JPH02281438A - 光記録媒体 - Google Patents
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- JPH02281438A JPH02281438A JP1103158A JP10315889A JPH02281438A JP H02281438 A JPH02281438 A JP H02281438A JP 1103158 A JP1103158 A JP 1103158A JP 10315889 A JP10315889 A JP 10315889A JP H02281438 A JPH02281438 A JP H02281438A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、追加書き込みや消去書き込み等の可能なトラ
ッキングマーク付光記録媒体及びその製造方法に関する
。
ッキングマーク付光記録媒体及びその製造方法に関する
。
〈従来技術〉
近年、高度情報化時代に伴い、光記録媒体が注目されて
いる。光記録には、磁気記録と比較して記録媒体と再生
ヘッドが非接触であり、且つ高密度な記録が可能である
などの利点がある。この光記録媒体としては、読み出し
専用のもの、追加書き込み可能なもの、消去再書き込み
可能なのが知られており、追加書き込み可能なもの及び
消去再書き込み可能な光記録媒体としては追加型光ディ
スク及び光磁気ディスクなどが現在、開発、実用化され
ている。−船釣な追加型光基材の上記第1記録層及び第
2記録層が設けられていない側から記録再生光を照射す
ることにより行なうことを特徴とする光記録材料である
。
いる。光記録には、磁気記録と比較して記録媒体と再生
ヘッドが非接触であり、且つ高密度な記録が可能である
などの利点がある。この光記録媒体としては、読み出し
専用のもの、追加書き込み可能なもの、消去再書き込み
可能なのが知られており、追加書き込み可能なもの及び
消去再書き込み可能な光記録媒体としては追加型光ディ
スク及び光磁気ディスクなどが現在、開発、実用化され
ている。−船釣な追加型光基材の上記第1記録層及び第
2記録層が設けられていない側から記録再生光を照射す
ることにより行なうことを特徴とする光記録材料である
。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上記構成のトラッキング層を製造する場
合、無電解メツキという湿式プロセスによるため、洗浄
工程が煩雑となり、さらに無電解メツキ浴の管理なども
工程が煩雑であるため、パターンのバラツキとしてあら
れれてしまい、製造が容易とはいえない。
合、無電解メツキという湿式プロセスによるため、洗浄
工程が煩雑となり、さらに無電解メツキ浴の管理なども
工程が煩雑であるため、パターンのバラツキとしてあら
れれてしまい、製造が容易とはいえない。
本発明は濃淡検出が可能なトラッキングマークを有した
光学的記録媒体を形成するのに乾式プロセス可能な材料
を提供することによりプロセスを簡便化し、大量復製も
簡便かつ安価に生産できる方法を提供することを目的と
する。なお、この先学的記録媒体を用いてのシステムに
おいて、よりランダムアクセス等優れた機能のものにす
る為、アドレス等のへラダー情報を事前に記録するいわ
ゆるプリフォーマツティングについても上記と同様濃淡
検出が可能なビット構成を有するものとし、上記トラッ
キングマークと同時形成できる方法を提供するものであ
る。
光学的記録媒体を形成するのに乾式プロセス可能な材料
を提供することによりプロセスを簡便化し、大量復製も
簡便かつ安価に生産できる方法を提供することを目的と
する。なお、この先学的記録媒体を用いてのシステムに
おいて、よりランダムアクセス等優れた機能のものにす
る為、アドレス等のへラダー情報を事前に記録するいわ
ゆるプリフォーマツティングについても上記と同様濃淡
検出が可能なビット構成を有するものとし、上記トラッ
キングマークと同時形成できる方法を提供するものであ
る。
ディスクは記録層にレーザ光を照射しレーザ光の熱によ
って、穴を形成させるかバブルを形成させるか、相変化
を起こさせることにより情報を記録させる。そしてこの
記録の再生は記録時と同一のレーザ光源を用い約1/1
0程度に照射光量を弱めて記録層に照射し、反対率の変
化を再生出力として読み取る。なお、穴(ビット)を形
成する方式の場合、穴の有無が記録状態で再生はその反
射光量の変化を検出することで読み取ることになる。ま
た、記録再生時に用いたレーザ光は780nm、830
nm付近の発振波長をもった高出力半導体レーザを用い
る。そして対物レンズとして開口数(N^)が0.6〜
0.9程度のものを用いることで透明基板を通して記録
上で約1μmφに絞り込まれる。
って、穴を形成させるかバブルを形成させるか、相変化
を起こさせることにより情報を記録させる。そしてこの
記録の再生は記録時と同一のレーザ光源を用い約1/1
0程度に照射光量を弱めて記録層に照射し、反対率の変
化を再生出力として読み取る。なお、穴(ビット)を形
成する方式の場合、穴の有無が記録状態で再生はその反
射光量の変化を検出することで読み取ることになる。ま
た、記録再生時に用いたレーザ光は780nm、830
nm付近の発振波長をもった高出力半導体レーザを用い
る。そして対物レンズとして開口数(N^)が0.6〜
0.9程度のものを用いることで透明基板を通して記録
上で約1μmφに絞り込まれる。
このようにレーザスポット径が小さいので、大容量の記
録が可能となるわけであるが、ミクロン単位の記録再生
位置をサブミクロンからコントロールする方法が一方で
問題となる。この位置制御に機械的なサーボ方式採用す
ることには、精度的にかなり難しい点が多いため、現在
この高密度記録再生は、プリグループ法と称される方法
が採用されている。この方法は透明基板上にあらかじめ
レーザヘッドを案内する溝を作っておき、その溝端部で
生ずる光の干渉回折を利用してレーザビームが溝中央部
に照射されるようにサーボかける方法である。このよう
なプリグループ(案内溝)付透明基板を用いた光ディス
クを使えば安価な装置で記録再生を行っても機械精度の
高い高価な装置を使ったのと同じ程度かそれ以上の密度
の記録再生ができるという利点がある。従って、光ディ
スクによる高密度記録画実用化となったのは、この方式
の採用を指摘する人が多い。
録が可能となるわけであるが、ミクロン単位の記録再生
位置をサブミクロンからコントロールする方法が一方で
問題となる。この位置制御に機械的なサーボ方式採用す
ることには、精度的にかなり難しい点が多いため、現在
この高密度記録再生は、プリグループ法と称される方法
が採用されている。この方法は透明基板上にあらかじめ
レーザヘッドを案内する溝を作っておき、その溝端部で
生ずる光の干渉回折を利用してレーザビームが溝中央部
に照射されるようにサーボかける方法である。このよう
なプリグループ(案内溝)付透明基板を用いた光ディス
クを使えば安価な装置で記録再生を行っても機械精度の
高い高価な装置を使ったのと同じ程度かそれ以上の密度
の記録再生ができるという利点がある。従って、光ディ
スクによる高密度記録画実用化となったのは、この方式
の採用を指摘する人が多い。
しかし、この方法にも問題はあり、その一つに案内溝の
加工精度が挙げられる。案内溝を形成する方法は、通常
、透明基板上に案内溝の金型(スタンパ)に光学特性の
良い透明樹脂、例えばポリカーボネート樹脂を用いて射
出成形法によりポリカーボネート基板上に案内溝を複製
する方法が採用されている。具体的には案溝の幅精度は
±0゜1μm、深さ精度は±0.01μmが現在−船釣
に求められている精度であり、更には溝断面形状の対称
及び溝形状の最適化なども求められている。
加工精度が挙げられる。案内溝を形成する方法は、通常
、透明基板上に案内溝の金型(スタンパ)に光学特性の
良い透明樹脂、例えばポリカーボネート樹脂を用いて射
出成形法によりポリカーボネート基板上に案内溝を複製
する方法が採用されている。具体的には案溝の幅精度は
±0゜1μm、深さ精度は±0.01μmが現在−船釣
に求められている精度であり、更には溝断面形状の対称
及び溝形状の最適化なども求められている。
従って、案内溝の金型及び形成の精度が光デイスク機能
に直接的に影響を及ぼすといえる。
に直接的に影響を及ぼすといえる。
その中で案内溝の金型制作工程について説明を加えると
、ガラス板制作工程、レジスト膜塗布工程、カッティン
グ工程、現像工程、電鋳工程と煩雑な工程を経て制作す
る。そして各工程とも詳細は省くが前途のような精度を
確保するには、あまりにも不安定な因子が多く、適正な
金型を制作するには、並大抵のことではない、たとえ、
適正な金型が制作でき、成形も精度よく複製されたとし
ても、案内溝付透明基板の経時安定性つまり温湿度や自
重等によるひずみ現像等が生ずるプリングループ方式に
よるサーボ特性の低下をきたすことから、材料構成や加
工技術についてかなり制約をうけることになる。このよ
うな問題は光記録媒体が光カードに及ぶと携帯性等の使
用状況から更に顕著に現れてくることは容易に判断され
る。かかる問題の原因は、プリグループ方式の基本的原
理である溝形成から生ずる光の干渉性、つまり位相検出
方法によるところが大きい。
、ガラス板制作工程、レジスト膜塗布工程、カッティン
グ工程、現像工程、電鋳工程と煩雑な工程を経て制作す
る。そして各工程とも詳細は省くが前途のような精度を
確保するには、あまりにも不安定な因子が多く、適正な
金型を制作するには、並大抵のことではない、たとえ、
適正な金型が制作でき、成形も精度よく複製されたとし
ても、案内溝付透明基板の経時安定性つまり温湿度や自
重等によるひずみ現像等が生ずるプリングループ方式に
よるサーボ特性の低下をきたすことから、材料構成や加
工技術についてかなり制約をうけることになる。このよ
うな問題は光記録媒体が光カードに及ぶと携帯性等の使
用状況から更に顕著に現れてくることは容易に判断され
る。かかる問題の原因は、プリグループ方式の基本的原
理である溝形成から生ずる光の干渉性、つまり位相検出
方法によるところが大きい。
もしプリグループを検出する方法が位相検出ではなく単
に光の反射に率の相違を検出する方法(以下濃淡検出と
いう)がとれれば上記問題の解決に十分な効果を発揮す
るものと思われる。そこでプリグループに相当するfA
淡検出が可能なトラッキングマークが得られかつ生産性
が高く安価に形成し得る方法が見出すことができるなら
ば極めて有用な手段になると思われる。このような濃淡
検出方法による光学的記録°媒体としては、例えば特開
昭60−208289号公報に示されているものがある
、すなわち、基材とこの基材上に設けられた光透過部お
よび庶光部からなる第1記録層と、この第1記録層上に
設けられた反射性金属薄膜層からなる第2記録層とから
なり、第2記録層にエネルギービームを照射することに
よって第2記録層への情報の書込みができ、書込まれた
情報の読み出しは、基材の上記第1記録層および第2記
録層が設けられていない側から記録再生光を照射するこ
とにより行うことを特徴とする光記録材料である。
に光の反射に率の相違を検出する方法(以下濃淡検出と
いう)がとれれば上記問題の解決に十分な効果を発揮す
るものと思われる。そこでプリグループに相当するfA
淡検出が可能なトラッキングマークが得られかつ生産性
が高く安価に形成し得る方法が見出すことができるなら
ば極めて有用な手段になると思われる。このような濃淡
検出方法による光学的記録°媒体としては、例えば特開
昭60−208289号公報に示されているものがある
、すなわち、基材とこの基材上に設けられた光透過部お
よび庶光部からなる第1記録層と、この第1記録層上に
設けられた反射性金属薄膜層からなる第2記録層とから
なり、第2記録層にエネルギービームを照射することに
よって第2記録層への情報の書込みができ、書込まれた
情報の読み出しは、基材の上記第1記録層および第2記
録層が設けられていない側から記録再生光を照射するこ
とにより行うことを特徴とする光記録材料である。
く課題を解決するための手段〉
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、熱
可塑性樹脂あるいはコロイド類に、ジアゾ化合物、アジ
ド化合物、クエン酸第2鉄のように光照射によって、ガ
スを発生するものを混合したもので露光後樹脂を硬化さ
せるとガスが膨潤し気泡が生成するというものである。
可塑性樹脂あるいはコロイド類に、ジアゾ化合物、アジ
ド化合物、クエン酸第2鉄のように光照射によって、ガ
スを発生するものを混合したもので露光後樹脂を硬化さ
せるとガスが膨潤し気泡が生成するというものである。
この画像材料を用い光記録媒体中にトラッキングパター
ンとプリフォーマットデーターのためのビットを形成し
ようとするものであり、気泡が発成した領域、すなわち
光照射を設けた部分は光散乱性を有することになり、光
を送るとこの部分は暗くなり、画像を形成することにな
る。
ンとプリフォーマットデーターのためのビットを形成し
ようとするものであり、気泡が発成した領域、すなわち
光照射を設けた部分は光散乱性を有することになり、光
を送るとこの部分は暗くなり、画像を形成することにな
る。
その後、全面露光を行うと未露光部にもガスが発生する
。この時樹脂を軟化させるための処理をとらなければ、
発生したガスは時間とともに樹脂外に飛び去ってしまい
定着される。
。この時樹脂を軟化させるための処理をとらなければ、
発生したガスは時間とともに樹脂外に飛び去ってしまい
定着される。
この露光、現像、定着という乾式プロセスにて気泡を発
生させ、そのパターンを、トラッキングマークプリオー
マットデータとすることを特徴としている。
生させ、そのパターンを、トラッキングマークプリオー
マットデータとすることを特徴としている。
透明基板上に、本発明の熱可塑性樹脂あるいはコロイド
類にジアゾ、アジド等の光ガス発生剤を塗布、パターン
作成後、その上に、Te系化合物、アントラキノン、ナ
フタロシアニンもしくは、フタロシアニン化合物からな
る光記録材料を薄膜法で積層したり、溶解型のフタロシ
アン化合物や、シアニン化合物を塗布法にて積層した構
成を持って光記録媒体に関する。
類にジアゾ、アジド等の光ガス発生剤を塗布、パターン
作成後、その上に、Te系化合物、アントラキノン、ナ
フタロシアニンもしくは、フタロシアニン化合物からな
る光記録材料を薄膜法で積層したり、溶解型のフタロシ
アン化合物や、シアニン化合物を塗布法にて積層した構
成を持って光記録媒体に関する。
〈発明の詳述・作用〉
本発明を図面に基づいて詳細に説明する0本発明の光記
録媒体は第7図に示すように透明基板(1)上に気泡を
持ち光を散乱する領域と気泡を持たない透明領域とから
なるトラッキング層(2)を設け、さらにこれらの上に
はレーザ記録材料からなる記録層(4)が設けられてい
る。
録媒体は第7図に示すように透明基板(1)上に気泡を
持ち光を散乱する領域と気泡を持たない透明領域とから
なるトラッキング層(2)を設け、さらにこれらの上に
はレーザ記録材料からなる記録層(4)が設けられてい
る。
前記透明基板(1)に用いられる樹脂としては、透明性
が高く、複屈折が少ない等の光学特性が優れているもの
であれば、いずれでもよく、例えばポリメチルメタアク
リレート(PMMA) 、ポリカーボネート等である。
が高く、複屈折が少ない等の光学特性が優れているもの
であれば、いずれでもよく、例えばポリメチルメタアク
リレート(PMMA) 、ポリカーボネート等である。
前記トラッキングマークのパターン(2b)は幅が0.
8μm〜5μmでかつピッチが1.6μm〜20μmで
あり、ディスクやカード等の対象物によってそのピッチ
及び幅が適宜選択される。
8μm〜5μmでかつピッチが1.6μm〜20μmで
あり、ディスクやカード等の対象物によってそのピッチ
及び幅が適宜選択される。
前記記録層(4)ち用いるレーザ記録材料は追加記録用
の材料としてはテルル、ビスマス、アルミニウム等の低
融点金属やそれらを主たる成分とする合金やアントラキ
ノン系やフタロシアン系、アザアヌレン系等の有機色素
等が挙げられる。また、消去書き込み可能材料としては
TbFe−GdTbFe、 GdTbFe、 TbCo
系等の光磁気型と相変化があるが、レーザ光で記録でき
る材料であればいずれも良く使用用途により使い分けて
いくのが望ましい。
の材料としてはテルル、ビスマス、アルミニウム等の低
融点金属やそれらを主たる成分とする合金やアントラキ
ノン系やフタロシアン系、アザアヌレン系等の有機色素
等が挙げられる。また、消去書き込み可能材料としては
TbFe−GdTbFe、 GdTbFe、 TbCo
系等の光磁気型と相変化があるが、レーザ光で記録でき
る材料であればいずれも良く使用用途により使い分けて
いくのが望ましい。
次に本発明の製造方法について説明する。
第1図及至第7図は本発明の光記録媒体製造方法を示し
たものである。
たものである。
第1図に示すように(1)は透明基板であり、その上に
可塑性樹脂中に光ガス発生剤を分散させてたパターン形
成層(2a)が積層しである。
可塑性樹脂中に光ガス発生剤を分散させてたパターン形
成層(2a)が積層しである。
これにトラッキングパターンを密着露光を行なう、その
後、加熱や加湿により可塑性樹脂を硬化させると露光部
′に発生ガスが大きな気泡に成長する。
後、加熱や加湿により可塑性樹脂を硬化させると露光部
′に発生ガスが大きな気泡に成長する。
未露光部には気泡がなくて透明であるが、気泡のある部
分は光を散乱するのでドラッキングパターンが複製でき
る。
分は光を散乱するのでドラッキングパターンが複製でき
る。
感光性のガス発生剤としては、P−ジアゾメチルとジエ
チル−アニリンの塩化亜鉛、P−ジアゾジフェニルアミ
ン硫酸塩、P−ジアゾエチルヒドロオキシエチルアニリ
ン塩化亜鉛、■−ジアゾ−2−オキシナフタレン−4−
スルフォン酸塩、4ベンゾイル−アミノ−2−5−シェ
ドオキシベンゼンジアゾニウム塩化物、4−ジアゾ−2
−メトオキシ−1−シクロへキシルアミノベンゼンのP
−クロロベンゼンスルフォン酸塩などベンゼンナフタレ
ン系のジアゾ化合物やアジド化合物、クエン酸第二鉄ア
ンモニウム、2,4.2.4−dimethyl−1−
Pentone−3−oneの重合物のようなポリケト
ンの光解重合体などが使用出来る。
チル−アニリンの塩化亜鉛、P−ジアゾジフェニルアミ
ン硫酸塩、P−ジアゾエチルヒドロオキシエチルアニリ
ン塩化亜鉛、■−ジアゾ−2−オキシナフタレン−4−
スルフォン酸塩、4ベンゾイル−アミノ−2−5−シェ
ドオキシベンゼンジアゾニウム塩化物、4−ジアゾ−2
−メトオキシ−1−シクロへキシルアミノベンゼンのP
−クロロベンゼンスルフォン酸塩などベンゼンナフタレ
ン系のジアゾ化合物やアジド化合物、クエン酸第二鉄ア
ンモニウム、2,4.2.4−dimethyl−1−
Pentone−3−oneの重合物のようなポリケト
ンの光解重合体などが使用出来る。
分散媒としては、ゼラチン、グルー、ポリビニルアルコ
ールのような親水性物質、酸9セルロース、ポリビニル
アセテート、ビニルエーテルマロン酸共重合体や、ポリ
ビニルクロライド、ポリビニリデンクロライド、ポリス
チレンを加えたアクリルニトリルとビニルクロライド、
スチレン、ビニリデンクロロフルオライド、および、1
.1−ジ、クロルエチレンとの共重合体、さらには、ビ
ニルクロライドとメチルアクリレート、アクリル酸、ジ
エチルマレン酸塩、ビニルアセテートとの共重合体、ま
た、ビニリデンクロライドと塩化ビニル、酢酸ビニル、
ビニルアルコール、エチルアクリレートの共重合体など
が使用出来る。
ールのような親水性物質、酸9セルロース、ポリビニル
アセテート、ビニルエーテルマロン酸共重合体や、ポリ
ビニルクロライド、ポリビニリデンクロライド、ポリス
チレンを加えたアクリルニトリルとビニルクロライド、
スチレン、ビニリデンクロロフルオライド、および、1
.1−ジ、クロルエチレンとの共重合体、さらには、ビ
ニルクロライドとメチルアクリレート、アクリル酸、ジ
エチルマレン酸塩、ビニルアセテートとの共重合体、ま
た、ビニリデンクロライドと塩化ビニル、酢酸ビニル、
ビニルアルコール、エチルアクリレートの共重合体など
が使用出来る。
前記分散媒中に感光性のガス発生剤を分散させたものを
1μm〜5μmの厚みに好ましくは2μm〜3μmの厚
みに塗布してパターン形成jji)(2a)としている
。
1μm〜5μmの厚みに好ましくは2μm〜3μmの厚
みに塗布してパターン形成jji)(2a)としている
。
これに、2.5μmの光透過部分と、光遮蔽部分からな
る9、5μmのトラッキングパターンとプリフォーマッ
トデーターと360μmφのビットデーターを、9.5
μm幅の中の光遮蔽部分として持たせたマスク(3)を
密着させて、第2図に示すように紫外光を照射すると、
2.5μm幅のトラツキラグパターン及び、3.0μm
φのビットデータ部分にガスが発生し、この後第3図に
示すように加熱あるいは水蒸気で樹脂を軟化させると、
ガスが成長して気泡になり、光散乱パターン(2a)が
形成され、トラッキング層(2)となる。気泡の大きさ
は直径0.5〜1.0μm程度にさせる。
る9、5μmのトラッキングパターンとプリフォーマッ
トデーターと360μmφのビットデーターを、9.5
μm幅の中の光遮蔽部分として持たせたマスク(3)を
密着させて、第2図に示すように紫外光を照射すると、
2.5μm幅のトラツキラグパターン及び、3.0μm
φのビットデータ部分にガスが発生し、この後第3図に
示すように加熱あるいは水蒸気で樹脂を軟化させると、
ガスが成長して気泡になり、光散乱パターン(2a)が
形成され、トラッキング層(2)となる。気泡の大きさ
は直径0.5〜1.0μm程度にさせる。
その後、第4図に示すごとく全面の露光を行ない、み露
光部分の光ガス発生剤、及び露光部の未分解光ガス発生
剤を分解させてしまう、この発生したガスは、樹脂を軟
化させずにそのまま放置すると、気泡へと成長はせずに
分散媒からガスがぬけてしまい定着される。
光部分の光ガス発生剤、及び露光部の未分解光ガス発生
剤を分解させてしまう、この発生したガスは、樹脂を軟
化させずにそのまま放置すると、気泡へと成長はせずに
分散媒からガスがぬけてしまい定着される。
その上に第5図に示すように光記録材料であるTe系化
合物、シアニン系、アントラキノン、フタロシアニン、
ナフタロシアニン、スクアリウム系を塗布し形成される
。
合物、シアニン系、アントラキノン、フタロシアニン、
ナフタロシアニン、スクアリウム系を塗布し形成される
。
光ディスクの場合、エアーサンドインチ構造をとるため
に記録層上になにも積層されず、スペーサを非記録層上
に設けた後基板で補強、又はそのものを2枚はり合わせ
構造にしである。又、カードの場合にはエアーサンドイ
ンチ構造をとれないので記録層上に特願昭63−151
589号、特願昭63−185262号のように記録感
度を低下させず密着構造を可能にさせるために第6図に
示すようにバッファーJli (5)を積層させた後、
第7図に示すように接着剤(6)を付けて、裏打ち基板
(7)を貼り合せてカード状に作製する。
に記録層上になにも積層されず、スペーサを非記録層上
に設けた後基板で補強、又はそのものを2枚はり合わせ
構造にしである。又、カードの場合にはエアーサンドイ
ンチ構造をとれないので記録層上に特願昭63−151
589号、特願昭63−185262号のように記録感
度を低下させず密着構造を可能にさせるために第6図に
示すようにバッファーJli (5)を積層させた後、
第7図に示すように接着剤(6)を付けて、裏打ち基板
(7)を貼り合せてカード状に作製する。
以下に本発明の実施例を述べる。なお、配合比はすべて
重量比である。
重量比である。
〈実施例〉
0.4 wm厚の透明なPMMA基板上に、の溶液を、
中に1部混合させたものを乾燥後、3μmの厚みになる
ように塗布し、低温(40″C)で風乾した。
ように塗布し、低温(40″C)で風乾した。
これにトラッキングマークとともにプリフォーマットデ
ーターパターの持ったフォトマスクを密着し、超高圧水
銀灯により露光を行なう。
ーターパターの持ったフォトマスクを密着し、超高圧水
銀灯により露光を行なう。
露光後、赤外線ランプにて加熱すると、トラッキングパ
ターン及びプリフ・オーマットデーターであるビット部
が不透明となった。
ターン及びプリフ・オーマットデーターであるビット部
が不透明となった。
さらに超高圧水銀灯にて露光後、放置し、その後抵抗加
熱法にて700 i/の厚みにバナジルナ゛1フタロシ
アニンを真空蒸着にて積層した。 〜さらにその
上に東芝シリコーン■製紫外線硬化型シリコーン樹脂X
E17−803を塗布し、UV硬化後、接着剤ちて裏打
ち基材を接着、打ちぬきにより光カードを作製した。
熱法にて700 i/の厚みにバナジルナ゛1フタロシ
アニンを真空蒸着にて積層した。 〜さらにその
上に東芝シリコーン■製紫外線硬化型シリコーン樹脂X
E17−803を塗布し、UV硬化後、接着剤ちて裏打
ち基材を接着、打ちぬきにより光カードを作製した。
得られた光カードは、830nmの半導体レーザによる
書き込み及び読み出し時のトラッキングに問題を生じる
ことなくスムーズな情報の記録再生が可能であった。
書き込み及び読み出し時のトラッキングに問題を生じる
ことなくスムーズな情報の記録再生が可能であった。
〈効果〉
以上のように作製したカードに透明基板側がら830n
mの光で気泡には光散乱パターンからなるトラッキング
パターンによってトラッキングを行うとともに気泡のな
い透明層を通し、記録層にビットを形成し記録を行なっ
た。
mの光で気泡には光散乱パターンからなるトラッキング
パターンによってトラッキングを行うとともに気泡のな
い透明層を通し、記録層にビットを形成し記録を行なっ
た。
以上のように無電解メツキのような湿式1程をへずに記
録媒体の製造が可能なためにライン化が出来、パターン
のバラつきも少な(製造が容易となった。
録媒体の製造が可能なためにライン化が出来、パターン
のバラつきも少な(製造が容易となった。
第1図から第7図までは、本発明の光記録媒体の一実施
例の製造方法を工程順に示す説明図である。 1・・・・・・透明基板 2・・・・・・トラッキング層 3・・・・・・フォトマスク 4・・・・・・光記録層 5・・・・・・バッファー層 6・・・・・・接着層 7・・・・・・裏打ち基材 特 許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 絵本和犬 第1図 第5図 第2図 第6図 第3図 第4図 第7図
例の製造方法を工程順に示す説明図である。 1・・・・・・透明基板 2・・・・・・トラッキング層 3・・・・・・フォトマスク 4・・・・・・光記録層 5・・・・・・バッファー層 6・・・・・・接着層 7・・・・・・裏打ち基材 特 許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 絵本和犬 第1図 第5図 第2図 第6図 第3図 第4図 第7図
Claims (1)
- (1)気泡により光を散乱する領域と気泡が存在しない
透明領域よりなるトラッキング及びプリフオーマツト層
に接して光記録層を設けたことを特徴とする光記録媒体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1103158A JPH02281438A (ja) | 1989-04-22 | 1989-04-22 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1103158A JPH02281438A (ja) | 1989-04-22 | 1989-04-22 | 光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02281438A true JPH02281438A (ja) | 1990-11-19 |
Family
ID=14346697
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1103158A Pending JPH02281438A (ja) | 1989-04-22 | 1989-04-22 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02281438A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010262980A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Jsr Corp | ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物及びナノインプリント方法 |
-
1989
- 1989-04-22 JP JP1103158A patent/JPH02281438A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010262980A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Jsr Corp | ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物及びナノインプリント方法 |
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