JPH0340219A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH0340219A JPH0340219A JP17295989A JP17295989A JPH0340219A JP H0340219 A JPH0340219 A JP H0340219A JP 17295989 A JP17295989 A JP 17295989A JP 17295989 A JP17295989 A JP 17295989A JP H0340219 A JPH0340219 A JP H0340219A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- recording film
- magnetic recording
- magnetic disk
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910017061 Fe Co Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 230000003467 diminishing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- -1 nitrogen ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスクの記録膜にトラッキング用ガイド
パターンを形成した高密度記録が実現できる磁気ディス
クおよびその製造方法に関する。
パターンを形成した高密度記録が実現できる磁気ディス
クおよびその製造方法に関する。
従来の磁気ディスクの構造は、厚さが約２１！ｌｌ１１
のアルミニウム基板の上に、磁気記録膜をスピン塗布、
あるいはスパッタリングなどの方法で形成していた。そ
のために、磁気ディスクの表面は平坦になっていて、個
々の磁気ディスクには、磁気ヘッドを案内するためのガ
イドグループ（案内溝）は特に無く、複数枚の磁気ディ
スクを並列に並べ。
のアルミニウム基板の上に、磁気記録膜をスピン塗布、
あるいはスパッタリングなどの方法で形成していた。そ
のために、磁気ディスクの表面は平坦になっていて、個
々の磁気ディスクには、磁気ヘッドを案内するためのガ
イドグループ（案内溝）は特に無く、複数枚の磁気ディ
スクを並列に並べ。
その中の一枚のディスクに磁気的なガイドグループをあ
らかじめ記録させておき、これに沿って全ての磁気ヘッ
ドを移動させることで、従来は対処していた（特公昭４
７−３２０１２号公報）。
らかじめ記録させておき、これに沿って全ての磁気ヘッ
ドを移動させることで、従来は対処していた（特公昭４
７−３２０１２号公報）。
しかし、上記従来の磁気ディスク装置において。
−枚の磁気ディスクに記録されたガイドグループを基準
にして位置決めを行うために、並列に設置した各磁気デ
ィスクに対し、例えば熱的な歪みなどによって生じる誤
差のために正確な位置付けができず、そのため各磁気デ
ィスクにおけるトラック密度を上げることができなかっ
た。
にして位置決めを行うために、並列に設置した各磁気デ
ィスクに対し、例えば熱的な歪みなどによって生じる誤
差のために正確な位置付けができず、そのため各磁気デ
ィスクにおけるトラック密度を上げることができなかっ
た。
上述したごとく、従来技術においては、磁気ディスクの
記録密度の観点からみると、最良の磁気記録方式とはい
えない。すなわち、使用する磁気ディスクの個々にガイ
ドグループがないために、トラック密度を上げることが
できず、−枚の磁気ディスクに記録できる情報量にはお
のずと限界があった。
記録密度の観点からみると、最良の磁気記録方式とはい
えない。すなわち、使用する磁気ディスクの個々にガイ
ドグループがないために、トラック密度を上げることが
できず、−枚の磁気ディスクに記録できる情報量にはお
のずと限界があった。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解消するため
に、磁気ディスクの記録膜の表面部に凹凸形状の溝から
なるガイドグループもしくは磁気記録領域の磁気特性と
は異なる性質を持つ材料からなるトラッキング用ガイド
パターンを設けることによって、情報の記録トラックピ
ッチを一段と小さくして、−枚の磁気ディスクに多量の
情報が記録できる磁気ディスクおよびその製造方法を提
供することにある。
に、磁気ディスクの記録膜の表面部に凹凸形状の溝から
なるガイドグループもしくは磁気記録領域の磁気特性と
は異なる性質を持つ材料からなるトラッキング用ガイド
パターンを設けることによって、情報の記録トラックピ
ッチを一段と小さくして、−枚の磁気ディスクに多量の
情報が記録できる磁気ディスクおよびその製造方法を提
供することにある。
上記本発明の目的を達成するために、磁気ディスク表面
部の情報記録膜に、磁気ヘッドあるいは光ヘッドとの複
合ヘッドを案内するトラッキング用ガイドパターンを、
磁気情報の形態で同心円状または螺旋状に設定された任
意のピッチで形成させる。また他の形態として、トラッ
キング用ガイドパターンの部分の磁気特性を情報記録領
域とは異なる別の性質をもつものとしても良い。例えば
。
部の情報記録膜に、磁気ヘッドあるいは光ヘッドとの複
合ヘッドを案内するトラッキング用ガイドパターンを、
磁気情報の形態で同心円状または螺旋状に設定された任
意のピッチで形成させる。また他の形態として、トラッ
キング用ガイドパターンの部分の磁気特性を情報記録領
域とは異なる別の性質をもつものとしても良い。例えば
。
情報の記録領域とトラッキング用ガイドパターンの部分
との飽和磁化または保磁力を変えたり、あるいは情報記
録領域を面内磁化容易膜となし、トラッキング用ガイド
パターンの領域を垂直磁化膜としても良い。また、ホト
リソグラフィー技術を応用して、磁気記録膜の表面部に
凹凸の形状のトラッキング用ガイドパターンを形成する
ことでもヘッドの案内溝を構成することができる。すな
わち、ホトリソグラフィー技術を応用して、磁気記録膜
を螺旋状あるいは同心円状に形成したり、同一のディス
ク上に、磁性領域と非磁性領域とを交互に形成させても
良い。さらに、イオン打ち込み法により、例えばリン（
Ｐ）やボロン（Ｂ）あるいは窒素（Ｎ）などを磁気記録
膜に打ち込んで、螺旋形状あるいは同心円形状に非磁性
部分を形成させでも良い。さらに、収束したイオンビー
ムを用い、外部から電界や磁界を印加して偏向させてイ
オン打ち込みを行うと、ホトレジスト工程を用いる必要
がなく、直接的にトラッキング用ガイドパターンを形成
させることも可能である。
との飽和磁化または保磁力を変えたり、あるいは情報記
録領域を面内磁化容易膜となし、トラッキング用ガイド
パターンの領域を垂直磁化膜としても良い。また、ホト
リソグラフィー技術を応用して、磁気記録膜の表面部に
凹凸の形状のトラッキング用ガイドパターンを形成する
ことでもヘッドの案内溝を構成することができる。すな
わち、ホトリソグラフィー技術を応用して、磁気記録膜
を螺旋状あるいは同心円状に形成したり、同一のディス
ク上に、磁性領域と非磁性領域とを交互に形成させても
良い。さらに、イオン打ち込み法により、例えばリン（
Ｐ）やボロン（Ｂ）あるいは窒素（Ｎ）などを磁気記録
膜に打ち込んで、螺旋形状あるいは同心円形状に非磁性
部分を形成させでも良い。さらに、収束したイオンビー
ムを用い、外部から電界や磁界を印加して偏向させてイ
オン打ち込みを行うと、ホトレジスト工程を用いる必要
がなく、直接的にトラッキング用ガイドパターンを形成
させることも可能である。
磁気ディスクの表面に形成されたトラッキング用ガイド
パターンに沿って、情報の記録再生を行う磁気ヘッドを
精密に移動させることができるので、トラックピッチを
小さくすることが可能となり、そのため−枚の磁気ディ
スクに記録できる情報量が増加し、大容量記憶装置を実
現することができる。
パターンに沿って、情報の記録再生を行う磁気ヘッドを
精密に移動させることができるので、トラックピッチを
小さくすることが可能となり、そのため−枚の磁気ディ
スクに記録できる情報量が増加し、大容量記憶装置を実
現することができる。
以下に本発明の一実施例を挙げ、図面に基づいて、さら
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
〈実施例１〉
第１図は、本実施例における磁気ディスクの作製工程を
示す工程図である。
示す工程図である。
図において、右側に示す（Ｂ）工程は、左側の（Ａ）工
程に示す本実施例における磁気ディスクの作製工程にお
いて使用するマスクの製造方法を示す工程図である。ま
ず始めに、本実施例で用いるマスクの製造方法について
説明する。透明なガラスなどからなるマスク基板１の上
に、真空蒸着法により光不透過性の金属、ここではクロ
ム／！２を３００人の膜厚に付着させた。その上に、ネ
ガタイプのレジスト膜３（シラプレー社ＡＺ−１３５０
）を０．１μｍの厚さに回転塗布した。
程に示す本実施例における磁気ディスクの作製工程にお
いて使用するマスクの製造方法を示す工程図である。ま
ず始めに、本実施例で用いるマスクの製造方法について
説明する。透明なガラスなどからなるマスク基板１の上
に、真空蒸着法により光不透過性の金属、ここではクロ
ム／！２を３００人の膜厚に付着させた。その上に、ネ
ガタイプのレジスト膜３（シラプレー社ＡＺ−１３５０
）を０．１μｍの厚さに回転塗布した。
次に、波長４８８０大のアルゴンレーザ光を、レンズ（
ＮＡ： ０．９）で１μｍ以下の小さなスポットに絞り
込み、９００ ｒ ／ｍｉｎで回転している基板に照射
しながら、レーザ光をマスク基板１の半径方向に移動さ
せながら、同心円状あるいは螺旋状のガイドグループ（
案内溝）４を形成した。
ＮＡ： ０．９）で１μｍ以下の小さなスポットに絞り
込み、９００ ｒ ／ｍｉｎで回転している基板に照射
しながら、レーザ光をマスク基板１の半径方向に移動さ
せながら、同心円状あるいは螺旋状のガイドグループ（
案内溝）４を形成した。
このパターンに従って、その下部にあるクロム層２をエ
ツチングにより除去した後、レンズ１へ膜３を除去し、
所望のパターンを有するマスク５を作製した。
ツチングにより除去した後、レンズ１へ膜３を除去し、
所望のパターンを有するマスク５を作製した。
次に、ガイドグループ４を記録膜１２に設けたガイドグ
ループ付き磁気ディスク１３の作製方法について説明す
る。ディスク基板１１の上に、Ｆ ｅ −Ｇ ｏ合金か
らなる記録膜１２を３００人の膜厚に、スパッタリング
法により付着させ、その上にマスク作製時のレジスト膜
３を回転塗布法により形成した。ここで、先のマスク５
を用いて露光し、現像するとレジスト膜３上にガイドグ
ループ４のパターンを形成することができる。その後、
２０％程度の硝酸溶液で記録膜１２をエツチングして、
ガイドグループ４を形成し、硝酸を完全に洗浄した後、
レジスト膜３を除去するとガイドグループ付き磁気ディ
スク１３が得られる。ここで、硝酸溶液によるウェット
エツチングの代わりに、ドライエツチング工程を採用す
ると、エツチング工程がより簡素化されるので好ましい
。このようにして作製した磁気ディスクを用いて、磁気
的に情報を記録した結果、トラック間の干渉による再生
信号の劣化がほとんどなく、トラックピッチを従来の１
７μｍから１０μｍに小さくしたところ、Ｓ／Ｎが３以
上得られ、従来の磁気ディスクに比較して約２倍の高密
度記録、再生を実現することができた。
ループ付き磁気ディスク１３の作製方法について説明す
る。ディスク基板１１の上に、Ｆ ｅ −Ｇ ｏ合金か
らなる記録膜１２を３００人の膜厚に、スパッタリング
法により付着させ、その上にマスク作製時のレジスト膜
３を回転塗布法により形成した。ここで、先のマスク５
を用いて露光し、現像するとレジスト膜３上にガイドグ
ループ４のパターンを形成することができる。その後、
２０％程度の硝酸溶液で記録膜１２をエツチングして、
ガイドグループ４を形成し、硝酸を完全に洗浄した後、
レジスト膜３を除去するとガイドグループ付き磁気ディ
スク１３が得られる。ここで、硝酸溶液によるウェット
エツチングの代わりに、ドライエツチング工程を採用す
ると、エツチング工程がより簡素化されるので好ましい
。このようにして作製した磁気ディスクを用いて、磁気
的に情報を記録した結果、トラック間の干渉による再生
信号の劣化がほとんどなく、トラックピッチを従来の１
７μｍから１０μｍに小さくしたところ、Ｓ／Ｎが３以
上得られ、従来の磁気ディスクに比較して約２倍の高密
度記録、再生を実現することができた。
〈実施例２〉
第２図は、イオン打ち込み法を用いて本発明の磁気ディ
スクを作製する場合の工程図を示す。ディスク基板１１
の上にＦｅ−Ｃｏ合金からなる記録１１１［１２を３０
０人の膜厚にスパッタリング法によって付着させ、その
上にマスク作製時に用いたレジスト膜３を回転塗布した
。ここで、先のマスク５を用いて露光し、現像してレジ
スト膜３上にガイドグループ４のパターンを形成した。
スクを作製する場合の工程図を示す。ディスク基板１１
の上にＦｅ−Ｃｏ合金からなる記録１１１［１２を３０
０人の膜厚にスパッタリング法によって付着させ、その
上にマスク作製時に用いたレジスト膜３を回転塗布した
。ここで、先のマスク５を用いて露光し、現像してレジ
スト膜３上にガイドグループ４のパターンを形成した。
次に、窒素イオンの打ち込み２１を行い、その部分を非
磁性領域とした後、レジスト膜３を除去すると、トラッ
キング用ガイドパターン付き磁気ディスク１３ａが得ら
れる。ここで、打ち込むイオンとして窒素（Ｎ）の他に
、ボロン（Ｂ）やリン（Ｐ）などを使用しても上記と同
様の効果が得られた。
磁性領域とした後、レジスト膜３を除去すると、トラッ
キング用ガイドパターン付き磁気ディスク１３ａが得ら
れる。ここで、打ち込むイオンとして窒素（Ｎ）の他に
、ボロン（Ｂ）やリン（Ｐ）などを使用しても上記と同
様の効果が得られた。
また、記録膜の磁気的特性を変え、情報記録が困難な特
性のものに変質させたトラツキグ用ガイドパターンを形
成した場合においても、上記と同様の効果が得られた。
性のものに変質させたトラツキグ用ガイドパターンを形
成した場合においても、上記と同様の効果が得られた。
このようにして作製した磁気ディスクの表面は平坦であ
り、磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行う場合には極
めて好都合であった。この磁気ディスクを用いて磁気的
に情報を記録した結果、トラック間の干渉による再生信
号の劣化がほとんどなく、トラックピッチを従来の１７
μｍから１０μｍに小さくしたところＳ／Ｎが３以上が
得られ、従来の磁気ディスクに比較して約２倍の高密度
記録、再生を実現することができた。
り、磁気ヘッドを浮上させて記録再生を行う場合には極
めて好都合であった。この磁気ディスクを用いて磁気的
に情報を記録した結果、トラック間の干渉による再生信
号の劣化がほとんどなく、トラックピッチを従来の１７
μｍから１０μｍに小さくしたところＳ／Ｎが３以上が
得られ、従来の磁気ディスクに比較して約２倍の高密度
記録、再生を実現することができた。
さらに、収束させたイオンビームを、磁界や電界を印加
して偏向させてイオン打ち込みを行い。
して偏向させてイオン打ち込みを行い。
トラッキング用ガイドパターンを形成させる場合には、
ホトレジスト工程を省略することかで＠５製造プロセス
をいっそう簡素化することができる。
ホトレジスト工程を省略することかで＠５製造プロセス
をいっそう簡素化することができる。
そして、得られた効果は、上記のイオン打ち込みをして
形成した磁気ディスクと何ら相違は見られなかった。
形成した磁気ディスクと何ら相違は見られなかった。
〈実施例３〉
第３図に、本実施例において作製した磁気ディスクの作
製工程を示す。
製工程を示す。
図において、ディスク基板１１の上にＣｏ−Ｎ１−ｐｔ
金合金らなる記録膜１２を５０ＯＡの膜厚にスパッタリ
ング法により成膜し、その上にマスク作製時に用いたレ
ジストを回転塗布してレジスト膜３を形成した。ここで
、先のマスク５（第１図）を用いて露光し、現像すると
レジスト膜３上にガイドグループのパターンが得られる
。その後、２０％程度の硝酸溶液で記録膜１２をエツチ
ングして、ガイドグループ４を形成し、硝酸を完全に洗
浄するとガイドグループ付きの磁気記録膜が形成できる
。ここで、硝酸でのウェットエツチングの代わりにドラ
イエツチングを採用するとエツチング工程を簡素化する
ことができるので好ましい６次に、磁気記録膜に設けた
ガイドグループ領域にＳｉＨなどの非磁性材料からなる
異稲膜３１をスパッタリングした後、余分な異種膜３１
とレジスト１１９Ｉ３を同時に除去するりフトオフを行
うことにより、トラッキング用ガイドパターン付き磁気
ディスク１３ａが得られる。このようにして作製した磁
気ディスクの表面は平坦であり、磁気ヘッドを浮上させ
て磁気記録再生を行う場合には極めて好適であった。こ
の磁気ディスクを用いて磁気的に情報を記録した結果、
トラック間の干渉による再生信号の劣化がほとんどなく
、トラックピッチを従来の１７μｍから１０ｐｍに小さ
くしたところＳ／Ｎが３以上得られ、従来の約２倍の高
密度記録、再生を達成することができた。
金合金らなる記録膜１２を５０ＯＡの膜厚にスパッタリ
ング法により成膜し、その上にマスク作製時に用いたレ
ジストを回転塗布してレジスト膜３を形成した。ここで
、先のマスク５（第１図）を用いて露光し、現像すると
レジスト膜３上にガイドグループのパターンが得られる
。その後、２０％程度の硝酸溶液で記録膜１２をエツチ
ングして、ガイドグループ４を形成し、硝酸を完全に洗
浄するとガイドグループ付きの磁気記録膜が形成できる
。ここで、硝酸でのウェットエツチングの代わりにドラ
イエツチングを採用するとエツチング工程を簡素化する
ことができるので好ましい６次に、磁気記録膜に設けた
ガイドグループ領域にＳｉＨなどの非磁性材料からなる
異稲膜３１をスパッタリングした後、余分な異種膜３１
とレジスト１１９Ｉ３を同時に除去するりフトオフを行
うことにより、トラッキング用ガイドパターン付き磁気
ディスク１３ａが得られる。このようにして作製した磁
気ディスクの表面は平坦であり、磁気ヘッドを浮上させ
て磁気記録再生を行う場合には極めて好適であった。こ
の磁気ディスクを用いて磁気的に情報を記録した結果、
トラック間の干渉による再生信号の劣化がほとんどなく
、トラックピッチを従来の１７μｍから１０ｐｍに小さ
くしたところＳ／Ｎが３以上得られ、従来の約２倍の高
密度記録、再生を達成することができた。
以上詳細に説明したごとく、本発明の記録膜にトラッキ
ング用ガイドパターンを設けた磁気ディスクは、トラッ
ク間の干渉による再生信号の劣化をほとんどなくするこ
とができるため、トラックピッチを著しく小さくするこ
とができるので、磁気ディスクにおける記録密度を一段
と向上させることが可能となり、１枚の磁気ディスクに
記憶できる情報量、すなわち記憶容量を大幅に増加させ
ることができ、高密度記録が実現できる。
ング用ガイドパターンを設けた磁気ディスクは、トラッ
ク間の干渉による再生信号の劣化をほとんどなくするこ
とができるため、トラックピッチを著しく小さくするこ
とができるので、磁気ディスクにおける記録密度を一段
と向上させることが可能となり、１枚の磁気ディスクに
記憶できる情報量、すなわち記憶容量を大幅に増加させ
ることができ、高密度記録が実現できる。
第１図は本発明の実施例１において例示した磁気ディス
クの作製工程図、第２図は本発明の実施例２において例
示した磁気ディスクの作製工程図、第３図は本発明の実
施例３において例示した磁気ディスクの作製工程図であ
る。 １・・・マスク基板 ２・・・クロム層３・・・
レジスト膜 ４・・・ガイドグループ５・・・マ
スク １１・・・ディスク基板１２・・・記録
膜 １３・・・ガイドグループ付き磁気ディスク１３ａ・・
・トラッキング用ガイドパターン付き磁気ディスク ２１・・・イオン打ち込み ２２・・・変質記録膜３１
・・・異種膜
クの作製工程図、第２図は本発明の実施例２において例
示した磁気ディスクの作製工程図、第３図は本発明の実
施例３において例示した磁気ディスクの作製工程図であ
る。 １・・・マスク基板 ２・・・クロム層３・・・
レジスト膜 ４・・・ガイドグループ５・・・マ
スク １１・・・ディスク基板１２・・・記録
膜 １３・・・ガイドグループ付き磁気ディスク１３ａ・・
・トラッキング用ガイドパターン付き磁気ディスク ２１・・・イオン打ち込み ２２・・・変質記録膜３１
・・・異種膜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁気記録膜の表面部に、トラッキング用ガイドパタ
ーンを設けた磁気ディスクであって、上記トラッキング
用ガイドパターンの領域を、磁気記録膜の磁気的特性と
は異なる性質を持つガイドトラック領域となし、該ガイ
ドトラック領域を、上記磁気記録膜の表面部に同心円状
もしくは螺旋状に形成したトラッキング用ガイドパター
ンを有することを特徴とする磁気ディスク。 ２、請求の範囲第１項記載の磁気ディスクにおいて、ガ
イドトラック領域が凹凸形状の溝からなることを特徴と
する磁気ディスク。 ３、請求の範囲第１項記載の磁気ディスクにおいて、ガ
イドトラック領域が、磁気記録膜の磁気的特性とは異な
る性質を持つ材料からなり、かつ磁気ディスクの表面が
平坦であることを特徴とする磁気ディスク。 ４、請求の範囲第１項記載の磁気ディスクにおいて、ガ
イドトラック領域の表面層のみを非磁性材料もしくは磁
気記録膜の磁気的特性とは異なる性質を持つ材料からな
るガイドトラック領域としたことを特徴とする磁気ディ
スク。 ５、請求の範囲第３項または第４項記載の磁気ディスク
において、ガイドトラック領域を構成する磁気記録膜の
磁気的特性とは異なる性質を持つ材料が、磁気記録膜に
、該磁気記録膜を変質させるイオン種を打ち込み形成さ
せた磁気記録膜の変質材料であることを特徴とする磁気
ディスク。 ６、請求の範囲第５項記載の磁気ディスクにおいて、ガ
イドトラック領域に打ち込むイオン種は、窒素、リン、
ボロンのうちから選ばれる少なくとも１種のイオンであ
ることを特徴とする磁気ディスク。 ７、磁気ディスク基板上に磁気記録膜を形成し、該磁気
記録膜上にホトレジスト膜を塗布法により形成した後、
設定のトラッキング用ガイドパターンを有するマスクを
用い、ホトリソグラフィー法によって、上記ホトレジス
ト膜上に、同心円状もしくは螺旋状の凹凸形状の溝から
なるトラッキング用ガイドパターンを転写した後、エッ
チング処理を行い、上記磁気記録膜上に、同心円状もし
くは螺旋状の凹凸形状の溝からなるトラッキング用ガイ
ドパターンを形成する工程を含むことを特徴とする磁気
ディスクの製造方法。 ８、磁気ディスク基板上に磁気記録膜を形成し、該磁気
記録膜上にホトレジスト膜を塗布法により形成した後、
設定のトラッキング用ガイドパターンを有するマスクを
用い、ホトリソグラフィー法によって、上記ホトレジス
ト膜上に、同心円状もしくは螺旋状の凹凸形状の溝から
なるトラッキング用ガイドパターンを転写して、上記ト
ラッキング用ガイドパターンを形成させる領域の磁気記
録膜の表面部を露出させた後、該露出部の磁気記録膜に
イオン種を打ち込み、上記磁気記録膜の磁気的特性とは
異なる性質を持つ材料に変質させることにより、上記磁
気記録膜上に、表面が平坦な同心円状もしくは螺旋状の
トラッキング用ガイドパターンを形成する工程を含むこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 ９、請求の範囲第８項記載の磁気ディスクの製造方法に
おいて、磁気ディスク基板上に磁気記録膜を形成した後
、磁気記録膜の磁気的特性とは異なる性質を持つ材料に
変質させるイオン種を含む収束させたイオンビームを用
い、該イオンビームに磁界もしくは電界を印加して偏向
させ、トラッキング用ガイドパターン領域に上記イオン
種の打ち込みを行い、上記磁気記録膜上に直接的に、同
心円状もしくは螺旋状のトラッキング用ガイドパターン
を形成する工程を含むことを特徴とする磁気ディスクの
製造方法。 １０、磁気ディスク基板上に磁気記録膜を形成し、該磁
気記録膜上にホトレジスト膜を塗布法により形成した後
、設定のトラッキング用ガイドパターンを有するマスク
を用い、ホトリソグラフィー法によって、上記ホトレジ
スト膜上に、同心円状もしくは螺旋状の凹凸形状の溝か
らなるトラッキング用ガイドパターンを転写して、上記
トラッキング用ガイドパターンを形成させる領域の磁気
記録膜の表面部を露出させた後、エッチング処理によっ
て、上記露出部の磁気記録膜を所定の厚さエッチングし
て凹部を形成し、該凹部に、磁気記録膜の磁気的特性と
は異なる性質の材料からなる異種膜を、上記磁気記録膜
の膜面レベルとほぼ等しくなる厚さに形成して、上記磁
気記録膜上に、表面がほぼ平坦な同心円状もしくは螺旋
状のトラッキング用ガイドパターンを形成する工程を含
むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1172959A JP3034879B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1172959A JP3034879B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0340219A true JPH0340219A (ja) | 1991-02-21 |
| JP3034879B2 JP3034879B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=15951534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1172959A Expired - Fee Related JP3034879B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3034879B2 (ja) |
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001026101A1 (fr) * | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Japan Science And Technology Corporation | Support d'enregistrement magnetique haute densite a motifs et procede de production correspondant |
| WO2004079725A1 (ja) * | 2003-03-05 | 2004-09-16 | Tdk Corporation | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| WO2005013264A1 (ja) * | 2003-07-31 | 2005-02-10 | Tdk Corporation | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| WO2005015549A1 (ja) * | 2003-08-07 | 2005-02-17 | Tdk Corporation | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| WO2005029471A1 (ja) * | 2003-09-22 | 2005-03-31 | Tdk Corporation | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 |
| WO2005064598A1 (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Tdk Corporation | 凹凸パターンの凹部充填方法及び磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2008041114A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
| JP2008091031A (ja) * | 2007-12-27 | 2008-04-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2008130181A (ja) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Ulvac Japan Ltd | 磁気記憶媒体の製造方法 |
| JP2008135092A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
| JP2009087454A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
| WO2010038797A1 (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 株式会社アルバック | 磁気記憶媒体製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| WO2010050399A1 (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-06 | 株式会社アルバック | 膜製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| US7732005B2 (en) | 2004-05-25 | 2010-06-08 | Hitachi, Ltd. | Method for producing recording medium, recording medium employing said method, and information recording and reproducing apparatus |
| WO2010074077A1 (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-01 | 株式会社アルバック | 磁気記憶媒体製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| US7967993B2 (en) | 2008-07-25 | 2011-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| JP2011146125A (ja) * | 2011-04-26 | 2011-07-28 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
| US7993536B2 (en) | 2008-12-12 | 2011-08-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| US8002997B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium |
| US8012361B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-09-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| US8029682B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-10-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| US8057689B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-11-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| US8980451B2 (en) | 2010-09-17 | 2015-03-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5264209B2 (ja) | 2008-02-22 | 2013-08-14 | エイチジーエスティーネザーランドビーブイ | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JP2009199691A (ja) | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JP5276337B2 (ja) | 2008-02-22 | 2013-08-28 | エイチジーエスティーネザーランドビーブイ | 磁気記録媒体の製造方法 |
| SG196834A1 (en) * | 2008-03-17 | 2014-02-13 | Wd Media Singapore Pte Ltd | Magnetic recording medium and manufacturing method of the magnetic recording medium |
| JP2009223949A (ja) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Hoya Corp | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 |
-
1989
- 1989-07-06 JP JP1172959A patent/JP3034879B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001026101A1 (fr) * | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Japan Science And Technology Corporation | Support d'enregistrement magnetique haute densite a motifs et procede de production correspondant |
| WO2004079725A1 (ja) * | 2003-03-05 | 2004-09-16 | Tdk Corporation | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| US7166318B2 (en) | 2003-03-05 | 2007-01-23 | Tdk Corporation | Production method and production apparatus for magnetic recording medium |
| US7470374B2 (en) | 2003-07-31 | 2008-12-30 | Tdk Corporation | Manufacturing method and manufacturing apparatus of magnetic recording medium |
| WO2005013264A1 (ja) * | 2003-07-31 | 2005-02-10 | Tdk Corporation | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| WO2005015549A1 (ja) * | 2003-08-07 | 2005-02-17 | Tdk Corporation | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
| WO2005029471A1 (ja) * | 2003-09-22 | 2005-03-31 | Tdk Corporation | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体 |
| US7300595B2 (en) | 2003-12-25 | 2007-11-27 | Tdk Corporation | Method for filling concave portions of concavo-convex pattern and method for manufacturing magnetic recording medium |
| CN100350463C (zh) * | 2003-12-25 | 2007-11-21 | Tdk股份有限公司 | 凹凸图形的凹部充填方法和磁记录介质的制造方法 |
| WO2005064598A1 (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Tdk Corporation | 凹凸パターンの凹部充填方法及び磁気記録媒体の製造方法 |
| US7732005B2 (en) | 2004-05-25 | 2010-06-08 | Hitachi, Ltd. | Method for producing recording medium, recording medium employing said method, and information recording and reproducing apparatus |
| JP2008041114A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
| JP2008130181A (ja) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Ulvac Japan Ltd | 磁気記憶媒体の製造方法 |
| JP4510796B2 (ja) * | 2006-11-22 | 2010-07-28 | 株式会社アルバック | 磁気記憶媒体の製造方法 |
| JP2008135092A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 |
| JP2009087454A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
| US7923136B2 (en) | 2007-09-28 | 2011-04-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| JP2008091031A (ja) * | 2007-12-27 | 2008-04-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US7967993B2 (en) | 2008-07-25 | 2011-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| US8017023B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-09-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium |
| US8002997B2 (en) | 2008-08-22 | 2011-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium |
| JP2010092515A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Ulvac Japan Ltd | 磁気記憶媒体製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| WO2010038797A1 (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 株式会社アルバック | 磁気記憶媒体製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| JP2010108551A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Ulvac Japan Ltd | 膜製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| WO2010050399A1 (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-06 | 株式会社アルバック | 膜製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| US7993536B2 (en) | 2008-12-12 | 2011-08-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| WO2010074077A1 (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-01 | 株式会社アルバック | 磁気記憶媒体製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| JP2010153002A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Ulvac Japan Ltd | 磁気記憶媒体製造方法、磁気記憶媒体、および情報記憶装置 |
| US8012361B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-09-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| US8029682B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-10-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| US8057689B2 (en) | 2009-02-20 | 2011-11-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing magnetic recording medium |
| US8980451B2 (en) | 2010-09-17 | 2015-03-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording apparatus |
| JP2011146125A (ja) * | 2011-04-26 | 2011-07-28 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3034879B2 (ja) | 2000-04-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0340219A (ja) | 磁気ディスクの製造方法 | |
| JP2723986B2 (ja) | 光ディスク原盤の作製方法 | |
| US6898031B1 (en) | Method for replicating magnetic patterns on hard disk media | |
| JPS619848A (ja) | 光記録媒体の案内溝形成方法 | |
| JPH04935B2 (ja) | ||
| JPS6247841A (ja) | 光学式情報記憶担体 | |
| JPH02301018A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3615054B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| JPH1083640A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法及び磁気記録再生装置 | |
| JPH11120626A (ja) | 光ディスク作製用マスタディスクの製造方法 | |
| JPH0636353A (ja) | バイポーラ光学記憶装置およびその製造方法 | |
| JPS60147946A (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JPS60195751A (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JP3075277B2 (ja) | 光学情報記録原盤作製方法 | |
| JP3749520B2 (ja) | 情報媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、及び原盤付スタンパ中間体 | |
| JP2906703B2 (ja) | 情報記録担体およびその記録再生装置 | |
| JPS61214246A (ja) | 平板状情報記録担体 | |
| JPS60197960A (ja) | 光メモリ素子の製造方法 | |
| JPS5940342A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2789653B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS5940341A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JPS5938947A (ja) | 情報記憶媒体用原盤 | |
| JP2726524B2 (ja) | 光ディスク記録再生方法 | |
| JPH09147429A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JPS61236026A (ja) | 情報記録原盤記録方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080218 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090218 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |