WO2004079725A1 - 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2004079725A1
WO2004079725A1 PCT/JP2004/002588 JP2004002588W WO2004079725A1 WO 2004079725 A1 WO2004079725 A1 WO 2004079725A1 JP 2004002588 W JP2004002588 W JP 2004002588W WO 2004079725 A1 WO2004079725 A1 WO 2004079725A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
magnetic
divided
recording medium
manufacturing
recording
Prior art date
Application number
PCT/JP2004/002588
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Kazuhiro Hattori
Mitsuru Takai
Takahiro Suwa
Original Assignee
Tdk Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tdk Corporation filed Critical Tdk Corporation
Priority to DE602004024654T priority Critical patent/DE602004024654D1/de
Priority to EP04716374A priority patent/EP1600956B1/en
Publication of WO2004079725A1 publication Critical patent/WO2004079725A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
    • G11B5/743—Patterned record carriers, wherein the magnetic recording layer is patterned into magnetic isolated data islands, e.g. discrete tracks
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
    • G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
    • G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
    • G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form

Definitions

  • the present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium.
  • magnetic recording media such as hard disks have achieved remarkably high recording densities by making finer magnetic particles constituting the recording layer, changing materials, and improving head processing. Higher recording densities are expected.
  • Discrete magnetic recording media have been proposed in which a recording medium is divided into divided recording elements and a groove between the divided recording elements is filled with a non-magnetic material (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-97419). Refer to the gazette).
  • a dry etching technique such as reactive ion etching (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. H12-32710) can be used.
  • Processing techniques such as the polishing technique can be used. Further, as a method of removing foreign matter on the surface of the divided recording element, a jet cleaning method of semiconductor manufacturing (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. H12-1990) can be used.
  • a magnetic recording medium has a specific problem that the magnetic material is easily oxidized. Therefore, even if it is an effective processing technique in the field of semiconductor manufacturing or the like, if it is used directly in the field of magnetic recording medium manufacturing, the magnetic material will However, it has been difficult to efficiently manufacture a discrete type magnetic recording medium while preventing deterioration of a divided recording element.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and has been made in consideration of the above circumstances. Accordingly, it is possible to efficiently manufacture a disc-type magnetic recording medium while reliably preventing deterioration of a divided recording element and the like.
  • An object of the present invention is to provide a method and apparatus for manufacturing a medium.
  • the present invention solves the above-mentioned problems by processing a continuous recording layer by a dry process while maintaining a vacuum around the work. Reached. Since it is effective to completely separate the divided recording elements from the atmosphere in order to reliably prevent the deterioration of the divided recording elements, the steps from the formation of the divided recording elements to the formation of the protective layer include: It is preferable to carry out the process while maintaining the surroundings of the work in a vacuum state.
  • the term “vacuum” in the present specification is not limited to the meaning that the atmospheric pressure is 0 [Pa], but the state where the atmospheric pressure is extremely low in the range of about 0 to 100 [Pa]. It is used in the meaning of.
  • the term “magnetic recording medium” is not limited to hard disks, floppy (registered trademark) disks, magnetic tapes, etc. that use only magnetism for recording and reading information. Optical media) and other magneto-optical recording media.
  • the recording layer processing step, the non-magnetic material filling step, and the protective layer forming step are executed continuously and continuously while the periphery of the intermediate is kept in a vacuum state.
  • a dry process cleaning step is provided for removing foreign matter around the divided recording elements by using either gas or plasma. Characterized in that it has been The method for producing a magnetic recording medium according to (1) or (2).
  • a flattening step for flattening the surfaces of the divided recording elements and the non-magnetic material is provided between the non-magnetic material filling step and the protective layer forming step.
  • the angle of incidence on the divided recording element and the surface of the non-magnetic material is limited to any one of 10 to 15 ° and 60 to 90 °, and the ionization is performed.
  • the recording layer processing step is characterized in that the continuous recording layer is divided by reactive ion etching using carbon monoxide gas to which a nitrogen compound is added as a reaction gas.
  • the method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of the above (1) to (6).
  • the non-magnetic material filling step the non-magnetic material is filled in the groove between the divided recording elements by using either a plasma CVD method having a bias application or a bias sputtering method.
  • a plasma CVD method having a bias application or a bias sputtering method The method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of the above (1) to (7), wherein
  • non-magnetic material filling step a material containing any one of an oxide material, a nitride material, and a non-magnetic amorphous material is used as the non-magnetic material.
  • a CVD Chemical Vapor Deosit!
  • a diaphragm forming step for forming a diaphragm on the divided recording element by using any one of a sputtering method and a sputtering method is provided. Manufacturing method of recording medium.
  • a non-magnetic material filling means for filling a non-magnetic material in a groove portion of the divided recording element, and a protective layer forming means for forming a protective layer for protecting the divided recording element and the non-magnetic material (13) The apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to (13), wherein:
  • the vacuum holding means is provided with a dry process cleaning means for removing foreign matter around the divided recording element using either gas or plasma.
  • a dry process cleaning means for removing foreign matter around the divided recording element using either gas or plasma.
  • the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium is provided with a dry process cleaning means for removing foreign matter around the divided recording element using either gas or plasma.
  • a diaphragm forming means for forming a diaphragm on the divided recording element by using one of a CVD method including plasma and a sputtering method is provided in the vacuum holding means. 13) An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of (1) to (15).
  • a flattening means for flattening the surfaces of the divided recording element and the non-magnetic material is provided in the vacuum holding means, wherein (13) to (16) Any one of the magnetic recording medium manufacturing apparatuses.
  • the term “septum” is used to mean a thin film that separates a divided recording element from a nonmagnetic material.
  • DLC j diamond-like carbon
  • FIG. 1 is a block diagram schematically showing the structure of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a side sectional view schematically showing a structure of an intermediate of the magnetic recording medium before being processed by the manufacturing apparatus.
  • FIG. 3 is a side sectional view schematically showing a structure of a magnetic recording medium processed by the manufacturing apparatus.
  • FIG. 4 is a flowchart showing a process of manufacturing a magnetic recording medium by the manufacturing apparatus.
  • FIG. 5 is a side cross-sectional view schematically showing the shape of the intermediate in which the division pattern has been transferred to the third mask layer.
  • FIG. 6 is a side sectional view schematically showing the shape of the intermediate body from which the third mask layer on the bottom surface of the concave portion has been removed.
  • FIG. 7 is a side sectional view schematically showing the shape of the intermediate body from which the second mask layer on the bottom surface of the concave portion has been removed.
  • FIG. 8 is a side sectional view schematically showing the shape of the intermediate body from which the first mask layer on the bottom surface of the concave portion has been removed.
  • FIG. 9 is a side sectional view schematically showing the shape of the intermediate body on which the divided recording elements are formed.
  • FIG. 10 is a side sectional view schematically showing the shape of the intermediate body from which the first mask layer remaining on the upper surface of the divided recording element has been removed.
  • FIG. 11 is a side sectional view schematically showing the shape of the intermediate body in which a non-magnetic material is filled between recording elements.
  • FIG. 12 is a side cross-sectional view schematically showing the shape of the intermediate in which the surfaces of the divided recording element and the nonmagnetic material are flattened.
  • FIG. 13 is an atomic force micrograph showing an enlarged view of a divided recording element and a surface of a non-magnetic material of the magnetic recording disk of the example of the present invention.
  • FIG. 14 is an optical microscopic photograph showing the surface of the magnetic recording disk of the same example in an enlarged manner.
  • FIG. 15 is an optical microscope photograph showing the surface of the magnetic recording disk of the comparative example in an enlarged manner. .
  • FIG. 1 is a block diagram schematically showing a structure of a magnetic recording medium manufacturing apparatus according to the present embodiment.
  • the intermediate 10 of the magnetic recording medium is composed of an underlayer 14, a soft magnetic layer 16, an orientation layer 18, a continuous recording layer 20, and a first mask on a glass substrate 12.
  • the structure is such that a layer 22, a second mask layer 24, and a third mask layer 26 are formed in this order.
  • the material of the underlayer 14 is Cr (chromium) or Cr alloy
  • the material of the soft magnetic layer 16 is Fe (iron) alloy or Co (cobalt) alloy
  • the material of the orientation layer 18 is Co 0
  • the material of the recording layer 20, such as MgO, NiO, etc., is a Co (cobalt) alloy.
  • the material of each mask layer is such that the first mask layer 22 is TiN (titanium nitride), the second mask layer 24 is Ni (Eckel), and the third mask layer 26 is a negative type. It is said to be a resist (NEB22A manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). As shown in FIG.
  • the magnetic recording medium 30 is a perpendicular recording type disc type magnetic disk, and the continuous recording layer 20 has a large number of divided recording elements 31 at minute intervals in the track radial direction.
  • the groove 3 3 between the divided recording elements 3 1 is filled with a non-magnetic material 32, and the divided recording elements 3 1 and the non-magnetic material 3 2 are provided with a protective layer 34 and a lubricating layer 36.
  • the structure is formed in order. Note that a diaphragm 38 is formed between the divided recording element 31 and the non-magnetic material 32.
  • the material of the nonmagnetic material 32 is Sio 2 (silicon dioxide), the material of the protective layer 34 and the diaphragm 38 is a hard carbon film called DLC, and the material of the lubricating layer 36 is PFPE ( Perfour mouth polyether).
  • the magnetic recording medium manufacturing apparatus 40 includes a recording layer processing means 42 for forming a divided recording element 31 by forming a groove 33 in the intermediate body 10, Dry process cleaning means 44 for removing foreign matter around recording element 3 1, diaphragm forming means 46 for forming diaphragm 38 on divided recording element 3 1, and between divided recording element 31
  • a nonmagnetic material filling means 48 for filling the groove portion 3 3 with the nonmagnetic material 32; a flattening means 50 for flattening the surfaces of the divided recording element 31 and the nonmagnetic material 32;
  • Protective layer forming means 52 for forming protective layer 34 on recording element 31 and non-magnetic material 32, recording layer processing means 42, dry process cleaning means 44, diaphragm forming means 46, non-
  • vacuum holding means 56 for holding the magnetic material filling means 48, the planarizing means 50 and the protective layer forming means 52, and maintaining the periphery of the intermediate body 10 in a vacuum state.
  • vacuum holding means 56 for holding the magnetic material filling means 48
  • the manufacturing apparatus 40 forms transfer means 58 for transferring the divided pattern to the third mask layer 26 of the intermediate body 10 of the magnetic recording medium, and a lubricating layer 36 on the protective layer 34.
  • the transfer means 58 and the lubricant layer forming means 54 are provided outside the vacuum holding means 56.
  • the recording layer processing means 42 includes a plasma processing apparatus 60 for processing the third mask layer 26 by plasma using oxygen, ozone, or a gas thereof, and an ion processing using Ar (argon) gas.
  • Ion beam etching apparatus 62 for processing second mask layer 24 by beam etching, and reactive ion etching using CF 4 (tetrafluoromethane) gas or SF 6 (sulfur hexafluoride) gas
  • a reactive ion etching apparatus 64 for processing the first mask layer 22 by reactive ion etching using CO (carbon monoxide) gas to which NH 3 (ammonia) gas is added.
  • a third reactive Ionetsuchingu 6 7 for removing the layer 2 2, and is configured with a.
  • the dry process cleaning means 44 is a dry process cleaning device using plasma.
  • the diaphragm forming means 46 is a CV-D device for forming the DLC diaphragm 38 by CVD (Chemica1VaporDepostiot).
  • Non-magnetic material filling means 4 8 is a bias sputtering-ring apparatus for forming a non-magnetic body 3 2 S i O 2 in divided recording elements 3 1 by bias sputtering.
  • the flattening means 50 is an ion beam etching apparatus for flattening the medium surface by ion beam etching using Ar gas.
  • the protective layer forming means 52 includes a protective layer 34 having the same size as the protective layer 34. This is a CVD device for forming according to the ⁇ 0 method.
  • the lubricating layer forming means 54 is a coating device for coating the lubricating layer 36 of PFPE by diving.
  • the vacuum holding means 56 includes a vacuum chamber 68 and a vacuum pump 70 communicating with the vacuum chamber 68.
  • the transfer means 58 is a press device for pressing and transferring a mold (not shown) formed by lithography to the third mask layer 26 using a nano-imprint method.
  • FIG. 4 is a flow chart showing the flow of processing by the magnetic recording medium manufacturing apparatus 40.
  • an intermediate 10 of a magnetic recording medium is prepared.
  • the intermediate 10 is oriented on the glass substrate 12, the underlayer 14 is oriented at a thickness of 300 to 2,000 A, and the soft magnetic layer 16 is oriented at a thickness of 500 to 300 ⁇ ⁇ .
  • the layer 18 has a thickness of 30 to 30 ⁇
  • the continuous recording layer 20 has a thickness of 100 to 300A
  • the first mask layer 22 has a thickness of 100 to 50 ⁇ .
  • the second mask layer 24 is formed by sputtering in this order with a thickness of 100 to 30 ⁇
  • the third mask layer 26 is further formed with a thickness of 300 to 300 ⁇ . Now, it is obtained by forming by spin coating or diving.
  • a concave portion as shown in FIG. 5 corresponding to the divided pattern of the divided recording elements 31 is transferred to the third mask layer 26 of the intermediate 10 by the nanoimprint method. I do.
  • the intermediate 10 is carried into the vacuum chamber 68, and the third mask layer 26 on the bottom surface of the concave portion is removed using the plasma processing apparatus 60 as shown in FIG.
  • the mask layer 26 is processed. Note that the third mask layer 26 is also removed in a region other than the concave portion, but remains only by the level difference from the concave bottom surface.
  • the second mask layer 24 on the bottom surface of the concave portion is removed by using an ion beam etching device 62. At this time, a very small amount of the first mask layer 22 is also removed. Most of the third mask layer 26 other than the concave portion is also removed, but a small amount remains. Further, using the first reactive ion etching device 64, the first mask layer 22 on the bottom surface of the concave portion is removed as shown in FIG. Here, the third mask layer 26 in a region other than the concave portion is completely removed. Most of the second mask layer 24 in the region other than the concave portion is also removed, but a small amount remains. Next, as shown in FIG.
  • the continuous recording layer 20 on the bottom surface of the concave portion was removed using a second reactive ion etching device 66, whereby the continuous recording layer 20 was divided into a large number of divided recording elements 3.
  • the groove is divided into 1 and a groove 33 is formed between the divided recording elements 31 (S 1).
  • the alignment layer 18 is also slightly removed. Further, the second mask layer 24 in the region other than the concave portion is completely removed, and the first mask layer 22 in the region other than the concave portion is also mostly removed, but a small amount is removed from the upper surface of the divided recording element 31. Remain in
  • the remaining first mask layer 22 is completely removed using a third reactive ion etching device 67 as shown in FIG.
  • a DLC diaphragm 38 having a thickness of 10 to 200 A was formed on the divided recording element 31 using a CVD apparatus (S 3), and the divided recording was performed.
  • the groove portion 33 between the elements 31 is filled with the non-magnetic material 32 by bias sputtering using the non-magnetic material filling means 48 (S 4).
  • the nonmagnetic material 32 is formed so as to completely cover the diaphragm 38. Since the divided recording element 31 is covered and protected by the diaphragm 38, it is not deteriorated by the bias sputtering of the nonmagnetic material 32.
  • the non-magnetic material 32 is removed to the upper surface of the divided recording element 31 as shown in FIG. 12 by ion beam etching using the flattening means 50, and the divided recording element 31 and the non-magnetic material are removed.
  • the surface of 32 is flattened (S5).
  • the angle of incidence of Ar ions must be It is preferable that the angle be in the range of 10 to 15 °.
  • the incident angle of the Ar ion may be in the range of 60 to 90 °. . By doing so, the processing speed can be increased and the production efficiency can be increased.
  • the diaphragm 38 on the upper surface of the divided recording element 31 may be completely removed or a part thereof may be left, but the nonmagnetic material 32 on the upper surface of the divided recording element 31 is completely removed. .
  • a protective layer 34 of DLC having a thickness of 1 ° to 50 A is formed on the upper surfaces of the divided recording elements 31 and the nonmagnetic material 32 by the CVD method using the protective layer forming means 52 ( S 6), and is carried out of the vacuum chamber 68.
  • a lubricating layer 36 of PFPE is applied on the protective layer 34 with a thickness of 10 to 2 ⁇ by diving using the lubricating layer forming means 54.
  • the magnetic recording medium 30 shown in FIG. 3 is completed.
  • the division recording element 31 is formed while the periphery of the intermediate body 10 is kept in a vacuum, deterioration of the division recording element 31 such as oxidation and corrosion due to processing can be prevented. it can.
  • the intermediate 10 is carried into the vacuum chamber 68, where the divided recording elements 31 are formed in the vacuum chamber 68, and the non-magnetic material 3 2
  • the divided recording element 3 1 (and the continuous recording layer 20) is always isolated from oxygen and the like in the atmosphere, so that the deterioration of the divided recording element 31 can be prevented more reliably.
  • each process is a dry process, as in the case of using the wet process, deterioration of the divided recording element 31 and the like due to liquid material and liquid and cleaning liquid on the surface of the divided recording element 31 There is no mixing of foreign matter from the like. That is, the magnetic recording medium manufacturing apparatus 40 can be dividedly recorded while reliably preventing deterioration. Recording elements 3 1 can be formed, and the reliability is high.
  • the entire process is performed in the vacuum chamber 68, but the present invention is not limited to this.
  • the divided recording element 31 and the continuous recording layer 20 can be isolated from the atmosphere, and before the processing of the continuous recording layer 20 is performed.
  • the processing steps of the respective mask layers may be performed outside the vacuum chamber 68. However, when processing the first mask layer 22, a part of the continuous recording layer 20 is exposed to the outside (see FIG. 9). It is preferable to carry out within 8.
  • the continuous recording layer 20 is divided by forming grooves 33 in the intermediate body 10 by four-stage dry etching.
  • the continuous recording layer 20 can be divided with high precision, the type of dry etching, the material of the mask layer, the number of stacked mask layers, the thickness of the mask layer, and the like are not particularly limited.
  • a dry process cleaning using plasma is performed to remove foreign substances on the surface of the divided recording element 31.
  • the present invention is not limited to this.
  • the foreign matter on the surface of the divided recording element 31 may be removed by the dry process cleaning.
  • the non-magnetic material filling means 48 uses a bias sputtering method, but the present invention is not limited to this, and the non-magnetic material filling means 48 uses a plasma CVD method having a noise application.
  • the body may be filled.
  • the magnetic recording medium 30 has the divided recording element 31 as a trigger.
  • the magnetic disk is a perpendicular recording type discrete magnetic disk which is juxtaposed at small intervals in the radial direction of the rack.
  • the present invention is not limited to this. Production of magnetic disks arranged at very small intervals, magnetic disks arranged at minute intervals both in the radial direction and circumferential direction of tracks, and magnetic disks in which divided recording elements form a spiral shape
  • the present invention is naturally applicable.
  • the present invention is applicable to the manufacture of magneto-optical disks such as MOs, and other discrete magnetic recording media other than the disk shape such as magnetic tapes.
  • the magnetic recording medium manufacturing apparatus 40 is provided with individual processing apparatuses corresponding to each process.
  • the present invention is not limited to this, and one apparatus may be used for a plurality of processing apparatuses.
  • the processing of the step may be performed.
  • the processing step of the first mask layer 22 and the step of removing the first mask layer 22 remaining on the surface of the divided recording element 31 are a common reaction using CF 4 or SF 6 as a reaction gas. It may be performed by a ionic ion etching apparatus.
  • the processing step of the second mask layer and the step of flattening the divided recording layer 31 and the nonmagnetic material 32 may be performed by a common ion beam etching apparatus using Ar gas. By doing so, the manufacturing equipment can be made more compact and lower in cost.
  • the magnetic recording disk was manufactured in a state where the continuous recording layer and the divided recording elements were consistently isolated from the atmosphere using the processing device provided in the vacuum chamber.
  • FIG. 13 is an atomic force micrograph showing an enlarged surface of the divided recording element and the nonmagnetic layer planarized by ion beam etching.
  • the maximum value of the step was 2.88 nm and the center line average roughness Ra was 0.723 nm.
  • FIG. 14 is an optical microscope photograph showing an enlarged surface of the magnetic recording disk of the example that was left in a high-temperature, high-humidity environment for about 48 hours after the production.
  • a magnetic recording disk was manufactured using a processing apparatus that was not housed in a vacuum chamber, with the continuous recording layer and the divided recording elements allowed to come into contact with the atmosphere.
  • a surface defect inspection apparatus 28 foreign substances having a size of 0.3 to 0.5 zm, and 0.5 to 1.0 A total of 193 foreign substances were observed, including 38 foreign substances of m and 127 foreign substances of 1.0 / xm or more.
  • the surface of the magnetic recording disk was observed with an optical microscope photograph immediately after the production and for about 48 hours after the production, when left in a high-temperature and high-humidity environment (temperature 80 ° (, humidity 80%)). Although no corrosion of the divided recording elements was observed, many black spots indicating corrosion of the divided recording elements were observed at about 48 hours after fabrication.
  • 4 is an optical microscope photograph showing an enlarged surface of a magnetic recording disk of a comparative example left in a high-temperature, high-humidity environment.

Abstract

分割記録要素の劣化等を確実に防止しつつ効率良くディスクリートタイプの磁気記録媒体を製造することができる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置。磁気記録媒体の製造装置４０は、連続記録層が形成された磁気記録媒体の中間体１０に平面方向微細な間隔で多数の溝部を形成することにより、連続記録層を多数の分割記録要素に分割するための記録層加工手段４２と、分割記録要素の間の溝部に非磁性体を充填するための非磁性体充填手段４８と、分割記録要素及び非磁性体の表面を平坦化するための平坦化手段５０と、分割記録要素及び非磁性体に保護層を形成するための保護層形成手段５２と、記録層加工手段４２、非磁性体充填手段４８、平坦化手段５０及び保護層形成手段５２を収容して中間体１０の周囲を真空状態に保持するための真空保持手段５６と、を備える。

Description

明細書
磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 技術分野
本発明は、 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置に関する。
背景技術
従来、 ハードディスク等の磁気記録媒体は、 記録層を構成する磁性粒 子の微細化、 材料の変更、 ヘッ ド加工の微細化等の改良により著しい高 記録密度化が図られており、 今後も一層の高記録密度化が期待されてい る。
しかしながら、 磁性粒子の微細化等、 従来の改良手法による高記録密 度化は限界にきており、 一層の高記録密度化を実現可能である磁気記録 媒体の候補として、 連続記録層を多数の分割記録要素に分割し、 分割記 録要素の間の溝部に非磁性体を充填してなるディスクリ一トタイプの磁 気記録媒体が提案されている (例えば、 特開平 9— 9 74 1 9号公報参 照） 。
連続記録層の微細な分割を実現する加工技術と しては、 反応性イオン エッチング等のドライエッチングの手法 （例えば、 特開平 1 2— 3 2 2 7 1 0号公報参照) を利用しうる。
又、 非磁性体の充填を実現する手段としては半導体製造の分野で用い られている種々のウエッ トプロセスによる埋め込み加工技術 (例えば、 特開平 1 3— 3 2 3 3 8 1号公報参照) を利用しうる。
尚、 分割記録要素及び非磁性体の表面に段差があるとへッ ド浮上の不 安定化、 異物の堆積という問題が生じうるため、 分割記録要素及び非磁 性体の表面を平坦化することが好ましいが、 この平坦化についても半導 体製造の分野で用いられているウエッ トプロセスによる CMP (C h e m i c a l Me c h a n i c a l
P o l i s h i n g) 手法等の加工技術を利用しうる。 更に、 分割記録要素の表面の異物を除去する手法として、 半導体製造 のゥエツ ト洗浄手法 （例えば、 特開平 1 2— 0 9 1 2 9 0号公報参照） を利用しうる。
しかしながら、 半導体工程における ドライエッチングをそのまま転用 して連続記録層を加工すると、 分割記録要素の一部に酸化、 腐食等の劣 化が生じやすいという問題がある。 尚、 分割記録要素の劣化は加工後、 経時的に生じることもある。 更に、 洗浄等の他のウエッ トプロセスにお いても液剤の作用等により分割記録要素の一部に酸化、 腐食等の劣化が 生じることがある。 又、 ウエッ トプロセスを用いると分割記録要素の表 面等に異物が混入しやすいという問題もある。 このような分割記録要素 の劣化、 異物の混入により情報の記録 · 読み取り精度が低下することが め 。
更に又、 ドライプロセスとゥエツ トプロセスを併用することにより、 ワーク （磁気記録媒体の中間体） の搬送等が煩雑となり、 生産効率が低 下するという問題がある。
即ち、 磁気記録媒体は磁性材が酸化しやすい等の特有の問題を有する ため、 半導体製造等の分野では有効な加工技術であっても、 磁気記録媒 体製造の分野にそのまま用いると、 磁性材の酸化等の問題が生じ、 分割 記録要素の劣化等を防止しつつ効率よくディスクリートタイプの磁気記 録媒体を製造することは困難であった。
発明の開示
本発明は、 以上の問題点に鑑みてなされたものであって、 分割記録要 素の劣化等を確実に防止しつつ効率良くディスク リ一トタイプの磁気記 録媒体を製造することができる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を 提供することをその課題とする。
本発明は、 ワークの周囲を真空状態に保持しつつドライプロセスで連 続記録層の加工等を行うようにしたことにより、 上記課題を解決するに 至った。 尚、 分割記録要素の劣化を確実に防止するためには分割記録要 素を大気から完全に隔離することが有効であるので、 分割記録要素の形 '成から保護層の形成までの工程は、 一貫してワークの周囲を真空状態に 保持しつつ行うようにすることが好ましい。
ここで、 本明細書において 「真空」 という用語は、 気圧が 0 [P a ] である状態という意義に限定せず、 0〜 1 0 0 [P a ] 程度の範囲の気 圧が極めて低い状態という意義で用いることとする。 又、 「磁気記録媒 体」 という用語は、 情報の記録、 読み取りに磁気のみを用いるハードデ イスク、 フロッピー (登録商標) ディスク、 磁気テープ等に限定されず、 磁気と光を併用する M O (M a g n e t O p t i c a l ) 等の光磁気 記録媒体も含む意義で用いることとする。
即ち、 次のような本発明により、 上記課題の解決を図ったものである
( 1 ) 基板表面上に連続記録層を形成してなる、 磁気記録媒体の製造 X程における中間体に平面方向微細な間隔で多数の溝部を形成すること により、 前記連続記録層を多数の分割記録要素に分割するための記録層 加工工程と、 前記分割記録要素の間の溝部に非磁性体を充填するための 非磁性体充填工程と、 前記分割記録要素及び非磁性体を保護する保護層 を形成するための保護層形成工程と、 を含んでなり、 前記中間体の周囲 を真空状態に保持しつつ前記記録層加工工程を実行するようにしたこと を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
( 2) 前記中間体の周囲を真空状態に保持しつつ、 前記記録層加工ェ 程と、 前記非磁性体充填工程と、 前記保護層形成工程とを一貫して連続 的に実行するようにしたことを特徴とする前記 （ 1 ) の磁気記録媒体の 製造方法。
( 3 ) 前記記録層加工工程と前記非磁性体充填工程との間に、 ガス及 ぴプラズマのいずれかを用いて前記分割記録要素の周囲の異物を除去す るためのドライプロセス洗浄工程が設けられたことを特徴とする前記 ( 1 ) 又は （2 ) の磁気記録媒体の製造方法。
(4) 前記非磁性体充填工程と前記保護層形成工程との間に、 前記分 割記録要素及び非磁性体の表面を平坦化するための平坦化工程が設けら れたことを特徴とする前記 （ 1 ) 乃至 （ 3 ) のいずれかの磁気記録媒体 の製造方法。
( 5 ) 前記平坦化工程は、 前記分割記録要素及び非磁性体の表面に対 し、 入射角を一 1 0〜 1 5° 及び 6 0〜 9 0° のいずれかの範囲に制限 してイオンを衝突させるように構成されたプラズマドライ工程であるこ とを特徴とする前記 (4) の磁気記録媒体の製造方法。
( 6 ) 前記プラズマドライ工程は、 イオンビームエッチング法を用い ることを特徴とする前記 ( 5 ) の磁気記録媒体の製造方法。
( 7) 前記記録層加工工程は、 窒素化合物が添加された一酸化炭素ガ スを反応ガスと して用いる反応性イオンエッチングにより前記連続記録 層を分割するように構成されたことを特徴とする前記 ( 1 ) 乃至 ( 6 ) のいずれかの磁気記録媒体の製造方法。
( 8 ) 前記非磁性体充填工程は、 バイアス印加を有するプラズマ CV D法及びバイァススパッタリング法のいずれかを用いて前記分割記録要 素の間の溝部に前記非磁性体を充填するように構成されたことを特徴と する前記 （ 1 ) 乃至 ( 7) のいずれかの磁気記録媒体の製造方法。
( 9 ) 前記非磁性体充填工程は、 前記非磁性体として酸化物材料、 窒 化物材料、 及び非磁性のァモルファス材料のいずれかを含む材料を用い るようにしたことを特徴とする前記 ( 8 ) の磁気記録媒体の製造方法。
( 1 0 ) 前記非磁性体充填工程は、 前記非磁性体として二酸化珪素を 用いるようにしたことを特徴とする前記 （ 9 ) の磁気記録媒体の製造方 法。
( 1 1 ) 前記記録層加工工程と前記非磁性体充填工程との間に、 ブラ ズマを含む C VD (C h e m i c a l V a o r D e o s i t ! o n) 法及ぴスパッタリング法のいずれかを用いて前記分割記録要素に 隔膜を形成するための隔膜形成工程が設けられたことを特徴とする前記 (8) 乃至 （1 0) のいずれかの磁気記録媒体の製造方法。
(1 2) 前記隔膜形成工程は、 ダイヤモンドライクカーボンの隔膜を 形成するように構成されたことを特徴とする前記 （1 1 ) の磁気記録媒 体の製造方法。
( 1 3) 基板表面上に連続記録層を形成してなる、 磁気記録媒体の製 造工程における中間体に平面方向微細な間隔で多数の溝部を形成するこ とにより、 前記連続記録層を多数の分割記録要素に分割するための記録 層加工手段と、 該記録層加工手段を収容して前記中間体の周囲を真空状 態に保持するための真空保持手段と、 を備えたことを特徴とする磁気記 録媒体の製造装置。
( 1 4) 前記分割記録要素の問の溝部に非磁性体を充填するための非 磁性体充填手段と、 前記分割記録要素及び非磁性体を保護する保護層を 形成するための保護層形成手段と、 が前記真空保持手段内に備えられた ことを特徴とする前記 （ 1 3) の磁気記録媒体の製造装置。
(1 5) ガス及びプラズマのいずれかを用いて前記分割記録要素の周 囲の異物を除去するためのドライプロセス洗浄手段が前記真空保持手段 内に備えられたことを特徴とする前記 ( 1 3) 又は ( 1 4) の磁気記録 媒体の製造装置。
( 1 6) プラズマを含む C V D法及びスパッタリング法のいずれかを 用いて前記分割記録要素に隔膜を形成するための隔膜形成手段が前記真 空保持手段内に備えられたことを特徴とする前記 （ 1 3 ) 乃至 （ 1 5) のいずれかの磁気記録媒体の製造装置。
( 1 7) 前記分割記録要素及び非磁性体の表面を平坦化するための平 坦化手段が前記真空保持手段内に備えられたことを特徴とする前記 （ 1 3) 乃至 （1 6) のいずれかの磁気記録媒体の製造装置。 尚、 本明細書において 「隔膜」 という用語は、 分割記録要素と非磁性 体とを隔てる薄膜という意義で用いることとする。
又、 本明細書において 「ダイヤモンドライクカーボン （以下、 「D L C j という） 」 という用語は、 炭素を主成分とし、 アモルファス構造で あって、 ビッカース硬度測定で 2 0 0〜 8 0 0 0 k g f '/m m2程度の 硬さを示す材料という意義で用いることとする。
図面の簡単な説明
図 1は、 本実施形態に係る磁気記録媒体の製造装置の構造を模式的 に示すプロック図である。
図 2は、 同製造装置で加工される前の磁気記録媒体の中間体の構造を 模式的に示す側断面図である。
図 3は、 同製造装置で加工された磁気記録媒体の構造を模式的に示す 側断面図である。
図 4は、 同製造装置による磁気記録媒体の製造工程を示すフローチヤ ートである。
図 5は、 第 3のマスク層に分割パターンが転写された前記中間体の形 状を模式的に示す側断面図である。
図 6は、 凹部底面の第 3のマスク層が除去された前記中間体の形状を 模式的に示す側断面図である。
図 7は、 凹部底面の第 2のマスク層が除去された前記中間体の形状を 模式的に示す側断面図である。
図 8は、 凹部底面の第 1のマスク層が除去された前記中間体の形状を 模式的に示す側断面図である。
図 9は、 分割記録要素が形成された前記中間体の形状を模式的に示す 側断面図である。
図 1 0は、 分割記録要素の上面に残留した第 1のマスク層が除去され た前記中間体の形状を模式的に示す側断面図である。 図 1 1は、 記録要素の間に非磁性体が充填された前記中間体の形状を 模式的に示す側断面図である。
図 1 2は、 分割記録要素及び非磁性体の表面が平坦化された前記中間 体の形状を模式的に示す側断面図である。
図 1 3は、 本発明の実施例の磁気記録ディスクの分割記録要素及び非 磁性体の表面を拡大して示す原子力顕微鏡写真である。
図 1 4は、 同実施例の磁気記録ディスクの表面を拡大して示す光学顕 微鏡写真である。
図 1 5は、 比較例の磁気記録ディスクの表面を拡大して示す光学顕微 鏡写真である。 .
発明を実施するための最良の形態
以下、 本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。 図 1は、 本実施形態に係る磁気記録媒体の製造装置の構造を模式的に 示すブロック図である。
まず、 磁気記録媒体の製造装置の構造の理解のため、 磁気記録媒体の 中間体の構造及び磁気記録媒体の構造について簡単に説明しておく。 図 2に示されるように、 磁気記録媒体の中間体 1 0は、 ガラス基板 1 2に、 下地層 1 4、 軟磁性層 1 6、 配向層 1 8、 連続記録層 2 0、 第 1 のマスク層 2 2、 第 2のマスク層 2 4、 第 3のマスク層 2 6がこの順で 形成された構造とされている。
下地層 1 4の材質は C r (クロム） 又は C r合金、 軟磁性層 1 6の材 質は F e (鉄） 合金又は C o (コバルト） 合金、 配向層 1 8の材質は C o 0、 M g O、 N i O等、 記録層 2 0の材質は C o (コバルト） 合金と されている。 又、 各マスク層の材質は、 第 1のマスク層 2 2が T i N (窒化チタン） 、 第 2のマスク層 2 4が N i (エッケル） 、 第 3のマス ク層 2 6がネガ型レジス ト （N E B 2 2 A 住友化学工業株式会社製） とされている。 図 3に示されるように、 磁気記録媒体 3 0は垂直記録型のディスクリ 一トタイプの磁気ディスクで、 前記連続記録層 2 0がトラックの径方向 に微細な間隔で多数の分割記録要素 3 1に分割されると共に、 分割記録 要素 3 1の間の溝部 3 3に非磁性体 3 2が充填され、 分割記録要素 3 1 及び非磁性体 3 2に保護層 3 4、 潤滑層 3 6がこの順で形成された構造 とされている。 尚、 分割記録要素 3 1 と非磁性体 3 2の間には隔膜 3 8 が形成されている。
非磁性体 3 2の材質は S i 0 2 (二酸化珪素） 、 保護層 3 4及び隔膜 3 8の材質はいずれも前述の D L Cと呼称される硬質炭素膜、 潤滑層 3 6の材質は P F P E (パーフロ口ポリエーテル) とされている。
図 1に戻って、 磁気記録媒体の製造装置 4 0は、 中間体 1 0に溝部 3 3を形成することにより、 分割記録要素 3 1を形成するための記録層加 工手段 4 2と、 分割記録要素 3 1の周囲の異物を除去するためのドライ プロセス洗浄手段 4 4と、 分割記録要素 3 1に隔膜 3 8を形成するため の隔膜形成手段 4 6 と、 分割記録要素 3 1の間の溝部 3 3に非磁性体 3 2を充填するための非磁性体充填手段 4 8と、 分割記録要素 3 1及び非 磁性体 3 2の表面を平坦化するための平坦化手段 5 0と、 分割記録要素 3 1及び非磁性体 3 2に保護層 3 4を形成するための保護層形成手段 5 2と、 記録層加工手段 4 2、 ドライプロセス洗浄手段 4 4、 隔膜形成手 段 4 6、 非磁性体充填手段 4 8、 平坦化手段 5 0及び保護層形成手段 5 2を収容して中間体 1 0の周囲を真空状態に保持するための真空保持手 段 5 6と、 を備えている。
更に、 製造装置 4 0は、 磁気記録媒体の中間体 1 0の第 3のマスク層 2 6に分割パターンを転写するための転写手段 5 8と、 保護層 3 4に潤 滑層 3 6を形成するための潤滑層形成手段 5 4と、 を備えている。 尚、 これら転写手段 5 8及び潤滑層形成手段 5 4は、 真空保持手段 5 6の外 部に配設されている。 記録層加工手段 4 2は、 酸素、 オゾン又はそれらのガスを用いたプラ ズマにより第 3のマスク層 2 6を加工するためのプラズマ加工装置 6 0 と、 A r (アルゴン） ガスを用いたイオンビームエッチングにより第 2 のマスク層 2 4を加工するためのイオンビームエッチング装置 6 2 と、 C F 4 (テトラフルォロメタン） ガス又は S F 6 ( 6フッ化硫黄） ガス を用いた反応性イオンェ.ツチングにより第 1のマスク層 2 2を加工する ための第 1の反応性イオンエッチング装置 6 4 と、 NH3 (アンモニ ァ） ガスを添加した C O (一酸化炭素) ガスを用いた反応性ィオンエツ チングにより連続記録層 2 0を加工するための第 2の反応性イオンエツ チング装置 6 6 と、 C F 4ガス又は S F 6ガスを用いた反応性イオンェ ツチングにより分割記録要素 3 1の表面に残存する第 1のマスク層 2 2 を除去するための第 3の反応性ィオンェツチング装置 6 7と、 を有して 構成されている。
ドライプロセス洗浄手段 4 4は、 プラズマを用いたドライプロセス洗 浄装置である。
隔膜形成手段 4 6は、 D L Cの隔膜 3 8を CVD (C h e m i c a 1 V a p o r D e p o s i t i o n) により形成するための C V— D装置 である。
非磁性体充填手段 4 8は、 バイアススパッタリングにより S i O 2の 非磁性体 3 2を分割記録要素 3 1に成膜するためのバイアススパッタリ ング装置である。
平坦化手段 5 0は、 A rガスを用いたイオンビームエッチングにより 媒体表面を平坦化するためのイオンビームエツチング装置である。
保護層形成手段 5 2は、 0 じの保護層 3 4を。¥0法にょり形成す るための CVD装置である。
潤滑層形成手段 5 4は、 P F P Eの潤滑層 3 6をディ ッビングにより 塗布するための塗布装置である。 真空保持手段 5 6は、 真空槽 6 8と、 該真空槽 6 8に連通する真空ポ ンプ 70と、 を有して構成されている。
転写手段 5 8は、 ナノ 'インプリント法を用いており、 リソグラフィ で作成された型 （図示省略） を第 3のマスク層 2 6にプレスして転写す るためのプレス装置である。
次に、 磁気記録媒体の製造装置 40の作用について説明する。
図 4は、 磁性記録媒体の製造装置 40による加工の流れを示すフロー チャートである。
まず、 磁気記録媒体の中間体 1 0を用意する。 尚、 中間体 1 0はガラ ス基板 1 2に、 下地層 1 4を 3 00〜 2 000 Aの厚さで、 軟磁性層 1 6を 50 0〜3 0 0 θ Αの厚さで、 配向層 1 8を 3 0〜 3 0 θ Αの厚さ で、 連続記録層 2 0を 1 0 0〜 3 00 Aの厚さで、 第 1のマスク層 2 2 を 1 00〜5 0 θ Αの厚さで、 第 2のマスク層 2 4を 1 00〜3 0 θ Α の厚さで、 この順でスパッタリングにより形成し、 更に第 3のマスク層 2 6を 3 00〜 3 0 0 θΑの厚さで、 スピンコート又はディッビングに より形成して得られる。
この中間体 1 0の第 3のマスク層 2 6に転写手段 5 8を用いて、 分割 記録要素 3 1の分割パターンに相当する図 5に示されるような凹部をナ ノ ' インプリント法により転写する。
ここで中間体 1 0を真空槽 6 8内に搬入し、 プラズマ加工装置 6 0を 用いて、 図 6に示されるように凹部底面の第 3のマスク層 2 6を除去す るまで第 3のマスク層 2 6を加工する。 尚、 第 3のマスク層 26は凹部 以外の領域も除去されるが、 凹部底面との段差の分だけ残存する。
次に、 イオンビームエッチング装置 6 2を用いて、 図 7に示されるよ うに凹部底面の第 2のマスク層 24を除去する。 尚、 この際第 1のマス ク層 2 2も微少量除去される。 又、 凹部以外の領域の第 3のマスク層 2 6も大部分が除去されるが微小量が残存する。 更に、 第 1の反応性イオンエッチング装置 6 4を用いて、 図 8に示さ れるように凹部底面の第 1.のマスク層 2 2を除去する。 ここで、 凹部以 外の領域の第 3のマスク層 2 6は完全に除去される。 又、 凹部以外の領 域の第 2のマスク層 2 4も大部分が除去されるが微小量が残存する。 次に、 第 2の反応性イオンエッチング装置 6 6を用いて図 9に示され るように凹部底面の連続記録層 2 0を除去し、 これにより連続記録層 2 0が多数の分割記録要素 3 1に分割され、 分割記録要素 3 1の間に溝部 3 3が形成される （ S 1 ) 。
尚、 この際、 配向層 1 8も若干除去される。 又、 凹部以外の領域の第 2のマスク層 2 4は完全に除去され、 凹部以外の領域の第 1のマスク層 2 2も大部分が除去されるが微小量が分割記録要素 3 1の上面に残存す る
この残存した第 1のマスク層 2 2は、 第 3の反応性ィォンェッチング 装置 6 7を用いて図 1 0に示されるように完全に除去する。
ここで、 ドライプロセス洗浄手段 4 4を用いて分割記録要素 3 1の表 面の異物を除去する （S 2 ) 。
次に、 図 1 1に示されるように C V D装置を用いて分割記録要素 3 1 に D L Cの隔膜 3 8を 1 0〜 2 0 0 Aの厚さで成膜し ( S 3 ) 、 分割記 録要素 3 1の間の溝部 3 3に非磁性体充填手段 4 8を用いてバイアスス パッタリングにより非磁性体 3 2を充填する ( S 4 ) 。 ここで、 非磁性 体 3 2は隔膜 3 8を完全に被覆するように成膜する。 尚、 分割記録要素 3 1は隔膜 3 8で被覆 ·保護されているので、 非磁性体 3 2のバイアス スパッタリングにより劣化することがない。
次に、 平坦化手段 5 0を用いてイオンビームエッチングにより非磁性 体 3 2を、 図 1 2に示されるように分割記録要素 3 1の上面まで除去し、 分割記録要素 3 1及び非磁性体 3 2の表面を平坦化する （S 5 ) 。 この 際、 高精度な平坦化を行うためには A rイオンの入射角は表面に対して 一 1 0〜 1 5 ° の範囲とすることが好ましい。 一方、 非磁性体充填工程 で分割記録要素 3 1及び非磁性 3 2の表面の良好な平坦性が得られてい れば、 A rイオンの入射角は 6 0〜 9 0 ° の範囲とするとよい。 このよ うにすることで、 加工速度が速くなり、 生産効率を高めることができる。 尚、 分割記録要素 3 1の上面の隔膜 3 8は完全に除去してもよいし、 一 部を残してもよいが、 分割記録要素 3 1の上面の非磁性体 3 2は完全に 除去する。
ここで、 保護層形成手段 5 2を用いて、 C V D法により分割記録要素 3 1及び非磁性体 3 2の上面に 1 ◦〜 5 0 Aの厚さで D L Cの保護層 3 4を形成し （S 6 ) 、 真空槽 6 8から搬出する。
更に、 潤滑層形成手段 5 4を用いてディッビングにより保護層 3 4の 上に 1 0 ~ 2 θ Αの厚さで P F P Eの潤滑層 3 6を塗布する。 これによ り、 前記図 3に示される磁気記録媒体 3 0が完成する。
このように、 中間体 1 0の周囲が真空に保持された状態で分割記録要 素 3 1の形成等が行われるので加工による酸化、 腐食等の分割記録要素 3 1の劣化を防止することができる。
更に、 連続記録層 2 0が各マスク層で被覆された状態で中間体 1 0が 真空槽 6 8内に搬入され、 真空槽 6 8内で分割記録要素 3 1の形成、 非 磁性体 3 2の充填等が行われた後、 分割記録要素 3 1、 非磁性体 3 2に 保護層 3 4が形成されてから磁気記録媒体 3 0が真空槽 6 8から搬出さ れるので、 分割記録要素 3 1 (及び連続記録層 2 0 ) は大気中の酸素等 から常時隔離され、 これにより分割記録要素 3 1の劣化を一層確実に防 止することができる。
又、 各工程が総てドライプロセスであるので、 ウエッ トプロセスを用 いる場合のように、 液剤等による分割記録要素 3 1等の劣化及び分割記 録要素 3 1の表面等への液剤、 洗浄液等からの異物の混入も発生しない。 即ち、 磁気記録媒体の製造装置 4 0は確実に劣化を防止しつつ分割記 録要素 3 1を形成することができ信頼性が高い。
又、 総ての工程がドライプロセスであるのでゥエツ トプロセスと ドラ ィプロセスとを併用する工程に対してワークの搬送等が容易であり、 磁 気記録媒体の製造装置 4 0は生産効率がよい。
尚、 本実施形態において、 第 3のマスク層 2 6のエッチングから保護 層 3 4の形成まで、 総て一貫して真空槽 6 8内で実施しているが、 本発 明はこれに限定されるものではなく、 分割記録要素 3 1の劣化を防止す るためには分割記録要素 3 1及び連続記録層 2 0を大気から隔離できれ ばよく、 連続記録層 2 0の加工が行われる前の各マスク層の加工工程は 真空槽 6 8の外部で実施してもよい。 但し、 第 1のマスク層 2 2を加工 する際、 連続記録層 2 0の一部が外部に露出することになるので (図 9 参照) 、 第 1のマスク層 2 2の加工は真空槽 6 8内で実施することが好 ましい。
又、 本実施形態において、 材質が異なる 3種類のマスク層を連続記録 層 2 0に形成し、 4段階のドライエッチングで中間体 1 0に溝部 3 3を 形成して連続記録層 2 0を分割しているが、 連続記録層 2 0を高精度で 分割できれば、 ドライエッチングの種類、 マスク層の材質、 マスク層の 積層数、 マスク層の厚さ等は特に限定されない。
又、 本実施形態において、 分割記録要素 3 1の表面の異物を除去する ためにプラズマを用いたドライプロセス洗浄を実施しているが、 本発明 はこれに限定されるものではなく、 ガスを用いたドライプロセス洗浄に より、 分割記録要素 3 1の表面の異物を除去してもよい。
又、 本実施形態において、 非磁性体充填手段 4 8はバイアススパッタ リング法を用いているが、 本発明はこれに限定されるものではなく、 ノ ィァス印加を有するプラズマ C V D法を用いて非磁性体の充填を行なう ようにしてもよい。
又、 本実施形態において、 磁気記録媒体 3 0は分割記録要素 3 1がト ラックの径方向に微細な間隔で並設した垂直記録型のディスクリートタ イブの磁気ディスクであるが、 本発明はこれに限定されるものではなく、 分割記録要素がトラックの周方向 （セクタの方向） に微細な間隔で並設 された磁気ディスク、 トラックの径方向及ぴ周方向の両方向に微細な間 隔で並設された磁気ディスク、 分割記録要素が螺旋形状をなす磁気ディ スクの製造についても本発明は当然適用可能である。 又、 M O等の光磁 気ディスク、 更に、 磁気テープ等ディスク形状以外の他のディスク リー トタイプの磁気記録媒体の製造に対しても本発明は適用可能である。 又、 本実施形態において、 磁気記録媒体の製造装置 4 0は、 各工程に 応じた個別の加工装置を備えているが、 本発明はこれに限定されるもの ではなく、 1台の装置で複数の工程の加工を行うようにしてもよい。 例 えば、 第 1のマスク層 2 2の加工工程と、 分割記録要素 3 1の表面に残 存する第 1のマスク層 2 2の除去工程は、 C F 4又は S F 6を反応ガス とする共通の反応性イオンエッチング装置で行うようにしてもよい。 又、 第 2のマスク層の加工工程と、 分割記録層 3 1及び非磁性体 3 2の平坦 化工程は A rガスを用いた共通のイオンビームェツチング装置で行うよ うにしてもよい。 このようにすることで、 製造装置のコンパク ト化、 低 コス ト化を図ることができる。
実施例
上記実施形態により、 真空槽内に備えられた加工装置を用いて連続記 録層及び分割記録要素を一貫して大気から隔離した状態で磁気記録ディ スクを作製した。 図 1 3は、 イオンビームエツチングで平坦化した分割 記録要素及び非磁性層の表面を拡大して示す原子力顕微鏡写真である。 分割記録要素及び非磁性層の表面の粗さを測定したところ、 段差の最大 値は 2 . 8 8 n m、 中心線平均粗さ R aは 0 . 7 2 3 n mだった。 これ により、 実施例では、 C M P等のウエッ トプロセスを用いることなく、 分割記録要素及び非磁性層の表面が充分に平坦化されていることが確認 された。 又、 表面欠陥検査装置を用いて媒体の表面の異物を検査したと ころ、 大きさが 0. 3〜0. 5 /i mの異物が 2個確認された。 尚、 大き さが 1. Ο μ πι以上の異物、 0. 5〜 1. 0 μ mの異物は確認されなか つた。 更に、 作製直後及び作製後約 4 8時間、 高温高湿環境下 （温度 8 0°C、 湿度 8 0 %) に放置した時点で磁気記録ディスクの表面を光学顕 微鏡写真で観察したが、 いずれの時点においても分割記録要素の腐食等 は観察されなかった。 図 1 4は、 作製後約 4 8時間、 高温高湿環境下に 放置した実施例の磁気記録ディスクの表面を拡大して示す光学顕微鏡写 真である。 '
(比較例）
上記実施形態に対し、 真空槽に収容していない加工装置を用いて連続 記録層及び分割記録要素が大気に触れることを許容した状態で磁気記録 ディスクを作製した。 表面欠陥検査装置を用いて分割記録要素及び非磁 性層の表面の異物を検査したところ、 大きさが 0. 3〜0. 5 z mの異 物が 2 8個、 0. 5〜 1. 0 mの異物が 3 8個、 1. 0 /x m以上の異 物が 1 2 7個、 合計 1 9 3個の異物が確認された。 又、 作製直後及び作 製後約 4 8時間、 高温高湿環境下 （温度 8 0° ( 、 湿度 8 0 %) に放置し た時点で磁気記録ディスクの表面を光学顕微鏡写真で観察したところ、 分割記録要素の腐食等は観察されなかつたが、 作製後約 4 8時間が経過 した時点では分割記録要素の腐食を示す黒い斑点が多数観察された。 図 1 5は、 作製後約 4 8時間、 高温高湿環境下に放置した比較例の磁気記 録ディスクの表面を拡大して示す光学顕微鏡写真である。
即ち、 実施例では分割記録要素の腐食が防止されており、 更に比較例 に対して異物の混入が著しく低減されていることが確認された。
産業上の利用の可能性
以上説明したように、 本発明によれば、 分割記録要素の劣化等を確実 に防止しつつ効率良くディスクリートタイプの磁気記録媒体を製造する とが可能となるという優れた効果がもたらされる

Claims

請求の範囲
1 . 基板表面上に連続記録層を形成してなる、 磁気記録媒体の製造工程 における中間体に平面方向微細な間隔で多数の溝部を形成することによ り、 前記連続記録層を多数の分割記録要素に分割するための記録層加工 工程と、 前記分割記録要素の間の溝部に非磁性体を充填するための非磁 性体充填工程と、 前記分割記録要素及び非磁性体を保護する保護層を形 成するための保護層形成工程と、 を含んでなり、 前記中間体の周囲を真 空状態に保持しつつ前記記録層加工工程を実行するようにしたことを特 徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2 . 請求項 1において、
前記中間体の周囲を真空状態に保持しつつ、 前記記録層加工工程と、 前記非磁性体充填工程と、 前記保護層形成工程とを一貫して連続的に実 行するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3 . 請求項 1において、
前記記録層加工工程と前記非磁性体充填工程との間に、 ガス及びブラ ズマのいずれかを用いて前記分割記録要素の周囲の異物を除去するため のドライプロセス洗浄工程が設けられたことを特徴とする磁気記録媒体 の製造方法。
4 . 請求項 2において、
前記記録層加工工程と前記非磁性体充填工程との間に、 ガス及びブラ ズマのいずれかを用いて前記分割記録要素の周囲の異物を除去するため のドライプロセス洗浄工程が設けられたことを特徴とする磁気記録媒体 の製造方法。
5 . 請求項 1乃至 4のいずれかにおいて、
前記非磁性体充填工程と前記保護層形成工程との間に、 前記分割記録 要素及び非磁性体の表面を平坦化するための平坦化工程が設けられたこ とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
6 . 請求項 5において、
前記平坦化工程は、 前記分割記録要素及び非磁性体の表面に対し、 入 射角を一 1 0〜 1 5 ° 及び 6 0〜 9 0 ° のいずれかの範囲に制限してィ オンを衝突させるように構成されたプラズマドライ工程であることを特 徴とする磁気記録媒体の製造方法。
7 . 請求項 6において、
前記プラズマドライ工程は、 イオンビームエッチング法を用いること を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
8 . 請求項 1乃至 4のいずれかにおいて、
前記記録層加工工程は、 窒素化合物が添加された一酸化炭素ガスを反 応ガスとして用いる反応性ィォンエッチングにより前記連続記録層を分 割するように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
9 . 請求項 5において、
前記記録層加工工程は、 窒素化合物が添加された一酸化炭素ガスを反 応ガスとして用いる反応性イオンエッチングにより前記連続記録層を分 割するように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1 0 . 請求項 6において、
前記記録層加工工程は、 窒素化合物が添加された一酸化炭素ガスを反 応ガスとして用いる反応性イオンエッチングにより前記連続記録層を分 割するように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1 1 . 請求項 7において、
前記記録層加工工程は、 窒素化合物が添加された一酸化炭素ガスを反 応ガスとして用いる反応性イオンエッチングにより前記連続記録層を分 割するように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1 2 . 請求項 1乃至 4のいずれかにおいて、
前記非磁性体充填工程は、 バイアス印加を有するプラズマ C V D法及 びバイアススパッタリング法のいずれかを用いて前記分割記録要素の間 の溝部に前記非磁性体を充填するように構成されたことを特徴とする磁 気記録媒体の製造方法。
1 3 . 請求項 5において、
前記非磁性体充填工程は、 バイアス印加を有するブラズマ C V D法及 ぴバイアススパッタリング法のいずれかを用いて前記分割記録要素の間 の溝部に前記非磁性体を充填するように構成されたことを特徴とする磁 気記録媒体の製造方法。
1 4 . 請求項 1 2において、
前記非磁性体充填工程は、 前記非磁性体として酸化物材料、 窒化物材 料、 及び非磁性のアモルファス材料のいずれかを含む材料を用いるよう にしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1 5 . 請求項 1 4において、
前記非磁性体充填工程は、 前記非磁性体として二酸化珪素を用いるよ うにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1 6 . 請求項 1 2において、
前記記録層加工工程と前記非磁性体充填工程 ίの間に、 プラズマを含 む C V D法及びスパッタリング法のいずれかを用いて前記分割記録要素 に隔膜を形成するための隔膜形成工程が設けられたことを特徴とする磁 気記録媒体の製造方法。
1 7 . 請求項 1 4において、
前記記録層加工工程と前記非磁性体充填工程との間に、 プラズマを含 む C V D法及びスパッタリング法のいずれかを用いて前記分割記録要素 に隔膜を形成するための隔膜形成工程が設けられたことを特徴とする磁 気記録媒体の製造方法。
1 8 . 請求項 1 5において、
前記記録層加工工程と前記非磁性体充填工程との間に、 プラズマを含 む C V D法及ぴスパッタリング法のいずれかを用いて前記分割記録要素 に隔膜を形成するための隔膜形成工程が設けられたことを特徴とする磁 気記録媒体の製造方法。
1 9 . 請求項 1 6において、
前記隔膜形成工程は、 ダイヤモンドライクカーボンの隔膜を形成する ように構成されたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2 0 . 基板表面上に連続記録層を形成してなる、 磁気記録媒体の製造ェ 程における中間体に平面方向微細な間隔で多数の溝部を形成することに より、 前記連続記録層を多数の分割記録要素に分割するための記録層加 工手段と、 該記録層加工手段を収容して前記中間体の周囲を真空状態に 保持するための真空保持手段と、 を備えたことを特徴とする磁気記録媒 体の製造装置。
2 1 . 請求項 2 0において、
前記分割記録要素の間の溝部に非磁性体を充填するための非磁性体充 填手段と、 前記分割記録要素及び非磁性体を保護する保護層を形成する ための保護層形成手段と、 が前記真空保持手段内に備えられたことを特 徴とする磁気記録媒体の製造装置。
2 2 . 請求項 2 0において、
ガス及びプラズマのいずれかを用いて前記分割記録要素の周囲の異物 を除去するためのドライプロセス洗浄手段が前記真空保持手段内に備え られたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
2 3 . 請求項 2 1において、
ガス及びプラズマのいずれかを用いて前記分割記録要素の周囲の異物 を除去するためのドライプロセス洗浄手段が前記真空保持手段内に備え られたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
2 4 . 請求項 2 2において、
ガス及びプラズマのいずれかを用いて前記分割記録要素の周囲の異物 を除去するためのドライプロセス洗浄手段が前記真空保持手段内に備え られたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
2 5 . 請求項 2 0において、
プラズマを含む C V D法及ぴスパッタリング法のいずれかを用いて前 記分割記録要素に隔膜を形成するための隔膜形成手段が前記真空保持手 段内に備えられたことを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
2 6 . 請求項 2 0において、
前記分割記録要素及び非磁性体の表面を平坦化するための平坦化手段 が前記真空保持手段内に備えられたことを特徴とする磁気記録媒体の製
PCT/JP2004/002588 2003-03-05 2004-03-02 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 WO2004079725A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE602004024654T DE602004024654D1 (de) 2003-03-05 2004-03-02 Herstellungsverfahren für ein magnetisches aufzeichnungsmedium und herstellungseinrichtung dafür
EP04716374A EP1600956B1 (en) 2003-03-05 2004-03-02 Production method for magnetic recording medium and production device therefor

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003058381 2003-03-05
JP2003-058381 2003-03-05
JP2003-101570 2003-04-04
JP2003101570A JP4188125B2 (ja) 2003-03-05 2003-04-04 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2004079725A1 true WO2004079725A1 (ja) 2004-09-16

Family

ID=32929694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2004/002588 WO2004079725A1 (ja) 2003-03-05 2004-03-02 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置

Country Status (6)

Country Link
US (3) US7166318B2 (ja)
EP (1) EP1600956B1 (ja)
JP (1) JP4188125B2 (ja)
KR (1) KR20050106357A (ja)
DE (1) DE602004024654D1 (ja)
WO (1) WO2004079725A1 (ja)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7535624B2 (en) * 2001-07-09 2009-05-19 E Ink Corporation Electro-optic display and materials for use therein
DE10244578A1 (de) * 2002-09-25 2004-04-08 Clariant Gmbh Flammwidrige duroplastische Massen
JP2006012285A (ja) * 2004-06-25 2006-01-12 Tdk Corp 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法
JP4077437B2 (ja) * 2004-09-16 2008-04-16 Ｔｄｋ株式会社 情報記録媒体および記録再生装置
JP4519668B2 (ja) 2005-01-31 2010-08-04 株式会社東芝 パターンド磁気記録媒体、パターンド磁気記録媒体作製用スタンパー、パターンド磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置
JP3916636B2 (ja) 2005-02-15 2007-05-16 Ｔｄｋ株式会社 磁気記録媒体、磁気記録再生装置
WO2007032379A1 (ja) 2005-09-13 2007-03-22 Canon Anelva Corporation 磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置
US8119018B2 (en) 2006-09-13 2012-02-21 Canon Anelva Corporation Magnetoresistive effect element manufacturing method and multi-chamber apparatus for manufacturing magnetoresistive effect element
AR060106A1 (es) * 2006-11-21 2008-05-28 Crystal Lagoons Corp Llc Proceso de obtencion de grandes cuerpos de agua mayores a 15.000 m3 para uso recreacionales con caracteristicas de coloracion, transparencia y limpieza similares a las piscinas o mares tropicales a bajo costo
CN101889101B (zh) 2007-12-06 2014-09-24 因特瓦克公司 用于基板的双面溅射蚀刻的系统和方法
US20090168244A1 (en) * 2007-12-26 2009-07-02 Tdk Corporation Magnetic recording medium, magnetic recording and reproducing apparatus, and method for manufacturing magnetic recording medium
JP4468469B2 (ja) * 2008-07-25 2010-05-26 株式会社東芝 磁気記録媒体の製造方法
JP4489132B2 (ja) * 2008-08-22 2010-06-23 株式会社東芝 磁気記録媒体の製造方法
JP5256993B2 (ja) * 2008-10-23 2013-08-07 富士電機株式会社 磁気記録媒体及びその製造方法
JO3758B1 (ar) * 2008-12-24 2021-01-31 Crystal Lagoons Tech Inc جهاز شفط
JP4575499B2 (ja) * 2009-02-20 2010-11-04 株式会社東芝 磁気記録媒体の製造方法
JP4568367B2 (ja) * 2009-02-20 2010-10-27 株式会社東芝 磁気記録媒体の製造方法
JP2010218610A (ja) * 2009-03-16 2010-09-30 Hitachi Ltd 磁気記録媒体及び磁気記憶装置
JP5225214B2 (ja) * 2009-06-22 2013-07-03 株式会社日立製作所 磁気記録媒体、磁気記録媒体製造方法、磁気記憶装置
JP5060517B2 (ja) * 2009-06-24 2012-10-31 東京エレクトロン株式会社 インプリントシステム
JP2011070753A (ja) * 2009-08-27 2011-04-07 Fuji Electric Device Technology Co Ltd ディスクリートトラックメディア型垂直磁気記録媒体の製造方法
JP5238780B2 (ja) 2010-09-17 2013-07-17 株式会社東芝 磁気記録媒体とその製造方法及び磁気記録装置
US8465651B2 (en) 2011-03-30 2013-06-18 Crystal Lagoons (Curacao) B.V. Sustainable method and system for treating water bodies affected by bacteria and microalgae at low cost
US8454838B2 (en) 2011-03-30 2013-06-04 Crystal Lagoons (Curacao) B.V. Method and system for the sustainable cooling of industrial processes
JO3415B1 (ar) 2011-03-30 2019-10-20 Crystal Lagoons Tech Inc نظام لمعالجة الماء المستخدم لأغراض صناعية
US20130001188A1 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 Seagate Technology, Llc Method to protect magnetic bits during planarization
US20130004736A1 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 Seagate Technology, Llc Method of protecting patterned magnetic materials of a stack
JP5651616B2 (ja) * 2012-02-17 2015-01-14 株式会社東芝 磁気記録媒体、及びその製造方法
JP2013200912A (ja) * 2012-03-23 2013-10-03 Toshiba Corp 磁気記録媒体、及びその製造方法
US9159353B2 (en) * 2012-05-16 2015-10-13 HGST Netherlands B.V. Plasma polish for magnetic recording media
GB2509605B (en) 2012-12-19 2015-07-29 Crystal Lagoons Curacao Bv Localized disinfection system for large water bodies
US9920498B2 (en) 2013-11-05 2018-03-20 Crystal Lagoons (Curacao) B.V. Floating lake system and methods of treating water within a floating lake
US9470008B2 (en) 2013-12-12 2016-10-18 Crystal Lagoons (Curacao) B.V. System and method for maintaining water quality in large water bodies
PL3217854T3 (pl) 2014-11-12 2019-10-31 Crystal Lagoons Curacao Bv Urządzenie ssące do dużych sztucznych zbiorników wodnych
US9940963B1 (en) 2016-11-17 2018-04-10 Western Digital Technologies, Inc. Magnetic media with atom implanted magnetic layer
DE102017215381B4 (de) * 2017-09-01 2022-10-20 Infineon Technologies Ag Doppelmembran-MEMS-Bauelement und Herstellungsverfahren für ein Doppelmembran-MEMS-Bauelement
US11453603B2 (en) 2019-06-28 2022-09-27 Crystal Lagoons Technologies, Inc. Low cost and sanitary efficient method that creates two different treatment zones in large water bodies to facilitate direct contact recreational activities

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0340219A (ja) * 1989-07-06 1991-02-21 Hitachi Ltd 磁気ディスクの製造方法
JPH0997419A (ja) 1995-07-24 1997-04-08 Toshiba Corp 磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法、及び磁気記録装置
JP2000091290A (ja) 1998-09-09 2000-03-31 Nec Corp 半導体装置の製造方法
JP2000268338A (ja) * 1999-03-19 2000-09-29 Fujitsu Ltd 磁気記録媒体及びその製造方法
JP2000322710A (ja) 1999-05-11 2000-11-24 Japan Science & Technology Corp 磁性材料のエッチング方法及びプラズマエッチング装置
JP2001216633A (ja) * 2000-02-01 2001-08-10 Anelva Corp 磁気記録ディスク製造方法及び磁気記録ディスク製造装置並びにインライン型基板処理装置
JP2001323381A (ja) 2000-05-16 2001-11-22 Sony Corp めっき方法及びめっき構造
JP2002523852A (ja) * 1998-08-20 2002-07-30 インテバック・インコーポレイテッド ハードディスク蒸気潤滑剤注入
US20020136927A1 (en) 2001-03-22 2002-09-26 Hiroyuki Hieda Recording medium, method of manufacturing recording medium and recording apparatus

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4935278A (en) * 1988-04-28 1990-06-19 International Business Machines Corporation Thin film magnetic recording disk and fabrication process
JPH041922A (ja) * 1990-04-18 1992-01-07 Hitachi Ltd 面内磁気記録媒体及び磁気記憶装置
US5637373A (en) * 1992-11-19 1997-06-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
JPH08102163A (ja) * 1994-09-30 1996-04-16 Fujitsu Ltd 磁気記録媒体及び磁気ディスク装置
JP3234814B2 (ja) * 1998-06-30 2001-12-04 株式会社東芝 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、磁気ヘッドアセンブリ及び磁気記録装置
US6318384B1 (en) * 1999-09-24 2001-11-20 Applied Materials, Inc. Self cleaning method of forming deep trenches in silicon substrates
US6610151B1 (en) * 1999-10-02 2003-08-26 Uri Cohen Seed layers for interconnects and methods and apparatus for their fabrication
US6731446B2 (en) * 2000-02-03 2004-05-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for forming a magnetic pattern in a magnetic recording medium, method for producing a magnetic recording medium, magnetic pattern forming device, magnetic recording medium and magnetic recording device
JP3767405B2 (ja) * 2001-04-09 2006-04-19 ソニー株式会社 記録媒体制御方法、記録媒体対応装置
JP3793040B2 (ja) * 2001-05-09 2006-07-05 株式会社東芝 記録媒体およびその製造方法
US6610415B2 (en) * 2001-10-26 2003-08-26 Koslow Technologies Corporation Magnetic or magnetizable composite product and a method for making and using same
US6859998B2 (en) * 2002-04-12 2005-03-01 International Business Machines Corporation Method of fabricating a narrow projection such as a write pole extending from a substrate
CN1494063A (zh) * 2002-09-18 2004-05-05 ���µ�����ҵ��ʽ���� 磁性记录媒体、其制造方法及磁性记录再现装置
JP4199194B2 (ja) * 2002-10-10 2008-12-17 富士通株式会社 多結晶構造膜の製造方法
JP3686067B2 (ja) * 2003-10-28 2005-08-24 Ｔｄｋ株式会社 磁気記録媒体の製造方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0340219A (ja) * 1989-07-06 1991-02-21 Hitachi Ltd 磁気ディスクの製造方法
JPH0997419A (ja) 1995-07-24 1997-04-08 Toshiba Corp 磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法、及び磁気記録装置
JP2002523852A (ja) * 1998-08-20 2002-07-30 インテバック・インコーポレイテッド ハードディスク蒸気潤滑剤注入
JP2000091290A (ja) 1998-09-09 2000-03-31 Nec Corp 半導体装置の製造方法
JP2000268338A (ja) * 1999-03-19 2000-09-29 Fujitsu Ltd 磁気記録媒体及びその製造方法
JP2000322710A (ja) 1999-05-11 2000-11-24 Japan Science & Technology Corp 磁性材料のエッチング方法及びプラズマエッチング装置
JP2001216633A (ja) * 2000-02-01 2001-08-10 Anelva Corp 磁気記録ディスク製造方法及び磁気記録ディスク製造装置並びにインライン型基板処理装置
JP2001323381A (ja) 2000-05-16 2001-11-22 Sony Corp めっき方法及びめっき構造
US20020136927A1 (en) 2001-03-22 2002-09-26 Hiroyuki Hieda Recording medium, method of manufacturing recording medium and recording apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
US20070062450A1 (en) 2007-03-22
JP4188125B2 (ja) 2008-11-26
EP1600956A4 (en) 2008-05-21
US7166318B2 (en) 2007-01-23
JP2004326831A (ja) 2004-11-18
EP1600956A1 (en) 2005-11-30
DE602004024654D1 (de) 2010-01-28
EP1600956B1 (en) 2009-12-16
US20040175510A1 (en) 2004-09-09
US20070059562A1 (en) 2007-03-15
KR20050106357A (ko) 2005-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2004079725A1 (ja) 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置
JP4076889B2 (ja) 磁気記録媒体の製造方法
JP4626600B2 (ja) 磁気記録媒体の製造方法
US7741229B2 (en) Method for manufacturing magnetic recording medium
KR20040084715A (ko) 자기기록매체 및 자기기록매체의 제조방법
US20120008224A1 (en) Magnetic transfer master substrate, magnetic transfer method using the substrate, and magnetic transfer medium
US20050161427A1 (en) Method of working a workpiece containing magnetic material and method of manufacturing a magnetic recording medium
JP4040514B2 (ja) 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法
US7385785B2 (en) Magnetic recording medium and magnetic recording and reproduction apparatus
JP4745307B2 (ja) 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法
CN100385507C (zh) 磁记录介质及磁记录再现装置
US20100149680A1 (en) Method of manufacturing magnetic recording medium, magnetic recording medium, and magnetic recording reproducing apparatus
JP4226586B2 (ja) 磁気記録媒体
JP4874188B2 (ja) 磁気記録媒体の製造方法
US8298691B2 (en) Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing apparatus
EP1271487B1 (en) Master carrier for magnetic transfer
JP2008091031A (ja) 磁気記録媒体の製造方法
CN100568350C (zh) 磁记录介质
JP4487609B2 (ja) 磁気記録媒体
JP2011146125A (ja) 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS KE KG KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): BW GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IT LU MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 20048001935

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020047018635

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2004716374

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 1020047018635

Country of ref document: KR

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2004716374

Country of ref document: EP