JPS60209939A - 情報記録原盤の製造方法 - Google Patents
情報記録原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPS60209939A JPS60209939A JP6555884A JP6555884A JPS60209939A JP S60209939 A JPS60209939 A JP S60209939A JP 6555884 A JP6555884 A JP 6555884A JP 6555884 A JP6555884 A JP 6555884A JP S60209939 A JPS60209939 A JP S60209939A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive material
- depth
- lambda
- material layer
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2407—Tracks or pits; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24085—Pits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はレーザ光によって情報を記録・再生することの
できる光学記録媒俸の情報記録原盤の製造方法をこ関す
る。
できる光学記録媒俸の情報記録原盤の製造方法をこ関す
る。
（従来技術とその問題点）
光ディスク等の光学記録方式は光学記録方式にレーザ光
を照射して、局部的に温度を上昇させ、所定終位置に穢
何学的形状変化（ビット）を形成するか或いは所定位置
の光反射特性または磁化特性等を変化させることによっ
て情報の書き込みを行ない、所定位置における反射光、
透過元首たは磁化方向等を検知することによって情報の
読み出しを行なうものであり、記憶容量が磁気記録方式
に比して非常をこ大きく、かつ価格が低いという特徴が
あり、大容量ファイル方式として非常に注目されている
。
を照射して、局部的に温度を上昇させ、所定終位置に穢
何学的形状変化（ビット）を形成するか或いは所定位置
の光反射特性または磁化特性等を変化させることによっ
て情報の書き込みを行ない、所定位置における反射光、
透過元首たは磁化方向等を検知することによって情報の
読み出しを行なうものであり、記憶容量が磁気記録方式
に比して非常をこ大きく、かつ価格が低いという特徴が
あり、大容量ファイル方式として非常に注目されている
。
元ディスクにふいては、光学記録媒俸を回転させ、同心
円或いは螺旋状基こ情報の書き込みを行なうものである
。この同心円或いは螺旋のピッチは通常１．５〜２．５
μ１ｍと非常に小さな値とすることにより、情報の高密
度化を実現している。このような高密度記録を行なうた
めに、記録謀俸の基板には案内溝が同心円或いは螺旋状
に設けられ、これを情報書き込み及び読み取り用へ、ド
のサーボトラックとして利用するとともに、その上船こ
情報の書き込みを行なっている。このようｌこあらかじ
め設ける同心円或いは螺旋状の案内溝には、ランダムア
クセスの記録・再生ができるようにアドレスコードを設
けているか、または特定な情報コードを設けている。
円或いは螺旋状基こ情報の書き込みを行なうものである
。この同心円或いは螺旋のピッチは通常１．５〜２．５
μ１ｍと非常に小さな値とすることにより、情報の高密
度化を実現している。このような高密度記録を行なうた
めに、記録謀俸の基板には案内溝が同心円或いは螺旋状
に設けられ、これを情報書き込み及び読み取り用へ、ド
のサーボトラックとして利用するとともに、その上船こ
情報の書き込みを行なっている。このようｌこあらかじ
め設ける同心円或いは螺旋状の案内溝には、ランダムア
クセスの記録・再生ができるようにアドレスコードを設
けているか、または特定な情報コードを設けている。
案内溝の幅は通常０．３〜０．８μｍ前後であるが、周
知のように、情報の読み出しに用いる照射光の波長をλ
とするとき、案内溝の深さがλ／４ のとき反射光はゼ
ロとなり、情報の薔込みにおいて光ディスクに形成した
穴と同様な効果が得られる。
知のように、情報の読み出しに用いる照射光の波長をλ
とするとき、案内溝の深さがλ／４ のとき反射光はゼ
ロとなり、情報の薔込みにおいて光ディスクに形成した
穴と同様な効果が得られる。
また、案内溝の深さがλ／８ のときに最大のトラッキ
ング精度が得られる。したがって上述のような方式の元
ディスクにおいては、アドレスコード部に設ける案内＃
深さはλ／４ ♂し、データ部の案内溝深さはλ／８
としている。
ング精度が得られる。したがって上述のような方式の元
ディスクにおいては、アドレスコード部に設ける案内＃
深さはλ／４ ♂し、データ部の案内溝深さはλ／８
としている。
このような案内溝を備えるディスクは通常感光性樹脂を
用いて原盤を製造し、この原盤を用いメッキ等の方法に
よって金型を製造し、この金型を用いて量産するのであ
るが、原盤にλ／４ の深さの部分とλ／８の深さの部
分を高精度で形成することは極めて困＠な作業であった
。
用いて原盤を製造し、この原盤を用いメッキ等の方法に
よって金型を製造し、この金型を用いて量産するのであ
るが、原盤にλ／４ の深さの部分とλ／８の深さの部
分を高精度で形成することは極めて困＠な作業であった
。
（発明の目的）
本発明の目的はλ／４の深さの部分とλ／８の深さの部
分から成る案内溝原盤を高ｒ〜度でしかも容易に製造す
る方法を提供することである。
分から成る案内溝原盤を高ｒ〜度でしかも容易に製造す
る方法を提供することである。
（発明の構成）
本発明は、基板の上に第１の感光性材料層を形成し、そ
の上に第２の感光性材料層を形成し、記録すべき信号に
より変調された光ビームを照射して該第１及び第２の感
光性材料層を露光し、現像する情報記録原盤の製造方法
において、前記第１の感光性材料よりも前記第２の感光
性材料の方を前記元ビームに対して高１・お度な材料と
することにより深さの異なるパターンを形成したことを
特徴とする。
の上に第２の感光性材料層を形成し、記録すべき信号に
より変調された光ビームを照射して該第１及び第２の感
光性材料層を露光し、現像する情報記録原盤の製造方法
において、前記第１の感光性材料よりも前記第２の感光
性材料の方を前記元ビームに対して高１・お度な材料と
することにより深さの異なるパターンを形成したことを
特徴とする。
（構成の詳細な説明）
本発明は上述の構成をとることにより従来技術の問題点
を解決した。
を解決した。
以下、図を用いて本発明を詳ＭＪＪｃこ説明する。
第１図は２種類の感光性樹脂の感光特性を示し、Ａは第
１の感光性樹脂の感光特性、Ｂは第２の感光性樹脂の感
光特性である。すなわち、第１の感光性樹脂よりも第２
の感光性樹脂の方が露光量に対して現像速度が大きく高
感度である。
１の感光性樹脂の感光特性、Ｂは第２の感光性樹脂の感
光特性である。すなわち、第１の感光性樹脂よりも第２
の感光性樹脂の方が露光量に対して現像速度が大きく高
感度である。
第２図は露光および現像を行なう前の案内溝原盤の部分
断面図を示し、ｌは基板、２は第１の感光性樹脂層、３
は第２の感光性樹脂層である。第１の感光性樹脂層２及
び第２の感光性樹脂層３は基板ｌの上≦こ回転塗布法等
の方法ζこよって順次重ねて塗布する。それぞれの層の
厚さは、元ディスクに書込んだ情報の読出しにおいて用
いる照射光の波長λの青とする。したがって感光層の厚
さは合わせてλ／４となる。
断面図を示し、ｌは基板、２は第１の感光性樹脂層、３
は第２の感光性樹脂層である。第１の感光性樹脂層２及
び第２の感光性樹脂層３は基板ｌの上≦こ回転塗布法等
の方法ζこよって順次重ねて塗布する。それぞれの層の
厚さは、元ディスクに書込んだ情報の読出しにおいて用
いる照射光の波長λの青とする。したがって感光層の厚
さは合わせてλ／４となる。
第３図に案内溝原盤の露光のための露光エネルギーを示
す。図ｔこおいて横方向が案内溝の方向であり、Ｃはア
ドレスコード部、Ｄはデータ部である。アドレスコード
８０のうち、コー自こ対応する位置曇こは露光エネルギ
ーＱ、でレーザ光を照射し、データｉＤにはＱｌより小
さなａ元エネルギーＱ、でレーザ光を照射する。
す。図ｔこおいて横方向が案内溝の方向であり、Ｃはア
ドレスコード部、Ｄはデータ部である。アドレスコード
８０のうち、コー自こ対応する位置曇こは露光エネルギ
ーＱ、でレーザ光を照射し、データｉＤにはＱｌより小
さなａ元エネルギーＱ、でレーザ光を照射する。
第４図は以上のようにしてレーザ光を照射して露光を行
ない、しかる後現像処理を施した案内溝原盤の部分断面
図である。アドレスコード部Ｃのパターン深さはλ／４
、データ部りのパターン深さはλ／８として容易に形
成される。これは、感光性樹脂層を２層とし、上層の感
光性樹脂を高感度をこしたことによっている。すなわち
、データ部の露光エネルギーは上Ｎ感光性樹脂が溶解す
る露光量でかつ下層感光性樹脂がほとんど溶解しない露
光量に設足し、アドレスコード部の露光エネルギーは下
層感光性樹脂が溶解する露光量に設定することが本発明
の構成にすることで容易に得られることによりている。
ない、しかる後現像処理を施した案内溝原盤の部分断面
図である。アドレスコード部Ｃのパターン深さはλ／４
、データ部りのパターン深さはλ／８として容易に形
成される。これは、感光性樹脂層を２層とし、上層の感
光性樹脂を高感度をこしたことによっている。すなわち
、データ部の露光エネルギーは上Ｎ感光性樹脂が溶解す
る露光量でかつ下層感光性樹脂がほとんど溶解しない露
光量に設足し、アドレスコード部の露光エネルギーは下
層感光性樹脂が溶解する露光量に設定することが本発明
の構成にすることで容易に得られることによりている。
（実施例）
以下本発明の実施例について詳細に説明する。
直径２００調、厚さ６簡のガラス基板上に第１の感光性
材料層としてフォトレジストＡ Ｚ ２４００ （商品
名、シラプレー社製）を７００ Ｘ厚に回転塗布し、ソ
Ｃｌ） 上に第２の感光性材料層としてフォ卜レジスト
ＡＺ１３５０（商品名、シラプレー社製）を７０ＯＡ厚
をこ回転塗布した。１８００ｒｐｍで基板を回転しなが
らアルゴンレーザで第３図のように露光した後、ＡＺデ
ベロッパー（シラプレー社）を純水で希釈したものを現
像液として使用して現像すると、アドレスコード部の深
さがおよそλ／４ 、データ部の深さがおよそλ／８
（λは読出し用半導体レーザの波長）の良好なパターン
を容易に形成できた。
材料層としてフォトレジストＡ Ｚ ２４００ （商品
名、シラプレー社製）を７００ Ｘ厚に回転塗布し、ソ
Ｃｌ） 上に第２の感光性材料層としてフォ卜レジスト
ＡＺ１３５０（商品名、シラプレー社製）を７０ＯＡ厚
をこ回転塗布した。１８００ｒｐｍで基板を回転しなが
らアルゴンレーザで第３図のように露光した後、ＡＺデ
ベロッパー（シラプレー社）を純水で希釈したものを現
像液として使用して現像すると、アドレスコード部の深
さがおよそλ／４ 、データ部の深さがおよそλ／８
（λは読出し用半導体レーザの波長）の良好なパターン
を容易に形成できた。
なお、パターン形成においてより高精度に深さ制御する
には、上層のフォトレジストの溶剤を下層のフォトレジ
ストをあまり溶解しない溶剤にするか或いは、感光剤の
材質を上層と下層とでかえて、フォトレジストシンナ一
に対する溶解性を下層の方が悪くなるようにすればよい
。
には、上層のフォトレジストの溶剤を下層のフォトレジ
ストをあまり溶解しない溶剤にするか或いは、感光剤の
材質を上層と下層とでかえて、フォトレジストシンナ一
に対する溶解性を下層の方が悪くなるようにすればよい
。
（発明の効果）
上記笑施例から明らかなように、本発明により深さの異
なる案内溝を有する原盤を高精度でしかも容易に製造す
る方法が得られる。
なる案内溝を有する原盤を高精度でしかも容易に製造す
る方法が得られる。
第１図は２種類の感光性樹脂の感光特性図、第２図は露
光前の案内溝原盤の概略図、第３図は露光の方法を説明
するための図、第４図は現像後の案内溝原盤の概略図で
あり、図において、ｌは基板、２は第１０）感光性材料
層、３は第２の感光性材料層を示す。 第１図 現像速度 露光エネル↑°ゝ 蜜７図 第３図
光前の案内溝原盤の概略図、第３図は露光の方法を説明
するための図、第４図は現像後の案内溝原盤の概略図で
あり、図において、ｌは基板、２は第１０）感光性材料
層、３は第２の感光性材料層を示す。 第１図 現像速度 露光エネル↑°ゝ 蜜７図 第３図
Claims (1)
- 基板の上に第１の感光性材料層を形成し、その上に第２
の感光性材料層を形成し、記録すべき信号により変調さ
れた光ビームを照射して該第１及び第２の感光性材料層
を露光し、現像する情報記録原盤の製造方法において、
前記第１の感光性材料よりも前記第２の感光性材料の方
を前記光ビームに対して高感度な材料とすることにより
深さの異なるパターンを形成することを特徴とする情報
記録原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6555884A JPS60209939A (ja) | 1984-04-02 | 1984-04-02 | 情報記録原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6555884A JPS60209939A (ja) | 1984-04-02 | 1984-04-02 | 情報記録原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60209939A true JPS60209939A (ja) | 1985-10-22 |
Family
ID=13290450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6555884A Pending JPS60209939A (ja) | 1984-04-02 | 1984-04-02 | 情報記録原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60209939A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60209948A (ja) * | 1984-04-03 | 1985-10-22 | Nec Corp | 情報記録原盤の製造方法 |
| WO1989011147A1 (en) * | 1988-05-11 | 1989-11-16 | Eastman Kodak Company | Ternary optical elements and methods |
-
1984
- 1984-04-02 JP JP6555884A patent/JPS60209939A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60209948A (ja) * | 1984-04-03 | 1985-10-22 | Nec Corp | 情報記録原盤の製造方法 |
| WO1989011147A1 (en) * | 1988-05-11 | 1989-11-16 | Eastman Kodak Company | Ternary optical elements and methods |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3268126B2 (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2723986B2 (ja) | 光ディスク原盤の作製方法 | |
| JPH0340219A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JPS60209939A (ja) | 情報記録原盤の製造方法 | |
| JP3615054B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| JPH0677339B2 (ja) | 情報記録原盤の製造方法 | |
| JPS5933645A (ja) | 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 | |
| JP3108671B2 (ja) | 光磁気メモリ素子 | |
| EP4231298A1 (en) | Optical storage medium, and method and system for preparing optical storage medium | |
| JP2001006219A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体用基板及び光記録媒体製造用原盤 | |
| JPH10241214A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| JPS60121553A (ja) | 光記録ディスク | |
| JPS63133334A (ja) | 光デイスク用原盤の製造方法 | |
| JP2530255B2 (ja) | 光学的情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2517470B2 (ja) | 光学ディスクマスタ―の製造方法及び装置 | |
| JP3455149B2 (ja) | 光記録媒体のアドレス管理方法 | |
| JP3108682B2 (ja) | 光磁気メモリ素子の製造方法 | |
| JPS58199451A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH1097735A (ja) | 光学的情報記録媒体 | |
| JPS5938947A (ja) | 情報記憶媒体用原盤 | |
| JPS58114340A (ja) | 情報記憶媒体基板製造用の原盤作成方法 | |
| JPH02281438A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPS5936340A (ja) | 情報記憶媒体用原盤及びその製造方法 | |
| JPH03120636A (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2000339780A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 |