JPS5850638A - 光デイスク用プリグル−プ原盤の製造方法 - Google Patents
光デイスク用プリグル−プ原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPS5850638A JPS5850638A JP14736381A JP14736381A JPS5850638A JP S5850638 A JPS5850638 A JP S5850638A JP 14736381 A JP14736381 A JP 14736381A JP 14736381 A JP14736381 A JP 14736381A JP S5850638 A JPS5850638 A JP S5850638A
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- Japan
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- light
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- wavelengths
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24085—Pits
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプリグループを有する光ディスクの原盤の製造
方法に関す〇 光ディスク装ｆｆｉは光記録材料に元７ｋ＞、龜・し局
地的に温度を上昇させ、所定位置に大を形成するか、も
しくは所定位置の光反射特性または磁化特性等を変化さ
せることによりで情報の誓込みをおこな−い、所定位置
における透過光５反射光またｔｌ＆化方向ｅ’ｔｉｆＲ
知することによって情報の読取シをおこなう記憶装置で
あるが、記憶容量が磁気ディスク装置に比し非常に大き
く、且つ価格が低いというｔＶｆ徴があり、オフィス・
オートメーシ・曹ンにおける文書ファイルとして、また
画像情報処理システムにおける画像情報ファイルとして
適した記憶装置である。
方法に関す〇 光ディスク装ｆｆｉは光記録材料に元７ｋ＞、龜・し局
地的に温度を上昇させ、所定位置に大を形成するか、も
しくは所定位置の光反射特性または磁化特性等を変化さ
せることによりで情報の誓込みをおこな−い、所定位置
における透過光５反射光またｔｌ＆化方向ｅ’ｔｉｆＲ
知することによって情報の読取シをおこなう記憶装置で
あるが、記憶容量が磁気ディスク装置に比し非常に大き
く、且つ価格が低いというｔＶｆ徴があり、オフィス・
オートメーシ・曹ンにおける文書ファイルとして、また
画像情報処理システムにおける画像情報ファイルとして
適した記憶装置である。
このような光ディスク製麺において＃′ｉ記４＃媒体す
なわち茸ディスクを回転させ同心円あるいＦｉ螺旋状に
＋＊報の１込みをおこなうのであるが、この同心円ある
いＦｉ螺旋のピッチを１，５〜２ミクロンとし、千の上
に溝（グループ）状のトラックを収り、これを情報★込
み及び［９り用ヘッドのサーボ勢トラックとして利用す
るとともに、その上に情報の豊込みをおこなうことによ
って配録＠ｉの向上ｔ−図りている。
なわち茸ディスクを回転させ同心円あるいＦｉ螺旋状に
＋＊報の１込みをおこなうのであるが、この同心円ある
いＦｉ螺旋のピッチを１，５〜２ミクロンとし、千の上
に溝（グループ）状のトラックを収り、これを情報★込
み及び［９り用ヘッドのサーボ勢トラックとして利用す
るとともに、その上に情報の豊込みをおこなうことによ
って配録＠ｉの向上ｔ−図りている。
このように、あらかじめ設ける同心円あるいは螺旋状の
溝（以下、これをプリグループ２祢する）【アドレス壷
コード地とデータ部に分け、アドレス・コ１−ドｆＭＳ
Ｋ゛トラック及びセクタのコード（以下これをアドレス
・コードと称する）を設けておくことによって光デイス
ク装置はランダム・アクセス式記憶装置として用いるこ
とができる。
溝（以下、これをプリグループ２祢する）【アドレス壷
コード地とデータ部に分け、アドレス・コ１−ドｆＭＳ
Ｋ゛トラック及びセクタのコード（以下これをアドレス
・コードと称する）を設けておくことによって光デイス
ク装置はランダム・アクセス式記憶装置として用いるこ
とができる。
前述のように、光ディスクにおける情報の書込み及び読
取りの方法には釉々の方法があるが、例えば、所定位置
に光を照射し局部的に温厚を上昇させ穴を形成すること
によって情報の書込みをおこない、光を照射し所定位置
における光の反射の有無によって穴の有無を検知し情報
の次取りをおこなう光ディスクにおいては、アドレス拳
コードの断取ぢ及びプリグループのトラッキングも同様
に反射光によっておこなう。
取りの方法には釉々の方法があるが、例えば、所定位置
に光を照射し局部的に温厚を上昇させ穴を形成すること
によって情報の書込みをおこない、光を照射し所定位置
における光の反射の有無によって穴の有無を検知し情報
の次取りをおこなう光ディスクにおいては、アドレス拳
コードの断取ぢ及びプリグループのトラッキングも同様
に反射光によっておこなう。
プリグループの幅は通常０５ミクロン前後であるが、周
知のように、怪報の読取りに用いる照射光の波長をλと
するとき、プリグループの床さがλ／４のとき反射光は
ゼロとなり、情報の★込みにおいて光ディスクに形成し
た穴とＩＦ’Ｊ （Ｑな幼果が偕られる。またプリグル
ープの深さかλ／８のとき最大のトラッキング精度が得
られる。このため上述のような方式の元ディスクにおい
ては、プリグループのアドレス・コード部に設けるアド
レス・コードの深さはλ／４とし、データ部の深さはλ
／８としている。
知のように、怪報の読取りに用いる照射光の波長をλと
するとき、プリグループの床さがλ／４のとき反射光は
ゼロとなり、情報の★込みにおいて光ディスクに形成し
た穴とＩＦ’Ｊ （Ｑな幼果が偕られる。またプリグル
ープの深さかλ／８のとき最大のトラッキング精度が得
られる。このため上述のような方式の元ディスクにおい
ては、プリグループのアドレス・コード部に設けるアド
レス・コードの深さはλ／４とし、データ部の深さはλ
／８としている。
このようなプリグループｔ ’Ｊ＝える光ディスクは通
常感光性樹脂を用いて原盤を製造し、この坤盤を用いメ
ッキ等の方法によって金型を製造し、この金型を用いて
門産するのであるが、１ｇ＋盤にλ／４の深さの部分と
λ／８の深さの部分を都梢度で形成することは極めて困
難な作業であった。
常感光性樹脂を用いて原盤を製造し、この坤盤を用いメ
ッキ等の方法によって金型を製造し、この金型を用いて
門産するのであるが、１ｇ＋盤にλ／４の深さの部分と
λ／８の深さの部分を都梢度で形成することは極めて困
難な作業であった。
本発明はλ／４の深さの部分とλ／８の陳さの部分から
取るプリグループ原盤を鍋精度でしかも容易に製造する
ことを目的としてなされたもので ゛ある。
取るプリグループ原盤を鍋精度でしかも容易に製造する
ことを目的としてなされたもので ゛ある。
すなわち、本発明は、感光特性が波長によって異なる２
棟類の感光性樹脂を、情報の読取りにおいて用いる照射
光の波長の１／８丁つの厚さに１ねて塗布して感光層を
形成し、両方の感光性樹脂に対して感７を性を有する波
長のレーザ光と、−万の感光ｇ：、￥Ｍ脂にのみ感光性
會廟する波長のレーザ光を同時に、または、いずれかの
一方のみを前記の感光層に照射して露光させ、これを現
像するととによって深さの異なるパターンを形成させる
ようにしたものである。
棟類の感光性樹脂を、情報の読取りにおいて用いる照射
光の波長の１／８丁つの厚さに１ねて塗布して感光層を
形成し、両方の感光性樹脂に対して感７を性を有する波
長のレーザ光と、−万の感光ｇ：、￥Ｍ脂にのみ感光性
會廟する波長のレーザ光を同時に、または、いずれかの
一方のみを前記の感光層に照射して露光させ、これを現
像するととによって深さの異なるパターンを形成させる
ようにしたものである。
以下、図に示す実施例によって本発明のヤ旨を具体的に
観明する。
観明する。
第１図は２柚類の感光性樹脂の感光特性を示し、縦軸Ｓ
は感光度、横軸λは波長である。図においてＡは第１の
感光性樹脂の感光特性、Ｂは第２の感光性樹脂の感光特
性である。すなわち、第１の感光性樹脂は短波長λ、の
光に幻しては感光性を弔するが長波長λ、の光に対して
は感光性を有しない。これに対し、第２の感光性樹脂は
λ１の九に対してもλ、の光に対しても感光性を廟する
０第２図は露光及び現像をおこなう前のプリグループ原
盤の部分断面図を示し、１は基板、２は第１の感光性樹
脂層、３は第２の感光性樹脂層でりる。第１の感光性樹
脂層２及び第１の感光性樹脂層３は基板１の上にスピン
・コーティング等の方法によって順次重ねて塗布する０
それぞれの層の厚さは、光ディスクに畳込んだ情報の読
取りにおいて用いる照射光の波長λの１／８とする。し
たかって感光層の厚さは合わせてλ／４となる。
は感光度、横軸λは波長である。図においてＡは第１の
感光性樹脂の感光特性、Ｂは第２の感光性樹脂の感光特
性である。すなわち、第１の感光性樹脂は短波長λ、の
光に幻しては感光性を弔するが長波長λ、の光に対して
は感光性を有しない。これに対し、第２の感光性樹脂は
λ１の九に対してもλ、の光に対しても感光性を廟する
０第２図は露光及び現像をおこなう前のプリグループ原
盤の部分断面図を示し、１は基板、２は第１の感光性樹
脂層、３は第２の感光性樹脂層でりる。第１の感光性樹
脂層２及び第１の感光性樹脂層３は基板１の上にスピン
・コーティング等の方法によって順次重ねて塗布する０
それぞれの層の厚さは、光ディスクに畳込んだ情報の読
取りにおいて用いる照射光の波長λの１／８とする。し
たかって感光層の厚さは合わせてλ／４となる。
なお、感光性樹脂には、現像処理によって、露光をうけ
なかった部分が残るもの、すなわちポジティブ型と、経
光をうけた部分が残るもの、すなわちネガティブ型とが
あるが、本夾尻例の感光性樹脂はいずれもポジティブ型
を用いるものとする。
なかった部分が残るもの、すなわちポジティブ型と、経
光をうけた部分が残るもの、すなわちネガティブ型とが
あるが、本夾尻例の感光性樹脂はいずれもポジティブ型
を用いるものとする。
このような構成のプリグループ原盤を回転させ第１の感
光性樹脂層２に組波長λ重のレーザ光をスポットｕ射す
ると同時に、第２の感光性樹脂層３に長波長λ、のレー
ザ光をスポット照射して露光させたのち机１象を施すと
ス／４の深さの溝が形成される。壜だ第２の感光性樹脂
層３に長波長λ。
光性樹脂層２に組波長λ重のレーザ光をスポットｕ射す
ると同時に、第２の感光性樹脂層３に長波長λ、のレー
ザ光をスポット照射して露光させたのち机１象を施すと
ス／４の深さの溝が形成される。壜だ第２の感光性樹脂
層３に長波長λ。
のレーザ光をスポット照射して詠光させ現像を施すとλ
／８の溝が形成される。
／８の溝が形成される。
第３図はに元装飯の光学系をボす。図において４は短波
長λ、のレーザ光を発生する第１のレーザ光源、５に長
波長λ２のレーザ光を発生する第２のレーザ光源、６は
第１のレーザ光源４が発生する短波長λ１のレーザ光を
信号Ｓ１によって汲調する第１の光重調器、７は第２の
レーザ九源５が発生する長波長λ、のレーザ光を信号Ｓ
１によって変調する第２の光変調器、８は第１の発散レ
ンズ、９Ｆｉ第２の発散レンズ、１０社第１の反射鏡、
１１＃ｉ第２の反射鏡、１２＃′ｉ集光レンズ、１３は
透明反射鏡、１４は焦点制御ｉ置、１５に回転円板であ
る。
長λ、のレーザ光を発生する第１のレーザ光源、５に長
波長λ２のレーザ光を発生する第２のレーザ光源、６は
第１のレーザ光源４が発生する短波長λ１のレーザ光を
信号Ｓ１によって汲調する第１の光重調器、７は第２の
レーザ九源５が発生する長波長λ、のレーザ光を信号Ｓ
１によって変調する第２の光変調器、８は第１の発散レ
ンズ、９Ｆｉ第２の発散レンズ、１０社第１の反射鏡、
１１＃ｉ第２の反射鏡、１２＃′ｉ集光レンズ、１３は
透明反射鏡、１４は焦点制御ｉ置、１５に回転円板であ
る。
このような構成の露光装ｆ１ｔ、を用い、回転円板１５
の上に前記のような構成の未熟光のプリグループｙＡｌ
ｌ）ＥＦＩ取付け、以下のようにして露光をおこなう。
の上に前記のような構成の未熟光のプリグループｙＡｌ
ｌ）ＥＦＩ取付け、以下のようにして露光をおこなう。
信号Ｓ、によって変調された短波長λ１のレーザ光は亀
１の発散レンズ８によって発散され、第１の反射鏡ｌＯ
によって反射され、来光レンズ１２によって集光されプ
リグループＷ盛ＭＫ架布されている感光層を照射する。
１の発散レンズ８によって発散され、第１の反射鏡ｌＯ
によって反射され、来光レンズ１２によって集光されプ
リグループＷ盛ＭＫ架布されている感光層を照射する。
ｍ号Ｓ、によって変調された長波長λ、のレーザ光ｔｉ
ｌｔ第２の発散レンズ９によって発散され、第２の反射
ｆｉｌｌによって：１１ 反射され、集光レンズ１２によって集光されプリグルー
プ原盤ＭＫ塗布されている感光層を照射する０ 焦点制御装ｆ１ｔ１４は透明反射ｆＭ１３、第２の発散
レンズ９、第２の反射ｆｉｌｌ及び集光レンズ１２を介
し、プリグループ原盤Ｍを照射する長波長λ鵞のレーザ
光のスポットを観測し、長波長λ雪のレーザ光がプリグ
ループ原盤Ｍに塗布されている感光層に焦点が結ばれる
ように、集光レンズ１２の上下位＆を制御する。
ｌｔ第２の発散レンズ９によって発散され、第２の反射
ｆｉｌｌによって：１１ 反射され、集光レンズ１２によって集光されプリグルー
プ原盤ＭＫ塗布されている感光層を照射する０ 焦点制御装ｆ１ｔ１４は透明反射ｆＭ１３、第２の発散
レンズ９、第２の反射ｆｉｌｌ及び集光レンズ１２を介
し、プリグループ原盤Ｍを照射する長波長λ鵞のレーザ
光のスポットを観測し、長波長λ雪のレーザ光がプリグ
ループ原盤Ｍに塗布されている感光層に焦点が結ばれる
ように、集光レンズ１２の上下位＆を制御する。
第４図に、プリグループ原盤の露光のために用いるレー
ザ光の波長を示す。図において横方向がプリグループの
方向であり、Ｃはアドレス・コード部、Ｄはデータ幅で
おる。アドレス部Ｃのうち、アドレス・コードに対応す
る所ｗ位１ｔｃｎ、Ｃｎ−１゜にはλ１とλ、のレーザ
光音照射し、データ部りにはλ！のレーザ光のみを照射
する。アドレス・コード部Ｃの所定位置に照射するλ曹
のレーザ光は露光のためには必ずしも公費なものではな
いが、前記の焦点制御のために公費なものである。
ザ光の波長を示す。図において横方向がプリグループの
方向であり、Ｃはアドレス・コード部、Ｄはデータ幅で
おる。アドレス部Ｃのうち、アドレス・コードに対応す
る所ｗ位１ｔｃｎ、Ｃｎ−１゜にはλ１とλ、のレーザ
光音照射し、データ部りにはλ！のレーザ光のみを照射
する。アドレス・コード部Ｃの所定位置に照射するλ曹
のレーザ光は露光のためには必ずしも公費なものではな
いが、前記の焦点制御のために公費なものである。
、′１
第５図は以上のようにしてレーザ光を照射して露光をお
こない現像処理を施したプリグループ原盤の部分断面図
を示す。アドレス・コードｓＣのうち、アドレスΦコー
ドに対応す・る所定位Ｆｔ、 Ｃｎ ＋Ｃｎ−１，・
にはλ／４の深さのノ（ターンが、またデータ部りに
はλ／８の深さの溝がそれぞれ形成される。
こない現像処理を施したプリグループ原盤の部分断面図
を示す。アドレス・コードｓＣのうち、アドレスΦコー
ドに対応す・る所定位Ｆｔ、 Ｃｎ ＋Ｃｎ−１，・
にはλ／４の深さのノ（ターンが、またデータ部りに
はλ／８の深さの溝がそれぞれ形成される。
上記実施例においては、感光Ｆ＠を形成する第１の感光
性樹脂層２及び第２の感光性樹脂１ｉｉ＋１）のいずれ
にもポジティブ型の感光性材料を用いたが、ネガティブ
型の感光性材料を用いる場合にも本発明ｔｍ用すること
ができる。
性樹脂層２及び第２の感光性樹脂１ｉｉ＋１）のいずれ
にもポジティブ型の感光性材料を用いたが、ネガティブ
型の感光性材料を用いる場合にも本発明ｔｍ用すること
ができる。
また、上配夾施例においては感光特性の異なる２種類の
感光性材料をλ／４ずつの厚さに豫ねて塗布して感光層
を形成し、波長の異なる２拉類のレーザ光を用いて露光
したが、感光特性の異なる３種類以上の感光性材料を用
い、波長の大なる３種類以上のレーザ光を用いて露光す
る一合・、及びまたは各の感光性材料の厚さを任意とす
る本台に本本発２１−適用することができる０ 以上説明したように、本発明によれは、元ディスクの読
取シに用いる照射レーザ光及びトラッキングに用いるレ
ーザ光の波長λの１／４及びｌ／８の深さの部分を有す
るプリグループ原盤を極めて容易に、且つ尚精度で４造
することカニできる。
感光性材料をλ／４ずつの厚さに豫ねて塗布して感光層
を形成し、波長の異なる２拉類のレーザ光を用いて露光
したが、感光特性の異なる３種類以上の感光性材料を用
い、波長の大なる３種類以上のレーザ光を用いて露光す
る一合・、及びまたは各の感光性材料の厚さを任意とす
る本台に本本発２１−適用することができる０ 以上説明したように、本発明によれは、元ディスクの読
取シに用いる照射レーザ光及びトラッキングに用いるレ
ーザ光の波長λの１／４及びｌ／８の深さの部分を有す
るプリグループ原盤を極めて容易に、且つ尚精度で４造
することカニできる。
第１図は２ｔ！ＩＩ類の感光性樹脂の感光特性−、第２
図にに光前のプリグループ原にの部分断面図、第３図は
ｂ光装置の光学系の系統図、石４図はプリグループ原盤
とその各部のに光に用いるレーザ光の波長を示す図、第
５図は現像後のプリグループ原盤の部分断面図であり、
第２図、第４図及び第５図において１は基板、２は第１
の感光性樹脂層、３Ｆｉ第２の感光性樹脂層を示す。 率 １ 図 寮 ２ Ｕ 夢 ３ 口 第 ５２
図にに光前のプリグループ原にの部分断面図、第３図は
ｂ光装置の光学系の系統図、石４図はプリグループ原盤
とその各部のに光に用いるレーザ光の波長を示す図、第
５図は現像後のプリグループ原盤の部分断面図であり、
第２図、第４図及び第５図において１は基板、２は第１
の感光性樹脂層、３Ｆｉ第２の感光性樹脂層を示す。 率 １ 図 寮 ２ Ｕ 夢 ３ 口 第 ５２
Claims (1)
- 感光特性が波長によりて異なる感光性拐料をそれぞれ所
定の厚さに基板上に重ねて館布して感光層を形成し、前
記６夕の感光性材料に対して辿ばれた異なる波長のレー
ザ光を個別または同時に照射して露光し、前記感光層に
深さの異なるパターンを形成することを特徴とする光デ
イスク用プリグループ原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14736381A JPS5850638A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 光デイスク用プリグル−プ原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14736381A JPS5850638A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 光デイスク用プリグル−プ原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5850638A true JPS5850638A (ja) | 1983-03-25 |
Family
ID=15428506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14736381A Pending JPS5850638A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 光デイスク用プリグル−プ原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5850638A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6050733A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-20 | Sony Corp | 光学式記録媒体及びその原盤の製造装置 |
| JPS6050848A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-20 | Wako Gomme Kogyo Kk | アノ−ドキヤツプのｘ線漏出防止装置 |
| JPS60170045A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-09-03 | Pioneer Electronic Corp | アドレス，案内溝付光デイスク製造方法 |
| JPS61153850A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスク用原盤およびその製造方法 |
| JPS63298839A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤の作成装置 |
| EP0596439A2 (en) * | 1992-11-05 | 1994-05-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of making a master disc usable for the production of optical discs |
| KR100263878B1 (ko) * | 1997-09-30 | 2000-08-16 | 윤종용 | 광디스크제작용마스터디스크제조방법 |
| WO2006003541A1 (en) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Record carrier and methods for writing a record carrier |
-
1981
- 1981-09-18 JP JP14736381A patent/JPS5850638A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2006003541A1 (en) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Record carrier and methods for writing a record carrier |
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