JPS5933645A - 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、集光したレーザー光による情報の書込み又は
読取シ可能な情報記憶媒体を多量に生産する場合に用い
られる情報記憶媒体用原盤及びその製造方法に関するも
のである。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

情報記憶媒体としては、ディジタルオーディオディスク
（ＤＡＤ　）に用いられるコンパクトディスク（ＣＤ）
や光学式ビデイオディスクに代表されるようにディスク
形状やテープ形状をし、集光したノーデー光によシ情報
を読取ることが可能な読取シ専用の情報記憶媒体、画像
ファイルやコンピュータアウトプットメモリ（ＣＯＭ　
）などに用いられているもののようにディスク形状やテ
ープ形状をし、集光したレーザー光によシ記録層に対し
て情報の書込みやそこからの情報の読取シが可能な記録
再生用情報記憶媒体及び消去可能な情報記憶媒体などを
挙げることができる。

このような情報記憶媒体は、情報の高密度化を図るため
にトラックピッチが狭くなっている、このため）読取り
又は書込み時に光学ヘッドを所定のトラックに追従させ
るために、予め情報記憶媒体にはトラッキングガイドが
設けられている。さらに情報を記録した位置を示すトラ
ック番号やセクタ位置を事前に記録しておけば、記録再
生装置によるソフトウェアが楽になるため、前記トラッ
キングガイドは信号情報用ビットを併せ備えたもの（プ
リフォーマツティング付きトラッキングガイド）となっ
ている。

上記トラッキングガイドと信号情報用ビットは表面との
凹凸によって形成されており、そこからの反射光量の相
違などを情報として読取るようになっている。よってト
ラッキングガイドは、これから反射した光の回折パター
ンによるトラックずれ検知信号を大きくして安定したト
ラッキングができるように、例えば深さがλＡ（λは読
取用レーザー光の波長である。以下同じ）で、幅が０．
６〜０．８μｍ程度の方形状の凹溝となっている。また
信号情報用ビットは、最大の変調度（信号情報用ビット
の真上に読取多用レーデ−光を照射したとき〜そこから
の反射光強度が最も小さいということ）をとれるように
、深さがλ／４で幅が読取用レーデ−光のス、Ｊ？ット
ッ°イズの１／３程度に設定されている。

このようなトラッキングガイドや信号情報用ビットを備
えた情報記憶媒体を多量に生産するためには一トラッキ
ングガイドや信号情報用ビットを形成すべき凹凸を備え
た原盤を形成し、この原板の凹凸を種々の工程によって
情報記憶媒体の基板表面に転写することになる。

ところで、上記原盤の製造段階でトラッキングガイドと
信号情報用ビットを作るための方法としては次のものが
知られている。すなわち、表面を研磨したガラス基板上
にフォトレジスト層を形成し、信号情報用ビットを形成
する部分では充分な光量のレーザー光を照射することに
よって基板忙到達するまで穴をあけ、トラッキングガイ
ドを形成する部分ではレーザー光の光景を減らしてフォ
トレジスト層の途中の深さまで溝を設けてゆく。

このようにして深さの異なるトラッキングガイドと１信
号情報用ビットとを形成する。しかしながら、フォトレ
ジスト層の感度はレーザー露光前のフォトレジスト層の
状態によシ異なったり、或いはトラッキングガイドの深
さが至る所で均一になるようにレーザー光の露光量を制
御することは極めて難しいため、トラッキングガイドや
信号情報用ビットを精度良く形成することができないと
いう問題点があった。

また特開昭４８−８５０２５に記載されているように、
感度を異にするフォトレジスト層を複数層形成してトラ
ッキングガイドや信号情報用ビットを設ける方法がある
が、フォトレジストは溶剤に溶けやすいので、溶剤に溶
かした数種のフォトレジストを積層して塗布するとき、
下地のフォトレジスト層が侵されやすいという問題点が
あった。

さらにフォトレジストを均一に複数層塗布することは技
術的に困難であるという問題点があった。

〔発明の目的〕

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであシ、比較的
容易な方法で作成することができるとともに、トラッキ
ングガイドと信号情報用ビットとの精度が良好で、ひい
ては情報記憶媒体の生産性の向上と製造コストの低減と
を図ることのできる情報記憶媒体用原盤及びその製造方
法を提供することを目的とするものである。

〔発明の概、要〕

第１の発明は記憶された情報をレーザー光によって読取
ることが可能な情報記憶媒体を製造するための原盤にお
いて、一層から成る凹凸形成層にトラッキングガイドと
信号情報用ビットとを備え１ていることを特徴とするも
のである。

第２の発明は記憶された情報を集光したレーザー光によ
って読取ることが可能な情報記憶媒体の原盤を製造する
にあたシ、少なくとも、凹凸形成層を得る第１工程と、
前記凹凸形成層にトラッキングガイドを形成する第２工
程と、前記トラッキングガイドをトレースしながら前記
凹凸形成層に信号情報用ビットを設ける第３工程とを含
むことを特徴とするものである。

〔発明の実施例〕

次に本発明を図面を参照しながら説明する。

第１図（、）〜（ｆ）は本発明の第１の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図である。

先ず、表面を研磨した基板例えばガラス製の基板を凹凸
形成層１として得る。そしで第１図（ａ）に示すように
、前記凹凸形成Ｊ＠１の表面にフォトレジストをスピナ
コーティングしてフォトレジストＮ２を形成する。さら
に、対物レンズ３にて集光したレーザー光で前記フォト
レジスト層２の表面を同心円状又はス・母イ２ル状に露
光し、フォトレジスト露光部４を形成する。そして前記
フォトレジスト層２を現像定着して前記フォトレノスト
露光部４を除去し、除去した部分から前記凹凸形成層１
を露出させるようにする。

次に、第１図伽）に示すように、上述のごとくマスキン
グされた凹凸形成層１の露出部分をエツチングし、深さ
７００Ｘの溝から成るトラッキング’！’ｆド５を形成
する。ここでトラッキングガイド５の深さ７００Ｘは一
例であり、読取用レーデ−光の波長をλとした場合にお
いてλカに相当するものである。なお前記エツチング液
は、フッ酸６チとフッ化アンモニウム４０チの混合液が
望ましい。その後、有機溶剤にて前記フォトレジスト層
２を溶解して除去する。

次に、第１図（ｃ）に示すように、例えば基壁蒸着法に
よシ厚さ５００ＸのＣｕから成る光反射層６を前記凹凸
形成層ｌの表面に設ける。そして、その上に７オトレジ
ストを充分岸くスピナコーティングして再度フォトレジ
スト層７を形成する。その後前記凹凸形成層ｌをターン
テーブルに載置して対物レンズ３で集光したレーザービ
ームスポットにヨシ前配トラッキングＩイド５土をトレ
ースする。このトレース中に所望の位臘で部分的にレー
ザー光の光量を増大してフォトレジスト露光部８を形成
する。そして７オトレノスト層７を現像定着して前記フ
ォトレノスト露光部８を除去し、除去した部分から前記
光反射層６を露出゛させる。さらに、このように７オト
レジスト層７でマスキングされた゛光反射層６の露出部
分をエツチングして翫その部分の光反射層６を除去して
凹凸形成層１を露出させる。なお、このときのエツチン
グ液としては５５チ濃度の硝酸第２鉄水溶液が望ましい
。

そして、第１図（ｅ）に示すように、上記のごとく露出
された凹凸形成層ｌを部分的にエツチングして信号情報
用ビット９を形成する。なお、εのときのエツチング液
はフッ酸６係とフッ化アンモニ゛ウム４０％の混合液が
望ましい。この信号情報用ビット９の深さは１４００Ｘ
である。さらに有機溶剤によって７オトレジスト層７を
完全に溶解して除去するとともに、残った光反射層６を
ｓ　５　％　ｙＨ度の硝酸第２鉄水溶液で除去すると第
１図（ｆ）に示すように、トラッキングガイド５と信号
情報用ビット９とを備えた原盤が形成されることになる
。なおトラッキングガイド５の深さは７００Ｘであシ、
読取用レーデー光の波長をλとした場合にλカに相当す
るものである。また信号情報用ビット９の深さは１４０
０Ｘであシ、読取用レーザー光の波長をλとした場合に
λ／４に相当するものである。

このような原盤は第１図Ｖ）から明らかなように１一層
から成る凹凸形成層にトラッキングガイド及び信号情報
用ビットが均一な深さで形成されているので、４１４成
が極めて亀単になる。

上記のような方法によって情報記憶媒体用原盤を製造す
れば、次に挙げる特治の効果を発揮する。

（イ）　従来のごとくフォトレジストを均一に塗布する
必要がないので、フォトレジスト層の形成を容易かつ迅
速に行なうことができ、ひいては製造の容易化を図るこ
とができる。

（ロ）　トラッキングガイドの形成及び信号情報用ビッ
トの形成をともにエツチングによって行なうので、製造
プロセスの簡易化と製造設・諦の小規模化を図ることが
できる。

（ハ）　基板を凹凸形成層とし、これにトラッキングガ
イドと信号情報用ビットとを形成するので１凹凸形成層
を設ける工程を簡素化することができる。

に）　トラッキングガイド又ｔｉ化号情報用ピットはエ
ツチングによって形成されるので、その深さを容易に均
一化でき、かつ所望の深さに形成することができる。

次に本発明の第２の実施例について説明する。

第２図（、）〜（、）は・本発明の第２の実施例たる製
造方法を工程順忙示す断面図である。

第１の実施例で説明したと同様の工程については、詳細
な説明を省略する。トラッキングガイρ５を形成するま
での工程（第２図（ａ）　、　（ｂ）　）は第１の実施
例と同じであるので、それ以降の異なる工程（でついて
説明する。

先ず、トラッキングガイド５が形成さｉした凹凸形成層
ｌからフォトレノスト層２を溶解して除去する（第２図
（ｂ）に示す状態）。その後第２図（ｃ）に示すように
、真空蒸着法によって凹凸形成層１に厚さ３００Ｘ程度
で光反射性の感光物質例えばＴｅ。

Ｓｅ、又はＡｔなどから成る光反射性感光Ｎ１ｏを形成
する。その後前記凹凸形成Ｊ＠１をターンテーブルに載
置して対物レンズで集光したレーザービームス列ビット
を前記トラッキングガイド５に沿うてトレースさせる。

このトレース中に、所望の位置で部分的にレーザー光の
光量を増大して前記光反射性感光層１０を部分的に除去
する。除去された部分からは凹凸形成層１が露出する。

さらに、このように光反射性感光層１０でマスキングさ
れ次回凸形成層１の露出部分をエツチングし、第２図（
ｄ）に示すようにその部分に信号情報用ビット９を形成
する。なお、このときのエツチング液はフッ酸６ｑ６と
フッ化アンモニウム４０％の混合液が望ましい。また信
号情報用ピット９の深さは１４００Ｘである。

そして、上記凹凸形成層１をアルカリ性溶液中に浸して
前記光反射性感光層１０を除去することによシ、第２図
（、）に示すようなトラッキングガイド５と信号情報用
ビット９とを備えた情報記憶媒体用原盤が作られること
になる。

上記のような方法によって情報記憶媒体用原盤を製造す
れば、次に挙げる特有の効果を発揮する。

（イ）光反射性感光層は、トラッキングガイドのトレー
ス時における光反射層としての機能と、信号情報用ビッ
ト形成時におけるエツチング用マスクとしての機能との
双方を併せ備えるので製造工程の減少を図ることができ
る。

（ロ）光反射性感光層の部分的除去加工は精度が高いの
で、信号情報用ビットやトラッキングガイドの寸法精度
を向上させることができ、かつ安定してそれらを形成す
ることができる。

次に本発明の第３の実施例について説明する。

第３図（ａ）〜（Ｃ）は、本発明の第３の実施例たる製
造方法を工程順に示す断面図である。

先ず、第３図（、）に示すように、表面を研磨したガラ
ス製の基板１１上に凹凸形成層１２として例えばＣｕを
厚さ１４００Ｘで真空蒸着する。ここで厚さ１４００Ｘ
は一例であシ、読取用１／−デー光の波長をλとした場
合においてはλ／４に相当するものである。なお、凹凸
形成層１２け、前記ガラス製の基板１１よりも軟質な例
えばＡｔ、　Ｉｎ　、　Ｐｂ　、　Ｔｅ又はＺｎなどに
することもできる。そして機械的カッティングの刃例え
ばダイアモンド９′１１３で前記凹凸形成層１２に同心
円状又はスフ９イラル状の溝を設けて、深さ１４００Ｘ
のトラッキングガイド１４を形成する。なお、前記基板
１１は凹凸形成層１２よシも硬質であるので、ダイアモ
ンド針は基板１１と凹凸形成層１２との境界面よシも深
く入ることがない。このためトラッキングガイド１４の
深さは凹凸形成層１１の厚さによって一義的に定まシ均
一となる。

その後′、第３図（ｂ）に示すように、前記凹凸形成１
藝１２の上表面に７オトレノストをスピナーコーティン
グしてフォトレジスト層１５を形成する。

そして前記基板１１をターンテーブルに載置して対物レ
ンズ３で集光したレーザービームスポットを前記トラッ
キングガイド１４に沿ってトレースさせる。このトレー
ス中゛に所望の位置で部分的にレーザー光の光量を増大
してフォトレジスト露光部１６を形成する。そしてこの
フォトレジスト層１５を現像定着することによって前記
フォトレジスト露光Ｈ＋＋　１６を除去し、そこに凹凸
形成層１２を露出さぜる。

次に、第３図（Ｃ）に示すように、露出されている凹凸
形成層１２をエツチングして、深さ１４００Ｘの深さの
信号情報用ビット１７を形成する。その後第１の実施例
と同様にフォトレジスト層１５を除去することによシ、
原盤が作らｔしることになる０上記のような製造方法に
よ）つては、均一々厚さで形成された凹凸形成層を機械
的にカッティングしてトラッキングガイドを形成するの
で、製造工程を簡素化でき、かつ容易に深さを均一にす
ることができるという特有の効呆を有するもＧ′？であ
る。

なお、トラッキングガイド６深さく伐）Ａ（λ：読読取
用レーザ先光波長）′であっても断面形状がＶ字状であ
るので、この原盤によって１１！造される情報記憶媒体
は、回折パターンによるトラックずれ検知信号が大きく
、かつ安定したトラッキング各可能にすることは言うま
でもない。

次に本発明の第４の実施例について説明する。

第４図（−）〜（Ｃ）は、本発明の第４の実施例たる製
ｊ′１′（方法を工程順に示す断面図である。

第３の実施例と同一の部材に一同符号を旬してその詳細
な説明を省略する。異なる）°ロセスとしては、先ず沃
４図（、）に示すように表面を研１２　したガラス製の
基板１１上に凹凸形成層１２として例えばフォトレジス
トを厚さ１４００Ｘでスピナコーティングする。そして
前述と同様に機械的カッティングによってトラッキング
ガイド１４を形成する。その後、凹凸形成層１２に光反
射層１８として例えば厚さ５０ＸのＡｔを真空蒸着する
。そして第３の実施例と同様に前記トラッキングガイド
１４を集光したレーザー光でトレースする（第４図（ｂ
）参照）。そして、このトレース中に所望の位置でＢ１
１分的にレーザーブＬの光量を増大してＡｉｌ記光反躬
層１８を精■ｒ除去し、かつ除去されて露出さｆ’した
凹凸形成層１２に７オトレジスト露光部１６を形成する
。その後、前記光反射層１８を除去するとともに、凹凸
形成層を現像定着して前記フォトレノスト露光部１６を
除去し、信号情報用ピット１７を形成する。このように
して第４［Ｊ（ｅ）に示す」：うな原盤が作られる。

上記のような製造方法にあっては、凹凸形成層とじて７
オトレノストを一層だけ設けｊｔば済むので、製造工程
を比較的簡素化することができる。

なおトラッキングガイドの深さはλ／４であるが、第３
の実施例同様に安定したトラッキングを確保できること
は言うまでもない。

次に本発明の第５の実施例について説明する。

第５図は、本発明の第５の実施例たる製造工程の特徴的
工程゛を示す断面図である。

第３の実施例と同一の部材には同符号を付してその詳細
な説明を省略する。異なるグロセスとしては、先ず凹凸
形成層１２として感光性物質或いは熱昇華性物質例えば
Ｔｅを厚さ１４００Ｘで真空蒸着する。なお凹凸形成層
１２は、ＴｅのほかにＢｉ　ｒＳｅ又はＡｔなどを用い
ることもできる。そして前述と同様に機械的カッティン
グによってトラッキングガイド１４を形成する。そして
第３の実施例と同様に集光したレーザー光で前記トラッ
キングガイド１４をトレースする。そして、このトレー
ス中に所望の位置で部分的にレーザー光の光量を増大し
て凹凸形成層を除去しく以下単に精密除去加工ともいう
）、深さ１４００Ｘの信号情報用ビット１７を形成する
。このような工程を経て原盤が作られる。

上記のような製造方法にあっては、直接レーザー光によ
って凹凸形成層を除去することによって信号情報用ピッ
トを形成するので、製造工程を簡素化でき、かつエツチ
ングむらを生ずる心配がないという特有の効果を有する
ものである。また機械的カッティングによって形成され
たトラッキングガイドに重ねて信号情報用ぎットを形成
するので、トラッキングガイドたる溝の作用により、レ
ーザー光による除去加工を効率的に行なうことができる
という特有の効果を有するものである。

次に本発明の第６の実施例について説明する。

第６図は本発明の第６の実施例たる製造工程の特徴的工
程を示す断面図である。

第５の実施例と同一の部材には同符号を付してその詳細
な説明を省略する。第５の実施例と異なるグロセスは、
特開昭５１−８８２０１に記載されているごとく表面を
研磨したガラス板を基に銀の無電解メッキ、Ｃｒメッキ
を行なって１．０園厚のクローム板を形成する。このク
ローム板は感光性ないし熱昇華性でおυ、これを凹凸形
成層１２とするものである。そしてトラッキング、Ｉｆ
ガイド４と信号情報用ピット１７とを第５の実施例と同
様に形成して原盤が作られる。

上記のような製造方法によれば、はぼ第５の実施例と同
様の効果を得るととができる。

次に本発明の第７の実施例について説明する。

第７図（−）〜（ｅ）は、本発明の第７の実施例たる製
造方法を工程順に示す断面図である。

先ず、第７図（、）に示すように、表面を研磨したガラ
ス基板１１上に凹凸形成／１４１２を設ける。この凹凸
形成層１２は、公知の真空蒸着法やス／＜’ツタ蒸着法
などによパ光反射性のある金属材料例えばＡｔを厚さ１
４００Ｘで形成されている。ここで厚さ１４００Ｘは一
例であシ、読取用レーザー光の波長をλとした場合にお
いてλ／４に相当す２るものである。そして前記凹凸形
成層１２にフォトレジストをスピナコーティングしてフ
ォトレジスト層１５を形成する〇 そして、集光したレーザー光で前記フォトレジス）ｗｉ
１５０表面を同心円状又はス・ぞイラル状に露光し、そ
の後これを現像定着して第７図（ｂ）に示すようにフォ
トレジストｊ？Ｍ１５を部分的に除去する。

次に、このようにして残ったフォトレジスト層１５をマ
スクとし、このマスクから露出している凹凸形成層１２
をエツチングしてトラッキングガイド１４を形成する（
第７図（ｃ）参照）。なお、トラッキングガイド１４を
形成するときのエツチング深さは例えば７００Ｘでちる
。またエツチング液としては、例えば１０％濃度の水酸
化ナトリウム溶液が望ましい。そして前記フォトレジス
ト層１５を除去する。

さらに、第７図（ｄ）に示すように、再度フォトレジス
トをスピナコーティングしてフォトレジスト層１５を形
成する。その後前記基板１１をターンテーブルに載置し
て回転し、対物レンズ３で集光シタレーザービームスＩ
ットにより　前述（Ｄ　）　ラｙキングガイド１４をト
レースする。このトレース中所望の位置で部分的にレー
ザー光の光量を増大してフォトレジスト露光部１６を形
成する。そしてこのフォトレジスト層１５を功、＠定着
し、これによって前記フォ、トレジスト露光ｇＢ１６を
除去し、この位置に対応して前記凹凸形成層１２を部分
的に露出させる。

そして、前記トラッキングガイドの形成の場合と同様に
フォトレジスト層１５をマスクとし、このマスクから露
出している凹凸形成層１２をエツチングして信号情報用
ピット１７を形成する。そノ後、有機溶剤によって前記
フォトレジスト層１５を完全に溶解除去すると第７図（
ｅ）に示すような原盤が作られることになる。　　　　
　　　　　　　′。

上記のような製造方法にあっては、凹凸形成層と基板と
の境界面に達するまで凹凸形成層をエツチングして信号
情報用ピットを形成するので、凹凸形成層の厚さを均一
にすれば、信号情報用ピットの深さを至る所均−にする
ことができるという特有の効果を有する。また凹凸形成
層は、それ自体光反射性のある材料で形成されているの
で、トラッキングガ、イドの表面に光反射用の特別の処
］Ｊｊをしなくても１α接レーザー光でトラッキングガ
イドをト１／−スすることができるという特有の効果を
有する。

木発すＪの上記各実施例は一例であシ、本発明の要旨の
範ｔ２Ｉｔ内において利１々の変形実施が可能である。

例えばエツチングは、ケミカルエツチングだけで乃、＜
、ドライエツチングを利用することも可能である。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明の情報記−６深さ
で形成さ紺ているので、構成が極めて簡単であシ、さら
にこのような原盤によって量産される情報記憶媒体から
の正確な情報の読取りが可能になる々どの優れた効果を
有するものである。

また、このような原盤を製造するためのものである本発
明の情報記憶媒体用原盤の製造方法にあっては、比較的
容易な方法で作成することができるとともに、トラッキ
ングガイドと信号情報用ピッを図ることができるなどの
優れた効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図（、）〜（ｆ）は本発明の第１の実施例たる製造
方法を工程順に示す断面図、第２図（、）〜（ｅ）は本
発明の第２の実施例たる製造方法を工程順に示す断面図
、第３図（、）〜（ｃ）は本発明の第３の実施例たる製
造方法を工程順に示す断面図、第４図（ａ）〜（ｃ）は
本発明の第４の実施例たる製造方法を工程順に示す断面
図、第５図は本発明の第５の実施例たる製造工程の特徴
的工程を示す断面図、第６図は本発明の第６の実施例た
る製造工程の特徴的工程を示す断面図、第７図（、）〜
（、）は本発明の第７の実施例たる製造方法を工程順に
示す断面図である。 １・・・凹凸形成層、５・・・１ラツキングガイド、９
・・・信号情報用ピット、１１・・・基板、１２・・・
凹凸形成層、１４・・・トラッキングガイド、１７・・
・イハ号情報用ビット。 第５図 第６図 弔　　７　　図

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　記憶された情報をレーザー光によって読取る
   ことが可能な情報記憶媒体を製造するための原盤におい
   て、一層から成る凹凸形成層にトラッキングガイドと信
   号情報用ビットとを備えていることを特徴とする情報記
   憶媒体用原盤。
2. （２）　　記憶された情報を集光したレーザー光によっ
   て読取ることが可能な情報記憶媒体の原盤を製造するに
   あたシ、少なくとも、凹凸形成層を得る第１工程と、前
   記凹凸形成層にトラッキングガイドを形成する第２工程
   と、前記トラッキングガイドをトレースしながら前記凹
   凸形成層に信号情報用ビットを設ける第３工程とを含む
   ことを特徴とする情報記憶媒体用原盤の製造方法。
3. （３）　　前記第１工程は、表面を研磨した基板を凹凸
   形成層として利用することを特徴とする特許請求の範囲
   第２項記載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。
4. （４）前記第１工程は表面を研磨した基板上に凹凸形成
   層を積層することを特徴とする特許請求の範囲第２項記
   載の情報記憶媒体用原盤の製造方法。
5. （５）前記第２工程は、前記凹凸形成層をエツチングし
   てトラッキングガイドを形成することを特徴とする特許
   請求の範囲第３項又は第４項記載の情報記憶媒体用原盤
   の製造方法。
6. （６）前記第２工程は、前記凹凸形成層を機械的にカッ
   ティングしてトラッキングガイドを形成することを特徴
   とする特許請求の範囲第４迎記載の情報記憶媒体用原盤
   の製造方法。
7. （７）前記第３工程は、前記凹凸形成層をエツチングし
   て信号情報用ビットを形成することを特徴とする特許請
   求の範囲第５項又は紀６項記載の情報記憶媒体用原盤の
   製造方法。
8. （８）前記第３工程は、集光したレーザー光で前記凹凸
   形成層を部分的に除去することによって信号情報用ビッ
   トを形成することを特徴とする特許請求の範囲第５項又
   は第６項記載のＩＮ報記憶媒体用原盤の製造方法。