安定性つまり温湿度や
自重等によるひずみ現像等が生ずるプリグループ方式に
よるサーボ特性の低下をきたすことから、材料構成や加
工技術についてかなりの制約をうけることになる。この
ような問題は光学的記録媒体が光カードに及ぶと携帯性
等の使用状況から更に顕著に現れてくることは容易に判
断される。かかる問題の原因は、プリグループ方式の基
本的原理である溝形成から生ずる光の干渉性、回折性を
利用したラジアルエラー信号を検出する、つまり位相検
出方法によるところが大きい。

もしプリグループを検出する方法が位相検出ではなく単
に光の反射率の相異を検出する方法（以下濃淡検出とい
う）がとれれば上記問題の解決に十分な効果を発揮する
ものと思われる。そこでプリグループに相当する濃淡検
出が可能なトラッキングマークが得られかつ生産性が高
く安価に形成し得る方法が見出すことができるならば極
めて有用な手段になると思われる。このような濃淡検出
方法による光学的記録媒体としては、例えば時開［６０
−２０８２８９号公報に示されているものがある。

すなわち、基材とこの基材上に設けられた光透過部およ
び遮光部からなる第１記録層と、この第１記録層上に設
けられた反射性金属薄膜層からなる第２記録層とからな
り、第２記録層にエネルギービームを照射することによ
って第２記録層への情報の書込みができ、書込まれた情
報の読み出しは、基材の上記第１記録層および第２記録
層が設けられていない側から記録再生光を照射すること
により行うことを特徴とする光記録材料である。

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、上記構成の光記録材料を製造する場合、
毎回露光、現像という工程を行わなければならず、それ
によりパターンのバラツキが多く、特に細かいパターン
を有する光記録材料においてはその影響が大きく、また
複製も容易とはいえない。

本発明は濃淡検出が可能なトラッキングマークを有した
光学的記録媒体を形成し高密度記録及び再生の信牽頁性
を高める。また、その形成方法は、簡便なプロセスでよ
く大量複製も簡便かつ安価に生産できる方法を提供する
ことを目的とする。なお、この光学的記録媒体を用いて
のシステムにおいて、よりランダムアクセス等価れた機
能のものにする為、アドレス等のヘッダー情報を事前に
記録するいわゆるプリフォーマツティングについても上
記と同様濃淡検出が可能なビット構成を有するものとし
、上記トラッキングマークと同時形成できる方法を提供
するものである。

く課題を解決するための手段〉 本発明は上記課題を解決するためになされたもので、ト
ラッキングマークを有する透明基板上に記録層を形成し
てなる光学的記録媒体において、該トラッキングマーク
の表面に回折格子が形成されていることを特徴とする光
学的記録媒体であり、また本発明の光学的記録媒体の製
造方法は、基材上にレジストを塗布して、次いでトラッ
キングマークのパターンを露光した後、レーザ光を用い
てホログラフィックな露光をさせ、回折格子の潜像を形
成し、その後レジストを現像し、前記パターン層の表面
に回折格子を形成した原盤を作製し、該原盤より起こし
たスタンパを用いてトラッキングマークを複製すること
を特徴とし、さらに本発明の光学的媒体の製造方法は基
材上にレジストを塗布し、次いでトラッキングマークの
パターンを露光した後現像してパターン層を形成し、更
に回折格子を有するスタンパを圧着して前記パターン層
の表面に回折格子を形成して原盤を作製し、該原盤より
起こしたスタンパを用いてトラッキングマークを複製す
ることを特徴とする。

く作用〉 上記の如く本発明によれば、トラッキングマーク上に回
折格子を設けるこにより、トラッキングマークの濃淡検
出が容易に行うことができ、さらに読み取り光の波長に
応じて最も読み取り光の正反射を少なくするように回折
の割合を予め設計することが可能である。またスタンパ
によるスタンプ方式でトラッキングマークともにプリフ
ォーマットデータパターンが簡易にしかも精度よく形成
でき安価な大量複製が可能である。

〈実施例〉 本発明を図面の実施例に基づいて詳細に説明する。本発
明の光学的記録媒体は第８図に示すように透明基板（９
）上にトラッキングマークθ０）を有し、トラッキング
マーク００）の表面には回折格子が形成されている。さ
らにこれらの上にはレーザ記録材料からなる記録層（］
１）が設けられている。前記透明基板（９）に用いられ
る樹脂としては、透明性が高く、複屈折が少ない等の光
学特性が優れているものであれば、いずれでもよく、例
えばポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカ
ーボネート等である。

前記トラッキングマークＣωは１１カ０．８　　μｍ〜
５μｍでかつピッチが１．６　μｍ〜５μｍであり、デ
ィスクやカード等の対象物によってそのピッチ及び幅が
適宜選択される。

また、前記トラッキングマークＱＯ）の回折格子面の回
折格子の溝ピッチは０．５　μｍ〜５μｍで、かつ溝の
深さは０．１　μｍ−１μｍである。その設定値につい
てはトラッキングマークの仕様及び記録・再生装置にお
けるレーザ波長や入射角等の仕様に応じて設定される。

つまり各仕様に対して最も回折効率が高くなるように設
定するのが望ましい。

前記記録層０１）に用いるレーザ記録材料は追加記録用
の材料としてはテルル、ビスマス、アルミニウム等の低
融点金属やそれらを主たる成分とする合金やアントラキ
ノン系やフタロシアニン系、アザアヌレン系等の有機色
素等が挙げられる。また、消去書き込み可能材料として
はＴｂＦｅ−ＧｄＴｂＦｅ、　ＧｄＴｂＦ　ｅ　ｒ　Ｔ
　ｂ　Ｃｏ系等の光磁気型と相変化型があるが、レーザ
光で記録できる材料であればいずれでも良く使用用途に
より使い分けてい（のが望ましい。

次に本発明の製造方法について説明する。

第１図及至第７図は本発明の光学的記録媒体の第１の製
造方法を示したものである。第１図に示されるように、
（１）はレジスト基材であり、該レジスト基材（１）は
基材（２）上にフォトレジスト層（３）が積層れさてい
る。該基材（２）は用途に適した特性、例えば表面の平
滑性、耐性等を有し、後工程、即ちフォトレジストの現
像処理工程やスタンパ成形工程に於いて劣化や変形など
の影響を受けてないものを選び使用する。基材（２）と
してはガラス板、金属板等その他多数挙げられる。フォ
トレジスト層（３）はポジ型、ネガ型とも使用可能であ
るが、塗布がむらなく容易に行え、しかも高解像力で露
光の際の微細な情報記録パターンを充分に解像しうるち
のを選び使用する。フォトレジストの例としては＾ｚ−
１３５０（Ｓｈｉｐｌｅｙ社製）　　、０ＦＰＲ−２，
０ＦＰＲ−５０００（東京応化型）等その他多数挙げら
れる。その後、前後フォトレジスト層（３）上にカッテ
ィングマシンを用いて微細なトラッキングパターンを形
成させる。つまり微細なトラッキングマーク信号に対応
して変調を受けたアルゴンレーザ光（４）によって露光
を行ない（第２図）、次いでレーザ露光装置を用いてフ
ォトレジスト層（３）にホログラフィ・ンクな露光を行
ない回折格子の潜像を形成させる（第３図）、使用する
レーザ光源としてはアルゴンレーザ（４５８ｎｍ）　、
ヘリウムカドミウムレーザ（４４２ｎｍ）などが挙げら
れる。このようにしてレーザ光により直接回折格子を形
成するため精度の高い回折格子が得られる。その後フォ
トレジストを現像し、回折格子が形成されたトラックパ
ターンを形成させ原盤を得る（第４図）。カッテングマ
シンのかわりにＥＢ描画装置やパターンジェネレーター
のような装置を使用しても良い、いずれにしても微細な
パターンを精度よくレジスト上に露光できる装置であれ
ば良い。なお、このようなホログラフィックな露光で形
成される回折格子はレーザ波長とレーザ露光装置の設定
条件から任意に制御することができる。さらに溝の形状
が鋸歯状化された回折格子（ブレーズド回折格子）もレ
ーザ露光装置の設定条件により形成可能である。またト
ラッキングマークが露光されたフォトレジスト面に回折
格子を露光する際の位置合わせについては記録・再生装
置において反射回折が影響しない位！関係であれば特に
こだわる必要はない。

しかる後該原盤の表面に金属層（７）を形成させる（第
５図）、金属層（７）は後工程の第６図のトラッキング
マーク（８）を起こす技術方法（例えば電鋳法）を適用
する際に不都合でない金属を選び、それを真空蒸着又は
スパッタリングを行うことで形成される。金属層（ηの
例としてはＡｕ、＾ｇ＋ｃｒ＋ｃｕ、Ｎｉ等が挙げられ
る。電鋳法等の技術により得られたトラッキングマーク
転写スタンパ（８）により透明基板（９）に濃淡検出可
能なトラッキングマーク０Φを複製し、トラッキングマ
ーク面のみ拡散反射し、他面は全反射するトラッキング
マーク付透明基板（９゛）を得る（第６図）、複製方法
としては射出成形法、圧縮成形法、紫外線硬化樹脂を使
った方法などが挙げられるが、良質で効率よく複製可能
な複製方法を選択することが望ましい。

このように複製されたトラッキングマーク付透明基板（
９′）にレーザ記録材料からなる記録層（１１）を形成
して光学的記録媒体０りを得る。記録層Ｑｌ）の形成方
法としては真空蒸着、スパッタ、ｃｖｏ　、　［イはス
ピンコード、ロールコート等いずれでも良く材料の性質
等により使い分けていくのが望ましい。

さらに、光学的記録媒体にはトラッキングマークの他、
記録・再生装置の機能を高めるためにはあらかじめ光学
的記録媒体中に必要な情報を記録しておく、いわゆるプ
リフォーマツティングパターンについても前記トラッキ
ングマークを検出する方法と同じ濃淡検出可能なパター
ン形状を有し、トラッキングマークと同時に形成しうる
ちのである。つまり第２図に示す工程の中でカッティン
グマシンを用いて微細なトラッキングマークパターン層
（５）を形成する際に、プリフォーマットデータａ湯を
第８図に示すように組み入れることができる。

以下の工程は、前述の工程と全く同じであるから、必要
であれば、このように濃淡検出可能なトラッキングマー
ク及びプリフォーマットパターンが記録されている光学
的記録媒体も得ることができる。以下、さらに具体的に
説明する。

（イ） ガラス板（ＢＫ−７）上にフォトレジスト（ＡＺ−１３
５０）　をスピンコータにて塗布する。その後カッティ
ングマシンにてトラッキングマーク信号に対応して変調
を受けたアルゴンレーザ光によって露光後Ａｒレーザ（
４５８ｎ慣）を用いてホログラフィックな露光により回
折格子の潜像を形成させ、さの後フォトレジストを現像
することにより、幅０．８　μｍピッチ１．６　μｍの
トラッキングマーク上に溝ピッチ０．８μｍ溝深さが０
．２４μｍの回折格子が該トランクマークと直交して形
成される。原盤を作製した。

この原盤にニッケルスタンバ法にて導電膜を形成したの
ちニッケル電鋳法にて厚さ０．３胴のスタンバを作製し
た。

その後、該スタンバに感光性樹脂（アクリレート系）を
塗布しておいて、厚さ１．２　ｗｘで１３０　ｍｍ−の
ポリカーボネート基板を押し当て、紫外線を照射して硬
化させる事により、該ポリカーボネート基板に拡散反射
をするトラッキングマークの付いた透明基板を複製する
ことができた。引き続き、該トラッキングマーク付透明
基板上にＴｅ合金を蒸着させ、レーザ光により追加記録
が可能となる円盤状の光学的記録媒体を作製した。この
媒体より反射回折をするトラッキングマーク面と正反射
をする面とのコントラストを８３０ｎｍの半導体レーザ
を用い入射角Ｏ＠照射でを測定すると２０〜３０％得ら
れ、濃淡検出が可能であった。

ガラス板（ＢＫ−７）上ニフォトレジスｌ−（ＡＺ−１
３５０）をスピンコータにて塗布する。その後カッティ
ングマシンにてトラッキングマーク及びプリフォーマン
トデータ信号に対応して変調を受けたアルゴンレーザ光
によって露光後Ａｒレーザー（４５８ｎｍ）　を用いて
ホログラフィックな露光により回折格子の潜像を形成さ
せ、その後フォトレジストを現像することにより、幅３
．０　μｍピッチ１５μｍのトラッキングマーク上に溝
ピッチ０．８　μｍ溝深さが０．２４μｍの回折格子が
該トラックマークとこのように平行して形成される。

レジスト原盤上のトラッキングマーク及びプリフォーマ
ントデータの表面のみを選択的に反射回折面とした原盤
を作製した。この原盤からニッケルスタンバ法にて厚さ
０．３　ｍｍのスタンバを作製し該スタンバと１００　
ｍｆｆ１Ｘ　８０ｍ　Ｘ　Ｏ，４ａｍのＰＨＭＡ基板と
を重ね合わせ、１４０”Ｃ条件で熱プレス（圧縮成形）
法により該ＰＭＭ＾基板に反射回折をするトラッキング
マーク及びプリフォーマットデータの付いた透明基板を
複製することができた。

引き続き該トラッキングマーク付透明基板上にシアニン
系の有機色素をスピンコードし、レーザ光により追加記
録が可能となるシート状（カード状）の光学的記録媒体
を作製した。この媒体より反射回折をするトラッキング
マーク及びプリフォーマットデータ面と正反射をする面
とのコントラストを８３０ｎｎの半導体レーザを用い入
射角Ｏ″′の照射で、測定すると１０〜１５％得られ、
濃淡検出が可能であった。

また本発明の第２の製造方法を第９図及至第１１図に示
す。始めに本発明の第１の製造方法と同様に第１図及び
第２図に示すように基材（２）上のフォトレジストＮ（
３）にトラッキングマークパターンを露光、現象し、微
細なトラッキングマークパターンＮ（５°）を得る（第
９図）。しかる後回折格子を有するスタンバ（６）をト
ラッキングパターン層（５′）の表面のみ選択的に回折
格子を形成させる（第１０図及び第１１図）。回折格子
を有するスタンバ（６）としてはレーザの干渉を利用し
て形成した電鋳スタンバを用いる。そして、このスタン
バにおける回折格子の溝ピッチは０．５　μｍ〜５μｍ
でかつ溝の深さは０．Ｉ　ＩＩｍ〜１．０　ａｍである
。それらの設定値についてはトラッキングマークの仕様
及び記録、再生装置におけるレーザ波長やその入射角等
の仕様に応じて設定される。つまり、各仕様に対して最
も回折効率が高くなるように設定するのが望ましい、こ
のような回折格子を得るには、レーザ波長とレーザ露光
装置の設定条件を定めるこにより任意に制御することが
できる。さらに溝の形状が鋸歯状化された回折格子（プ
レースト回折格子）もレーザ露光装置の設定条件により
形成することができる。またトラッキングパターン層に
回折格子を有するスタンパを重ね合わせ加圧する際の位
置合わせについては記録再生装置において反射回折光が
影響しない位置関係であれば特にこだわる必要はない、
なお、第１１図に示したトラッキングマーク上に回折格
子を有する原盤を作製するにはトラッキングマークを露
光した直後に回折格子を有するスタンパとを重ね合わせ
加圧後、現像・仕上げしても良い。

以後第１の製造方法と同様にして第５図及至第７図に示
す如く、光学的記録媒体を得る。また、同様に第２図に
示す工程の中でプリフォーマットデータ０■を第９図に
示すように組み入れることも可能である。

以下、さらに具体的に説明する。

（八） ガラス板（８に−７）上にフォトレジスト（＾Ｚ−１３
５０）　をスピンコータにて塗布する。その後カッティ
ングマシンにてトラッキングマーク及びプリフォーマッ
トデータ信号に対応して変調を受けたアルゴンレーザ光
によって露光後現像しトラッキングマーク幅０．８　μ
ｍｓＦラックピッチ１．６　μｍのトラッキングマーク
のレジスト原盤を作製した。次に該レジスト原盤のレジ
スト面と、溝ピッチが０．８　μｍ５溝深さが０．２４
μｍの回折格子を有するスタンパとをトラックマークと
回折格子とが直交するよう重ね合わせ５０°Ｃで熱プレ
スを行ない、レジスト原盤上のトラッキングマークの表
面のみを選択的に反射回折面とした原盤を作製した。こ
の原盤にニッケルスタンパ法にて導電膜を形成したのち
ニッケル電鋳法にて厚さ０．３ｍのスタンパを作製した
。

その後、該スタンパに感光性樹脂（アクリレート系）を
塗布しておいて、厚さ１．２鵬で１３０　ｍｎφのポリ
カーボネート基板を押し当て、紫外線を照射して硬化さ
せる事により、該ポリカーボネート基板に拡散反射をす
るトラッキングマークの付いた透明基板を複製すること
ができた。引き続き、該トラッキングマーク付透明基板
上にＴｅ合金を蒸着させ、レーザ光により追加記録が可
能となる円板状の光学的記録媒体を作製した。この媒体
より反射回折するトラッキングマーク面と正反射をする
面とのコントラストを８３ｏｎ−の半導体レーザを用い
入射角０°の照射で測定すると２０〜３０％得られ、濃
淡検出が可能であった。

（ニ） ガラス板（ＢＫ−７）上にフォトレジスト（ＡＺ−１３
５０）をスピンコータにて塗布する。その後カッティン
グマシンにてトラッキングマーク及びプリフォーマット
データ信号に対応して変調を受けたアルゴンレーザ光に
よって露光後現像しトラッキングマーク幅５．Ｏｔｉｍ
、　　）ラックピッチ１５．０ｍｍのデータピントサイ
ズが５．０８ｍｍのレジスト原盤を作製した。次に該レ
ジスト原盤のレジスト面と溝ピッチが０．８　μｍ１溝
深さが０．２４μｍの回折格子を有するスタンパとをト
ラックマークと回折格子とが平行になるよう重ね合わせ
熱プレスを行ない、レジスト原盤上のトラッキングマー
ク及びプリフォーマットデータの表面のみを選択的に拡
散反射面とした原盤を作製した。この原盤からニッケル
スタンパ法にて厚さ０．３ｍｍのスタンパを作製し該ス
タンパと１００　ｆｆＩａｌＸ　８０ｍｎ　Ｘ　Ｏ，４
＋ｎｎのＰＭＭＡ基板とを重ね合わせ、１４０°Ｃの条
件で熱プレス（圧縮成形）法により該ｐＭＭ八基板基板
射回折するトラッキングマーク及びプリフォーマットデ
ータの付いた透明基板を複製することができた。

引き続き該トラッキングマーク付透明基板上にシアニン
系の有機色素をスピンコードし、レーザ光により追加記
録が可能となるシート状（カード状）の光学的記録媒体
を作製した。この媒体より反射回折をするトラッキング
マーク及びプリフォーマットデータ面と正反射をする面
とのコントラストを８３０ｎｍの半導体レーザを用いて
入射角０°照射で測定すると１０〜１５％得られ、濃淡
検出が可能であった。

く効果〉 本発明はトラックの検出方法が位相検出方式ではなく濃
淡検出方法を用いることができるトラッキングマークを
透明基板上にスタンプ方式で複製可能な光学的記録媒体
及びその製造方法であり、次のような効果がある。第１
及び第２の製造方法に共通に、 （１）位相検出方式のプリグループ（案内溝）原盤を作
製する工程と比較し、最も高度な技術が必要とさるレジ
スト厚みのコントロールが本発明の場合不要となる。

（２）　？１製方法として簡単な工程のスタンプ方式が
とれるため安価に大量複製が可能である。

（３）プリフォーマットデータもトラッキングマークと
同様濃淡検出が可能なビットとしてトラッキングマーク
と同時複製が可能である。

（４）毎回、露光、現像を行わないので、パターンのバ
ラツキが少な（、一定の品質が得られる。

また、第１の製造方法において、 （５）レーザ装置の組み換えにより各種記録・再生袋π
に対し最も効果の高い回折格子を有するトラッキングマ
ーク及びプリフォーマットパターンが形成可能である。

（６）レーザ光により直接回折格子を形成するため精度
の高い回折格子が得られる。

また、第２の製造方法において、 （７）種々の回折格子を有するスタンパを選択するこに
より各種記録再生装置に対し最も効果の高いトラッキン
グマーク及びプリフォーマットパターン形成可能である
。

【図面の簡単な説明】

第１図及至第７図は第１の製造工程を示す説明図で、第
８図はトラッキングマーク及びプリフォーマットデータ
の配列を示す説明図であり、第９図及至第１１図は第２
の製造工程の一部を示す説明図である。 １１１゛・・・レジスト基材 ２．２゛・・・基材 ３・・・フォトレジスト層 ４・・・レーザ光 ５．５′・・・トラッキングマークバクーン層６・・・
スタンパ ７・・・金属層 ８・・・トラッキングマーク転写スタンパ９　・・・　
透　明　基　（反 ｌＯ・・・トラッキングマーク １１・・・記録層 １２・・・光学的記録媒体 １３・・・プリフォーマットデータ 特　　許　　出　　願　　人 凸版印刷株式会社 代表者　鈴木和夫 第２図 第３図 第４図 第５区 第７図 第８Ｗ 第１１図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）トラッキングマークを有する透明基板上に記録層
   を形成してなる光学的記録媒体において、該トラッキン
   グマークの表面に回折格子が形成されていることを特徴
   とする光学的記録媒体。
2. （２）基材上にレジストを塗布し、次いでトラッキング
   マークパターンを露光した後、レーザ光を用いてホログ
   ラフィックな露光をさせ、回折格子の潜像を形成し、そ
   の後レジストを現像し、前記パターン層の表面に回折格
   子を形成した原盤を作製し、該原盤より起こしたスタン
   パを用いてトラッキングマークを複製することを特徴と
   する光学的記録媒体の製造方法。
3. （３）基材上にレジストを塗布し、次いでトラッキング
   マークのパターンを露光した後、現像してパターン層を
   形成し、更に回折格子を有するスタンパを圧着して前記
   パターン層の表面に回折格子を形成して原盤を作製し、
   該原盤より起こしたスタンパを用いてトラッキングマー
   クを複製することを特徴とする光学記録媒体の製造方法
   。